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Patent Searching and Data


Title:
CHARGING ROLLER
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2020/175435
Kind Code:
A1
Abstract:
This charging roller comprises a core material, a rubber material provided on the periphery of the core material, and a surface layer provided on the periphery of the rubber material. The ten-point mean roughness Rz of the surface of the surface layer is 12.9-16.2 μm, inclusive. The mean width of the roughness profile elements RSm on the surface of the surface layer is 75.4-91.8 μm, inclusive.

Inventors:
SUZUKI SHOGO (JP)
IKEDA ATSUSHI (JP)
UEMATSU ASAMI (JP)
OURA KOSUKE (JP)
HUKUOKA SATOSHI (JP)
SASAKI KENJI (JP)
Application Number:
PCT/JP2020/007354
Publication Date:
September 03, 2020
Filing Date:
February 25, 2020
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Assignee:
NOK CORP (JP)
International Classes:
F16C13/00; G03G15/00; G03G15/02; G03G15/08; G03G21/06
Foreign References:
JP2012118510A2012-06-21
JP2003316111A2003-11-06
US20150065607A12015-03-05
Attorney, Agent or Firm:
KONISHI Kay et al. (JP)
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Claims:
\¥0 2020/175435 15 卩(:17 2020 /007354

請求の範囲

[請求項 1 ] 芯材と、 前記芯材の周囲に配置されたゴム基材と、 前記ゴム基材の 周囲に配置された表層とを備え、

前記表層の表面の十点平均粗 1 2 . 9 以上、 1 6 .

2 以下であり、

前記表層の表面の粗さ曲線要素の平均長さ

以上、 9 1 . 8 〇1以下である

ことを特徴とする帯電口ール。

[請求項 2] 前記表層は、 絶縁体から形成されたべース材と前記べース材に分散 された導電材を含む導電性マトリックスと、 前記導電性マトリックス に分散された表面粗さ付与材の粒子を有する

ことを特徴とする請求項 1 に記載の帯電口ール。

[請求項 3] 前記表面粗さ付与材の粒子は、 絶縁体から形成されている

ことを特徴とする請求項 2に記載の帯電口ール。

Description:
\¥0 2020/175435 1 卩(:17 2020 /007354 明 細 書

発明の名称 : 帯電口ール

技術分野

[0001] 本発明は、 画像形成装置の帯電口ールに関する。

背景技術

[0002] 電子写真式複写機等の画像形成装置における 画質は、 感光体の帯電状態の 均一性に依存しており、 帯電口ールの表面粗さが、 帯電状態の均一性に影響 する。 従来、 帯電口ールの表面粗さに言及した技術として は、 特許文献 1〜 3が知られている。

[0003] 特許文献 1 には、 導電性支持体と、 導電性支持体上に積層された導電性弾 性体層と、 導電性弾性体層上に最外層として積層された 導電性樹脂層とから なる帯電部材 (帯電口ール) に関する技術が記載されている。 導電性樹脂層 はマトリックス材料と、 樹脂粒子及び無機粒子からなる群より選択さ れる少 なくとも一種の粒子を含有し、 粒子は第一の粒子を含有し、 導電性樹脂層に おけるマトリックス材料単独で形成される部 分の層厚を [ ] 、 粒子の 平均粒子径を巳 1 [ ] 、 及び粒子の粒子間距離を [ ] としたとき 、 八が 1 0 〇1 ~ 7 . 〇 であり、 巳 1 /八が 5 . 〇〜 3 0 . 0であり、 である。

[0004] 特許文献 2には、 正帯電単層型電子写真感光体と、 感光体の表面を帯電す るための接触帯電部材を有する帯電装置と、 帯電された像担持体の表面を露 光して、 像担持体の表面に静電潜像を形成するための 露光装置と、 静電潜像 をトナー像として現像するための現像装置と 、 トナー像を像担持体から被転 写体へ転写するための転写装置とを備える画 像形成装置に関する技術が記載 されている。 接触帯電部材は、 ゴム硬度が八 3 1< 6 「_〇硬度で6 2 ° 〜 8 1 ° である導電性のゴムからなる帯電口ーラであ り、 接触帯電部材の帯電口 —ラの口ーラ表面粗度が、 凹凸の平均間隔 であり 、 かつ十点平均粗さ である。 \¥02020/175435 2 卩(:170? 2020 /007354

[0005] 特許文献 3には、 導電性支持体と、 導電性支持体上に口ール状に形成され た半導電性弾性層と、 半導電性弾性層の表面に形成された保護層と を具備す る帯電口ーラに関する技術が記載されている 。 保護層は、 保護層への外部物 質の付着を防止する機能を発現する微粒子を 含有した保護層形成用塗工液を 塗工することにより形成され、 微粒子の体積平均粒径は保護層の表面粗さが 1 Mm以下となるように微細化されている。

[0006] 特許文献 1〜 3によれば、 帯電ロールの最表面の表面粗さを、 表層に含有 させた微粒子により調整することで、 帯電口ールと感光体間の放電をできる だけ均一化して、 画像品質を向上させようとする。

先行技術文献

特許文献

[0007] 特許文献 1 :特開 201 5 _ 1 2 1 769号公報

特許文献 2 :特開 201 2 _ 1 4 1 4 1号公報

特許文献 3 :特開 2005 _ 9 1 4 1 4号公報

発明の概要

発明が解決しようとする課題

[0008] 画像形成装置に対して、 高い画像品質の要求が高まっている。

[0009] 本発明は、 画像ムラを低減することが可能な帯電口ール を提供することを 目的とする。

課題を解決するための手段

[0010] 本発明に係る帯電口ールは、 芯材と、 芯材の周囲に配置されたゴム基材と

、 ゴム基材の周囲に配置された表層とを備える 。 本発明の _ 態様によれば、 表層の表面の +点平均粗さ (ten point height of irregularities) R z は、 1 2. 9 Mm以上、 1 6. 2 Mmであり、 前記表層の表面の粗さ曲線要素の 平均長さ (mean length of a roughness curve element) RSmが、 75.

4 Mm以上、 9 1. 8 Mm以下である。 この態様によれば、 画像ムラを低減 することができる。 \¥0 2020/175435 3 卩(:170? 2020 /007354 図面の簡単な説明

[001 1] [図 1]本発明の実施形態に係る帯電口ールを使 する画像形成装置の一例を示 す概略図である。

[図 2]本発明の実施形態に係る帯電口ールの一 を示す断面図である。

[図 3]帯電口ールの軸方向に沿って切断したゴ 基材と表層の断面図である。 発明を実施するための形態

[0012] 以下に、 本発明を実施するための形態を詳細に説明す る。 図面において縮 尺は、 必ずしも実施形態の製品またはサンプルを正 確に表してはおらず、 一 部の寸法を誇張して表現している場合もある 。

[0013] 図 1 に示すように、 本発明の実施形態に係る画像形成装置は、 感光体 1 を 備える。 感光体 1の周囲には、 現像部 2、 露光部 3、 帯電部 4、 転写部 6及 びクリーニング部 5が配置されている。 現像部 2には、 現像口ール 2 0、 規 制ブレード 2 1及び供給口ール 2 2が設けられ、 トナ _ 2 3が充填されてい る。 帯電部 4には、 帯電口ール 4 0が設けられている。 転写部 6は、 記録媒 体である紙のシート 6 0にトナー画像を転写する。 転写部 6で転写された卜 ナー画像は、 図示しない定着部で定着される。

[0014] 円柱状であり回転する感光体 1 と円柱状であり回転する帯電口ール 4 0は 、 ニップ 5 0で接触する。 感光体 1 と帯電口ール 4 0の回転方向における二 ップ 5 0の手前の領域 5 1 (場合によっては、 手前の領域 5 1 に加えてニッ プ 5 0の後の領域 5 2) において、 感光体 1 と帯電口ール 4 0の間で放電が 起こり、 感光体 1の表面が帯電される。 感光体 1の表面の帯電状態は、 感光 体 1の周方向および軸線方向にわたって一様で ることが好ましい。

[0015] 図 2は、 本発明の実施形態に係る帯電口ールの一例を 示す断面図である。

図 2に示すように、 帯電口ール 4 0は、 芯材 4 0 1 と、 芯材 4 0 1の外周 面に形成されたゴム基材 4 0 2と、 ゴム基材 4 0 2の外周面にコーティング された表層 4 0 3とを有する。 ゴム基材 4 0 2の外周面にコーティング成分 によって表層 4 0 3を形成し、 その表層 4 0 3の表面粗さを適切にすること により、 感光体 1 と帯電口ール 4 0の間の放電ムラが解消されて、 感光体 1 \¥0 2020/175435 4 卩(:170? 2020 /007354

に均一に放電することが可能となり、 露光部 3で形成された潜像に正確に対 応する量のトナーを現像部 2は感光体 1の表面に付着させることができる。

[0016] <芯材>

芯材 4 0 1は、 限定されるわけではないが、 熱伝導性及び機械的強度に優 れた金属又は樹脂材料から形成することがで き、 例えば、 ステンレス鋼、 二 ッケル (|\! 丨) 、 ニッケル合金、 鉄 ( 6) 、 磁性ステンレス、 コバルトー ニッケル (〇〇 - 1\1 丨) 合金等の金属材料や、 丨 (ポリイミ ド樹脂) 等の 樹脂材料から形成することができる。 また、 芯材 4 0 1の構造についても特 に制限はなく、 中空であっても、 中空でなくてもよい。

[0017] <ゴム基材>

ゴム基材 4 0 2は、 芯材 4 0 1の外周面に配置されており、 導電性を有す る導電性ゴムによって形成されている。 ゴム基材 4 0 2は、 1層であっても 、 2層以上であってもよい。 また、 芯材 4 0 1 とゴム基材 4 0 2の間に、 必 要に応じて密着層や調整層等を設けてもよい 。

[0018] ゴム基材 4 0 2は、 導電性ゴムに導電性付与材や架橋剤等を添加 して得ら れたゴム組成物を、 芯材 4 0 1の周囲に、 成形することによって形成できる 。 導電性ゴムとしては、 ポリウレタンゴム 、 エピクロルヒドリン ゴム (巳〇〇) 、 二トリルゴム スチレンゴム (3巳 [¾) 、 クロ ロプレンゴム (〇[¾) 等を挙げることができる。

[0019] 導電性付与材としては、 力ーボンブラック、 金属粉等の電子導電性付与材 、 イオン導電付与材、 又はこれらを混合して用いることができる。

イオン導電付与材としては、 有機塩類、 無機塩類、 金属錯体、 イオン性液 体等が挙げられる。 有機塩類としては、 三フッ化酢酸ナトリウム等が挙げら れ、 無機塩類としては、 過塩素酸リチウム、 4級アンモニウム塩等が挙げら れる。 また、 金属錯体としては、 ハロゲン化第二鉄ーエチレングリコール等 が挙げられ、 具体的には、 特許第 3 6 5 5 3 6 4号公報に記載されたものを 挙げることができる。 イオン性液体は、 室温で液体である溶融塩であり、 常 温溶融塩とも呼ばれるものであり、 特に、 融点が 7 0 ° 〇以下、 好ましくは 3 \¥02020/175435 5 卩(:170? 2020 /007354

0°C以下のものをいう。 具体的には、 特開 2003-202722号公報に 記載されたものを挙げることができる。

[0020] また、 架橋剤としては、 特に限定されず、 例えば、 硫黄や過酸化物加硫剤 等が挙げられる。

[0021] さらに、 ゴム組成物には、 必要に応じて架橋剤の働きを促進させる架橋 助 剤等を加えてもよい。 架橋助剤としては、 無機系の酸化亜鉛や酸化マグネシ ウム、 有機系のステアリン酸やアミン類等が挙げら れる。 また、 架橋時間の 短縮等の目的で、 チアゾール系、 またはその他の架橋促進剤を用いてもよい 。 ゴム組成物には、 必要に応じて他の添加剤を加えてもよい。

[0022] 本実施形態において、 芯材 401の外周面に形成されたゴム基材 402の 表面を研磨機で研磨し、 所定の厚さに合わせた後、 研磨砥石による乾式研磨 を行った後に、 ゴム基材 402の外周面に表層 403を形成する。 このよう に研磨を行うのは、 ゴム基材 402の表面粗さを適切に調整し、 その外側の 表層 403の表面粗さを調整するためである。

ゴム基材 402の表面粗さを極力小さくする場合、 ゴム基材 402の表面 粗さ (JIS B 0601 =1994に準拠する +点平均粗さ (ten point height of irre gu lari ties) ) R z は、 8. 5 m以下であることが好ましい。 この場合、 表 面粗さ R z は、 接触式の表面粗さ計により測定された値であ る。

乾式研磨は、 例えば、 ゴム基材 402を回転させた状態で、 回転砥石をゴ ム基材 402に接触させながら軸方向に移動させること により行う (トラバ —ス研磨) 。 ゴム基材 402の表面粗さを極力小さくする場合には、 回転の 際に、 例えば、 研磨機の砥石回転数を 1 000 r pm、 2000 r pm、 3 000 r p mのように順次上げてもよい。 或いは、 研磨砥石の種類を変更し てもよく、 例えば、 G C (green carborundum) 砥石番手を GC 60、 GC 1 20、 GC 220のように順次上げて研磨してもよい。

また、 ゴム基材 402の表面を乾式研磨した後に、 更に耐水研磨べーパー 等を用いて湿式研磨機で湿式研磨を施して研 磨してもよい。 ここで、 湿式研 磨は、 耐水研磨べーパー、 例えば、 耐水性のサンドべーパーを用い、 これに \¥0 2020/175435 6 卩(:170? 2020 /007354

研磨液を供給しながらゴム基材 4 0 2を回転させた状態で当接させることに より研磨する。

[0023] <ゴム基材のゴム硬度>

ゴム基材 4 0 2について、 デュロメータ ( 「」 丨 3 < 6 2 5 3」 およ び 「丨 3 0 7 6 1 9」 に準拠した 「タイプ八」 ) を用いて測定した硬度は

、 5 0 ° 〜 6 4 ° の範囲が好ましい。

ゴム基材 4 0 2の外側の表層 4 0 3は薄いため、 帯電口ール 4 0の表面の 硬度は、 ゴム基材 4 0 2に影響される。 ゴム基材 4 0 2の硬度が 5 0 ° 未満 であると、 帯電口ール 4 0の表面の凸部が潰れて、 感光体 1が汚れやすく、 画像不良が発生する。 一方、 ゴム基材 4 0 2の硬度が 6 4 ° より大きいと、 帯電口ール 4 0の表面の凸部が画像に反映されるおそれが る。

[0024] <表層>

本実施形態では、 ゴム基材 4 0 2の外周面に、 コーティング液を塗布し、 乾燥硬化させることにより、 表層 4 0 3を形成することができる。 コーティ ング液を塗布する方法としては、 ディップコート法、 口ールコート法、 スプ レーコート法等を用いることができる。

[0025] 図 3に示すように、 硬化した表層 4 0 3は、 導電性マトリックス 4 0 4と 、 導電性マトリックス 4 0 4に分散された例えば絶縁性の表面粗さ付与 ( 粗さ付与材ともいう。 ) の粒子 4 0 5を有する。 粗さ付与材の粒子 4 0 5は 、 表層 4 0 3に適切な表面粗さを与える。 導電性マトリックス 4 0 4は、 粗 さ付与材の粒子 4 0 5を固定位置に保持する役割と、 感光体 1 に対する放電 を行う役割を果たす。 導電性マトリックス 4 0 4は、 ベース材とべース材に 分散された導電剤を有する。 上記の通り、 領域 5 1 (および場合により領域 5 2) において、 帯電口ール 4 0と感光体 1の間で放電が起こる。

[0026] 図 3に示す例では、 粗さ付与材の粒子 4 0 5は導電性マトリックス 4 0 4 内に完全に埋没していないが、 完全に埋没していてもよい。 導電性マトリッ クス 4 0 4の厚さが小さい場合には、 粗さ付与材の粒子 4 0 5を保持する能 力が低いため、 粗さ付与材の粒子 4 0 5の直径に対して、 導電性マトリック \¥0 2020/175435 7 卩(:170? 2020 /007354

ス 4 0 4は適切な厚さを有するのが好ましい。 粗さ付与材の粒子 4 0 5が絶 縁体であって、 導電性マトリックス 4 0 4の厚さが大きく、 導電性マトリッ クス 4 0 4の電気抵抗が大きい場合には、 放電が発生しにくくなりがちであ るが、 導電性マトリックス 4 0 4に含まれる導電剤の割合を向上させること により、 導電性マトリックス 4 0 4の電気抵抗を低減して、 放電を発生させ やすくすることができる。

[0027] 本実施形態においては、 表面粗さが調整されたゴム基材 4 0 2の上に形成 された表層 4 0 3に粗さ付与材の粒子 4 0 5が分散されていることにより、 表層 4 0 3の表面粗さが調整されている。

[0028] 本実施形態において、 表層 4 0 3の導電性マトリックス 4 0 4の膜厚は、 適切な数値範囲内にあることが好ましいと考 えられる。 この厚さが大きすぎ る場合には、 表層 4 0 3の表面粗さが小さくなりすぎて、 画像ムラの原因と なると考えられる。

[0029] また、 本実施形態において、 表層 4 0 3の粗さ付与材の粒子 4 0 5の含有 率は、 適切な数値範囲内にあることが好ましいと考 えられる。 粒子含有量が 多い場合、 粒子同士が重なり合うため、 表層 4 0 3の表面が粗くなり、 画像 ムラの原因となると考えられる。

[0030] 本実施形態において、 表層 4 0 3の材料であるコーティング液の成分は、 ベース材、 導電剤及び表面粗さ付与材の粒子 4 0 5を少なくとも含有する。 コーティング液の硬化後に、 ベース材と導電剤は、 導電性マトリックス 4 0 4の成分となる。

[0031 ] コーティング液は、 たとえば、 下記組成の成分を希釈溶剤に溶解させて得 られる (コーティング液組成) 。

ベース材 : 1 〇重量部〜 8 0重量部。

-導電剤: 1重量部〜 5 0重量部。

-表面粗さ付与材: コーティング液全量の 7 0重量%以下。

[0032] 表層 4 0 3の表面粗さおよび凹凸のピッチが適切であ 場合に、 帯電口一 ル 4 0と感光体 1が接触するニップの手前のギャップにおい 、 帯電口ール \¥0 2020/175435 8 卩(:17 2020 /007354

4〇と感光体 1間の放電がほぼ均一化され、 画像形成時に放電ムラが生じる ことなく、 所望の濃度の画像が形成され、 画像品質が向上すると考えられる 表面粗さ付与材の粒子 4 0 5の粒径および添加量を適切に調整すること より、 表層 4 0 3の表面粗さおよび凹凸のピッチを適切に調 することがで きると考えられる。

[0033] <べ_ス材>

コーティング液に含まれるベース材は絶縁体 である。 ベース材としては、 ウレタン樹脂、 アクリル樹脂、 アクリルウレタン樹脂、 アミノ樹脂、 シリコ —ン樹脂、 フッ素樹脂、 ポリアミ ド樹脂、 エポキシ樹脂、 ポリエステル樹脂 、 ポリエーテル樹脂、 フエノール樹脂、 尿素樹脂、 ポリビニルプチラール樹 月旨、 メラミン樹脂、 ナイロン樹脂等が挙げられる。 これらのベース材は、 単 独で又は任意の組み合わせで用いることがで きる。

[0034] <導電剤>

コーティング液に含まれる導電剤としては、 アセチレンブラック、 ケッチ エンブラック、 卜ーカブラック等の力ーボンブラック、 力ーボンナノチュー ブ、 過塩素リチウム等のイオン、 ヘキサフルオロリン酸 1 -ブチルー 3 -メ チルイミダゾリウム等のイオン性液体、 酸化スズ等の金属酸化物、 導電性ポ リマーが挙げられる。 これらの導電剤は、 単独で又は任意の組み合わせで用 いることができる。

[0035] <表面粗さ付与材>

コーティング液に含まれる表面粗さ付与材の 粒子 4 0 5としては、 アクリ ル粒子、 ウレタン粒子、 ポリアミ ド樹脂粒子、 シリコーン樹脂粒子、 フッ素 樹脂粒子、 スチレン樹脂粒子、 フエノール樹脂粒子、 ポリエステル樹脂粒子 、 オレフィン樹脂粒子、 エポキシ樹脂粒子、 ナイロン樹脂粒子、 力ーボン、 グラファイ ト、 炭化バルン、 シリカ、 アルミナ、 酸化チタン、 酸化亜鉛、 酸 化マグネシウム、 酸化ジルコニウム、 硫酸カルシウム、 炭酸カルシウム、 炭 酸マグネシウム、 ケイ酸カルシウム、 窒化アルミニウム、 窒化ホウ素、 タル \¥0 2020/175435 9 卩(:170? 2020 /007354

ク、 カオリンクレー、 珪藻土、 ガラスビーズ、 中空ガラス球等が挙げられる 。 これらの粒子は、 単独で又は任意の組み合わせで用いることが できる。

[0036] (粒子含有率と粒径との関係)

画像品質を向上するために、 コーティング液中の表面粗さ付与材の粒子 4 0 5の粒径と粒子含有率との関係については、 好ましい範囲があると考えら れる。

[0037] <希釈溶剤>

コーティング液に含まれる希釈溶剤としては 、 特に限定されないが、 水系 、 又は、 酢酸メチル、 酢酸エチル、 酢酸プチル、 メチルエチルケトン (IV!巳 <) 、 メチルイソプチルケトン (1\/1 丨 巳 ) 、 メタノール、 エタノール、 ブ タノール、 2—プロパノール (丨 八) 、 アセトン、 トルエン、 キシレン、 ヘキサン、 ヘプタン、 クロロホルム等の溶剤系等が挙げられる。

実施例

[0038] 画像ムラを低減するのに適した帯電口ール 4 0の特性を調べる実験を行 った。

[0039] 実験では、 実施形態に係る帯電口ール 4 0としてサンプル 1〜 6を製造し た。

<ゴム基材の準備>

エピクロルヒドリンゴム (エピクロマー 1 0 2 ;株式会社大阪ソー ダ (日本国大阪府) 製) 1 〇〇重量部に、 導電性付与材としてトリフルオロ 酢酸ナトリウム〇. 5重量部、 亜鉛華 3重量部、 ステアリン酸 2重量部、 架 橋剤 1 . 5重量部を添加したゴム組成物を口ールミキ ーで混練りした。 混練りしたゴム組成物をシート状の生地にし て、 の芯材 4 0 1 (芯金) の表面に巻いて、 プレス成形し、 架橋したエピクロルヒドリンゴム からなるゴム基材 4 0 2を得た。

デュロメータ ( 「」 I 3 < 6 2 5 3」 および 「 I 3〇 7 6 1 9」 に 準拠した 「タイプ八」 ) を用いて、 得られたゴム基材 4 0 2の硬度を測定し た結果、 測定値は、 5 0 ° 〜 6 4 ° であった。 \¥0 2020/175435 10 卩(:170? 2020 /007354

[0040] <ゴム基材表面の研磨>

上記ゴム基材 4 0 2の表面を研磨機で研磨した。 具体的には、 得られたゴ ム基材 4 0 2の表面を研磨機で研磨して、 所定の厚さ (2 ) に合わせた 後、 さらに乾式研磨で研磨した。 実験では、 砥石回転数を変化させなかった

[0041 ] <コーティング液の調製>

上記のゴム基材 4 0 2の外周面に表層 4 0 3を形成するためのコーティン グ液を作製した。

[0042] (コーティング液の組成)

コーティング液の組成は、 表 1 に示す通りである。

[表 1 ]

[0043] ウレタン粒子としては、 根上工業株式会社 (日本国東京都) 製のウレタン ビーズを用いた。

ウレタンビーズの平均粒径と製品名との関係 は以下の通りである。 但し、 \¥0 2020/175435 1 1 卩(:170? 2020 /007354

実際には、 一つの製品は、 平均粒径と異なる粒径の粒子を含む。

6 〇1 : ウレタンビーズ 「〇一8 0 0」

1 〇 : ウレタンビーズ 「〇一 6 0 0」

1 5 : ウレタンビーズ 「〇一 4 0 0」

[0044] 実験では、 異なる粒径と異なる量の表面粗さ付与材の粒 子 4 0 5を含むコ —ティング液の塗布によって、 表層 4 0 3の表面状態が異なるサンプル 1〜 6を製造した。 これらのサンプル 1〜 6の表層 4 0 3の表面粗さおよび凹凸 のピッチは、 表 2に示す通りである。

[表 2]

[0045] 上記組成のコーティング液を、 ボールミルで 3時間分散混合した。

[0046] <帯電口ールの作製>

研磨したゴム基材 4 0 2の外周面に、 上記コーティング液を塗布して表層 4 0 3を形成し、 帯電口ール 4 0を作製した。 具体的には、 コーティング液 を撹拌し、 その液をゴム基材 4 0 2の表面にスプレーコートして、 電気炉に て 1 2 0 °〇で 6 0分間乾燥し、 ゴム基材 4 0 2の外周面に表層 4 0 3を形成 し、 帯電口ールを作製した。

[0047] <表面粗 の測定>

接触式の表面粗さ測定機 (株式会社小坂研究所 (日本国東京都) 製サーフ コーダ 「3巳 5 0 0」 ) を用いて、 以下に示した測定条件で表層 4 0 3の表 面粗さ (十点平均粗さ) 8 2 015 8 0601 = 1994に準拠) を測定した。 測定結 果を表 2に示す。 \¥02020/175435 12 卩(:170? 2020 /007354

[0048] [測定条件]

カツ トオフ : ス c = 0. 8mm

測定長 : 4mm (規準長さ方式)

測定速度 : 〇. 5 mm/s e c

測定位置: 1本の帯電口ール 40の内、 3か所で表面粗さ R z を測定し た。 そして、 これらの値の平均値を計算して、 表 2に平均値を記載した。

[0049] <凹凸平均間隔 S m の測定>

表層 403の凹凸平均間隔 S m 値 (JIS B 0601 =1994に準拠) を求めた。 まず、 帯電口ール 40の軸線方向の中央部の 2力所の表面を非接触式のレ —ザー顕微鏡を用いて撮影した。 使用したレーザー顕微鏡は、 株式会社キー エンス (日本国大阪府) 製の 「VK-X 200」 であった。 倍率は 400倍 であり、 2力所のそれぞれの視野は、 帯電口ール 40の周方向に 528.7 gm、 帯電口ール 40の軸線方向に 705.1 であった。

[0050] 次に、 株式会社キーエンス製のマルチファイル解析 アプリケーシヨン 「V

K-H 1 XM」 の Ve r s i o n l . 2. 0. 1 1 6で、 撮影された各視野 において、 等間隔の 1 9ラインについて S m 値を計算した。 各ラインは軸線方 向に沿っていた。 カッ トオフ値ス cは 0. 8 mmであった。 さらに、 これら の S m 値を平均した。 表 2には S m 値の平均を記載した。

[0051] <粗さ曲線要素の平均長さ RSmの測定>

表層 403の粗さ曲線要素の平均長さ (mean length of a roughness curv e element) RSmの値 (JIS B 0601 =2001および ISO 4287 : 1997に準拠) を求 めた。

ここでは、 凹凸平均間隔 S m の測定のために使用した撮影結果を使用 した。

[0052] そして、 株式会社キーエンス製のマルチファイル解析 アプリケーシヨン 「 VK-H 1 XM」 の Ve r s i o n l . 2. 0. 1 1 6で、 撮影された各視 野において、 等間隔の 1 9ラインについて RSm値を計算した。 各ラインは 軸線方向に沿っていた。 カッ トオフ値ス sは 0. 8 yu, m % カッ トオフ値ス c は 2. 5 mmであった。 さらに、 これらの R S m値を平均した。 表 2には R \¥0 2020/175435 13 卩(:170? 2020 /007354

3 値の平均を記載した。

[0053] <画像ムラ及び放電ムラの評価>

複写機を用いて帯電口ールの画像評価試験を 行った。

複写機は、 株式会社リコー (日本国東京都) 製のカラー複合機 (1\/1 ) 「1^ 05503] (交流直流電圧重畳印加式) であった。

[0054] 直流電圧は通常電圧 (?¾巳 ) であり、 交流電圧 は、 複写機の制御に 依存した。

[0055] 交流電流は、 複写機の通常交流電流 ([¾巳 ) よりも低い交流電流 (1 .

4 0 八) に設定した。

[0056] 帯電口ールを複写機に適用し、 下記印刷条件で印刷した画像 (ハーフトー ン画像および白ベタ画像) について、 画像ムラを評価した。 結果を表 2に示 す。

画像ムラの評価は、 ハーフトーン画像について局所放電の判定を 行った。 局所放電があったことは、 ハーフトーン画像において、 白点、 黒点、 白スジ 、 黒スジの発生を目視で発見することで確認す ることができる。 白ベタ画像 について、 目視によって、 地汚れ、 すなわちカプリの判定を行った。

[0057] [印刷条件]

速度 : 3 0枚/分

印刷環境:温度 2 3 、 湿度 5 5 %

[0058] (局所放電評価) ハーフトーン画像について、 目視によって局所放電に起 因する画像ムラを以下の基準で判定した。

良:局所放電に起因する画像ムラがなかった

不良:局所放電に起因する画像ムラがあった

[0059] (地汚れ判定)

白ベタ画像について、 目視によって、 地汚れ、 すなわちカプリ (印刷され るべきでない箇所に印刷されること) の有無を判定した。

[評価基準]

良:地汚れなし \¥02020/175435 14 卩(:170? 2020 /007354

不良:地汚れあり

[0060] 局所放電に起因する画像ムラまたは地汚れが 発生したサンプルについては 、 画像総合判定で良、 不良と判定し、 表 2にこれらを記載した。

[0061] 表 2から明らかな通り、 表層 403の表面の十点平均粗 1 2. 9 以上、 1 6. 2 〇1以下であり、 表層 403の表面の粗さ曲線要素の平 均長さ 75. 4 以上、 9 1. 8 以下であることが好まし い。

符号の説明

[0062] 1 :感光体

2 :現像部

20 :現像口ール

2 1 :規制ブレード

22 :供給口ール

23 : トナー

3 :露光部

4 :帯電部

40 :帯電口ール

401 :芯材

402 : ゴム基材

403 :表層

5 : クリーニング部

6 :転写部

60 :シート




 
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