特表2004-512849号公報

 図1は低延焼性のフィルタシガレットを示 す。このフィルタシガレットは、シガレット 2と、このシガレット2の一端に隣接して配置� ��れたフィルタ6とを含み、これらフィルタ6� �びシガレット2はチップペーパ4の巻付けによ り互いに接続されている。シガレット2は、� �たばこTと、この刻みたばこTを棒形状に包み 込む包材8とを有する。包材8には複数のバン� ��層10が形成され、これらバンド層10はシガレ ット2に低延焼性を提供する。より詳しくは� �バンド層10は一定の幅Hを有し、シガレット2� ��全周に亘って延び、更に、シガレット2の軸 線方向に所定のピッチPを存して配置されて� �る。例えば、バンド層10の幅H及びピッチPは� ��れぞれ、7mm、27mmである。

 包材8は、図2に示されるウエブWを所定の� ��さ毎に切断して得られ、ウエブWには、上述 した幅H及びピッチPのパターンにて、バンド� ��10が形成されている。バンド層10は液状の燃 焼抑制剤、具体的にはアルギン酸ナトリウム の水溶液をウエブWに塗布し、この後、ウエ� �Wを乾燥させることで得られる。なお、水溶� ��は、アルギン酸ナトリウムを2~4重量%含む。

 バンド層10が形成されたウエブWはシガレ� ��ト製造機に供給され、このシガレット製造� ��はウエブWを使用して、バンド層10を有する� ��ガレット2を製造する。

 図3は、上述したウエブWを製造するため� �製造設備を概略的に示し、この製造設備は� �1実施例の製造方法を実施する。

 製造設備はウエブWの繰出しリールR1を備� ��、この繰出しリールR1は巻取りリールR2に向 けてウエブWを繰出し経路に沿って繰出し、� �の後、繰出されたウエブWは巻取りリールR2� �巻取られる。

 繰出し経路には塗布装置12が配置されて� �る。この塗布装置12は、グラビアローラ14及� ��ピンチローラ16を含み、繰出し経路はグラ� �アローラ14とピンチローラ16との間を通過し� ��それ故、これらグラビアローラ14及びピン� �ローラ16はウエブWを挟み込むことができる� �ウエブWが繰出し経路に沿い、リールR1から� �ールR2に向けて走行され、そして、塗布装置 12を通過するとき、グラビアローラ14はウエ� �Wの片面、即ち、その裏面にアルギン酸ナト� ��ウムの水溶液を間欠的に塗布し、前述のパ� ��ーンのバンド層10aを形成し、これらバンド� ��10aは乾燥前の状態にある。

 本実施例の場合、繰出し経路には、塗布� ��置12の上流に水の塗布装置18が更に配置され ている。この塗布装置18は、水槽20と、この� �槽20内に部分的に浸けられた塗布ローラ22と� ��この塗布ローラ22の直上に配置されたピン� �ローラ24とを含み、ウエブWは塗布ローラ22と ピンチローラ24との間を通過する。ウエブWが 塗布装置18を通過する際、塗布ローラ22はウ� �ブWの裏面の全域に水を塗布する。

 更に、繰出し経路には塗布装置12の下流� �乾燥装置26が配置されている。繰出し経路は 乾燥装置26内を通過している。ウエブWが乾燥 装置26内通過するとき、乾燥装置26はバンド� �10aとともにウエブWを急速に乾燥させてバン� ��層10を形成し、バンド層10を有するウエブW� �巻取りリールR2に向けて送出する。

 上述の製造設備を使用する第1実施例の製 造方法によれば、ウエブWが繰出しリールR1か ら巻取りリールR2に向けて走行する過程にて� ��先ず、ウエブWの裏面全体に塗布装置18によ� ��水が塗布される。この後、ウエブWの裏面に 塗布装置12によりバンド層10aを形成するアル� ��ン酸ナトリウムの水溶液が塗布される。こ� ��水溶液は水に比べて粘性が高い。このため� ��ウエブWに塗布された水溶液は、ウエブWに� �に塗布された水を押し退け、前述したパタ� �ンのバンド層10aを正確に形成する。

 この後、ウエブWが乾燥装置26内に進入し� ��とき、ウエブWは例えば100℃~200℃、好まし� �は170℃の乾燥温度まで加熱され、この乾燥� �度にて急速に乾燥される。ウエブWの裏面に� ��その全体に水が塗布されているので、ウエ� ��Wが急速に乾燥されても、ウエブWはその全� �が一様に収縮する。それ故、バンド層10a以� �の領域、即ち、アルギン酸ナトリウムの水� �液が塗布されていない領域に皺が発生する� �とはない。この結果、バンド層10を有してい ても、皺の無いウエブW、即ち、包材8が製造� ��れる。

 また、第1実施例の製造方法によれば、バ ンド層10aを形成する塗布処理やウエブWの乾� �処理はそれぞれ1回ずつで済むことから、製� ��設備の構造が大形化したり、複雑化したり� ��ることはなく、包材8は安価にして提供され る。

 なお、第1実施例の場合、バンド層10はウ� ��ブWの表面に形成されてもよい。

 図4は、第2実施例の製造方法を実施する製� �設備を概略的に示す。
 図4の製造設備は、図3の製造設備とは以下� �点のみで相違する。即ち、図4の製造設備は� ��前述したアルギン酸ナトリウムの水溶液を� ��布する塗布装置12が水を塗布する塗布装置18 の上流に配置されている。

 それ故、図4の製造設備を使用する第2実� �例の製造方法によれば、先ず、ウエブWの表� ��にバンド層10aが形成され、この後、ウエブW の裏面全域に水が塗布され、そして、ウエブ Wは乾燥処理を受ける。このような場合にも� �バンド層10を有し且つ皺の無いウエブWが同� �にして製造される。

 図5は、第3実施例の製造方法を実施する製� �設備を概略的に示す。
 図5の製造設備は、図3の塗布装置12,18に置換 された塗布装置28,30をそれぞれ備えている。� ��布装置28は、塗布装置12のグラビアローラ14� ��代わりにスクリーンローラ32を使用し、こ� �スクリーンローラ32はグラビアローラ14と同� ��にウエブWの裏面にバンド層10aを形成する。

 一方、塗布装置30は、塗布装置18の塗布ロ ーラ22の代わりにグラビアローラ34を使用し� �このグラビアローラ34は、ウエブWの裏面の� �部に水を塗布する。より詳しくは、グラビ� �ローラ34は、ウエブWに下流側の塗布装置28に よってバンド層10aが形成されるべきバンド形 成領域以外のバンド無し領域のみに水を塗布 する。

 図5の製造設備は、塗布装置28,30間に配置� ��れたセンサ36を更に備えている。このセン� �36は、ウエブWに塗布された水、即ち、ウエ� �Wのバンド無し領域(図2中の参照符号A)を検出 し、その検出信号を制御装置38に供給する。� ��の制御装置38はセンサ36からの検出信号に基 づき、スクリーンローラ32の回転を制御し、� ��れにより、スクリーンローラ32はウエブWの� ��ンド無し領域間、即ち、バンド形成領域に� ��ンド層10aを正確に形成することができる。

 上述した図5の製造整備を使用する第3実� �例の製造方法によれば、先ず、ウエブWの裏� ��のうち、バンド無し領域のみに水が塗布さ� ��、この後、バンド無し領域間にバンド層10a� ��形成される。この後、ウエブWは乾燥装置26� ��供給され、この乾燥装置26により乾燥され� �バンド層10を有し且つ皺の無いウエブWが製� �される。

 なお、第3実施例の製造方法の場合、塗布装 置28,30の位置は入れ替え可能である。
 更に、本発明は上述の実施例にも制約され� ��い。

 例えば、本発明の製造方法は、繰出しリ� ��ルR1から巻上機に向けてウエブWが供給され� ��過程にて、ウエブWに対する水の塗布及びバ ンド層10aの形成を実施することができる。ま た、バンド層の形成にはアルギン酸ナトリウ ムの水溶液以外の液状の燃焼抑制剤をも使用 可能である。

2       シガレット
4       チップペーパ
6       フィルタ
8       包材
10      バンド層
10a     乾燥前のバンド層
12,28   燃焼抑制剤の塗布装置
18,30   水の塗布装置
26      乾燥装置
36      センサ
38      制御装置
R1       繰出しリール
R2       巻取りリール
W       ウエブ