本发明的实施例涉及一种液晶显示器亮点维修 方法。 背景技术

在薄月莫晶体管液晶显示器 ( Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display, TFT-LCD )的制造过程中， 为了提高产品的良品率和品质， 对不良进行维修 是必不可少的。

在 TFT-LCD的生产过程中， 可能产生的不良的种类很多。 一种不良表 现为 LCD 的显示屏上存在的亮点。 目前有一种维修方法是将所述亮点维修 成暗点。 该维修方法为在 TFT-LCD为常白显示模式时， 将形成亮点的像素 单元的薄膜晶体管的栅极和漏极釆用激光焊接 的方式焊接在一起， 由此使栅 极和漏极上施加相同的电压，使像素单元的液 晶两端的电压保持在 +4V以上， 从而使对应像素显示为暗点。

在进行上述维修的实践过程中， 发明人发现其至少存在如下问题： 一方 面， 液晶两端的电压过高将导致 RGB像素出现低亮点的情况； 另一方面， 在漏极上施加电压导通 TFT和彩膜上的像素电极， 会造成 Particle (异物颗 粒）类不良。 因此， 维修成功率低下， 甚至造成线不良。 发明内容

本发明的实施例提供一种亮点维修方法， 可以解决低亮点问题， 并提 高维修成功率。

本发明的一个方面提供了一种液晶显示器亮点 维修方法， 用于对液晶 显示器的彩膜基板进行维修。 彩膜基板主要包括基板、 设置于该基板上的 黑矩阵及彩膜层， 所述黑矩阵包括多个矩阵条。 该方法利用激光进行如下 步骤：

对被维修的子像素区域的彩膜进行改性处理；

对所述被维修的子像素区域的彩膜进行碳化， 形成碳化彩膜； 对所述碳化彩膜及与所述碳化彩膜相邻的矩阵 条进行老化处理， 形成 老化彩膜和老化矩阵条；

在所述老化彩膜与基板之间形成缝隙；

对所述老化矩阵条进行颗粒化处理，生成的黑 色颗粒落入所述缝隙中， 使所述黑色颗粒覆盖于所述被维修的子像素区 域的碳化彩膜上。

例如， 对所述老化矩阵条进行颗粒化处理， 生成的黑色颗粒落入所述 缝隙中包括:对所述被维修子像素一侧的所述� �化矩阵条进行颗粒化处理， 生成的黑色颗粒落入所述缝隙中； 对所述被维修子像素另一侧的所述老化 矩阵条进行颗粒化处理， 生成的黑色颗粒落入所述缝隙中。

例如， 在所述缝隙中的黑色颗粒不足时， 继续对与所述被维修子像素 接触的所述老化矩阵条进行颗粒化处理，生成 的黑色颗粒落入所述缝隙中。

例如，所述方法还包括： 利用激光将所述缝隙中的黑色颗粒扩散均匀。 例如， 在利用激光对被维修的子像素区域的彩膜进行 改性处理之前， 还包括： 对所述被维修的子像素区域的彩膜及与所述被 维修子像素区域的 彩膜相邻的矩阵条进行老化处理。

例如， 当所述被维修的子像素区域为红色像素区域时 ， 在对所述碳化 彩膜及与所述碳化彩膜相邻的矩阵条进行老化 处理， 形成老化彩膜和老化 矩阵条之后， 还包括： 利用激光作用于所述红色像素区域的边缘。

例如， 对被维修的子像素区域的彩膜进行碳化， 形成碳化彩膜所用的 激光的波长为第一波长， 所述第一波长的取值范围为 270nm~480nm; 其他 步骤所用的激光的波长为第二波长， 所述第二波长的取值范围为 270nm~390nm。

例如， 所述第一波长为 466nm; 所述第二波长为 349nm。

本发明实施例提供的液晶显示器亮点维修方法 ， 釆用将彩膜碳化的化 学性遮光方法， 和将矩阵条颗粒化覆盖在彩膜上的物理性遮光 方法相结合 的方法维修液晶显示器上存在的亮点问题， 这样可以解决低亮点问题， 并 提高维修成功率。 附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案， 下面将对实施例的附图作 简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图 仅仅涉及本发明的一些实施例， 而非对本发明的限制。

图 1为本发明实施例提供的彩膜基板的结构示意� �；

图 2为本发明实施例提供的一种亮点维修方法的� �程示意图； 图 3为本发明实施例提供的方法的第一种效果示� �图；

图 4为本发明实施例提供的方法的第二种效果示� �图；

图 5为本发明实施例提供的方法的第三种效果示� �图；

图 6为本发明实施例提供的另一种亮点维修方法� �流程示意图。 具体实施方式

为使本发明实施例的目的、 技术方案和优点更加清楚， 下面将结合本 发明实施例的附图， 对本发明实施例的技术方案进行清楚、 完整地描述。 显然， 所描述的实施例是本发明的一部分实施例， 而不是全部的实施例。 基于所描述的本发明的实施例， 本领域普通技术人员在无需创造性劳动的 前提下所获得的所有其他实施例， 都属于本发明保护的范围。

如图 1所示为薄膜晶体管液晶显示器的彩膜基板， 所述彩膜基板包括 基底基板 10形成在基底基板 10上的彩膜层 2以及与彩膜层相邻的黑矩阵 条 1。 彩膜基板包括多个由黑矩阵限定的子像素区域 ， 每个子像素区域中 具有某种颜色 （例如， 红、 绿或蓝色） 的彩膜（例如彩色树脂） ， 以使得 从该彩膜透过的光被过滤得到与彩膜的颜色相 同颜色的光。 黑矩阵包括多 个纵横交叉的矩阵条。

在彩膜（以及黑矩阵）之上， 还可以形成有保护层。 该保护层例如为 透明绝缘层， 例如氧化硅、 氮化硅等。

而且， 彩膜基板在彩膜（以及黑矩阵）之上还可以形 成有透明的公共 电极层。 在公共电极之上可以进一步形成有保护层。

图 1 中所示的彩膜为被维修的子像素区域的彩膜 2, 该子像素区域处 存在由于某种不良导致的亮点， 故需要进行维修、 处理。

本发明实施例提供了一种亮点维修方法， 如图 2所示， 当需要维修子 像素区域的彩膜上形成有保护层时， 所述方法包括以下步骤。

步骤 201、 对被维修的子像素区域的彩膜 2进行改性处理。 可选的， 利用波长范围为 270nm~390nm、 强度为 225nJ/s~375 nJ/s (纳 焦 /秒） 的激光， 以 40 ~ 60μπι/ _δ 的扫描速率， 照射被维修的子像素区域的 彩膜 2, 优选的激光强度为 300nJ/s, 扫描速率为 45μπι/ _δ 。 该激光可以改变 组成所述彩膜的材料的分子键结构， 从而改变所述彩膜的材料性质， 提高 彩膜材料的耐热性， 这样有利于激光对所述彩膜进行碳化。

步骤 202、 对所述被维修的子像素区域的彩膜进行碳化， 形成碳化彩 膜 2-1。

如图 3所示为形成碳化彩膜 2-1的效果示意图。 可选的， 利用波长范 围为 270nm~480nm的激光以扫描速率 60 ~ 75 m/s照射被维修的子像素区 域的彩膜 2 , 对所述彩膜 2进行碳化， 使其变成黑色的阻光的碳。 优选的， 所述激光的扫描速率为 70μπι/ _δ 。 至此， 已形成碳化彩膜 2-1 , 完成了化学 性遮光。 优选的， 此步骤中所用的激光波长为 466nm。 在对彩膜进行碳化 的过程中， 由于各像素区域的彩膜对激光的透过率不同， 故碳化各像素区 域时利用的激光的能量也不同。 碳化蓝色像素区域所用的激光强度最大为 2250~2650nJ/s, 优选的激光强度为 2500nJ/s。 红色像素区域和绿色像素区 域所用的激光强度为 1750~2250nJ/s, 优选的激光强度 2000 nJ/s。

步骤 203、 对所述碳化彩膜 2-1及其周边与所述碳化彩膜相邻的矩阵 条 1进行老化处理， 形成老化彩膜 2-2和老化矩阵条 1-1。

可选的， 利用波长范围为 270nm~390nm, 激光强度为 150 ~ 225nJ/s 的激光以扫描速率 60 ~ 75μπι/ _δ 对所述碳化彩膜及与所述碳化彩膜相邻的 矩阵条进行预热， 达到老化的目的， 该激光强度优选 175 nJ/s, 扫描速率 优选为 7(^m/s。

步骤 204、 在所述老化彩膜 2-2与基板之间形成缝隙 3。

如图 4 所示为形成缝隙 3 的效果示意图。 可选的， 利用波长范围为 270nm~390nm的激光照射所述老化彩膜 2-2, 使所述老化彩膜 2-2的材质 发生变化， 产生微小的收缩， 从而在所述老化彩膜 2-2与基板之间形成缝 隙 3。 由于红、 绿、 蓝三个像素区域的彩膜对激光的透过率不同， 为了不 出现由于激光能量太低将导致形成的缝隙不完 全， 或激光能量太高又导致 形成的缝隙太大， 使得用于不同像素区域处的激光的能量也不同 。 例如， 作用在蓝像素区域处的激光强度为 900~1350nJ/s,扫描速率为 60 ~ 75μπι/ _δ , 该激光强度优选 1100nJ/s, 扫描速率优选为 70μπι/ _δ ; 作用于绿色像素区域 处的激光强度为 1275~1425nJ/s, 扫描速率为 60 ~ 75μπι/ _δ , 该激光强度优 选 1350 nJ/s, 扫描速率优选为 70μπι/ _δ ; 作用于红色像素区域处的激光强度 为 1725~1875nJ/s, 扫描速率为 50 ~ 65 m/s, 该激光强度优选 1800 nJ/s, 扫描速率优选为 55 m/s。

步骤 206、 利用激光作用于所述红色像素区域的边缘。

由于所述彩膜可以由红、 绿、 蓝三个像素形成， 而同一激光对各像素 的透过率是不同的。 在步骤 202用第二波长 270nm~390nm的激光对所述 彩膜进行碳化后， 由于所述红色和绿色像素区域对激光对红像素 的透过率 小于蓝色像素区对激光的透过率， 因此红色和绿色像素区域碳化较严重， 导致所述红色像素区域和绿色像素区域的彩膜 和与所述红色像素区域和绿 色像素区域相邻的矩阵条交界处不平滑。 故需要利用激光作用于所述红色 像素区域的边缘。 此步骤所使用的激光强度为 1500nJ/s ~1725nJ/s, 扫描速 率为 60 ~ 75 m/s; 优选的激光强度为 1600 nJ/s, 扫描速率为 7(^m/s。

在釆用激光照射时， 由于红色区域对激光的吸收较少， 即透过较多， 因此导致在对红色像素进行照射时， 需要釆用较大能量的激光才能获得与 绿色像素和蓝色像素相同的效果。 但是， 釆用较大能量的激光必然会对红 色像素区域周边的黑矩阵造成影响， 使得黑矩阵边缘不平整， 因此需要对 红色像素区域周边的黑矩阵进行平滑处理。

步骤 205、 对所述老化矩阵条 1-1进行颗粒化处理， 生成的黑色颗粒

1-2 落入所述缝隙中， 使所述黑色颗粒覆盖于所述被维修的子像素区 域的 碳化彩膜 2-1上。

如图 5所示为将黑色颗粒 1-2覆盖在所述老化彩膜 2-2上的效果示意 图。

可选的， 利用波长范围为 270nm~390nm的激光作用于所述老化矩阵 条 1-1 , 切断所述老化矩阵条 1-1的分子键， 将所述老化阵条 1-1颗粒化。 由于老化矩阵条 1-1 已颗粒化， 形成的矩阵条黑色颗粒 1-2之间不再存在 分子作用力，故生成的黑色颗粒 1-2会自动落入步骤 204形成的缝隙 3中， 从而使所述黑色颗粒 1-2覆盖于所述被维修的子像素区域的碳化老化 彩膜 2-2上。 此步骤的一个示例说明如下。 先利用波长范围为 270nm~390nm的激 光对所述被维修子像素一侧的所述老化矩阵条 1-1进行颗粒化处理， 生成 的黑色颗粒 1-2落入所述缝隙 3中； 再对所述被维修子像素另一侧的所述 老化矩阵条 1-1进行颗粒化处理， 生成的黑色颗粒 1-2落入所述缝隙 3中。 优选的， 在所述缝隙 3中的黑色颗粒 1-2不足时， 可以继续对与所述被维 修子像素接触的所述老化矩阵条 1-1进行颗粒化处理，生成的黑色颗粒 1-2 落入所述缝隙中。

例如， 步骤 205 中所用的激光强度为 975nJ/s~1650nJ/s, 扫描速率为 85 ~ 105 m/s; 优选为激光强度为 1300 nJ/s, 扫描速率为 95 m/s。

进一步的， 如图 6所示， 所述方法还包括：

步骤 207、 利用激光将所述缝隙中的黑色颗粒 1-2扩散均匀。

可选的， 在步骤 205后可以利用波长范围为 270nm~390nm, 激光强度 为 1050nJ/s ~ 1650nJ/s的激光以扫描速率 60 ~ 75 m/s将所述缝隙 3中的黑 色颗粒 1-2扩散均匀， 使所述老化彩膜 2-2上的均匀、 平整的覆盖上所述 黑色颗粒， 该步骤中激光强度优选 1300 nJ/s, 扫描速率优选为 70μπι/ _δ 。

上述方法为需要维修子像素区域的彩膜有保护 层时的方法， 而当所述 彩膜无保护层时，如图 6所示，在步骤 201之前，还包括如下的步骤 2001。

步骤 2001、对所述被维修的子像素区域的彩膜 2及与被维修的子像素 区域的彩膜相邻的矩阵条 1进行老化处理。

由于所述被维修的子像素区域的彩膜无保护层 ， 为了提高被维修的子 像素区域的彩膜 2所述彩膜及被维修的子像素区域的彩膜相邻� �矩阵条 1 的耐热性， 方便进行以后的步骤， 降低异常现象产生的比率， 需要对所述 被维修的子像素区域的彩膜 2所述彩膜及与被维修的子像素区域的彩膜相 邻的矩阵条 1进行老化处理。 此步骤所使用的激光波长为 270nm~390nm, 激光强度为 150nJ/s -225 nJ/s, 扫描速率为 60 ~ 75 m/s; 该激光强度优选 170 nJ/s, 速率优选为 7(^m/s。

上述方法中步骤 201、 203 207、 2001所用的激光的波长为第二波长， 所述第二波长的范围为 270nm~390nm, 优选的， 所述第二波长为 349nm。

本实施例中提供的液晶显示器亮点维修方法， 釆用将彩膜碳化的化学 性遮光方法， 和将矩阵条颗粒化覆盖在彩膜上的物理性遮光 方法相结合的 方法维修液晶显示器上存在的亮点问题， 这样可以解决低亮点问题， 并提 高维修成功率。

以上所述， 仅为本发明的具体实施方式。 本技术领域的技术人员在本 发明揭露的技术范围内， 可轻易想到的变化或替换， 都应涵盖在本发明的 保护范围之内。 因此， 本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范 围为