Title:
AUTOMATIC ANALYSIS DEVICE
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2012/011481
Kind Code:
A1
Abstract:
Provided is an automatic analysis device which makes it possible to efficiently supply liquid, shorten the analysis cycle, and carry out analysis with a high degree of precision. The automatic analysis device is provided with: a suction nozzle which suctions a sample and a solution used for detection of the sample; a detection container which has the suctioned sample and solution fed thereto; and a detector which detects a signal from the sample. A container for the sample and a container for the solution are disposed at the lower side of the detection container.
Inventors:
SAKASHITA Yukinori (HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION 882, Oaza Ichige, Hitachinaka-sh, Ibaraki 04, 〒3128504, JP)
坂下 敬道 (〒04 茨城県ひたちなか市大字市毛８８２番地 株式会社日立ハイテクノロジーズ 那珂事業所内 Ibaraki, 〒3128504, JP)
TAKAHASHI Katsuaki (HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION 882, Oaza Ichige, Hitachinaka-sh, Ibaraki 04, 〒3128504, JP)
高橋 克明 (〒04 茨城県ひたちなか市大字市毛８８２番地 株式会社日立ハイテクノロジーズ 那珂事業所内 Ibaraki, 〒3128504, JP)
坂下 敬道 (〒04 茨城県ひたちなか市大字市毛８８２番地 株式会社日立ハイテクノロジーズ 那珂事業所内 Ibaraki, 〒3128504, JP)
TAKAHASHI Katsuaki (HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION 882, Oaza Ichige, Hitachinaka-sh, Ibaraki 04, 〒3128504, JP)
高橋 克明 (〒04 茨城県ひたちなか市大字市毛８８２番地 株式会社日立ハイテクノロジーズ 那珂事業所内 Ibaraki, 〒3128504, JP)
Application Number:
JP2011/066403
Publication Date:
January 26, 2012
Filing Date:
July 20, 2011
Export Citation:
Assignee:
HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION (24-14, Nishi Shimbashi 1-chome Minato-k, Tokyo 17, 〒1058717, JP)
株式会社日立ハイテクノロジーズ (〒17 東京都港区西新橋一丁目２４番１４号 Tokyo, 〒1058717, JP)
SAKASHITA Yukinori (HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION 882, Oaza Ichige, Hitachinaka-sh, Ibaraki 04, 〒3128504, JP)
坂下 敬道 (〒04 茨城県ひたちなか市大字市毛８８２番地 株式会社日立ハイテクノロジーズ 那珂事業所内 Ibaraki, 〒3128504, JP)
TAKAHASHI Katsuaki (HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION 882, Oaza Ichige, Hitachinaka-sh, Ibaraki 04, 〒3128504, JP)
株式会社日立ハイテクノロジーズ (〒17 東京都港区西新橋一丁目２４番１４号 Tokyo, 〒1058717, JP)
SAKASHITA Yukinori (HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION 882, Oaza Ichige, Hitachinaka-sh, Ibaraki 04, 〒3128504, JP)
坂下 敬道 (〒04 茨城県ひたちなか市大字市毛８８２番地 株式会社日立ハイテクノロジーズ 那珂事業所内 Ibaraki, 〒3128504, JP)
TAKAHASHI Katsuaki (HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION 882, Oaza Ichige, Hitachinaka-sh, Ibaraki 04, 〒3128504, JP)
International Classes:
G01N35/02; G01N35/00; G01N35/10
Attorney, Agent or Firm:
KASUGA Yuzuru (Torii-nihonbashi Bldg, 4-1 Nihonbashi-honcho 3-chome, Chuo-k, Tokyo 23, 〒1030023, JP)
Claims:
Previous Patent: INTERLAYER INSULATING LAYER FORMATION METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE
Next Patent: TORSION BEAM TYPE SUSPENSION DEVICE
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