Title:
CHARGED PARTICLE MICROSCOPE
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2011/055521
Kind Code:
A1
Abstract:
Provided is a mechanism whereby an ion irradiation system can be made more compact, the length of the ion optics can be reduced, and the direction in which ions are discharged from an emitter tip (21) toward a sample can be adjusted accurately. The charged particle beam microscope is configured of: a gas field ionization ion source (1); a focusing lens (5) which accelerates and focuses ions that have been discharged from the ion source; a movable first aperture (6) which limits the ion beam that has passed through the focusing lens; a first deflector (35) which scans or aligns the ion beam that has passed through the first aperture; a second deflector (7) which deflects the ion beam that has passed through the first aperture; a second aperture (36) which limits the ion beam that has passed through the first aperture; an objective lens (8) which focuses, on a sample, the ion beam that has passed through the first aperture; and a means for measuring the signal, which is substantially proportional to the current of the ion beam that has passed through the second aperture.
Inventors:
SHICHI, Hiroyasu (HITACHI LTD., 280, Higashikoigakubo 1-chome, Kokubunji-sh, Tokyo 01, 〒1858601, JP)
志知 広康 (〒01 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目２８０番地 株式会社日立製作所 中央研究所内 Tokyo, 〒1858601, JP)
MATSUBARA, Shinichi (HITACHI LTD., 280, Higashikoigakubo 1-chome, Kokubunji-sh, Tokyo 01, 〒1858601, JP)
松原 信一 (〒01 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目２８０番地 株式会社日立製作所 中央研究所内 Tokyo, 〒1858601, JP)
ARAI, Noriaki (HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION 882, Oaza Ichige, Hitachinaka-sh, Ibaraki 04, 〒3128504, JP)
荒井 紀明 (〒04 茨城県ひたちなか市大字市毛８８２番地 株式会社日立ハイテクノロジーズ 那珂事業所内 Ibaraki, 〒3128504, JP)
志知 広康 (〒01 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目２８０番地 株式会社日立製作所 中央研究所内 Tokyo, 〒1858601, JP)
MATSUBARA, Shinichi (HITACHI LTD., 280, Higashikoigakubo 1-chome, Kokubunji-sh, Tokyo 01, 〒1858601, JP)
松原 信一 (〒01 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目２８０番地 株式会社日立製作所 中央研究所内 Tokyo, 〒1858601, JP)
ARAI, Noriaki (HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION 882, Oaza Ichige, Hitachinaka-sh, Ibaraki 04, 〒3128504, JP)
荒井 紀明 (〒04 茨城県ひたちなか市大字市毛８８２番地 株式会社日立ハイテクノロジーズ 那珂事業所内 Ibaraki, 〒3128504, JP)
Application Number:
JP2010/006425
Publication Date:
May 12, 2011
Filing Date:
November 01, 2010
Export Citation:
Assignee:
HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION (24-14, Nishi Shimbashi 1-chome Minato-k, Tokyo 17, 〒1058717, JP)
株式会社日立ハイテクノロジーズ (〒17 東京都港区西新橋一丁目２４番１４号 Tokyo, 〒1058717, JP)
SHICHI, Hiroyasu (HITACHI LTD., 280, Higashikoigakubo 1-chome, Kokubunji-sh, Tokyo 01, 〒1858601, JP)
志知 広康 (〒01 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目２８０番地 株式会社日立製作所 中央研究所内 Tokyo, 〒1858601, JP)
MATSUBARA, Shinichi (HITACHI LTD., 280, Higashikoigakubo 1-chome, Kokubunji-sh, Tokyo 01, 〒1858601, JP)
松原 信一 (〒01 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目２８０番地 株式会社日立製作所 中央研究所内 Tokyo, 〒1858601, JP)
ARAI, Noriaki (HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION 882, Oaza Ichige, Hitachinaka-sh, Ibaraki 04, 〒3128504, JP)
株式会社日立ハイテクノロジーズ (〒17 東京都港区西新橋一丁目２４番１４号 Tokyo, 〒1058717, JP)
SHICHI, Hiroyasu (HITACHI LTD., 280, Higashikoigakubo 1-chome, Kokubunji-sh, Tokyo 01, 〒1858601, JP)
志知 広康 (〒01 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目２８０番地 株式会社日立製作所 中央研究所内 Tokyo, 〒1858601, JP)
MATSUBARA, Shinichi (HITACHI LTD., 280, Higashikoigakubo 1-chome, Kokubunji-sh, Tokyo 01, 〒1858601, JP)
松原 信一 (〒01 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目２８０番地 株式会社日立製作所 中央研究所内 Tokyo, 〒1858601, JP)
ARAI, Noriaki (HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION 882, Oaza Ichige, Hitachinaka-sh, Ibaraki 04, 〒3128504, JP)
International Classes:
H01J37/28; H01J27/26; H01J37/04; H01J37/08; H01J37/09
Attorney, Agent or Firm:
INOUE, Manabu et al. (6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-k, Tokyo 20, 〒1008220, JP)