以下本発明を実施するための最良の形態� ��ついて詳細に説明するが、本発明はこれら� ��限定されるものではない。

 本発明のセルロースエステルフィルムは� ��請求の範囲1にある通りセルロースエステル を含み、一方の面をA面、他方の面をB面とし� ��時、0.95<A面における可塑剤含有量/B面側� �可塑剤含有量<1.05であり、23℃55%RHにおけ� �、少なくともフィルム搬送方向か幅手方向� �どちらか一方の音速が2.0~2.7km/sであるセルロ ースエステルフィルムであることが特徴であ る。

 上記セルロースエステルフィルムを製膜� ��る方法は、請求の範囲4にある通りセルロー スエステル及び添加剤を含む組成物を流動性 を示す温度まで加熱溶融して溶融物とし、そ の後、該溶融物を流延し冷却した後、フィル ムの搬送方向に下記式(1)で表される延伸速度 が1000%/min~30000%/min、幅手方向に延伸速度が400% /min~1500%/minで延伸し、少なくともフィルム搬� ��方向か幅手方向のどちらか一方の音速が2.0~ 2.7km/sにすることによって得ることができる� �

 式(1)
 延伸速度(%/min)={(延伸後寸法/延伸前寸法)-1}� �100(%)/延伸に要する時間(min)
 即ち、本発明は、上記課題に関し鋭意検討� ��た結果、溶融流延製膜方法で流延したフィ� ��ムを、さらに延伸する際にその延伸速度を� ��れまで溶液流延製膜ではフィルムが破断し� ��しまいフィルム作製が困難だった範囲にす� ��ことで、セルロースエステルフィルムの音� ��を2.0~2.7km/sの範囲に調整し、光漏れおよび� �むらに優れたセルロースエステルフィルム� �得られることを見出し、本発明を成すに至� �た次第である。

 延伸速度を調整することで、高い音速値� ��もったセルロースエステルフィルムが得ら� ��る機構について、本発明者は以下のように� ��察している。

 即ち、同じ延伸倍率であっても延伸速度� ��大きくすると、フィルムにかかる荷重が高� ��なり、それにより高い音速値をもったセル� ��ースエステルフィルムを得ることができる� ��

 本発明のセルロースエステルフィルムの� ��速に関しては、SONIC SHEET TESTER(SST-110型、野 村商事(株)製)を用いて、23℃、55%RHの環境下24 時間放置したフィルムにおいて、同環境下で 測定して得ることができる。

 今回の測定では、フィルム面内の何点か� ��測定し、平均化した。

 またフィルム表面の可塑剤含有量はナイ� ��を用いてフィルムのA面、B面から20nmほど削� ��取り、質量を測定した後、これをアセトン� ��に溶解し、ここに含まれる可塑剤量をGC(ガ� ��クロマトグラフィー)にて定量分析した。

 以下、本発明を詳細に説明する。

 〈セルロースエステル〉
 本発明に用いるセルロースエステルには特� ��限定はないが、炭素数2~22程度のカルボン酸 エステルであり、芳香族カルボン酸のエステ ルでもよく、特にセルロースの炭素数低級脂 肪酸エステルであることが好ましい。

 セルロースの低級脂肪酸エステルにおけ� ��低級脂肪酸とは炭素原子数が6以下の脂肪酸 を意味している。水酸基に結合するアシル基 は、直鎖であっても分岐してもよく、また環 を形成してもよい。更に別の置換基が置換し てもよい。

 同じ置換度である場合、前記炭素数が多� ��とフィルムの腰がなくなるため、炭素数と� ��ては炭素数2~6のアシル基の中で選択するこ� ��が好ましい。

 本発明のセルロースエステルとしては、� ��記式(i)及び(ii)を同時に満足するものが好ま しい。

 式(i)  2.5≦X+Y≦2.9
 式(ii)  1.0≦Y≦1.5
 式中、Xはアセチル基の置換度、Yはプロピ� �ニル基またはブチリル基の置換度、X+Yは総� �シル基の置換度を表す。この範囲とするこ� �で、偏光板に貼付された際のリワーク性が� �に優れることが判明した。

 この中で特にセルロースアセテートプロ� ��オネートが好ましく用いられる。アシル基� ��置換度の測定方法はASTM-D817-96に準じて測定� ��ることが出来る。

 セルロースエステルの分子量は数平均分� ��量(Mn)で60000~300000のものが好ましく、70000~200 000のものが更に好ましい。本発明で用いられ るセルロースエステルは重量平均分子量(Mw)/� ��平均分子量(Mn)比が4.0以下であることが好ま しく、更に好ましくは1.4~2.3である。

 セルロースエステルの平均分子量及び分� ��量分布は、高速液体クロマトグラフィーを� ��い測定できるので、これを用いて数平均分� ��量(Mn)、重量平均分子量(Mw)を算出し、その� �を計算することができる。

 測定条件は以下の通りである。

 溶媒:   メチレンクロライド
 カラム:  Shodex K806,K805,K803G(昭和電工(株)製 を3本接続して使用した)
 カラム温度:25℃
 試料濃度: 0.1質量%
 検出器:  RI Model 504(GLサイエンス社製)
 ポンプ:  L6000(日立製作所(株)製)
 流量:   1.0ml/min
 校正曲線: 標準ポリスチレンSTK standard ポ� ��スチレン(東ソー(株)製)Mw=1,000,000~500迄の13サ ンプルによる校正曲線を使用した。13サンプ� ��は、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。

 本発明に用いられるセルロースエステル� ��原料のセルロースとしては、特に限定はな� ��が、綿花リンター、木材パルプ、ケナフな� ��を挙げることが出来る。またそれらから得� ��れたセルロースエステルはそれぞれ任意の� ��合で混合使用することが出来る。

 本発明で用いられるセルロースエステル� ��原料セルロースは、木材パルプでも綿花リ� ��ターでもよく、木材パルプは針葉樹でも広� ��樹でもよいが、針葉樹の方がより好ましい� ��製膜の際の剥離性の点からは綿花リンター� ��好ましく用いられる。これらから作られた� ��ルロースエステルは適宜混合して、或いは� ��独で使用することができる。

 例えば、綿花リンター由来セルロースエ� ��テル:木材パルプ(針葉樹)由来セルロースエ� ��テル:木材パルプ(広葉樹)由来セルロースエ� ��テルの比率が100:0:0、90:10:0、85:15:0、50:50:0、 20:80:0、10:90:0、0:100:0、0:0:100、80:10:10、85:0:15� �40:30:30で用いることができる。

 本発明のセルロースエステルは公知の方� ��で合成することが出来るが、合成されたセ� ��ロースエステルは、精製して低分子量成分� ��除去したり、未酢化または低酢化度の成分� ��濾過で取り除くことも好ましく行われる。

 また、セルロースエステルは、セルロー� ��エステル中の微量金属成分によっても影響� ��受ける。これらは製造工程で使われる水に� ��係していると考えられるが、不溶性の核と� ��り得るような成分は少ない方が好ましく、� ��、カルシウム、マグネシウム等の金属イオ� ��は、有機の酸性基を含んでいる可能性のあ� ��ポリマー分解物等と塩形成することにより� ��溶物を形成する場合があり、少ないことが� ��ましい。

 本発明のセルロースエステル中の残留硫� ��含有量は、硫黄元素換算で0.1~45ppmの範囲で� ��ることが好ましい。これらは塩の形で含有� ��ていると考えられる。残留硫酸含有量が45pp mを超えると熱溶融時のダイリップ部の付着� �が増加する傾向がある。また、熱延伸時や� �延伸後でのスリッティングの際に破断しや� �くなる傾向がある。従って1~30ppmの範囲がよ� ��好ましい。残留硫酸含有量は、ASTM D817-96に 規定の方法により測定することができる。

 本発明のセルロースエステル中の遊離酸� ��有量は、1~500ppmであることが好ましい。上� �の範囲であると、ダイリップ部の付着物の� �加がなく、また破断しにくい。更に、本発� �については、1~100ppmの範囲であることが好ま しく、更に破断しにくくなる。特に1~70ppmの� �囲が好ましい。遊離酸含有量はASTM D817-96に� ��定の方法により測定することができる。

 合成したセルロースエステルの洗浄を、� ��液流延法に用いられる場合に比べて、更に� ��分に行うことによって、残留アルカリ土類� ��属含有量、残留硫酸含有量、及び残留酸含� ��量を上記の範囲とすることができ好ましい� ��

 また、セルロースエステルの洗浄は、水� ��加えて、メタノール、エタノールのような� ��溶媒、或いは結果として貧溶媒であれば貧� ��媒と良溶媒の混合溶媒を用いることができ� ��残留酸以外の無機物、低分子の有機不純物� ��除去することができる。

 また、本発明のセルロースエステルはフィ� ��ムにした時の輝点異物が少ないものである� ��とが好ましい。輝点異物は、輝点の直径0.01 mm以上が200個/cm ² 以下であることが好ましく、更に100個/cm ² 以下であることが好ましく、50個/cm ² 以下であることが好ましく、30個/cm ² 以下であることが好ましく、10個/cm ² 以下であることが好ましいが、皆無であるこ とが最も好ましい。また、0.005~0.01mm以下の輝 点についても200個/cm ² 以下であることが好ましく、更に100個/cm ² 以下であることが好ましく、50個/cm ² 以下であることが好ましく、30個/cm ² 以下であることが好ましく、10個/cm ² 以下であることが好ましいが、皆無であるこ とが最も好ましい。

 〈添加剤〉
 本発明におけるセルロースエステルフィル� ��には、フィルムに加工性を付与する可塑剤� ��フィルムの劣化を防止する酸化防止剤、紫� ��線吸収機能を付与する紫外線吸収剤、フィ� ��ムに滑り性を付与する微粒子(マット剤)、� �ィルムのリターデーションを調整するリタ� �デーション調整剤等を含有させても良い。

 〈可塑剤〉
 本発明に係るセルロースエステルフィルム� ��製造においては、フィルム形成材料中に少� ��くとも1種の可塑剤を含有することが好まし い。

 可塑剤とは、一般的には高分子中に添加� ��ることによって脆弱性を改良したり、柔軟� ��を付与したりする効果のある添加剤である� ��、本発明においては、セルロースエステル� ��独での溶融温度よりも溶融温度を低下させ� ��ため、また同じ加熱温度においてセルロー� ��エステル単独よりも可塑剤を含むフィルム� ��成材料の溶融粘度を低下させるために、可� ��剤を添加する。更に高い倍率で延伸したと� ��に破断の発生を抑制することができる。

 また、セルロースエステルの親水性を改� ��し、セルロースエステルフィルムの透湿度� ��善するためにも添加されるため透湿防止剤� ��しての機能を有する。

 ここで、フィルム構成材料の溶融温度と� ��、該材料が加熱され流動性が発現された状� ��の温度を意味する。セルロースエステルを� ��融流動させるためには、少なくともガラス� ��移温度よりも高い温度に加熱する必要があ� ��。

 ガラス転移温度以上においては、熱量の� ��収により弾性率あるいは粘度が低下し、流� ��性が発現される。しかしセルロースエステ� ��では高温下では溶融と同時に熱分解によっ� ��セルロースエステルの分子量の低下が発生� ��、得られるフィルムの物理特性等に悪影響� ��及ぼすことがあるため、なるべく低い温度� ��セルロースエステルを溶融させる必要があ� ��。

 フィルム構成材料の溶融温度を低下させ� ��ためには、セルロースエステルのガラス転� ��温度よりも低い融点またはガラス転移温度� ��もつ可塑剤を添加することで達成すること� ��できる。

 本発明では可塑剤は単独あるいは2種以上 混合して用いることができるが、少なくとも 1種は有機酸と3価以上のアルコールが縮合し� ��構造を有する分子量350~1500の多価アルコー� �エステル系可塑剤であることが好ましい。� �用することができるその他の可塑剤として� �特に限定されないが、好ましくは、多価カ� �ボン酸エステル系可塑剤、グリコレート系� �塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、脂肪酸� �ステル系可塑剤、ポリマー可塑剤、糖エス� �ル可塑剤等から選択される。

 可塑剤の使用量は、セルロース誘導体に� ��して1質量%未満ではフィルムの透湿度を低� �させる効果が少ないため好ましくなく、20質 量%を越えると高温耐久時のフィルムの物性� �劣化するため、1~20質量%が好ましい。

 〈多価アルコールエステル系化合物〉
 本発明の有機酸は、下記一般式(1)で表され� ��。

 式中、R ₁ ~R ₅ は水素原子またはシクロアルキル基、アラル キル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基 、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、 アシル基、カルボニルオキシ基、オキシカル ボニル基、オキシカルボニルオキシ基を表し 、これらはさらに置換基を有していてよい。 Lは連結基を表し、置換または無置換のアル� �レン基、酸素原子、または直接結合を表す� �

 R ₁ ~R ₅ で表されるシクロアルキル基としては、炭素 数3~8のシクロアルキル基が好ましく、具体的 にはシクロプロピル、シクロペンチル、シク ロヘキシル等の基である。これらの基は置換 されていてもよく、好ましい置換基としては 、ハロゲン原子、例えば、塩素原子、臭素原 子、フッ素原子等、ヒドロキシル基、アルキ ル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、 アラルキル基(このフェニル基にはアルキル� �またはハロゲン原子等によってさらに置換� �れていてもよい)、ビニル基、アリル基等の� ��ルケニル基、フェニル基(このフェニル基に はアルキル基またはハロゲン原子等によって さらに置換されていてもよい)、フェノキシ� �(このフェニル基にはアルキル基またはハロ� ��ン原子等によってさらに置換されていても� ��い)、アセチル基、プロピオニル基等の炭素 数2~8のアシル基、またアセチルオキシ基、プ ロピオニルオキシ基等の炭素数2~8の無置換の カルボニルオキシ基等が挙げられる。

 R ₁ ~R ₅ で表されるアラルキル基としては、ベンジル 基、フェネチル基、γ-フェニルプロピル基等 の基を表し、また、これらの基は置換されて いてもよく、好ましい置換基としては、前記 のシクロアルキル基に置換してもよい基を同 様に挙げることができる。

 R ₁ ~R ₅ で表されるアルコキシ基としては、炭素数1~8 のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メ トキシ、エトキシ、n-プロポキシ、n-ブトキ� �、n-オクチルオキシ、イソプロポキシ、イソ ブトキシ、2-エチルヘキシルオキシ、もしく� ��t-ブトキシ等の各アルコキシ基である。

 また、これらの基は置換されていてもよ� ��、好ましい置換基としては、ハロゲン原子� ��例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子� ��、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シクロ� ��ルコキシ基、アラルキル基(このフェニル基 にはアルキル基またはハロゲン原子等を置換 していてもよい)、アルケニル基、フェニル� �(このフェニル基にはアルキル基またはハロ� ��ン原子等によってさらに置換されていても� ��い)、アリールオキシ基(例えばフェノキシ� �(このフェニル基にはアルキル基またはハロ� ��ン原子等によってさらに置換されていても� ��い))、アセチル基、プロピオニル基等のア� �ル基が、またアセチルオキシ基、プロピオ� �ルオキシ基等の炭素数2~8の無置換のアシル� �キシ基、またベンゾイルオキシ基等のアリ� �ルカルボニルオキシ基が挙げられる。

 R ₁ ~R ₅ で表されるシクロアルコキシ基としては、無 置換のシクロアルコキシ基としては炭素数1~8 のシクロアルコキシ基基が挙げられ、具体的 には、シクロプロピルオキシ、シクロペンチ ルオキシ、シクロヘキシルオキシ等の基が挙 げられる。

 また、これらの基は置換されていてもよ� ��、好ましい置換基としては、前記のシクロ� ��ルキル基に置換してもよい基を同様に挙げ� ��ことができる。

 R ₁ ~R ₅ で表されるアリールオキシ基としては、フェ ノキシ基が挙げられるが、このフェニル基に はアルキル基またはハロゲン原子等前記シク ロアルキル基に置換してもよい基として挙げ られた置換基で置換されていてもよい。

 R ₁ ~R ₅ で表されるアラルキルオキシ基としては、ベ ンジルオキシ基、フェネチルオキシ基等が挙 げられ、これらの置換基はさらに置換されて いてもよく、好ましい置換基としては、前記 のシクロアルキル基に置換してもよい基を同 様に挙げることができる。

 R ₁ ~R ₅ で表されるアシル基としては、アセチル基、 プロピオニル基等の炭素数2~8の無置換のアシ ル基が挙げられ(アシル基の炭化水素基とし� �は、アルキル、アルケニル、アルキニル基� �含む。)、これらの置換基はさらに置換され� ��いてもよく、好ましい置換基としては、前� ��のシクロアルキル基に置換してもよい基を� ��様に挙げることができる。

 R ₁ ~R ₅ で表されるカルボニルオキシ基としては、ア セチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等の 炭素数2~8の無置換のアシルオキシ基(アシル� �の炭化水素基としては、アルキル、アルケ� �ル、アルキニル基を含む。)、またベンゾイ� ��オキシ基等のアリールカルボニルオキシ基� ��挙げられるが、これらの基はさらに前記シ� ��ロアルキル基に置換してもよい基と同様の� ��により置換されていてもよい。

 R ₁ ~R ₅ で表されるオキシカルボニル基としては、メ トキシカルボニル基、エトキシカルボニル基 、プロピルオキシカルボニル基等のアルコキ シカルボニル基、またフェノキシカルボニル 基等のアリールオキシカルボニル基を表す。

 これらの置換基はさらに置換されていて� ��よく、好ましい置換基としては、前記のシ� ��ロアルキル基に置換してもよい基を同様に� ��げることができる。

 R ₁ ~R ₅ で表されるオキシカルボニルオキシ基として は、メトキシカルボニルオキシ基等の炭素数 1~8のアルコキシカルボニルオキシ基を表し、 これらの置換基はさらに置換されていてもよ く、好ましい置換基としては、前記のシクロ アルキル基に置換してもよい基を同様に挙げ ることができる。

 R ₁ ~R ₅ のうちのいずれか同士で互いに連結し、環構 造を形成していてもよい。

 また、Lで表される連結基としては、置換ま たは無置換のアルキレン基、酸素原子、また は直接結合を表すが、アルキレン基としては 、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等 の基であり、これらの基は、さらに前記のR ₁ ~R ₅ で表される基に置換してもよい基としてあげ られた基で置換されていてもよい。

 中でも、Lで表される連結基として特に好 ましいのは直接結合であり芳香族カルボン酸 である。

 また、これら本発明において可塑剤となる� ��ステル化合物を構成する、前記一般式(1)で� ��される有機酸としては、少なくともR ₁ またはR ₂ に前記アルコキシ基、アシル基、オキシカル ボニル基、カルボニルオキシ基、オキシカル ボニルオキシ基を有するものが好ましい。ま た複数の置換基を有する化合物も好ましい。

 なお本発明においては3価以上のアルコー ルの水酸基を置換する有機酸は単一種であっ ても複数種であってもよい。

 本発明における、前記一般式(1)で表され� ��有機酸と反応して多価アルコールエステル� ��合物を形成する3価以上のアルコール化合物 としては、好ましくは3~20価の脂肪族多価ア� �コールであり、本発明おいて3価以上のアル� ��ールは下記一般式(2)で表されるものが好ま� ��い。

 一般式(2) R″-(OH)m
 式中、R″はm価の有機基、mは3以上の正の整 数、OH基はアルコール性水酸基を表す。特に� ��ましいのは、mとしては3または4の多価アル� ��ールである。

 好ましい多価アルコールの例としては、� ��えば以下のようなものを挙げることができ� ��が、本発明はこれらに限定されるものでは� ��い。

 アドニトール、アラビトール、1,2,4-ブタ� ��トリオール、1,2,3-ヘキサントリオール、1,2, 6-ヘキサントリオール、グリセリン、ジグリ� ��リン、エリスリトール、ペンタエリスリト� ��ル、ジペンタエリスリトール、トリペンタ� ��リスリトール、ガラクチトール、イノシト� ��ル、マンニトール、3-メチルペンタン-1,3,5-� ��リオール、ピナコール、ソルビトール、ト� ��メチロールプロパン、トリメチロールエタ� ��、キシリトール等を挙げることができる。

 特に、グリセリン、トリメチロールエタ� ��、トリメチロールプロパン、ペンタエリス� ��トールが好ましい。

 一般式(1)で表される有機酸と一般式(2)で� ��される3価以上の多価アルコールのエステル は、公知の方法により合成できる。実施例に 代表的合成例を示したが、前記一般式(1)で表 される有機酸と、一般式(2)で表される多価ア ルコールを例えば、酸の存在下縮合させエス テル化する方法、また、有機酸を予め酸クロ ライドあるいは酸無水物としておき、多価ア ルコールと反応させる方法、有機酸のフェニ ルエステルと多価アルコールを反応させる方 法等があり、目的とするエステル化合物によ り、適宜、収率のよい方法を選択することが 好ましい。

 一般式(1)で表される有機酸と一般式(2)で� ��される3価以上の多価アルコールのエステル からなる可塑剤としては、下記一般式(3)で表 される化合物が好ましい。

 式中、R ₆ ~R ₂₀ は水素原子またはシクロアルキル基、アラル キル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基 、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、 アシル基、カルボニルオキシ基、オキシカル ボニル基、オキシカルボニルオキシ基を表し 、これらはさらに置換基を有していてよい。 R ₂₁ は水素原子またはアルキル基を表す。

 R ₆ ~R ₂₀ のシクロアルキル基、アラルキル基、アルコ キシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキ シ基、アラルキルオキシ基、アシル基、カル ボニルオキシ基、オキシカルボニル基、オキ シカルボニルオキシ基については、前記一般 式(1)のR ₁ ~R ₅ と同様の基が挙げられる。

 以下に、本発明に係わる多価アルコール� ��ステルの具体的化合物を例示する。

 〈糖エステル可塑剤〉
 本発明のセルロースエステルフィルムは、� ��ラノース構造およびピラノース構造から選� ��れる少なくとも一種の構造が1~12個結合した 糖化合物の水酸基をエステル化した糖エステ ル可塑剤を使用することも好ましい。

 本発明に用いられる糖エステル化合物と� ��ては、グルコース、ガラクトース、マンノ� ��ス、フルクトース、キシロース、アラビノ� ��ス、ラクトース、スクロース、セロビオー� ��、セロトリオース、マルトトリオース、ラ� ��ィノースなどが挙げられるが、特にフラノ� ��ス構造とピラノース構造を両方有するもの� ��好ましい。例としてはスクロースが挙げら� ��る。

 本発明に用いられる糖エステル可塑剤は� ��糖化合物の有する水酸基の一部または全部� ��エステル化されているものまたはその混合� ��である。

 〈ポリマー可塑剤〉
 本発明のセルロースエステルフィルムはポ� ��マー可塑剤を使用することも好ましい。

 その中でも特にアクリル系ポリマーが好� ��しい。具体的には、脂肪族炭化水素系ポリ� ��ー、脂環式炭化水素系ポリマー、ポリアク� ��ル酸エチル、ポリメタクリル酸メチル、メ� ��クリル酸メチルとメタクリル酸-2-ヒドロキ� ��エチルとの共重合体(例えば、共重合比1:99~9 9:1の間の任意の比率)等のアクリル系ポリマ� �、ポリビニルイソブチルエーテル、ポリN-ビ ニルピロリドン等のビニル系ポリマー、メタ クリル酸メチルとN-ビニルピロリドンの共重� ��体(例えば、共重合比1:99~99:1の間の任意の比 率)、ポリスチレン、ポリ4-ヒドロキシスチレ ン等のスチレン系ポリマー、メタクリル酸メ チルと4-ヒドロキシスチレンの共重合体(例え ば、共重合比1:99~99:1の間の任意の比率)、ポ� �ブチレンサクシネート、ポリエチレンテレ� �タレート、ポリエチレンナフタレート等の� �リエステル、ポリエチレンオキシド、ポリ� �ロピレンオキシド等のポリエーテル、ポリ� �ミド、ポリウレタン、ポリウレア等が挙げ� �れる。数平均分子量は1,000~500,000程度が好ま� ��く、特に好ましくは、5000~200000である。1000� ��下では揮発性が大きくなり、500000を超える� ��可塑化能力が低下する傾向があり、セルロ� ��スエステル光学フィルムの機械的性質に悪� ��響を及ぼす可能性がある。これらポリマー� ��塑剤は1種のモノマーの繰り返し単位からな る単独重合体でも、複数のモノマーの繰り返 し構造体を有する共重合体でもよい。また、 上記ポリマーを2種以上併用して用いてもよ� �。

 また表面の可塑剤量の測定法は特に限定� ��れないが、たとえば、ナイフなどを用いて� ��フィルムの表面から20nmほど削って定量分析 する方法やフィルムの厚さ方向の可塑剤量を IRや原子吸光などでスキャンする方法などを� ��いて定量したものである。

 〈酸化防止剤〉
 本発明のセルロースエステルフィルムでは� ��酸化防止剤として通常知られているものを� ��用することができる。特に、ラクトン系、� ��オウ系、フェノール系、二重結合系、ヒン� ��ードアミン系、リン系化合物のものを好ま� ��く用いることができるが、特にリン系化合� ��を含有することが望ましい。リン系化合物� ��含有することで、フィルムの着色において� ��明度が優れることが判明した。

 (リン系化合物)
 本発明に用いられるリン系化合物は、従来� ��知のものを用いることができる。好ましく� ��ホスファイト(phosphite)、ホスホナイト(phospho nite)、ホスフィナイト(phosphinite)、または第3� �ホスファン(phosphane)からなる群より選ばれる 化合物であり、例えば、特開2002-138188号、特� ��2005-344044号段落番号0022~0027、特開2004-182979号 段落番号0023~0039、特開平10-306175号、特開平1-2 54744号、特開平2-270892号、特開平5-202078号、特 開平5-178870号、特表2004-504435号、特表2004-530759 号、および特願2005-353229号の明細書中に記載� ��れているものが好ましい。更に好ましいリ� ��系化合物としては下記一般式(4)または(5)で� ��されるホスホナイト化合物である。
一般式(4)  R ³¹ P(OR ³² ) ₂
一般式(5)  (R ³⁴ O) ₂ PR ³³ -R ³³ P(OR ³⁴ ) ₂
 前記一般式(4)において、R ³¹ は置換基を有していてもよいフェニル基、ま たは置換基を有していてもよいチエニル基を 、R ³² は置換基を有していてもよいアルキル基、置 換基を有していてもよいフェニル基、または 置換基を有していてもよいチエニル基を表す 。複数のR ³² は互いに結合して環を形成してもよいが、R ³² として好ましくは置換フェニル基である。置 換フェニル基の、置換基の炭素数の合計は、 好ましくは9~14であり、より好ましくは9~11で� ��る。

 前記、置換基としては特に制限はないが� ��例えば、アルキル基(例えば、メチル基、エ チル基、プロピル基、イソプロピル基、t-ブ� ��ル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル� ��、ドデシル基、トリフルオロメチル基等)、 シクロアルキル基(例えば、シクロペンチル� �、シクロヘキシル基等)、アリール基(例えば 、フェニル基、ナフチル基等)、アシルアミ� �基(例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイル� ��ミノ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチ� �チオ基、エチルチオ基等)、アリールチオ基( 例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等 )、アルケニル基(例えば、ビニル基、2-プロ� �ニル基、3-ブテニル基、1-メチル-3-プロペニ� ��基、3-ペンテニル基、1-メチル-3-ブテニル基 、4-ヘキセニル基、シクロヘキセニル基等)、 ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原� �、臭素原子、沃素原子等)、アルキニル基(例 えば、プロパルギル基等)、複素環基(例えば� ��ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル� ��、イミダゾリル基等)、アルキルスルホニル 基(例えば、メチルスルホニル基、エチルス� �ホニル基等)、アリールスルホニル基(例えば 、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニ ル基等)、アルキルスルフィニル基(例えば、� ��チルスルフィニル基等)、アリールスルフィ ニル基(例えば、フェニルスルフィニル基等)� ��ホスホノ基、アシル基(例えば、アセチル基 、ピバロイル基、ベンゾイル基等)、カルバ� �イル基(例えば、アミノカルボニル基、メチ� ��アミノカルボニル基、ジメチルアミノカル� ��ニル基、ブチルアミノカルボニル基、シク� ��ヘキシルアミノカルボニル基、フェニルア� ��ノカルボニル基、2-ピリジルアミノカルボ� �ル基等)、スルファモイル基(例えば、アミノ スルホニル基、メチルアミノスルホニル基、 ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノ スルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基 、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オク チルアミノスルホニル基、ドデシルアミノス ルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、 ナフチルアミノスルホニル基、2-ピリジルア� ��ノスルホニル基等)、スルホンアミド基(例� �ば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンス� �ホンアミド基等)、シアノ基、アルコキシ基( 例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキ シ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノ� ��シ基、ナフチルオキシ基等)、複素環オキシ 基、シロキシ基、アシルオキシ基(例えば、� �セチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等)、� ��ルホン酸基、スルホン酸の塩、アミノカル� ��ニルオキシ基、アミノ基(例えば、アミノ基 、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチ ルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2-エ� ��ルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基等) 、アニリノ基(例えば、フェニルアミノ基、� �ロロフェニルアミノ基、トルイジノ基、ア� �シジノ基、ナフチルアミノ基、2-ピリジルア ミノ基等)、イミド基、ウレイド基(例えば、� ��チルウレイド基、エチルウレイド基、ペン� ��ルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基� ��オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基� ��フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基� ��2-ピリジルアミノウレイド基等)、アルコキ� ��カルボニルアミノ基(例えば、メトキシカル ボニルアミノ基、フェノキシカルボニルアミ ノ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、� ��トキシカルボニル基、エトキシカルボニル� ��、フェノキシカルボニル等)、アリールオキ シカルボニル基(例えば、フェノキシカルボ� �ル基等)、複素環チオ基、チオウレイド基、� ��ルボキシル基、カルボン酸の塩、ヒドロキ� ��ル基、メルカプト基、ニトロ基等の各基が� ��げられる。これらの置換基は同様の置換基� ��よって更に置換されていてもよい。

 前記一般式(5)において、R ³³ は置換基を有していてもよいフェニレン基、 または置換基を有していてもよいチエニレン 基を、R ³⁴ は置換基を有していてもよいアルキル基、置 換基を有していてもよいフェニル基、または 置換基を有していてもよいチエニル基を表す 。複数のR ³⁴ は互いに結合して環を形成してもよいが、R ³⁴ として好ましくは置換フェニル基である。置 換フェニル基の、置換基の炭素数の合計は、 好ましくは9~14であり、より好ましくは9~11で� ��る。前記置換基としては、R ³² において、述べたものと同じである。

 具体的には、一般式(4)で表されるホスホ� ��イト化合物としては、ジメチル-フェニルホ スホナイト、ジ-t-ブチル-フェニルホスホナ� �ト等のジアルキル-フェニルホスホナイト類� ��ジフェニル-フェニルホスホナイト、ジ-(4-� �ンチル-フェニル)-フェニルホスホナイト、� �-(2-t-ブチル-フェニル)-フェニルホスホナイ� �、ジ-(2-メチル-3-ペンチル-フェニル)-フェニ� ��ホスホナイト、ジ-(2-メチル-4-オクチル-フ� �ニル)-フェニルホスホナイト、ジ-(3-ブチル-4 -メチル-フェニル)-フェニルホスホナイト、� �-(3-ヘキシル-4-エチル-フェニル)-フェニルホ� ��ホナイト、ジ-(2,4,6-トリメチルフェニル)-フ ェニルホスホナイト、ジ-(2,3-ジメチル-4-エチ ル-フェニル)-フェニルホスホナイト、ジ-(2,6- ジエチル-3-ブチルフェニル)-フェニルホスホ� ��イト、ジ-(2,3-ジプロピル-5-ブチルフェニル) -フェニルホスホナイト、ジ-(2,4,6-トリ-t-ブチ ルフェニル)-フェニルホスホナイト、等のジ- フェニル誘導体-フェニルホスホナイト類が� �げられる。

 また、一般式(5)で表されるホスホナイト� ��合物としては、テトラキス(2,4-ジ-t-ブチル-� ��ェニル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナイト� ��テトラキス(2,5-ジ-t-ブチル-フェニル)-4,4″-� ��フェニレンジホスホナイト、テトラキス(3,5 -ジ-t-ブチル-フェニル)-4,4″-ビフェニレンジ� ��スホナイト、テトラキス(2,3,4-トリメチルフ ェニル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナイト、 テトラキス(2,3-ジメチル-5-エチル-フェニル)-4 ,4″-ビフェニレンジホスホナイト、テトラキ ス(2,3-ジメチル-4-プロピルフェニル)-4,4″-ビ� ��ェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,3-� �メチル-5-t-ブチルフェニル)-4,4″-ビフェニレ ンジホスホナイト、テトラキス(2,5-ジメチル- 4-t-ブチルフェニル)-4,4″-ビフェニレンジホ� �ホナイト、テトラキス(2,3-ジエチル-5-メチル フェニル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナイト 、テトラキス(2,6-ジエチル-4-メチルフェニル) -4,4″-ビフェニレンジホスホナイト、テトラ� ��ス(2,4,5-トリエチルフェニル)-4,4″-ビフェニ レンジホスホナイト、テトラキス(2,6-ジエチ� ��-4-プロピルフェニル)-4,4″-ビフェニレンジ� ��スホナイト、テトラキス(2,5-ジエチル-6-ブ� �ルフェニル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナ� �ト、テトラキス(2,3-ジエチル-5-t-ブチルフェ� ��ル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナイト、テ� ��ラキス(2,5-ジエチル-6-t-ブチルフェニル)-4,4� ��-ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス (2,3-ジプロピル-5-メチルフェニル)-4,4″-ビフ� ��ニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6-ジ� �ロピル-4-メチルフェニル)-4,4″-ビフェニレ� �ジホスホナイト、テトラキス(2,6-ジプロピル -5-エチルフェニル)-4,4″-ビフェニレンジホス ホナイト、テトラキス(2,3-ジプロピル-6-ブチ� ��フェニル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナイ� ��、テトラキス(2,6-ジプロピル-5-ブチルフェ� �ル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナイト、テ� �ラキス(2,3-ジブチル-4-メチルフェニル)-4,4″- ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2, 5-ジブチル-3-メチルフェニル)-4,4″-ビフェニ� ��ンジホスホナイト、テトラキス(2,6-ジブチ� �-4-メチルフェニル)-4,4″-ビフェニレンジホ� �ホナイト、テトラキス(2,4-ジ-t-ブチル-3-メチ ルフェニル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナイ ト、テトラキス(2,4-ジ-t-ブチル-5-メチルフェ� ��ル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナイト、テ� ��ラキス(2,4-ジ-t-ブチル-6-メチルフェニル)-4,4 ″-ビフェニレンジホスホナイト、テトラキ� �(2,5-ジ-t-ブチル-3-メチルフェニル)-4,4″-ビフ ェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,5-ジ- t-ブチル-4-メチルフェニル)-4,4″-ビフェニレ� ��ジホスホナイト、テトラキス(2,5-ジ-t-ブチ� �-6-メチルフェニル)-4,4″-ビフェニレンジホ� �ホナイト、テトラキス(2,6-ジ-t-ブチル-3-メチ ルフェニル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナイ ト、テトラキス(2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェ� ��ル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナイト、テ� ��ラキス(2,6-ジ-t-ブチル-5-メチルフェニル)-4,4 ″-ビフェニレンジホスホナイト、テトラキ� �(2,3-ジブチル-4-エチルフェニル)-4,4″-ビフェ ニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4-ジブ� ��ル-3-エチルフェニル)-4,4″-ビフェニレンジ� ��スホナイト、テトラキス(2,5-ジブチル-4-エ� �ルフェニル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナ� �ト、テトラキス(2,4-ジ-t-ブチル-3-エチルフェ ニル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナイト、テ トラキス(2,4-ジ-t-ブチル-5-エチルフェニル)-4, 4″-ビフェニレンジホスホナイト、テトラキ� ��(2,4-ジ-t-ブチル-6-エチルフェニル)-4,4″-ビ� �ェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,5-ジ -t-ブチル-3-エチルフェニル)-4,4″-ビフェニレ ンジホスホナイト、テトラキス(2,5-ジ-t-ブチ� ��-4-エチルフェニル)-4,4″-ビフェニレンジホ� ��ホナイト、テトラキス(2,5-ジ-t-ブチル-6-エ� �ルフェニル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナ� �ト、テトラキス(2,6-ジ-t-ブチル-3-エチルフェ ニル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナイト、テ トラキス(2,6-ジ-t-ブチル-4-エチルフェニル)-4, 4″-ビフェニレンジホスホナイト、テトラキ� ��(2,6-ジ-t-ブチル-5-エチルフェニル)-4,4″-ビ� �ェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,3,4-� ��リブチルフェニル)-4,4″-ビフェニレンジホ� ��ホナイト、テトラキス(2,4,6-トリ-t-ブチルフ ェニル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナイト等 が挙げられる。

 本発明においては、一般式(5)で表される� ��スホナイト化合物が好ましい。中でも、テ� ��ラキス(2,4-ジ-t-ブチル-フェニル)-4,4″-ビフ� ��ニレンジホスホナイト等の4,4″-ビフェニレ ンジホスホナイト化合物が好ましく、特に好 ましいものはテトラキス(2,4-ジ-t-ブチル-5-メ� ��ルフェニル)-4,4″-ビフェニレンジホスホナ� ��トが好適である。

 特に好ましいホスホナイト化合物を次に� ��す。

 リン系化合物の含有量は、セルロースエ� ��テル100質量部に対して、通常0.001~10.0質量部 、好ましくは0.01~5.0質量部、さらに好ましく� ��0.1~1.0質量部である。

 好ましい化合物として、GSY-P101(堺化学工� ��(株))、PEP-36((株)ADEKA)、SumilizerGP(住友化学(株 )製)が市販されている。

 また、フェノール系化合物としては、例� ��ば、チバ・ジャパン株式会社から、“Irganox 1076”及び“Irganox1010”が市販されている。

 〈リターデーション調整剤〉
 本発明のセルロースエステルフィルムにお� ��てリターデーションを調整するための化合� ��を含有させてもよい。

 リターデーションを調整するために添加� ��る化合物は、欧州特許第911,656A2号明細書に� ��載されているような、二つ以上の芳香族環� ��有する芳香族化合物を使用することも出来� ��。

 また2種類以上の芳香族化合物を併用して もよい。該芳香族化合物の芳香族環には、芳 香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環 を含む。芳香族性ヘテロ環であることが特に 好ましく、芳香族性ヘテロ環は一般に不飽和 ヘテロ環である。中でも1,3,5-トリアジン環を 有する化合物が特に好ましい。

 〈着色剤〉
 本発明においては、着色剤を使用すること� ��好ましい。着色剤と言うのは染料や顔料を� ��味するが、本発明では、液晶画面の色調を� ��色調にする効果またはイエローインデック� ��の調整、ヘイズの低減を有するものを指す� ��

 着色剤としては各種の染料、顔料が使用� ��能だが、アントラキノン染料、アゾ染料、� ��タロシアニン顔料などが有効である。

 〈紫外線吸収剤〉
 本発明に用いられる紫外線吸収剤は特に限� ��されないが、例えばオキシベンゾフェノン� ��化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サ� ��チル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン� ��化合物、シアノアクリレート系化合物、ト� ��アジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、� ��機粉体等が挙げられる。高分子型の紫外線� ��収剤としてもよい。

 〈マット剤〉
 本発明では、フィルムの滑り性を付与する� ��めにマット剤を添加することが好ましい。

 本発明で用いられるマット剤としては、得� ��れるフィルムの透明性を損なうことがなく� ��溶融時の耐熱性があれば無機化合物または� ��機化合物どちらでもよく、例えば、タルク� ��マイカ、ゼオライト、ケイソウ土、焼成珪� ��土、カオリン、セリサイト、ベントナイト� ��スメクタイト、クレー、シリカ、石英粉末� ��ガラスビーズ、ガラス粉、ガラスフレーク� ��ミルドファイバー、ワラストナイト、窒化� ��ウ素、炭化ホウ素、ホウ化チタン、炭酸マ� ��ネシウム、重質炭酸カルシウム、軽質炭酸� ��ルシウム、珪酸カルシウム、珪酸アルミニ� ��ム、珪酸マグネシウム、アルミノ珪酸マグ� ��シウム、アルミナ、シリカ、酸化亜鉛、二� ��化チタン、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸� ��ジルコニウム、水酸化アルミニウム、水酸� ��カルシウム、水酸化マグネシウム、硫酸カ� ��シウム、硫酸バリウム、炭化ケイ素、炭化� ��ルミニウム、炭化チタン、窒化アルミニウ� ��、窒化ケイ素、窒化チタン、ホワイトカー� ��ンなどが挙げられる。これらのマット剤は� ��単独でも二種以上併用しても使用できる。
粒径や形状(例えば針状と球状など)の異なる� ��子を併用することで高度に透明性と滑り性� ��両立させることもできる。

 これらの中でも、セルロースエステルと� ��折率が近いので透明性(ヘイズ)に優れる二� �化珪素が特に好ましく用いられる。二酸化� �素の具体例としては、アエロジル200V、アエ� ��ジルR972V、アエロジルR972、R974、R812、200、30 0、R202、OX50、TT600(以上日本アエロジル(株)製) 、シーホスターKEP-10、シーホスターKEP-30、シ ーホスターKEP-50(以上、株式会社日本触媒製)� ��サイロホービック100(富士シリシア製)、ニ� �プシールE220A(日本シリカ工業製)、アドマフ� ��インSO(アドマテックス製)等の商品名を有す る市販品などが好ましく使用できる。粒子の 形状としては、不定形、針状、扁平、球状等 特に制限なく使用できるが、特に球状の粒子 を用いると得られるフィルムの透明性が良好 にできるので好ましい。粒子の大きさは、可 視光の波長に近いと光が散乱し、透明性が悪 くなるので、可視光の波長より小さいことが 好ましく、更に可視光の波長の1/2以下である ことが好ましい。粒子の大きさが小さすぎる と滑り性が改善されない場合があるので、80n mから180nmの範囲であることが特に好ましい。 なお、粒子の大きさとは、粒子が1次粒子の� �集体の場合は凝集体の大きさを意味する。� �た、粒子が球状でない場合は、その投影面� �に相当する円の直径を意味する。

 (粘度低下剤)
 本発明において、溶融粘度を低減する目的� ��して、水素結合性溶媒を添加することがで� ��る。水素結合性溶媒とは、J.N.イスラエルア チビリ著、「分子間力と表面力」(近藤保、� �島広行訳、マグロウヒル出版、1991年)に記載 されるように、電気的に陰性な原子(酸素、� �素、フッ素、塩素)と電気的に陰性な原子と� ��有結合した水素原子間に生ずる、水素原子� ��介「結合」を生ずることができるような有� ��溶媒、すなわち、結合モーメントが大きく� ��かつ水素を含む結合、例えば、O-H(酸素水素 結合)、N-H(窒素水素結合)、F-H(フッ素水素結� �)を含むことで近接した分子同士が配列でき� ��ような有機溶媒をいう。これらは、セルロ� ��ス樹脂の分子間水素結合よりもセルロース� ��の間で強い水素結合を形成する能力を有す� ��もので、本発明で行う溶融流延法において� ��、用いるセルロース樹脂単独のガラス転移� ��度よりも、水素結合性溶媒の添加によりセ� ��ロース樹脂組成物の溶融温度を低下するこ� ��ができる、または同じ溶融温度においてセ� ��ロース樹脂よりも水素結合性溶媒を含むセ� ��ロース樹脂組成物の溶融粘度を低下するこ� ��ができる。

 水素結合性溶媒としては、例えば、アル� ��ール類:例えば、メタノール、エタノール、 プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノ� ��ル、sec-ブタノール、t-ブタノール、2-エチ� �ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノー� �、ノナノール、ドデカノール、エチレング� �コール、プロピレングリコール、ヘキシレ� �グリコール、ジプロピレングリコール、ポ� �エチレングリコール、ポリプロピレングリ� �ール、メチルセロソルブ、エチルセロソル� �、ブチルセロソルブ、ヘキシルセロソルブ� �グリセリン等、ケトン類:アセトン、メチル� ��チルケトン等、カルボン酸類:例えば蟻酸、 酢酸、プロピオン酸、酪酸等、エーテル類:� �えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ� �ン、ジオキサン等、ピロリドン類:例えば、N -メチルピロリドン等、アミン類:例えば、ト� ��メチルアミン、ピリジン等、等を例示する� ��とができる。これら水素結合性溶媒は、単� ��で、又は2種以上混合して用いることができ る。これらのうちでも、アルコール、ケトン 、エーテル類が好ましく、特にメタノール、 エタノール、プロパノール、イソプロパノー ル、オクタノール、ドデカノール、エチレン グリコール、グリセリン、アセトン、テトラ ヒドロフランが好ましい。さらに、メタノー ル、エタノール、プロパノール、イソプロパ ノール、エチレングリコール、グリセリン、 アセトン、テトラヒドロフランのような水溶 性溶媒が特に好ましい。ここで水溶性とは、 水100gに対する溶解度が10g以上のものをいう� �

 〈溶融製膜〉
 本発明における溶融製膜とは、セルロース� ��ステル及び可塑剤などの添加剤を含む組成� ��を、流動性を示す温度まで加熱溶融し、そ� ��後、流動性のセルロースエステルを含む溶� ��物を流延することを溶融製膜として定義す� ��。

 加熱溶融する成形法は、更に詳細には、� ��融押出成形法、プレス成形法、インフレー� ��ョン法、射出成形法、ブロー成形法、延伸� ��形法などに分類出来る。これらの中で、機� ��的強度及び表面精度などに優れるセルロー� ��エステルフィルムを得るためには、溶融押� ��し法が優れている。

 (製膜方法)
 以下、フィルムの製膜方法について説明す� ��。

 (セルロースエステルと添加剤の溶融ペレッ ト製造工程)
 溶融押出に用いる複数の原材料は、通常あ� ��かじめ混錬してペレット化しておくことが� ��ましい。

 ペレット化は、公知の方法でよく、例え� ��、乾燥セルロースエステルや可塑剤、その� ��添加剤をフィーダーで押出機に供給し1軸や 2軸の押出機を用いて混錬し、ダイからスト� �ンド状に押出し、水冷または空冷し、カッ� �ィングすることでできる。

 原材料は、押出する前に乾燥しておくこ� ��が原材料の分解を防止する上で重要である� ��特にセルロースエステルは吸湿しやすいの� ��、除湿熱風乾燥機や真空乾燥機で70~140℃で3 時間以上乾燥し、水分率を200ppm以下、更に100 ppm以下にしておくことが好ましい。

 添加剤は、押出機に供給する前に混合し� ��おいてもよいし、それぞれ個別のフィーダ� ��で供給してもよい。酸化防止剤等少量の添� ��剤は、均一に混合するため、事前に混合し� ��おくことが好ましい。

 酸化防止剤の混合は、固体同士で混合し� ��もよいし、必要により、酸化防止剤を溶剤� ��溶解しておき、セルロースエステルに含浸� ��せて混合してもよく、あるいは噴霧して混� ��してもよい。

 真空ナウターミキサーなどが乾燥と混合を� ��時にできるので好ましい。また、フィーダ� ��部やダイからの出口など空気と触れる場合� ��、除湿空気や除湿したN ₂ ガスなどの雰囲気下にすることが好ましい。

 また、押出機への供給ホッパー等は保温� ��ておくことが吸湿防止できるので好ましい� ��

 マット剤やUV吸収剤などは、得られたペ� �ットにまぶしたり、フィルム製膜時に押出� �中で添加してもよい。

 押出機は、せん断力を抑え、樹脂が劣化( 分子量低下、着色、ゲル生成等)しないよう� �ペレット化可能でなるべく低温で加工する� �とが好ましい。例えば、2軸押出機の場合、� ��溝タイプのスクリューを用いて、同方向に� ��転させることが好ましい。混錬の均一性か� ��、噛み合いタイプが好ましい。

 ニーダーディスクは、混錬性を向上でき� ��が、せん断発熱に注意が必要である。ニー� ��ーディスクを用いなくても混合性は十分で� ��る。ベント孔からの吸引は必要に応じて行� ��ばよい。低温であれば揮発成分はほとんど� ��生しないのでベント孔なしでもよい。

 ペレットの色は、黄味の指標であるb*値� �-5~10の範囲にあることが好ましく、-1~8の範� �にあることがさらに好ましく、-1~5の範囲に� ��ることがより好ましい。b*値は分光測色計CM -3700d(コニカミノルタセンシング(株)製)で、� �源としてD65(色温度6504K)を用い、視野角10°で 測定することができる。

 以上のようにして得られたペレットを用� ��てフィルム製膜を行う。もちろんペレット� ��せず、原材料の粉末をそのままフィーダー� ��押し出し機に供給し、そのままフィルム製� ��することも可能である。

 (セルロースエステルと添加剤の溶融物をダ イから押し出す工程)
 除湿熱風や真空または減圧下で乾燥したポ� ��マーを1軸や2軸タイプの押出し機を用いて� �押し出す際の溶融温度を200~300℃程度とし、� ��ーフディスクタイプのフィルターなどでろ� ��し異物を除去した後、Tダイからフィルム状 に流延し、冷却ロール上で固化させる。

 供給ホッパーから押出し機へ導入する際� ��真空下または減圧下や不活性ガス雰囲気下� ��して酸化分解等を防止することが好ましい� ��

 押出し流量は、ギヤポンプを導入するな� ��して安定に行うことが好ましい。また、異� ��の除去に用いるフィルターは、ステンレス� ��維焼結フィルターが好ましく用いられる。

 ステンレス繊維焼結フィルターは、ステ� ��レス繊維体を複雑に絡み合った状態を作り� ��した上で圧縮し接触箇所を焼結し一体化し� ��もので、その繊維の太さと圧縮量により密� ��を変え、ろ過精度を調整できる。

 ろ過精度を粗、密と連続的に複数回繰り� ��した多層体としたものが好ましい。また、� ��過精度を順次上げていく構成としたり、ろ� ��精度の粗、密を繰り返す方法をとることで� ��フィルターのろ過寿命が延び、異物やゲル� ��どの補足精度も向上できるので好ましい。

 ダイに傷や異物が付着するとスジ状の欠� ��が発生する場合がある。このような欠陥の� ��とをダイラインとも呼ぶが、ダイライン等� ��表面の欠陥を小さくするためには、押し出� ��機からダイまでの配管には樹脂の滞留部が� ��力少なくなるような構造にすることが好ま� ��い。ダイの内部やリップにキズ等が極力無� ��ものを用いることが好ましい。

 押し出し機やダイなどの溶融樹脂と接触� ��る内面は、表面粗さを小さくしたり、表面� ��ネルギーの低い材質を用いるなどして、溶� ��樹脂が付着し難い表面加工が施されている� ��とが好ましい。具体的には、ハードクロム� ��ッキやセラミック溶射したものを表面粗さ0 .2S以下となるように研磨したものが挙げられ る。

 可塑剤などの添加剤は、あらかじめ樹脂� ��混合しておいてもよいし、押し出し機の途� ��で練り込んでもよい。均一に添加するため� ��、スタチックミキサーなどの混合装置を用� ��ることが好ましい。

 (ダイから押し出された溶融物を冷却ロール と弾性タッチロールとの間に押圧しながら流 延する工程)
 冷却ロールと弾性タッチロールでフィルム� ��ニップする際のタッチロール側のフィルム� ��度はフィルムのTg以上Tg+110℃以下にするこ� �が好ましい。このような目的で使用する弾� �体表面を有するロールは、公知のロールが� �用できる。

 また、タッチロールは挟圧回転体ともい� ��。タッチロールとしては、登録特許3194904号 、登録特許3422798号、特開2002-36332、特開2002-36 333などで開示されているタッチロールを好ま しく用いることができる。これらは市販され ているものを用いることもできる。

 冷却ロールからフィルムを剥離する際は� ��張力を制御してフィルムの変形を防止する� ��とが好ましい。

 (延伸工程)
 本発明では、上記のようにして得られたフ� ��ルムは冷却ロールに接する工程を通過後、� ��ィルムをフィルム搬送方向に下記式(1)で表� ��れる延伸速度が1000%/min~30000%/minで延伸する� �とが、フィルムの音速を所望の値に制御す� �上で好ましい方法である。

 延伸に要する時間は延伸工程の距離とフ� ��ルム搬送速度から算出し、延伸後寸法は延� ��前に決まった長さでしるしをつけておき、� ��伸後の長さを測定することで求めた。

 式(1)
 延伸速度(%/min)={(延伸後寸法/延伸前寸法)-1}� �100(%)/延伸に要する時間(min)
 更に、前記フィルムの幅手方向に前記式(1)� ��表される延伸速度が400%/min~1500%/minで延伸す� ��こと、前記フィルムを少なくとも搬送方向� ��幅手方向のどちらか一方に50%~200%延伸する� �とが好ましい。

 延伸倍率が小さすぎると、好ましい音速� ��をもつセルロースエステルフィルムを得る� ��とが困難になり、逆に大きすぎると、フィ� ��ムが破断してしまったり、自重に耐え切れ� ��、フィルムがたるんでしまう。

 延伸する方法は、公知のロール延伸機や� ��ンターなどを好ましく用いることができる� ��

 延伸温度は、通常フィルムを構成する樹� ��のTg~Tg+60℃の温度範囲で行われることが好� �しい。

 フィルム構成材料のガラス転移温度Tgは� �ィルムを構成する材料種及び構成する材料� �比率を異ならしめることにより制御できる� �光学フィルムを作製する場合、Tgは110℃以上 、好ましくは125℃以上とすることが好ましい 。液晶表示装置においては、画像の表示状態 において、装置自身の温度上昇、例えば光源 由来の温度上昇によってフィルムの温度環境 が変化する。このときフィルムの使用環境温 度よりもフィルムのTgが低いと、延伸によっ� ��フィルム内部に固定された分子の配向状態� ��由来するリターデーション値及びフィルム� ��しての寸法形状に大きな変化を与えること� ��なる。フィルムのTgが高過ぎると、フィル� �構成材料をフィルム化するとき温度が高く� �るために加熱するエネルギー消費が高くな� �、またフィルム化するときの材料自身の分� �、それによる着色が生じることがあり、従� �て、Tgは250℃以下が好ましい。

 また延伸工程には公知の熱固定条件、冷� ��、緩和処理を行ってもよく、目的とする光� ��フィルムに要求される特性を有するように� ��宜調整すればよい。

 延伸温度が低すぎると破断してしまう場� ��があり、高すぎると所望のリターデーショ� ��が得られない場合がある。

 延伸は、幅手方向で制御された均一な温� ��分布下で行うことが好ましい。好ましくは� �2℃以内、さらに好ましくは±1℃以内、特に� ��ましくは±0.5℃以内である。

 巻き取る前に、製品となる幅に端部をス� ��ットして裁ち落とし、巻き中の貼り付きや� ��り傷防止のために、ナール加工(エンボッシ ング加工)を両端に施してもよい。ナール加� �の方法は凸凹のパターンを側面に有する金� �リングを加熱や加圧により加工することが� �きる。なお、フィルム両端部のクリップの� �持部分は通常、フィルムが変形しており製� �として使用できないので切除されて、再利� �される。

 以下、その延伸方法について説明する。

 延伸は搬送方向の延伸(縦延伸)、幅手方� �の延伸(横延伸)、およびこれらの組み合わせ によって実施される。縦延伸は、ロール延伸 (出口側の周速を速くした2対以上のニップロ� ��ルを用いて長手方向に延伸)や固定端延伸(� �ィルムの両端を把持しこれを長手方向に次� �に早く搬送して長手方向に延伸)等により行� ��ことができる。また横延伸は、テンター延� ��{フィルムの両端をチャックで把持しこれを 横方向(長手方向と直角方向)に広げて延伸}等 により行うことができる。

 これらの縦延伸と横延伸は、それぞれ単� ��で行ってもよく(一軸延伸)、組み合わせて� �ってもよい(二軸延伸)。二軸延伸の場合、縦 、横逐次で実施してもよく(逐次延伸)、同時� ��実施してもよい(同時延伸)。

 搬送方向の延伸の延伸速度は、1000%/min~300 00%/minが好ましく、より好ましくは5000%/min~2000 0%/min、さらに好ましくは10000%/分~20000%/minであ る。多段延伸の場合、延伸速度は各段の延伸 速度の平均値を指す。

 更に、前記フィルムの幅手方向へ前記式( 1)で表される延伸速度が400%/min~1500%/minで延伸� ��ることが好ましい。より好ましくは500%/min~1 400%/min、さらに好ましくは600%/分~1300%/minであ� ��。

 このような延伸に引き続き、縦または横� ��向に0%~10%緩和することも好ましい。さらに� ��延伸に引き続き、150℃~250℃で1秒~3分熱固定 することも好ましい。

 本発明の光学フィルムにおいては、少な� ��とも1方向に50%~200%延伸することで、必要と� ��れる音速範囲や、リターデーションRo及びRt hを制御することができる。ここで、Roとは面 内リターデーションを示し、面内の長手方向 MDの屈折率と幅手方向TDの屈折率との差に厚� �を乗じたもの、Rthとは厚み方向リターデー� �ョンを示し、面内の屈折率(長手方向MDと幅� �向TDの平均)と厚み方向の屈折率との差に厚� �を乗じたものである。

 延伸は、例えばフィルムの搬送方向及び� ��手方向に対して、逐次または同時に行うこ� ��ができる。このとき少なくとも1方向に対し ての延伸倍率が小さ過ぎると十分な位相差が 得られず、大き過ぎると延伸が困難となりフ ィルム破断が発生してしまう場合がある。

 互いに直交する2軸方向に延伸することは 、フィルムの屈折率nx、ny、nzを所定の範囲に 入れるために有効な方法である。ここで、nx� ��はフィルム搬送MD方向の屈折率、nyとは幅手 TD方向の屈折率、nzとは厚み方向の屈折率で� �る。

 例えばフィルム搬送方向に延伸した場合� ��幅手方向の収縮が大き過ぎると、nzの値が� �きくなり過ぎてしまう。この場合、フィル� �の幅収縮を抑制、或いは幅手方向にも延伸� �ることで改善できる。幅手方向に延伸する� �合、幅手方向で屈折率に分布が生じること� �ある。この分布は、テンター法を用いた場� �に現れることがあり、フィルムを幅手方向� �延伸したことで、フィルム中央部に収縮力� �発生し、端部は固定されていることにより� �じる現象で、いわゆるボーイング現象と呼� �れるものと考えられる。この場合でも、フ� �ルム搬送方向に延伸することで、ボーイン� �現象を抑制でき、幅手方向の位相差の分布� �少なくできる。

 互いに直交する2軸方向に延伸することに より、得られるフィルムの膜厚変動が減少で きる。膜厚変動が大き過ぎると位相差のムラ となり、液晶ディスプレイに用いたとき着色 等のむらが問題となることがある。

 本発明のセルロースエステルフィルムの� ��厚変動は、±3%、さらに±1%の範囲とするこ� �が好ましい。

 延伸後、フィルムの端部をスリッターに� ��り製品となる幅にスリットして裁ち落とし� ��後、エンボスリング及びバックロールより� ��るナール加工装置によりナール加工(エンボ ッシング加工)をフィルム両端部に施し、巻� �り機によって巻き取ることにより、セルロ� �スエステルフィルム(元巻き)の貼り付きや、 すり傷の発生を防止する。ナール加工の方法 は、凸凹のパターンを側面に有する金属リン グを加熱や加圧により加工することができる 。なお、フィルム両端部のクリップの把持部 分は通常、変形しており、フィルム製品とし て使用できないので、切除されて、原料とし て再利用される。

 一般的に、溶融押出しでは流延ダイの形� ��により、端部側の滞留時間が長くなる傾向� ��知られており、それによりフィルム端部の� ��色が促進されると考えられる。本発明では� ��融押出し直後のフィルム幅手方向の端部の� ��エローインデックスYeと、フィルム中央部� �のイエローインデックスYcは下式を満たすこ とが好ましく、より好ましくはYe/Ycが3.0以下� ��ある。Ye/Ycが5.0より大きいと、フィルム端� �を切除して、原料として再利用した際に、� �産したフィルムの着色が増加する。なお、� �発明で端部のイエローインデックスとはフ� �ルム幅手方向の両端部から30mm以内での最大� ��と定義する。

 式 1.0≦Ye/Yc≦5.0
 光学フィルムの場合、該フィルムの厚さは� ��10~500μmが好ましい。特に、下限は20μm以上� �好ましくは30μm以上である。上限は150μm以下 、好ましくは120μm以下である。特に好ましい 範囲は25以上~90μmである。フィルムが厚いと� ��偏光板加工後の偏光板が厚くなり過ぎ、ノ� ��ト型パソコンやモバイル型電子機器に用い� ��液晶表示においては、特に薄型軽量の目的� ��適さなくなる。一方、フィルムが薄いと、� ��ィルムの透湿性が高くなり、偏光子を湿度� ��ら保護する能力が低下する傾向がある。

 (機能性層の形成)
 本発明のセルロースエステルフィルム製造� ��際し、延伸の前及び/または後で透明導電層 、ハードコート層、反射防止層、易滑性層、 易接着層、防眩層、バリアー層、光学補償層 等の機能性層を塗設してもよい。特に、透明 導電層、ハードコート層、反射防止層、易接 着層、防眩層及び光学補償層から選ばれる少 なくとも1層を設けることが好ましい。この� �、コロナ放電処理、プラズマ処理、薬液処� �等の各種表面処理を必要に応じて施すこと� �できる。

 (偏光板)
 本発明の偏光板について述べる。

 偏光板は一般的な方法で作製することが� ��きる。本発明のセルロースエステルフィル� ��をアルカリ鹸化処理し、処理したフィルム� ��、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏� ��膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポ� ��ビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わ� ��ることが好ましい。もう一方の面にも本発� ��のセルロースエステルフィルムを用いても� ��別の光学フィルムや偏光板保護フィルムを� ��いてもよい。本発明のセルロースエステル� ��ィルムに対して、もう一方の面に用いられ� ��光学フィルムや偏光板保護フィルムは市販� ��セルロースエステルフィルムを用いること� ��できる。例えば、市販のセルロースエステ� ��フィルムとして、KC8UX、KC4UX、KC5UX、KC8UCR3、 KC8UCR4、KC8UCR5、KC8UY、KC4UY、KC10UDR、KC4FR、KC4UE� ��KC8UE、KC8UY-HA、KC8UX-RHA、KC8UXW-RHA-C、KC8UXW-RHA-N C、KC4UXW-RHA-NC(以上、コニカミノルタオプト(� �)製)等が好ましく用いられる。或いは更にデ ィスコチック液晶、棒状液晶、コレステリッ ク液晶などの液晶化合物を配向させて形成し た光学異方層を有している光学補償フィルム を兼ねる光学フィルムを用いることも好まし い。例えば、特開2003-98348号記載の方法で光� �異方性層を形成することができる。本発明� �セルロースエステルフィルムと組み合わせ� �使用することによって、平面性に優れ、安� �した視野角拡大効果を有する偏光板を得る� �とができる。

 偏光板の主たる構成要素である偏光膜と� ��、一定方向の偏波面の光だけを通す素子で� ��り、現在知られている代表的な偏光膜は、� ��リビニルアルコール系偏光フィルムで、こ� ��はポリビニルアルコール系フィルムにヨウ� ��を染色させたものと二色性染料を染色させ� ��ものがある。偏光膜は、ポリビニルアルコ� ��ル水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて� ��色するか、染色した後一軸延伸してから、� ��ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行っ� ��ものが用いられている。該偏光膜の面上に� ��本発明のセルロースエステルフィルムの片� ��を貼り合わせて偏光板を形成する。好まし� ��は完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成� ��とする水系の接着剤によって貼り合わせる� ��

 本発明に従い溶融流延製膜方法により製� ��される長尺状セルロースエステルフィルム� ��、長尺状の偏光膜(偏光フィルム)とアルカ� �ケン化処理を施して貼合することができる� �め、特に100m以上の長尺で生産的効果が得ら� ��、1500m、2500m、5000mとより長尺化する程偏光� ��製造の生産的効果が高まる。

 また、本発明のセルロースエステルフィ� ��ムを用いた偏光板はリワーク性に優れるた� ��、偏光板収率が向上するという効果も得る� ��とができる。

 (液晶表示装置)
 本発明のセルロースエステルフィルムを含� ��偏光板は、通常の偏光板と比較して高い表� ��品質を発現させることができる。

 本発明の偏光板は、MVA(Multi-domain Vertical  Alignment)モード、PVA(Patterned Vertical Alignment)モ ード、CPA(Continuous Pinwheel Alignment)モード、OCB (Optical Compensated Bend)モード、IPS(In-Plane Switch ing)モード等に用いることができる。

 液晶表示装置はカラー化及び動画表示用� ��装置として応用され、本発明により表示品� ��が改良され、コントラストの改善や偏光板� ��耐性が向上したことにより、疲れにくく忠� ��な動画像表示が可能となる。