(第1の実施の形態)
 本発明の第1の実施の形態について図1乃至� �7を参照して説明する。

 図1に示すように、本発明の第1の実施の� �態に係る塗布装置1は、塗布対象物である基� ��2を収容する基板収容部3と、基板2に対して� ��ンク等の溶液(第1の溶液)を複数の液滴とし� ��噴射し、基板2上に各液滴を塗布する液滴噴 射部としての液滴噴射モジュール4と、塗布� �の基板2に対して減圧乾燥を行う減圧乾燥部� ��しての減圧乾燥モジュール5と、減圧乾燥済 の基板2に対して再溶解及び再乾燥を行う復� �乾燥部としての復潤乾燥モジュール6と、再� ��解及び再乾燥済の基板2である塗布体2aを収� ��する塗布体収容部7と、それらの基板収容部 3、液滴噴射モジュール4、減圧乾燥モジュー� ��5、復潤乾燥モジュール6及び塗布体収容部7� ��各間の基板搬送を行う搬送部8とを備えてい る。

 基板収容部3は、複数の基板2を収容する� �層構造の収容棚3aを備えている。この収容棚 3aは、架台3b上に着脱可能に取り付けられて� �る。このような基板収容部3は、収容棚3aの� �段に一枚ずつ載置することにより複数の基� �2を収容している。なお、収容棚3a内の基板2� ��搬送部8により液滴噴射モジュール4に搬送� �れる。

 液滴噴射モジュール4は架台4c上に設けら� ��ており、基板2に向けてインクの液滴を噴射 し塗着させるインク塗布ボックス4aと、イン� ��塗布ボックス4aにインクを供給するインク� �給ボックス4bとを備えている。インク塗布ボ ックス4aは、液滴を噴射する複数の液滴噴射� ��ッドFを具備している。このような液滴噴射 モジュール4は、各液滴噴射ヘッドFにより、� ��ンク供給ボックス4bから送液されたインク� �液滴(インク滴)化して噴射し、基板2の表面� �所定のドットパターンを塗着する。インク� �布ボックス4aの内部は、湿度が一定に、例え ば70%程度に保たれている。これにより、基板 2の塗布途中及び基板2の搬送途中に、基板2上 に着弾した各液滴が乾燥してしまうことを抑 止する。塗布済の基板2は、搬送部8により液� ��噴射モジュール4から減圧乾燥モジュール5� �搬送される。

 減圧乾燥モジュール5は、塗布済の基板2� �収容する真空チャンバ等の収容室5aと、その 収容室5a内の気体を排気する排気部5bとを備� �ている。この減圧乾燥モジュール5は架台5c� �に設けられている。このような減圧乾燥モ� �ュール5は、排気部5bにより収容室5a内の気体 を排気して収容室5a内を減圧し、収容室5a内� �収容した塗布済の基板2上の各液滴の溶媒を� ��発させる。これにより、基板2上の各液滴が 乾燥し、溶質とわずかな溶媒成分で構成され る残留物が基板2上に残る。乾燥済の基板2は� ��搬送部8により減圧乾燥モジュール5から復� �乾燥モジュール6に搬送される。

 復潤乾燥モジュール6は架台6e上に設けら� ��ており、基板2を保持して移動させる基板移 動機構6aと、移動する基板2の塗布面に対して 溶解用気体を吹き付ける溶解吹付部6bと、そ� ��溶解吹付部6bより基板2の移動方向の下流側� ��設けられ、移動する基板2上の塗布面に対し て乾燥気体を吹き付ける乾燥吹付部6cと、溶� ��吹付部6bと乾燥吹付部6cとの間の気体を排気 する排気部6dとを備えている。復潤乾燥モジ� ��ール6は、基板移動機構6aにより基板2を移動 させながら、溶解吹付部6bにより基板2の塗布 面に溶解用気体を吹き付け、その後、乾燥吹 付部6cにより基板2の塗布面に乾燥気体を吹き 付ける。これにより、減圧乾燥によって各液 滴が乾燥し、基板2上に残留した各残留物(第1 の溶液の残留物の群)は、溶解用気体に含ま� �ている溶媒成分により再溶解して複数の液� �物(第2の溶液の液滴の群)となり、それらの� �滴物(塗着体)が乾燥気体により再乾燥し、基 板2上に残る複数の溶質物の群体となる。こ� �で、復潤とは、溶媒の付与により残留物で� �る溶質の流動性を回復させることであり、� �質や溶媒の種類を問わない。溶解用気体は� �留物を溶解可能な溶媒を成分として含む気� �であり、乾燥気体は液滴物中に取り込まれ� �溶媒を乾燥させる気体である。再溶解及び� �乾燥済の基板2は搬送部8により復潤乾燥モジ ュール6から塗布体収容部7に搬送される。

 塗布体収容部7は、再溶解及び再乾燥済の 基板2である塗布体2aを収容する階層構造の収 容棚7aを有している。この収容棚7aは架台7b上 に着脱可能に取り付けられている。このよう な塗布体収容部7は、搬送部8により復潤乾燥� ��ジュール6から搬送された塗布体2aを収容棚7 aの各段に一枚ずつ載置することにより収容� �る。

 搬送部8は、上下方向に移動可能な昇降軸 8aと、その昇降軸8aの上端部に連結されて水� �面(X-Y平面)内で回動可能なリンク8b、8cと、� �のリンク8b、8cの先端部に取り付けられたア� ��ム8dとを有している。この搬送部8は、昇降� ��8aの昇降及びリンク8b、8cの回動を行い、基� ��収容部3の収容棚3aから基板2を取り出して液 滴噴射モジュール4に搬送し、さらに、塗布� �の基板2を液滴噴射モジュール4から減圧乾燥 モジュール5に搬送して収容室5a内に載置し、 加えて、減圧乾燥済の基板2を減圧乾燥モジ� �ール5内から取り出して復潤乾燥モジュール6 に載置し、最後に、再溶解及び再乾燥済の基 板2である塗布体2aを塗布体収容部7に搬送し� �収容棚7a内に載置する。複数の基板2を搬送� �る場合には、各々の基板2が前述の順番で場� ��を変運するように一枚ずつ取り扱うように� ��御される。このような搬送部8の内部は、湿 度が一定に、例えば70%程度に保たれている。 これにより、基板2の搬送途中に、基板2上の� ��液滴が乾燥してしまうことを防止すること� ��できる。

 次いで、液滴噴射モジュール4が備えるイ ンク塗布ボックス4a及びインク供給ボックス4 bについて説明する。

 図2に示すように、インク塗布ボックス4a� ��内部には、基板2を保持してX軸方向及びY軸� ��向に移動させる基板移動機構11と、液滴噴� �ヘッドFをそれぞれ有する3つのインクジェッ トヘッドユニット12と、それらのインクジェ� ��トヘッドユニット12を一体にX軸方向に移動� ��せるユニット移動機構13と、各液滴噴射ヘ� �ドFを清掃するヘッドメンテナンスユニット1 4と、インクを収容する3つのインクバッファ� ��ンク15とが設けられている。

 基板移動機構11は、Y軸方向ガイド板16、Y� ��方向移動テーブル17、X軸方向移動テーブル1 8及び基板保持テーブル19が積層されて構成さ れている。これらのY軸方向ガイド板16、Y軸� �向移動テーブル17、X軸方向移動テーブル18及 び基板保持テーブル19は平板状に形成されて� ��る。

 Y軸方向ガイド板16は、架台4cの上面に固� �されて設けられている。このY軸方向ガイド� ��16の上面には、複数のガイド溝16aがY軸方向� ��沿って設けられている。これらのガイド溝1 6aが、Y軸方向にY軸方向移動テーブル17を案内 する。

 Y軸方向移動テーブル17は、各ガイド溝16a� ��それぞれ係合する複数の突起部(図示せず)� �下面に有しており、Y軸方向ガイド板16の上� �にY軸方向に移動可能に設けられている。ま� ��、Y軸方向移動テーブル17の上面には、複数� ��ガイド溝17aがX軸方向に沿って設けられてい る。このようなY軸方向移動テーブル17は、送 りネジと駆動モータとを用いた送り機構(図� �せず)により各ガイド溝16aに沿ってY軸方向に 移動する。

 X軸方向移動テーブル18は、各ガイド溝17a� ��係合する突起部(図示せず)を下面に有して� �り、Y軸方向移動テーブル17の上面にX軸方向� ��移動可能に設けられている。このX軸方向移 動テーブル18は、送りネジと駆動モータとを� ��いた送り機構(図示せず)により各ガイド溝17 aに沿ってX軸方向に移動する。

 基板保持テーブル19は、X軸方向移動テー� ��ル18の上面に固定されて設けられている。� �の基板保持テーブル19は、基板2を吸着する� �着機構(図示せず)を備えており、その吸着機 構により上面に基板2を固定して保持する。� �着機構としては、例えばエアー吸着機構等� �用いる。なお、基板保持テーブル19は、X軸� �向移動テーブル18と共にY軸方向に往復移動� �、基板2に対してインク滴の塗布を行う塗布� ��置(図1及び図2中の基板2の位置)と、基板保� �テーブル19上に基板2を載せ降ろしする載置� �置とに移動する。

 ユニット移動機構13は、架台4cの上面に立 設された一対の支柱20と、それらの支柱20の� �端部間に連結されてX軸方向に延出するX軸方 向ガイド板21と、そのX軸方向ガイド板21にX軸 方向に移動可能に設けられ各インクジェット ヘッドユニット12を支持するベース板22とを� �している。

 一対の支柱20は、X軸方向においてY軸方向 ガイド板16を挟むように設けられている。ま� ��、X軸方向ガイド板21の前面には、ガイド溝2 1aがX軸方向に沿って設けられている。このガ イド溝21aが、X軸方向にベース板22を案内する 。ベース板22は、ガイド溝21aに係合する突起� ��(図示せず)を背面に有しており、X軸方向ガ� ��ド板21にX軸方向に移動可能に設けられてい� ��。このベース板22は、送りネジと駆動モー� �とを用いた送り機構(図示せず)によりガイド 溝21aに沿ってX軸方向に移動する。このよう� �ベース板22の前面には、3つのインクジェッ� �ヘッドユニット12が取り付けられている。

 各インクジェットヘッドユニット12は、� �ース板22に垂設されており、それぞれ液滴噴 射ヘッドFを具備している。これらの液滴噴� �ヘッドFは、各インクジェットヘッドユニッ� ��12の先端にそれぞれ着脱可能に設けられて� �る。液滴噴射ヘッドFは、貫通孔である複数� ��ノズルを有し、それらの各ノズルから液滴� ��基板2に向けて噴射する。このようなインク ジェットヘッドユニット12には、基板2面に対 して垂直方向、すなわちZ軸方向に液滴噴射� �ッドFを移動させるZ軸方向移動機構12aと、液 滴噴射ヘッドFをY軸方向に移動させるY軸方向 移動機構12bと、液滴噴射ヘッドFをθ方向に回 転させるθ方向回転機構12cとが設けられてい� ��。これにより、液滴噴射ヘッドFは、Z軸方� �及びY軸方向に移動可能であり、θ軸方向に� �転可能である。

 ヘッドメンテナンスユニット14は、各イ� �クジェットヘッドユニット12の移動方向の延 長線上であってY軸方向ガイド板16から離反さ せて配設されている。このヘッドメンテナン スユニット14は、各インクジェットヘッドユ� ��ット12の液滴噴射ヘッドFを清掃する。なお� ��ヘッドメンテナンスユニット14は、各イン� �ジェットヘッドユニット12の液滴噴射ヘッド Fがヘッドメンテナンスユニット14に対向する 待機位置に停止した状態で、各液滴噴射ヘッ ドFを自動的に清掃する。

 インクバッファタンク15は、その内部に� �留したインクの液面と液滴噴射ヘッドFのノ� ��ル面との水頭差(水頭圧)を利用し、ノズル� �端のインクの液面(メニスカス)を調整する。 これにより、インクの漏れ出しや吐出不良が 防止されている。

 インク供給ボックス4bの内部には、イン� �をそれぞれ収容する複数のインクタンク23が 着脱可能に取り付けられている。各インクタ ンク23は、供給パイプ24によりインクバッフ� �タンク15を介してそれぞれ液滴噴射ヘッドF� �接続されている。すなわち、液滴噴射ヘッ� �Fは、インクタンク23からインクバッファタ� �ク15を介してインクの供給を受ける。

 架台4cの内部には、塗布装置1の各部を制� ��するための制御部25及び各種のプログラム� �記憶する記憶部(図示せず)等が設けられてい る。制御部25は、各種のプログラムに基づい� ��、Y軸方向移動テーブル17の移動、X軸方向移 動テーブル18の移動、ベース板22の移動、Z軸� ��向移動機構12aの駆動、Y軸方向移動機構12bの 駆動及びθ方向回転機構12cの駆動等の制御を� ��う。これにより、基板保持テーブル19上の� �板2と、各インクジェットヘッドユニット12� �液滴噴射ヘッドFとの相対位置を色々と変化� ��せることができる。さらに、制御部25は、� �種のプログラムに基づいて、減圧乾燥モジ� �ール5の駆動、復潤乾燥モジュール6の駆動及 び搬送部8の駆動等の制御を行う。

 次いで、減圧乾燥モジュール5が備える収 容室5a及び排気部5bについて説明する。

 図3に示すように、収容室5aは、開閉可能� ��ドア31を有する箱状に形成されている。こ� �ドア31から塗布済の基板2が収容室5a内に収容 される。まず、ドア31が開かれ、塗布済の基� ��2が収容室5a内に収容され、その後、そのド� ��31は気密となるように閉じられる。乾燥後� �再びドア31が開けられ、乾燥済の基板2が取� �出される。なお、基板2は、収容室5aの底面� �設けられた支持ピン等により支持される。� �た、収容室5aには、複数の貫通孔を有する分 散板(図示せず)が設けられている。これによ� ��、収容室5a内の気流の発生を抑えることが� �きる。

 排気部5bは、収容室5aの底面に接続された 排気経路である排気パイプ32と、その排気パ� ��プ32を開閉する開閉弁33と、排気パイプ32を� ��して収容室5a内の気体を吸引する吸引部34と 、開閉弁33と吸引部34との間に位置付けられ� �排気径路中に設けられた減圧タンク35とを有 している。この排気部5bは、排気速度及び到� ��真空度等が変更可能に形成されている。

 排気パイプ32は、収容室5aの底面の略中央 に接続されている。開閉弁33は、制御部25に� �り制御され、排気パイプ32を開閉する。この 開閉弁33としては、例えば、バタフライ弁や� ��磁弁等を用いる。吸引部34は、収容室5aに開 閉弁33及び減圧タンク35を介して排気パイプ32 により接続されている。この吸引部34として� ��、例えば吸引ポンプ等を用いる。このよう� ��吸引部34は、制御部25により制御され、排気 パイプ32を介して収容室5a及び減圧タンク35内 の気体を吸引して排気する。減圧タンク35は� ��吸引部34により、例えば数kPaの所定の真空� �まで吸引され、真空状態となる。

 このような減圧乾燥モジュール5は、排気 部5bにより減圧タンク35内を所定の真空圧に� �、その後、開閉弁33により排気パイプ32を開� ��し、収容室5a内から気体を排気し、収容室5a を真空にする。これにより、塗布済の基板2� �の各液滴は乾燥し、複数の残留物が基板2上� ��残る。

 次いで、復潤乾燥モジュール6が備える基 板移動機構6a、溶解吹付部6b、乾燥吹付部6c及 び排気部6dについて図4及び図5を参照して説� �する。

 復潤乾燥モジュール6は、塗布対象物上に 配置されたいくつもの微細な溶質の塊に対し 、この溶質が溶解可能な溶媒を含ませて個々 の塊内での溶質の流動性を回復させ、個別に 流動性を有する微細な溶質の群に対し、均質 な乾燥状態を与えて再び乾燥させるプロセス を提供するものである。このため、溶質の塊 の個別性を保ったままで溶媒を付与して流動 性を付与する復潤ユニットと基板とを相対変 位させる機構と、溶質の流動性が付与された 塊の各々から溶媒を蒸発させる乾燥ユニット と基板とを相対変位させる機構とが必要であ る。これを実現する手段としては、塗布対象 物を固定して復潤ユニットや乾燥ユニットを 塗布対象物がなす面と平行に変位させるよう 構成しても実現可能である。本実施の形態に おいては、移動させるものの構造の単純さや 重量を考慮し、所定距離離間して固定的に配 置される復潤ユニット(溶解吹付部6b)と乾燥� �ニット(乾燥吹付部6c)、及びこれらの復潤ユ� ��ットと乾燥ユニットを連通して単軸方向に� ��ーブルを移動させるテーブル機構(基板移動 機構6a)を具備することにより、塗布対象物と 復潤ユニット、塗布対象物と乾燥ユニットの 相対変位を実現している。

 図4に示すように、基板移動機構6aは、Y軸 方向ガイド板41A及び基板保持テーブル42が積� ��されて構成されている。この基板移動機構6 aが、溶解吹付部6b及び乾燥吹付部6cと基板2と を相対移動させる移動機構として機能する。

 Y軸方向ガイド板41Aは、架台6eの上面に固� ��されて設けられている。このY軸方向ガイド 板41Aの上面には、複数のガイド溝41aがY軸方� �に沿って並行に設けられている。これらの� �イド溝41aが、Y軸方向に基板保持テーブル42� �案内する。

 基板保持テーブル42は、Y軸方向ガイド板4 1Aの上面を各ガイド溝41aに沿ってY軸方向に移 動可能に設けられている。この基板保持テー ブル42は、送りネジと駆動モータとを用いた� ��り機構(図示せず)により各ガイド溝41aに沿� �てY軸方向に移動する。また、基板保持テー� ��ル42は、基板2を吸着する吸着機構(図示せず )を備えており、その吸着機構により上面に� �板2を固定して保持する。吸着機構としては� ��例えばエアー吸着機構等を用いる。さらに� ��基板保持テーブル42は、基板2を支持する突� ��可能な複数の支持ピンを備えており、基板2 の受け渡しを行う場合、それらの支持ピンに より基板2を支持する。このような基板保持� �ーブル42は、Y軸方向に往復移動し、減圧乾� �済の基板2を載置する載置位置と、再溶解及� ��再乾燥後の基板2である塗布体2aを受け渡す� ��渡位置とに移動する。なお、基板保持テー� ��ル42の移動速度は、例えば数十mm/s程度であ� ��。

 溶解吹付部6bは、基板保持テーブル42上の 基板2に対して溶解用気体を吹き出す溶解吹� �ヘッド43と、その溶解吹出ヘッド43を基板移� ��機構6aに対向させて支持する支持部44と、溶 解吹出ヘッド43に溶解用気体を供給する溶解� ��気体供給部45と、溶解吹出ヘッド43と溶解用 気体供給部45とを接続し溶解用気体が通過す� ��溶解用気体供給管46とを備えている。この� �解吹付部6bは、溶解用気体の濃度や風量等が 変更可能に形成されている。

 溶解吹出ヘッド43は、開口する吹出口43a(� ��5参照)を有する箱状に形成されている。こ� �吹出口43aは、スリット状に形成されている� �このような溶解吹出ヘッド43は、図5に示す� �うに、吹出口43aから溶解用気体を吹き出し� �移動する基板2上の各残留物に吹き付ける。� ��の溶解用気体により、基板2上の各残留物は 再溶解して複数の液滴物となる。ここで、溶 解吹出ヘッド43と基板2の表面との離間距離H1� ��、例えば数mm程度であり、基板2に対して溶� ��用気体を吹き出す方向ベクトルと基板2がな す平面に含まれる基板2の相対移動方向のベ� �トルとのなす角である吹出角度θ1は、例え� �90度程度である(図5参照)。

 支持部44は、溶解吹出ヘッド43に固定させ て取り付けられた一対のアーム部材44aと、そ れらのアーム部材44aをそれぞれ支持する一対 の支柱44bとにより構成されている。一対のア ーム部材44aは、溶解吹出ヘッド43と一対の支� ��44bとを連結している。また、一対の支柱44b� ��、架台6eの上面に立設されている。これら� �支柱44bは、一対のアーム部材44aを回動可能� �、さらに、それらのアーム部材44aを一対の� �柱44bの高さ方向に移動可能に支持している� �すなわち、溶解吹出ヘッド43は、基板保持テ ーブル42上の基板2に対する溶解吹出ヘッド43� ��相対位置、例えば、基板2に対する吹出角度 θ1や基板2に対する離間距離H1等が変更可能に 形成されている。したがって、一対のアーム 部材44aの回動により吹出角度θ1が調整され、 一対の支柱44bの移動により離間距離H1が調整� ��れる。

 溶解用気体供給部45は、溶解用気体を収� �しており、その溶解用気体を送風ポンプ等� �より溶解用気体供給管46を介して溶解吹出ヘ ッド43に供給する装置である。ここで、溶解� ��気体としては、噴射された液滴の溶質が溶� ��る溶媒を含む気体、例えば水等の溶媒を含� ��気体を用いる。なお、この溶解用気体の濃� ��や風量(=平均風速×吹出口43aの開口面積)等� �調整することにより、基板2上に残る各溶質� ��の厚さ方向の断面形状を調整することがで� ��る。例えば、風速は数m/s程度である。なお� ��気化された溶媒を用いずに、液状の溶媒を� ��持するようにし、必要に応じて気化させる� ��成としてもよい。

 溶解用気体供給管46は、溶解吹出ヘッド43 と溶解用気体供給部45とを接続し、溶解用気� ��供給部45から溶解吹出ヘッド43に溶解用気体 を供給するための流路である。この溶解用気 体供給管46としては、例えばチューブやパイ� ��等を用いる。このような溶解用気体供給管4 6の外周面には、熱を供給するヒータNが設け� ��れている。このヒータNとしては、シート状 のヒータが用いられており、溶解用気体供給 管46の外周面に巻かれて設けられている。こ� ��ヒータNの発熱を制御することにより、溶解 用気体供給管46及び管内雰囲気の温度を流通� ��る気体の露点より高く保つ。その結果、管� ��での溶媒の結露やミスト化を防止し、溶解� ��気体の溶媒濃度を一定に保つことを容易に� ��る。特に、ミスト化は液体が霧状に空中を� ��っている状態であるため、そのミスト化を� ��止することで液体が基板2上や他の装置箇所 に付着してしまうことを抑止することができ る。

 乾燥吹付部6cは、基板保持テーブル42上の 基板2に対して乾燥気体を吹き出す乾燥吹出� �ッド47と、その乾燥吹出ヘッド47を基板移動� ��構6aに対向させて支持する支持部48と、乾燥 吹出ヘッド47に乾燥気体を供給する乾燥気体� ��給部49と、乾燥吹出ヘッド47と乾燥気体供給 部49とを接続し乾燥気体が通過する乾燥気体� ��給管50とを備えている。この乾燥吹付部6cは 、乾燥気体の濃度や風量等が変更可能に形成 されている。

 乾燥吹出ヘッド47は、開口する吹出口47a(� ��5参照)を有する箱状に形成されている。こ� �吹出口47aは、スリット状に形成されている� �このような乾燥吹出ヘッド47は、図5に示す� �うに、吹出口47aから乾燥気体を吹き出し、� �動する基板2上の各液滴物に吹き付ける。こ� ��乾燥気体により各液滴物は再乾燥し、基板2 上に残る複数の溶質物となる。ここで、乾燥 吹出ヘッド47と基板2の表面との離間距離H2は� ��例えば数mm~十数mm程度であり、基板2に対し� ��乾燥気体を吹き出す方向ベクトルと基板2が なす平面に含まれる基板2の相対移動方向の� �クトルとのなす角である吹出角度θ2は、例� �ば40度~70度程度である(図5参照)。

 支持部48は、乾燥吹出ヘッド47に固定させ て取り付けられた一対のアーム部材48aと、そ れらのアーム部材48aをそれぞれ支持する一対 の支柱48bとにより構成されている。一対のア ーム部材48aは、乾燥吹出ヘッド47と一対の支� ��48bとを連結している。また、一対の支柱48b� ��、架台6eの上面に立設されている。これら� �支柱48bは、一対のアーム部材48aを回動可能� �、さらに、それらのアーム部材48aを一対の� �柱48bの高さ方向に移動可能に支持している� �すなわち、乾燥吹出ヘッド47は、基板保持テ ーブル42上の基板2に対する乾燥吹出ヘッド47� ��相対位置、例えば、基板2に対する吹出角度 θ2や基板2に対する離間距離H2等が変更可能に 形成されている。したがって、一対のアーム 部材48aの回動により吹出角度θ2が調整され、 一対の支柱48bの移動により離間距離H2が調整� ��れる。

 乾燥気体供給部49は、乾燥気体を収容し� �おり、その乾燥気体を送風ポンプ等により� �燥気体供給管50を介して乾燥吹出ヘッド47に� ��給する装置である。ここで、乾燥気体とし� ��は、例えば、窒素(N2)等の乾燥状態の気体を 用いる。なお、この乾燥気体の濃度や風量(=� ��均風速×吹出口47aの開口面積)等を調整する� ��とにより、基板2上に残る各溶質物の厚さ方 向の断面形状を調整することができる。例え ば、風速は数m/s程度である。

 乾燥気体供給管50は、乾燥吹出ヘッド47と 乾燥気体供給部49とを接続し、乾燥気体供給� ��49から乾燥吹出ヘッド47に乾燥気体を供給す るための流路である。この乾燥気体供給管50� ��しては、例えばチューブやパイプ等を用い� ��。

 排気部6dは、溶解吹出ヘッド43と乾燥吹出 ヘッド47との間の気体を吸引する吸引ヘッド5 1と、その吸引ヘッド51を基板移動機構6aに対� ��させて支持する支持部52と、吸引ヘッド51に 吸引力を供給する吸引部53と、吸引ヘッド51� �吸引部53とを接続し、吸引した気体が通過す る排気管54とを備えている。この排気部6dは� �吸引する気体の風量、すなわち吸引力が変� �可能に形成されている。

 吸引ヘッド51は、開口する吸気口51a(図5参 照)を有する箱状に形成されている。この吸� �口51aは、例えば長方形状に形成されている� �このような吸引ヘッド51は、図5に示すよう� �、吸気口51aから気体を吸引する。これによ� �、溶解吹出ヘッド43と乾燥吹出ヘッド47との� ��の気体が吸引され、その間の湿度上昇が抑� ��られ、高湿度雰囲気の拡散を抑止する。こ� ��で、吸引ヘッド51と基板2の表面との離間距� ��H3は、例えば数mm~十数mm程度であり、基板2� �対する角度であって気体を吸引する方向ベ� �トルと基板2がなす平面に含まれる基板2の相 対移動方向のベクトルとのなす角である吸気 角度θ3は、例えば90度程度である(図5参照)。

 なお、吸引ヘッド51の内部には、複数の� �通孔を有する多孔質板が1枚又は複数枚(例え ば3枚)、吸気口51aの開口面に略平行にして設� ��られる場合もある。特に、複数の多孔質板� ��設ける場合には、それらの多孔質板は、吸� ��口51aから排気口に向かって貫通孔の数が減� ��するように配置される。なお、吸引ヘッド5 1の排気口は、排気管54に接続されている開口 である。このように多孔質板を設けることに より、風速分布を無くし、吸気口51aから均一 な吸引を行うことができる。なお、湿度分布 が大きい場合には、その湿度分布に合わせて 、多孔質板の貫通孔の数や貫通孔の形成位置 等を調整し、風速分布を形成する場合もある 。例えば、吸気口51aの両端付近の湿度が低く 、その中央付近の湿度が高い場合には、吸気 口51aの両端側を低く、その中央部が高くなる ように風速分布を形成する。

 支持部52は、吸引ヘッド51に固定させて取 り付けられた一対のアーム部材52aと、それら のアーム部材52aをそれぞれ支持する一対の支 柱52bとにより構成されている。一対のアーム 部材52aは、吸引ヘッド51と一対の支柱52bとを� ��結している。また、一対の支柱52bは、架台6 eの上面に立設されている。これらの支柱52b� �、一対のアーム部材52aを回動可能に、さら� �、それらのアーム部材52aを一対の支柱52bの� �さ方向に移動可能に支持している。すなわ� �、吸引ヘッド51は、基板保持テーブル42上の� ��板2に対する吸引ヘッド51の相対位置、例え� ��、基板2に対する吸気角度θ3や基板2に対す� �離間距離H3等が変更可能に形成されている。 したがって、一対のアーム部材52aの回動によ り吸気角度θ3が調整され、一対の支柱52bの移 動により離間距離H3が調整される。

 吸引部53は、排気ポンプ等により排気管54 を介して吸引ヘッド51に吸引力を供給する装� ��である。なお、この吸引力、すなわち吸引� ��る気体の風量(=平均風速×吸気口51aの開口面 積)を調整することにより、基板2上に残る各� ��質物の厚さ方向の断面形状を調整すること� ��できる。例えば、風速は数m/s程度である。

 排気管54は、吸引ヘッド51と吸引部53とを� ��続し、吸引ヘッド51により吸引された気体� �排気するための流路である。この排気管54と しては、例えばチューブやパイプ等を用いる 。

 次に、前述の塗布装置1の液滴塗布処理、 すなわち塗布装置1による塗布体(物品)2aの製� ��工程について説明する。塗布装置1の制御部 25は各種のプログラムに基づいて液滴塗布処� ��を実行する。

 塗布体2aの製造工程は、基板2に向けて第1 の溶媒に溶質を含ませた第1の溶液であるイ� �クを液滴化して噴射し、基板2に複数の液滴� ��塗着する塗布工程と、基板2上の各液滴から 第1の溶媒を蒸発させる乾燥工程と、各液滴� �乾燥し基板2上に残留した各残留物(第1の溶� �の残留物の群)を第2の溶媒によって再溶解し 、残留物を含む第2の溶液である液滴物(第2の 溶液の液滴の群)を形成し、基板2上に形成し� ��各液滴物をあらためて乾燥させる復潤乾燥� ��程(図5参照)とにより構成されている。なお� ��復潤乾燥工程は、基板2上に残留した各残留 物に対して溶解用気体を吹き付け、液体状の 各液滴物を形成する溶解吹付工程と、形成し た基板2上の各液滴物に対して乾燥気体を吹� �付ける乾燥吹付工程とを有している。

 ここで、インクの主成分は、基板2上に残 留物として残留する溶質と、その溶質を溶解 (あるいは分散)させる溶媒とにより構成され� ��いる。このインクは、例えば、水及び吸水� ��低蒸気圧溶媒(例えばEG等)の他、添加剤とし て、水溶性高分子材料(例えば、PVP:ポリビニ� ��ピロリドンやPVA:ポリビニルアルコール等)� �び水溶性膜材料等を含む。添加された水溶� �高分子材料は液滴の辺縁がなす着弾径を着� �時に拡がった際の最大値に近いとこで固定� �るピニング剤として機能する。

 このインクには、残留物の一部として基� ��2上に残留する界面活性剤が、溶質として添 加されている。この界面活性剤は、減圧乾燥 の工程において揮発しない程度の質量を有す る材料とする。また、界面活性剤としては、 第2の溶媒の表面張力を有意な程度に低減す� �作用を有するものを選択する。例えば、水� �用いる場合にはポリアクリル酸アンモニウ� �等の陰イオン性界面活性剤を用いるのが好� �しい。

 溶液に界面活性剤を添加することによっ� ��、各残留物の再溶解時に、界面活性剤も同� ��に溶解し、液滴物の表面張力を下げること� ��可能になる。これにより、液滴を乾燥させ� ��際に他の溶質が液滴の中心部に寄り集まる� ��となく一様に析出されやすくなるので、膜� ��分布が均一化され、平坦な塗膜(例えば、薄 膜)を形成することが容易になる。特に、溶� �として水を用いた場合には、液滴物の表面� �力が大きくなり、周辺の厚みが大きい膜が� �成されやすい傾向にあるが、溶液に界面活� �剤を添加することによって、平坦な溶質物(� ��えば、薄膜)を形成することができる。

 界面活性剤は溶媒の表面張力を有意位な� ��度に低下させることが目的であり、目的に� ��なう範囲内で溶媒にあわせて適宜選択する� ��とができる。ただし、インクを構成する第1 の溶質や塗布装置1の各部品と作用して化学� �応を起こさないものを選択する観点から、� �面活性剤のカウンターイオンとして、アル� �リ金属類や金属類・ハロゲン類が用いられ� �いるものは避け、アンモニウムイオンやテ� �ラメチルアンモニウムイオンなどが利用さ� �ているものを用いることが好ましい。

 図6に示すように、制御部25は、搬送部8を 制御し、基板収容部3の収容棚3aから基板2を� �り出して液滴噴射モジュール4に搬送し、そ� ��基板2を液滴噴射モジュール4の基板保持テ� �ブル19上に載置する(ステップS1)。このとき� �基板保持テーブル19は載置位置に待機してお り、基板2は吸着機構により基板保持テーブ� �19上に保持される。

 次いで、制御部25は、液滴噴射モジュー� �4を制御し、基板保持テーブル19上の基板2に� ��滴を噴射して塗布する(ステップS2)。詳述す ると、制御部25は、液滴噴射モジュール4を制 御し、基板保持テーブル19を載置位置から塗� ��位置に移動させ、各インクジェットヘッド� ��ニット12を待機位置から基板2に対向する位� ��まで移動させる。その後、制御部25は、Y軸� ��向移動テーブル17及びX軸方向移動テーブル1 8を制御し、加えて、各インクジェットヘッ� �ユニット12の液滴噴射ヘッドFを制御し、各� �滴噴射ヘッドFにより基板2に向かって液滴を 噴射する噴射動作を行う。各液滴噴射ヘッド Fは、インクを液滴として各ノズルからそれ� �れ噴射し、移動する基板2にそれらの液滴を� ��弾させ、所定のパターンのドット列を順次� ��成する。その後、制御部25は、各インクジ� �ットヘッドユニット12を待機位置まで戻し、 基板保持テーブル19を塗布位置から載置位置� ��移動させる。

 ここで、基板2上の各液滴の厚さ方向の断 面形状は、図7に示すように、断面形状D1のよ うな半円状になる。このとき、液滴が含むピ ニング剤(PVP)の作用により、液滴の着弾径(直 径)は固定されている。

 その後、制御部25は、搬送部8を制御し、� ��置位置に待機する基板保持テーブル19から� �布済の基板2を取り出して減圧乾燥モジュー� ��5に搬送し、その基板2を減圧乾燥モジュー� �5の収容室5a内に載置する(ステップS3)。この� ��板2は、収容室5a内に密封状態で収容される� ��

 次いで、制御部25は、減圧乾燥モジュー� �5を制御し、その収容室5a内に収容した塗布� �の基板2上の各液滴を減圧乾燥させる(ステッ プS4)。詳述すると、制御部25は、排気部5bを� �御し、まず、減圧タンク35内を例えば数kPaの 所定の真空圧にし、その後、開閉弁33により� ��気パイプ32を開放し、収容室5a内から気体を 排気し、収容室5aを真空にする。これにより� ��収容室5a内が真空状態になり、塗布済の基� �2上の各液滴は乾燥し、複数の残留物が基板2 上に残る。

 ここで、基板2上に残留した各残留物、特 に基板2の周辺部の各残留物の厚さ方向の断� �形状は、図7に示すように、乾燥前の液滴の� ��弾径を維持したまま、断面形状D2のような� �央部が凹む形状になる。このとき、基板2の� ��央部の各残留物の厚さ方向の断面形状と、� ��板2の周辺部の各残留物の厚さ方向の断面形 状とは異なっている。

 なお、基板2上に液滴を塗布した際には、 液滴が含むPVPの作用により液滴の着弾径が固 定され、その後、減圧乾燥により、遅い乾燥 の進行に伴う縮退が起きる前に、液滴が含む 溶質が液滴の外周部に集中する。このとき、 水はほとんど蒸発するのに対し、EGは微少量� ��存する。このように、液滴の着弾径が維持� ��れた状態で、残留物が生成されるので、基� ��2上の各残留物の直径を均一化することがで きる。

 その後、制御部25は、搬送部8を制御し、� ��圧乾燥モジュール5の収容室5a内から乾燥済� ��基板2を取り出して復潤乾燥モジュール6に� �送し、その基板2を復潤乾燥モジュール6の基 板保持テーブル42上に載置する(ステップS5)。 このとき、基板保持テーブル42は載置位置に� ��機しており、基板2は吸着機構により基板保 持テーブル42上に保持される。

 制御部25は、復潤乾燥モジュール6を制御� ��、移動する基板保持テーブル42上の基板2の� ��面である塗布面に対して溶解用気体を吹き� ��け、その後、乾燥気体を吹き付ける(ステッ プS6)。詳述すると、制御部25は、基板移動機� ��6aを制御し、基板保持テーブル42を載置位置 から受渡位置に移動させながら、溶解吹付部 6b、乾燥吹付部6c及び排気部6dを制御し、移動 する基板2上の減圧乾燥済の各残留物に溶解� �気体を吹き付け、続けて、余剰分の溶解用� �体を排気しながら、移動する基板2上の溶解� ��の各液滴物に乾燥気体を吹き付ける。

 これにより、減圧乾燥済の各残留物は溶� ��用気体により再溶解し、基板2上の各液滴物 となり、その後、それらの液滴物が乾燥気体 により再乾燥し、基板2上に残る各溶質物(塗� ��)となる。このとき、基板2の中央部の各溶� �物の厚さ方向の断面形状と、基板2の周辺部� ��各溶質物の厚さ方向の断面形状とは同じに� ��る。すなわち、再乾燥後の各溶質物の厚さ� ��向の断面形状は、基板2の中央部や周辺部等 の着弾位置に依らずほぼ均一になる。また、 溶解吹付部6bにより吹き付けられた溶解用気� ��のうち、各液滴物の形成に寄与しない余剰� ��の溶解用気体が排気され、高湿度雰囲気の� ��散が防止される。なお、各液滴物に向けて� ��き付けられた乾燥気体を吸引して排気する� ��うにしてもよい。この場合には、乾燥気体� ��び乾燥寄与後の溶媒が含まれた気体の拡散� ��抑制しやすくなる。

 ここで、各液滴物の厚さ方向の断面形状� ��、図7に示すように、減圧乾燥前の液滴の直 径を維持したまま、断面形状D3のような半円� ��になる。これは、残留物内のEGが加湿によ� �給水し、残留物は着弾径を保持したまま、� �の形状が元の形状(図7に示す断面形状D1)にリ セットされる(これを復潤と呼ぶ)ためである� ��このときの液組成は、最初の組成よりも水� ��多くなり、EGが少なくなっている組成であ� �。また、再溶解により、液滴の周辺部のEGと 溶質が液滴内に分布する。なお、水が多くな っているので、再乾燥時の湿度制御により、 断面形状を制御することが容易になる。この とき、形状が着弾当初のものに完全に戻る必 要はない。溶質が流動性を回復する程度でよ い場合もあり、復潤に用いる溶媒の性質とも あわせて適宜調整される。

 また、各溶質物の厚さ方向の断面形状は� ��図7に示すように、減圧乾燥前の液滴の直径 を維持したまま、断面形状D4のような上端部� ��平坦となる台形状になる。このとき、水が� ��い中央部とEGが多い周辺部との表面張力差� �よってマランゴニ対流が発生し、乾燥に伴� �外側への流れとバランスを取ることになる� �で、基板2の表面付近に流れが発生しなくな� ��、断面形状は平坦化される。加えて、界面� ��性剤が液滴物内に溶解し、液滴物の表面張� ��が下がるため、液滴物の再乾燥時に溶質は� ��央部に寄り集まることなく一様に析出され� ��ので、断面形状は平坦化される。なお、溶� ��物内に界面活性剤が残留し、問題が生じる� ��合には、基板2上の各溶質物に対してベーク 処理(例えば、400~500℃程度のベーク処理)を施 し、界面活性剤を熱分解する。

 その後、制御部25は、搬送部8を制御し、� ��渡位置に待機する基板保持テーブル42から� �布体2aを取り出して塗布体収容部7に搬送し� �その基板2を塗布体収容部7の収容棚7a内に載� ��する(ステップS7)。

 最後に、制御部25は、所定数の基板2に対� ��る塗布が完了したか否かを判断する(ステッ プS8)。ここでは、塗布体2aの数をカウントし� ��そのカウント値が所定値に達しているか否� ��を判断している。所定数の基板2に対する塗 布が完了したと判断した場合には(ステップS8 のYES)、処理を終了する。一方、所定数の基� �2に対する塗布が完了していないと判断した� ��合には(ステップS8のNO)、処理をステップS1� �戻し、前述の処理を繰り返す。

 以上説明したように、本発明の第1の実施 の形態によれば、基板2上に残留した複数の� �留物を溶解し、残留物をそれぞれ含む複数� �液滴物を形成し、形成した各液滴物を乾燥� �せる復潤乾燥モジュール6を設けることによ� ��て、基板2上の各残留物が一様な条件で溶解 して乾燥し、各溶質物(塗膜)が基板2上に残る ので、着弾から乾燥完了までの経過が着弾す る領域によってさまざまであった従来に比べ 、どこに着弾した液滴でも一様な現象で乾燥 することになる。これにより、溶質物の厚さ 方向の断面形状を塗布対象面内の各液滴につ いてほぼ均一にし、それらのばらつきを抑え ることが可能になり、塗布対象面内で各溶質 物の状態を均一化することができる。その結 果、各溶質物の厚さ方向の断面形状のばらつ きに起因する塗布体2aの製造不良の発生を防� ��することができる。

 このように、個別の残留物の流動性を一� ��的に回復させ、即座に乾燥させる。乾燥気� ��を流動させて乾燥過程の周辺雰囲気を強制� ��に移動させるため、周辺液滴の溶媒蒸発と� ��干渉効果が低減され、一滴のみを乾燥させ� ��ときと同様の状態に近づけられる。基板全� ��でこの局所的な形状リセット及び乾燥現象� ��起こすことによって面均一を得ることがで� ��る。

 また、塗布工程において、残留物の一部� ��して基板2上に残留する界面活性剤を含む溶 液を液滴化して噴射することによって、残留 物の再溶解時に界面活性剤も同時に溶解し、 液滴物の表面張力が下がるので、液滴物の再 乾燥時に溶質は中央部に寄り集まることなく 一様に析出される。これにより、平坦な溶質 物(例えば、薄膜)を形成することができる。� ��に、溶媒として水を用い、液滴物の表面張� ��が大きい場合でも、平坦な溶質物を形成す� ��ことができる。

 また、復潤乾燥モジュール6は、基板2上� �各残留物に対し、残留物を溶解する溶解用� �体を吹き付ける溶解吹付部6bと、基板2上の� �液滴物に対し、液滴物を乾燥させる乾燥気� �を吹き付ける乾燥吹付部6cとを具備している ことから、簡単な構成により、各溶質物の厚 さ方向の断面形状のばらつきを確実に抑える ことができる。さらに、溶解用気体や乾燥気 体の濃度や風量等を変更することにより、各 溶質物の厚さ方向の断面形状を調整すること が可能になるので、各溶質物の厚さ方向の断 面形状のばらつきを確実に抑えることができ る。

 特に、溶解吹付部6bは、溶解用気体の風� �(例えば、基板2の移動方向と水平面内で垂直 な方向における溶解用気体の流量分布)が変� �可能に形成されており、また、乾燥吹付部6c は、乾燥気体の風量(例えば、基板2の移動方� ��と水平面内で垂直な方向における乾燥気体� ��流量分布)が変更可能に形成されていること から、溶解用気体の風量や乾燥気体の風量を 変更することにより、各溶質物の厚さ方向の 断面形状を調整することが可能になるので、 各溶質物の厚さ方向の断面形状のばらつきを 確実に抑えることができる。

 また、溶解吹付部6bは、溶解用気体を吹� �出す溶解吹出ヘッド43と、溶解吹出ヘッド43� ��溶解用気体を供給する溶解用気体供給部45� �、溶解吹出ヘッド43と溶解用気体供給部45と� ��接続し溶解用気体が通過する溶解用気体供� ��管46とを具備しており、乾燥吹付部6cは、乾 燥気体を吹き出す乾燥吹出ヘッド47と、乾燥� ��出ヘッド47に乾燥気体を供給する乾燥気体� �給部49と、乾燥吹出ヘッド47と乾燥気体供給� ��49とを接続し乾燥気体が通過する乾燥気体� �給管50とを具備していることから、簡単な構 成により、各溶質物の厚さ方向の断面形状の ばらつきを抑えることができる。さらに、溶 解吹出ヘッド43及び乾燥吹出ヘッド47と基板2� ��を相対移動させる基板移動機構6aを設ける� �とによって、溶解吹付部6b及び乾燥吹付部6c� ��小型化することも可能になるので、装置全� ��の大型化を防止することができる。

 また、溶解用気体供給管46は、その外周� �に設けられたヒータNを有している。溶解用� ��体の温度と復潤乾燥モジュール6内との温度 差に大きな変動があると、溶解用気体に含ま れる溶媒の濃度の算定が困難になるため、復 潤乾燥モジュール6内に設けた温度センサと� �溶解用気体供給管46内に設けた温度センサと により溶解用気体の温度が適正化されるよう に、ヒータNによって溶解用気体の温度を調� �する制御が行われる。なお、溶解用気体供� �管46の温度を制御することによって、溶解用 気体が溶解用気体供給管46を通過する際に、� ��の温度が低下してしまうことを防止するこ� ��も可能になるので、結露の発生等を抑える� ��ともできる。

 また、復潤乾燥モジュール6は、溶解吹付 部6bにより吹き付けられた溶解用気体のうち� ��各液滴物の形成に寄与しない余剰分の溶解� ��気体を排気する排気部6dを具備しているこ� �から、高湿度雰囲気の拡散を防止すること� �可能になるので、乾燥が終了した部分の塗� �に影響を与え難くなり、各溶質物の厚さ方� �の断面形状のばらつきを確実に抑えること� �できる。

 また、排気部6dは、溶解吹出ヘッド43と乾 燥吹出ヘッド47との間の気体を吸引する吸引� ��ッド51と、吸引ヘッド51に吸引力を供給する 吸引部53と、吸引ヘッド51と吸引部53とを接続 し、吸引した気体が通過する排気管54とを具� ��していることから、溶解吹出ヘッド43と乾� �吹出ヘッド47との間の気体が吸引され、その 間の湿度上昇が抑えられるので、簡単な構成 により、各溶質物の厚さ方向の断面形状のば らつきを確実に抑えることができる。

 また、溶解吹出ヘッド43は、基板2に対す� ��相対位置が変更可能に設けられていること� ��ら、基板2に対する溶解吹出ヘッド43の相対� ��置を変更し、各溶質物の厚さ方向の断面形� ��を容易に調整することができる。特に、溶� ��吹出ヘッド43は、基板2に対して溶解用気体� ��吹き出す吹出角度θ1が変更可能に設けられ� ��いることから、その吹出角度θ1を変更する� ��とにより各溶質物の厚さ方向の断面形状を� ��易に調整することができる。また、溶解吹� ��ヘッド43は、基板2に対する離間距離H1が変� �可能に設けられていることから、その離間� �離H1を変更することにより各溶質物の厚さ方 向の断面形状を容易に調整することができる 。

 また、乾燥吹出ヘッド47は、基板2に対す� ��相対位置が変更可能に設けられていること� ��ら、基板2に対する乾燥吹出ヘッド47の相対� ��置を変更し、各溶質物の厚さ方向の断面形� ��を容易に調整することができる。特に、乾� ��吹出ヘッド47は、基板2に対して乾燥気体を� ��き出す吹出角度θ2が変更可能に設けられて� ��ることから、その吹出角度θ2を変更するこ� ��により各溶質物の厚さ方向の断面形状を容� ��に調整することができる。また、乾燥吹出� ��ッド47は、基板2に対する離間距離H2が変更� �能に設けられていることから、その離間距� �H2を変更することにより各溶質物の厚さ方向 の断面形状を容易に調整することができる。

 また、インク内の溶質はインクを構成す� ��液体に溶けない粒子でも同様に使用でき、� ��れも広義での溶質とみなす。したがって、� ��ンクにはコロイドも含まれる。

(第2の実施の形態)
 本発明の第2の実施の形態について図8乃至� �11を参照して説明する。

 本発明の第2の実施の形態は第1の実施の� �態の変形である。したがって、特に、第1の� ��施の形態と異なる部分、すなわち復潤乾燥� ��ジュール6について説明する。なお、第2の� �施の形態においては、第1の実施の形態で説� ��した部分と同じ部分の説明を省略する。

 図8及び図9に示すように、復潤乾燥モジ� �ール6は、基板移動機構6a、溶解吹付部6b、乾 燥吹付部6c及び排気部6dに加え、基板移動機� �6aにより移動する基板2の表面(塗布面)に対す る離間距離(第1の離間距離)H4を検出する検出� ��6fを備えている。

 基板移動機構6aは、Y軸方向ガイド板41B及� ��基板保持テーブル42が積層されて構成され� �いる。この基板移動機構6aが、溶解吹付部6b� ��乾燥吹付部6c、排気部6d及び検出部6fと基板2 とを相対移動させる移動機構として機能する 。

 Y軸方向ガイド板41Bは、架台6eの上面に固� ��されて設けられている。このY軸方向ガイド 板41Bの内部には、送りネジ41bと駆動モータ41c とを用いた送り機構が設けられている。この 送り機構が基板保持テーブル42をY軸方向に移 動させる。

 基板保持テーブル42は、Y軸方向ガイド板4 1Bの上面側にY軸方向に移動可能に設けられて いる。この基板保持テーブル42は、送りネジ4 1bと駆動モータ41cとを用いた送り機構によりY 軸方向に移動する。また、基板保持テーブル 42は、基板2を支持する突没可能な複数の支持 ピン(リフトアップピン)を備えており、それ� ��の支持ピンにより基板2を支持して、その状 態のまま搬送動作を行う。このような基板保 持テーブル42は、Y軸方向に往復移動する。な お、第2の実施の形態では、減圧乾燥済の基� �2を載置する載置位置と、再溶解及び再乾燥� ��の基板2である塗布体2aを受け渡す受渡位置� ��は同じ位置になる。基板保持テーブル42の� �動速度は、例えば数十mm/s程度である。

 支持ピンで支持したまま処理を行う理由� ��しては、以下のようなものがある。基板保� ��テーブル42に基板2を吸着する場合には、基� ��2脱着用のリフトピンが挿通可能に形成され た孔が基板保持テーブル42の載置面上に設け� ��れるが、この孔による放熱条件の違いは塗� ��の形状に影響を与え、素子抵抗に反映され� ��しまう。また、基板保持テーブル42が金属� �ある場合には、基板保持テーブル42は熱伝導 性が良く、基板2の面積が広くなるとその基� �2の温度分布に差が生じやすい。また、基板2 の平坦度が基板保持テーブル42の平坦度と異� ��っている場合には、基板2と基板保持テーブ ル42とがあたるところとあたらないところが� ��じる。これらの問題を防止するため、支持� ��ンにより基板2を保持し、その状態で処理を 行う構成にする必要がある。

 溶解吹付部6bは、溶解吹出ヘッド43、支持 部44、溶解用気体供給部45及び溶解用気体供� �管46に加え、溶解用気体供給管46の経路途中� ��設けられた経路切替部61と、溶解用気体を� �体として収容するタンク62と、経路切替部61� ��タンク62とを連通する排気管63と、その排気 管63の経路途中に設けられた負荷調整バルブ6 4とを備えている。さらに、溶解吹付部6bは、 溶解吹出ヘッド43から吹出された溶解用気体� ��受ける気体受け部65と、その気体受け部65を 溶解吹出ヘッド43に対する接離方向であるZ軸 方向に移動させる受け部移動機構66と、気体� ��け部65とタンク62とを連通する排気管67とを� ��えている(図9参照)。

 経路切替部61は、制御部25の制御に応じて 、溶解用気体供給部45と溶解用気体供給管46� �が連通する第1の経路と、溶解用気体供給部4 5と排気管63とが連通する第2の経路とを切り� �える。例えば、溶解及び乾燥を行う場合に� �、溶解用気体供給部45と溶解用気体供給管46� ��が接続されて第1の経路が選択され、検出部 6fによる検出を行う場合には、溶解用気体供� ��部45と排気管63とが接続されて第2の経路が� �択される。これにより、検出を行う場合、� �解吹付部6bがその下方を通過する基板2を加� �してしまうことを防止することが可能にな� �。

 タンク62は、排気管63及び排気管67から流� ��する溶解用気体を液体として収容する収容� ��である。排気管63は、経路切替部61とタンク 62とを接続する流路であり、特に、溶解吹出� ��ッド43に溶解用気体を供給しない場合、タ� �ク62に溶解用気体を排出するための流路であ る。この排気管63としては、例えばチューブ� ��パイプ等を用いる。

 負荷調整バルブ64は、制御部25の制御に応 じて、排気管63を通過する溶解用気体の流量� ��調整する。このとき、負荷調整バルブ64の� �抗値(流量)は、溶解吹出ヘッド43と同等の抵� ��値(流量)に調整される。これにより、経路� �切り替えられた場合でも、溶解用気体供給� �45に対する抵抗は変化しないので、経路の切 替により生じる溶解用気体供給部45における� ��度や湿度の変動を抑制することが可能にな� ��。なお、溶解用気体供給部45は、供給する� �解用気体の温度や湿度を例えば47.5±0.5℃、85 %±1%の範囲で調整し、調整された溶解用気体� ��供給する。

 気体受け部65は、例えば、開口部65aを有� �る箱状に形成されている。この気体受け部65 は、その開口部65aが溶解吹出ヘッド43に対向� ��る位置に位置付けられ、基板移動機構6aの� �部に設けられている。また、気体受け部65は 、溶解吹出ヘッド43に対して接離方向であるZ 軸方向に移動可能に設けられており、受け部 移動機構66により移動する。

 受け部移動機構66は、基板2及び基板保持� ��ーブル42の移動を妨げない位置に位置付け� �れ、基板移動機構6aの内部に設けられている 。この受け部移動機構66は、制御部25による� �御に応じて、基板2及び基板保持テーブル42� �Y軸方向に移動する場合には、それらの基板2 及び基板保持テーブル42の移動を妨げない退� ��位置に気体受け部65を移動させ、基板2及び� ��板保持テーブル42が移動しない場合には、� �体受け部65に近接して溶解用気体を受ける気 体受け位置に気体受け部65を移動させる。す� ��わち、受け部移動機構66は、気体受け部材65 を溶解吹出ヘッド43に対して溶解用気体の吹� ��方向に接離可能に移動させる機構として機� ��する。

 排気管67は、気体受け部65とタンク62とを� ��続する流路であり、特に、基板2に対する溶 解及び乾燥を実行しない場合、溶解吹出ヘッ ド43により吹き出された溶解用気体を気体受� ��部65からタンク62に排出するための流路であ る。この排気管67としては、例えばチューブ� ��パイプ等を用いる。ここで、排気管67は、� �気の圧力を細かく制御するため、気体受け� �65の長手方向に複数本並べて配置されている 。これらの排気管67には、それぞれに流量調� ��用のバルブが接続されている。これにより� ��風速分布を調整することが可能になる。

 このような溶解吹付部6bの溶解用気体供� �部45は常時稼働状態となる。これは、溶解用 気体供給部45が一度停止すると、再び溶解用� ��体(加湿雰囲気)の温度や湿度等を安定させ� �まで数十分程度の長い時間が必要となる場� �があるので、その待機時間を無くすためで� �る。溶解用気体供給部45が稼働状態で、基板 2及び基板保持テーブル42が移動しない場合に は、気体受け部65が気体受け位置に存在して� ��り、気体受け部65は、溶解吹出ヘッド43から 吹き出された溶解用気体を開口部65aから受け 取り、排気管67を介して吸引して液化したう� ��で空気と溶媒に分解し、溶媒をタンク62に� �体として排出する。これにより、溶解用気� �(加湿雰囲気)が塗布乾燥システム全域に拡散 してしまうことが防止される。

 検出部6fは、その設置位置から、Y軸方向� ��移動する基板2の表面(塗布面)までの離間距� ��(第1の離間距離)H4をそれぞれ検出する複数� �距離センサ71と、それらの距離センサ71を基� ��移動機構6aに対向させて支持する支持部72と を備えている。

 距離センサ71は、例えば3個設けられてい� ��。これらの距離センサ71は、基板2の表面上� ��画素領域R1を避けた外周領域R2に対して離間 距離H4の検出を行う(図10参照)。例えば、2個� �距離センサ71が外周領域R2において画素領域R 1を挟みY軸方向に伸びる一対の領域に対して� ��れぞれ離間距離H4の測定を行う。残り1個の� ��離センサ71が外周領域R2において画素領域R1� ��挟みX軸方向に伸びる一対の領域に対して離 間距離H4の測定を行う。なお、距離センサ71� �しては、例えば、反射式のセンサや超音波� �のセンサ等を用いる。

 ここで、画素領域R1には、配線や素子、� �残留物等が存在している。このため、画素� �域R1に対して離間距離H4の測定を行うと、正� ��に離間距離H4を測定することは困難である� �したがって、基板2の表面上の画素領域R1を� �けた外周領域R2に対して離間距離H4の測定を� ��うことによって、正確に離間距離H4を測定� �ることが可能となる。

 この距離センサ71は、制御部25の制御に応 じて、移動する基板2の表面との離間距離H4の 測定を連続的に行い、基板2の表面のうねり(� ��直線上のうねり)を検出する(図10参照)。こ� �で、基板表面のうねりは、基板2の厚さばら� ��き、基板2の反り及び基板保持テーブル42の� ��面度等が要因となり発生している。例えば� ��離間距離H4は、基板2の面内で0.4mm程度変動� �、基板間で0.2mm程度変動する。なお、距離セ ンサ71の分解能は例えば10μm程度である。

 支持部72は、各距離センサ71が固定された 支持板72aと、その支持板72aを支持する一対の 支柱72bとにより構成されている。これらの支 柱72bは、基板移動機構6aの上面に設けられて� ��る。支持板72aは、基板2が通過する位置に各 距離センサ71を対向させて支持しており、一� ��の支柱72bに架け渡されて設けられている。

 ここで、溶解吹付部6bの支持部44は、溶解 吹出ヘッド43を支持し、その溶解吹出ヘッド4 3を基板移動機構6aに対する離間距離H1(第2の� �間距離)が変化する方向(すなわちZ軸方向)に� ��動させる第1のヘッド移動機構として機能す る。また、乾燥吹付部6cの支持部48は、乾燥� �出ヘッド47を支持し、その乾燥吹出ヘッド47� ��基板移動機構6aに対する離間距離H2(第3の離� ��距離)が変化する方向(すなわちZ軸方向)に移 動させる第2のヘッド移動機構として機能す� �。

 このような復潤乾燥モジュール6は、基板 移動機構6aにより基板2をY軸方向に移動させ� �がら、検出部6fの各距離センサ71により基板2 の塗布面に対する離間距離H4を順次測定し、� ��定データを取得する。このとき、基板2は検 出部6f、乾燥吹付部6c、排気部6d及び溶解吹付 部6bの下方を順次通過して待機位置(載置位置 の逆側の位置)で停止する。なお、このよう� �離間距離H4の測定を行う場合には、溶解吹付 部6bの下方を通過する基板2を加湿しないよう に経路切替部61により溶解用気体供給部45と� �気管63とが接続され、第2の経路が選択され� �。また、このとき、乾燥吹付部6cは停止状態 である。

 その後、復潤乾燥モジュール6は、再び、 基板移動機構6aにより基板2を前述と逆方向に 移動させ、さらに、測定データに基づいて溶 解吹付部6bの溶解吹出ヘッド43の移動及び乾� �吹付部6cの乾燥吹出ヘッド47の移動を制御し� ��がら、溶解吹出ヘッド43により基板2の塗布� ��に溶解用気体を吹き付け、その後、乾燥吹� ��ヘッド47により基板2の塗布面に乾燥気体を� ��き付ける。このとき、基板2は溶解吹付部6b� ��排気部6d、乾燥吹付部6c及び検出部6fの下方� ��順次通過して受渡位置(載置位置)で停止す� �。なお、このような溶解及び乾燥を行う場� �には、溶解吹付部6bの下方を通過する基板2� �加湿するために経路切替部61により溶解用気 体供給部45と溶解用気体供給管46とが接続さ� �、第1の経路が選択される。また、このとき� ��乾燥吹付部6cは駆動状態である。

 次に、前述の塗布装置1の液滴塗布処理、 すなわち塗布装置1による塗布体(物品)2aの製� ��工程について説明する。塗布装置1の制御部 25は各種のプログラムに基づいて液滴塗布処� ��を実行する。

 通常、溶解用気体供給部45は生産中、常� �駆動状態となる。このとき、基板2及び基板� ��持テーブル42が移動しない場合には、気体� �け部65が気体受け位置に存在しており、気体 受け部65は、溶解吹出ヘッド43から吹き出さ� �た溶解用気体を受け取り、排気管67を介して タンク62に液体として供給する。これにより� ��溶解用気体(加湿雰囲気)の拡散が防止され� �いる。なお、乾燥気体供給部49は停止状態で ある。

 図11に示すように、制御部25は、ステップ S1~ステップS5まで第1の実施の形態と同様に処 理を行う。ステップS5の後、制御部25は、経� �切替部61により経路を排出経路である第2の� �路に切り替える(ステップS11)。すなわち、制 御部25は、経路切替部61を制御し、溶解用気� �供給部45と溶解用気体供給管46とが連通する� ��1の経路を、溶解用気体供給部45と排気管63� �が連通する第2の経路に切り替える。さらに� ��制御部25は、受け部移動機構66により気体受 け部65を待機位置に移動させる。

 その後、制御部25は、検出部6fにより、Y� �方向に移動する基板2に対する離間距離H4を� �定する(ステップS12)。すなわち、制御部25は� ��検出部6fを制御し、Y軸方向に移動する基板2 の表面との離間距離H4を連続的に測定する。� ��出部6fは、各距離センサ71により、基板2の� �面上の画素領域R1を避けた外周領域R2に対し� ��離間距離H4の測定を行い、基板2の表面のう� ��り(一直線上のうねり)を検出する。なお、� �こでは、距離センサ71の分解能は、例えば10m m程度であるが、この分解能を上げ、より精� �が高い移動制御を実現するようにしてもよ� �。

 次いで、制御部25は、測定した離間距離H4 のデータである測定データを処理する(ステ� �プS13)。例えば、制御部25は、検出部6fの各距 離センサ71からそれぞれ取得した測定データ� ��Y軸方向の測定点毎に平均し、その測定デー タを溶解及び乾燥を行う場合の搬送方向に合 わせて反転させる処理を行う。

 次に、制御部25は、経路切替部61により経 路を吹出経路である第1の経路に切り替える(� ��テップS14)。すなわち、制御部25は、経路切� ��部61を制御し、溶解用気体供給部45と排気管 63とが連通する第2の経路を、溶解用気体供給 部45と溶解用気体供給管46とが連通する第1の� ��路に切り替える。さらに、制御部25は、乾� �気体供給部49を駆動状態にする。これにより 、溶解用気体が溶解吹出ヘッド43から吹き出� ��れ、乾燥気体が乾燥吹出ヘッド47から吹き� �され、溶解及び乾燥を行う準備が整う。

 その後、制御部25は、ステップS6~ステッ� �S8まで第1の実施の形態と同様に処理を行う� �なお、このときの基板2の搬送方向は、第1の 実施の形態と逆方向となる。また、ステップ S6の後、制御部25は、受け部移動機構66により 気体受け部65を気体受け位置に移動させる。� ��体受け部65は、溶解吹出ヘッド43から吹き出 された溶解用気体を受け取り、排気管67を介� ��てタンク62に液体として供給する。これに� �り、溶解用気体(加湿雰囲気)の拡散が防止さ れる。

 このように、基板2の厚さばらつき、基板 2の反り及び基板保持テーブル42の平面度等に より基板2の表面にうねりが存在する場合で� �、基板2の移動に応じて検出部6fにより基板2� ��表面との離間距離H4が検出され、その離間� �離H4に基づいて、基板2の表面に対する溶解� �出ヘッド43の離間距離H1及び乾燥吹出ヘッド4 7の離間距離H2が一定になるように溶解吹出ヘ ッド43の移動及び乾燥吹出ヘッド47の移動が� �御される。これにより、基板2のY軸方向の移 動に応じて溶解吹出ヘッド43及び乾燥吹出ヘ� ��ド47がZ軸方向に移動し、離間距離H1及び離� �距離H2が一定となるので、基板2の全面に亘� �て加湿及び乾燥が一様に行われる。これに� �り、基板2の面内で各溶質物の凹凸率の均一� ��を向上させることができる。

 また、通常、溶解用気体供給部45は生産� �、常時駆動状態である。このとき、溶解吹� �ヘッド43から溶解用気体が吹き出されるが、 気体受け部65が気体受け位置に存在し、溶解� ��出ヘッド43から吹き出された溶解用気体を� �け取り、排気管67を介してタンク62に液体と� ��て供給する。これにより、溶解用気体(加湿 雰囲気)が拡散することを防止することがで� �る。さらに、検出部6fによる離間距離H4の測� ��を行う場合には、経路切替部61により溶解� �気体供給部45と排気管63とが接続され、溶解� ��出ヘッド43による溶解用気体の吹出しが防� �され、Y軸方向に移動する基板2に対する加湿 が行われることを防止することが可能になる ので、基板2に対して不要な加湿の実行を防� �することができる。加えて、溶解用気体供� �部45の駆動状態を維持することが可能になる ので、溶解用気体(加湿雰囲気)が安定するま� ��の待機時間が必要なくなり、生産性を向上� ��せることができる。

 以上説明したように、本発明の第2の実施 の形態によれば、第1の実施の形態と同様の� �果を得ることができる。さらに、相対移動� �る基板2の表面に対する離間距離H4を検出す� �検出部6fと、相対移動する基板2の表面と溶� �吹出ヘッド43との離間距離H1が変化する方向� ��溶解吹出ヘッド43を移動させるヘッド移動� �構である支持部44と、相対移動する基板2の� �面と乾燥吹出ヘッド47との離間距離H2が変化� ��る方向に乾燥吹出ヘッド47を移動させるヘ� �ド移動機構である支持部48と、検出した離間 距離H4に基づいて、移動する基板2に対し、離 間距離H1が一定になるように支持部44を制御� �、離間距離H2が一定になるように支持部48を� ��御する制御部25とを設けることによって、� �板2の表面にうねりが存在していても、移動� ��る基板2に対する離間距離H1及び離間距離H2� �一定となり、基板2の全面に亘って加湿及び� ��燥を一様に行うことが可能になる。これに� ��り、塗布対象面内で各溶質物の凹凸率の均� ��性を向上させることができ、その結果、各� ��質物の厚さ方向の断面形状のばらつきに起� ��する塗布体2aの製造不良の発生を防止する� �とができる。

 また、溶解吹付部6bは、溶解用気体供給� �46の途中に接続され、溶解用気体供給部45か� ��溶解吹出ヘッド43に供給される溶解用気体� �排気するための排気管63と、溶解用気体供給 部45と溶解用気体供給管46とが連通する第1の� ��路と、溶解用気体供給部45と排気管63とが連 通する第2の経路とを切り替える経路切替部61 と具備することから、基板2に対する離間距� �H4の測定を行う場合には、溶解用気体供給部 45と排気管63とが接続され、基板2に対する加� ��が行われず、溶解用気体供給部45の駆動状� �が維持される。これにより、基板2に対する� ��湿が行われないので、基板2に対して不要な 加湿の実行を防止することができ、加えて、 溶解用気体供給部45の駆動状態が維持される� ��で、溶解用気体(加湿雰囲気)が安定するま� �の待機時間が必要なくなり、生産性を向上� �せることができる。

(第3の実施の形態)
 本発明の第3の実施の形態について図12及び� ��13を参照して説明する。

 本発明の第3の実施の形態は第1の実施の� �態の変形である。したがって、特に、第1の� ��施の形態と異なる部分について説明する。� ��お、第3の実施の形態においては、第1の実� �の形態で説明した部分と同じ部分の説明を� �略する。

 図12に示すように、スリット調整部81が溶 解吹出ヘッド43に設けられている。この溶解� ��出ヘッド43の内部には、開口部である吹出� �43aに連通する吹出用流路F1が設けられている 。すなわち、溶解吹出ヘッド43は、スリット� ��の吹出用流路F1を形成する内面Wa及びその内 面Waに対向する外面Wbを有するヘッド基体43A� �具備している。なお、吹出用流路F1は溶解用 気体供給管46に連通している。その溶解用気� ��供給管46から流入した溶解用気体は、吹出� �流路F1を通過して吹出口43aから吹き出される 。

 吹出用流路F1は、溶解用気体が流れる方� �に対して垂直方向に長いスリット(細長い隙� ��)状に形成されており、溶解吹出ヘッド43の� ��出口43aは長方形状となる。溶解吹出ヘッド4 3は、その吹出口43aの長手方向(スリット長手� ��向)を基板2の移動方向に平面内で直交する� �向に平行にして設けられている。

 ここで、基板2の大型化に伴って溶解吹出 ヘッド43も大型化し、その吹出口43aの長手方� ��の大きさも例えば1000mm程度と大きくなって� ��る。このため、吹出口43aの平面形状を長方� ��にすることは困難であり、特に、吹出口43a� ��短手方向の幅(スリット間隔)が一定となら� �いことが多い。この場合には、溶解用気体� �一様(均一)に吹き出すことが困難となり、基 板2の面内で各溶質物の凹凸率の均一性が低� �してしまう。このため、吹出口43aの短手方� �の幅(スリット間隔)を一定に調整するスリッ ト調整部81が必要となる。

 スリット調整部81は、ヘッド基体43Aに設� �られたベース部材82と、ヘッド基体43Aの外面 Wb(図12中の左側の外面)を吹出用流路F1が狭く� ��る方向に押す複数の押圧部材83と、ヘッド� �体43Aの外面Wbを吹出用流路F1が広がる方向に� ��っ張る複数の引張部材84とにより構成され� �いる。

 ベース部材82は、ヘッド基体43Aの外面Wbか ら離間して略平行にスリット長手方向に伸び る基準部82aを有している。このベース部材82� ��ヘッド基体43Aより曲げ強度が高くなるよう� ��形成されており、基準部82aはスリット間隔� ��調整する際の基準位置となる。なお、ベー� ��部材82としては、例えば断面形状がL字型に� ��成された部材等を用いる。

 基準部82aには、複数の貫通孔N1、N2が設け られている。これらの貫通孔N1、N2は、溶解� �気体が吹出用流路F1を通過する方向に垂直な 方向、すなわちスリット長手方向に並べて二 列にそれぞれ設けられている。また、ヘッド 基体43Aの外面Wbには、各貫通孔N2に対向させ� �複数の穴部N3が設けられている。これらの穴 部N3もスリット長手方向に一列に並ぶことに� ��る。各貫通孔N1及び各貫通孔N2には、らせん 状の溝がそれぞれ形成されており、各貫通孔 N1及び各貫通孔N2が雌ネジとして機能する。� �た、穴部N3には、引張部材84を回転可能に保� ��するベアリング等の軸受(図示せず)が設け� �れている。

 各押圧部材83は、基準部82aの各貫通孔N1に 挿入されてスリット長手方向に並んでおり、 ヘッド基体43Aの外面Wbを押圧可能にそれぞれ� ��けられている。各引張部材84も、基準部82a� �各貫通孔N2及びヘッド基体43Aの各穴部N3に挿� ��されてスリット長手方向に並んでおり、ヘ� ��ド基体43Aの外面Wbを引張可能にそれぞれ設� �られている。各押圧部材83及び各引張部材84� ��しては、例えば雄ネジ等を用いる。

 このようなスリット調整部81では、各押� �部材83及び各引張部材84が操作者等により回� ��させられ、ヘッド基体43Aの外面Wbを押す押� �力及びその外面Wbを引っ張る引張力が調整さ れる。これにより、ヘッド基体43Aの内面Waは� ��形し、スリット間隔も変化する。このとき� ��スリット状の吹出口43aの平面形状を長方形� ��すなわち溶解吹出ヘッド43の吹出用流路F1の 流路断面形状が長方形になるように押圧力及 び引張力が調整される。これにより、溶解吹 出ヘッド43が一様(均一)に溶解用気体を吹き� �すことが可能になる。

 ここで、図13に示すように、吹出用流路F1 が広がる方向にその吹出用流路F1を構成する� ��面(内面Wa)を押す複数の押圧部材85と、吹出� ��流路F1が狭くなる方向にその吹出用流路F1を 構成する壁面(内面Wa)を引っ張る複数の引張� �材86とが溶解吹出ヘッド43のヘッド基体43Aに� ��接設けられている場合がある。この場合に� ��、各押圧部材85及び各引張部材86が吹出用流 路F1内に存在し、その吹出用流路F1を通過す� �溶解用気体の流れを妨げることになる。特� �、押圧部材85及び引張部材86はそれぞれ複数� ��一列状に設けられているため、溶解用気体� ��一様な吹き出しを著しく阻害することにな� ��。

 一方、図12に示すように、前述のスリッ� �調整部81を用いることによって、各押圧部材 83及び各引張部材84は吹出用流路F1内に存在せ ず、その吹出用流路F1を通過する溶解用気体� ��流れを妨げることがなくなる。これにより� ��各押圧部材85及び引張部材86が吹出用流路F1� ��に存在する場合に比べ、溶解用気体を一様� ��吹き出すことが可能になる。その結果、基� ��2の全面に亘って加湿が一様に行われるので 、基板2の面内で各溶質物の凹凸率の均一性� �向上させることができる。

 このようにスリットの間隔を可変とする� ��とで、基板2の進行方向(ワーク進行方向)に� ��面内で垂直な方向でみたときの気体流量調� ��を可能にしているが、スリット調整部81の� �押圧部材85及び各引張部材84は、スリット長� ��方向に離散的に複数箇所にわたって配置さ� ��るため、スリット長手方向での流量分布を� ��全に単調にかつ再現性をもって調整するこ� ��は難しい。したがって、溶解吹出ヘッド43� �乾燥吹出ヘッド47との少なくとも一方がスリ ット長手方向に変位可能に設けられており、 スリット調整部81における流量分布のばらつ� ��は溶解吹出ヘッド43と乾燥吹出ヘッド47との 相対位置の調整により補われている。

 以上説明したように、本発明の第3の実施 の形態によれば、第1の実施の形態と同様の� �果を得ることができる。さらに、スリット� �整部81を設けることによって、溶解吹出ヘッ ド43の吹出用流路F1のスリット間隔を調整す� �ことが可能になるので、溶解吹出ヘッド43か らの溶解用気体の一様な吹き出し、すなわち 吹付風速分布(流量分布)の均一化を実現する� ��とができる。これにより、塗布対象面内で� ��溶質物の凹凸率の均一性をさらに向上させ� ��ことができ、その結果、各溶質物の厚さ方� ��の断面形状のばらつきに起因する塗布体2a� �製造不良の発生を確実に防止することがで� �る。なお、乾燥吹出ヘッド47でも同様な問題 が生じることがあるため、乾燥吹出ヘッド47� ��スリット調整部81を設けることが好ましい� �

 また、本実施の形態では、各押圧部材83� �び各引張部材84を設けているが、これに限る ものではなく、各押圧部材83だけを設けるよ� ��にしても良い。この場合には、各押圧部材8 3の押圧力が弱められると、溶解吹出塗布ヘ� �ド43のヘッド基体43Aの復元力により吹出用流 路F1のスリット間隔が広がることになる。

(第4の実施の形態)
 本発明の第4の実施の形態について図14を参� ��して説明する。

 本発明の第4の実施の形態は第1の実施の� �態の変形である。したがって、特に、第1の� ��施の形態と異なる部分について説明する。� ��お、第4の実施の形態においては、第1の実� �の形態で説明した部分と同じ部分の説明を� �略する。

 図14に示すように、バッファボックス91が 溶解吹出ヘッド43に設けられている。このバ� ��ファボックス91は、溶解吹出ヘッド43に対し て一様に溶解用気体を流入させるためのボッ クスであり、緩衝部として機能する。これに より、溶解吹出ヘッド43からの溶解用気体の� ��様な吹き出しが実現されている。

 溶解吹出ヘッド43は、長方形状の吹出口43 aに加え、連通用の開口43bを複数有している� �これらの開口43bは吹出口43aの長手方向に平� �に一直線上に設けられている。また、バッ� �ァボックス91も、連通用の開口91aを複数有し ている。これらの開口91aは溶解吹出ヘッド43� ��各開口43bにそれぞれ対応させて設けられて� ��る。バッファボックス91の上面(図14中)には� ��溶解用気体供給管46が接続されている。こ� �溶解用気体供給管46から供給された溶解用気 体は、バッファボックス91内に流入して拡散� ��、その後、各開口91a及び各開口43bを介して� ��解吹出ヘッド43内に流入し、溶解吹出ヘッ� �43の吹出口43aから吹き出される。これにより 、溶解用気体を一様に吹き出すことが可能に なり、基板2の全面に亘って加湿が一様に行� �れるので、基板2の面内で各溶質物の凹凸率� ��均一性を向上させることができる。

 以上説明したように、本発明の第4の実施 の形態によれば、第1の実施の形態と同様の� �果を得ることができる。さらに、バッファ� �ックス91を設けることによって、溶解吹出ヘ ッド43に対して一様に溶解用気体を流入させ� ��ことが可能になるので、溶解吹出ヘッド43� �らの溶解用気体の一様な吹き出し、すなわ� �吹付風速分布の均一化を実現することがで� �る。これにより、塗布対象面内で各溶質物� �凹凸率の均一性をさらに向上させることが� �き、その結果、各溶質物の厚さ方向の断面� �状のばらつきに起因する塗布体2aの製造不良 の発生を確実に防止することができる。なお 、乾燥吹出ヘッド47でも同様な問題が生じる� ��とがあるため、乾燥吹出ヘッド47にバッフ� �ボックス91を設けることが好ましい。

(第5の実施の形態)
 本発明の第5の実施の形態について図15及び� ��16を参照して説明する。

 本発明の第5の実施の形態は第1の実施の� �態の変形である。したがって、特に、第1の� ��施の形態と異なる部分について説明する。� ��お、第5の実施の形態においては、第1の実� �の形態で説明した部分と同じ部分の説明を� �略する。

 図15に示すように、吸引ヘッド51Aが溶解� �出ヘッド43に対応させて基板2の搬送方向の� �流側に設けられており、吸引ヘッド51Bが乾� �吹出ヘッド47に対応させて基板2の搬送方向� �下流側に設けられている。さらに、吸引ヘ� �ド51Aには、吸引する際の吸引風速分布(排気� ��速分布)を調整するための吸引風速分布調整 部121Aが設けられており、同様に、吸引ヘッ� �51Bにも、吸引風速分布調整部121Bが設けられ� ��いる。

 ここで、溶解吹出ヘッド43及び乾燥吹出� �ッド47は基板2の表面に対して傾けて設けら� �ている。なお、基板2に対して溶解用気体を� ��き出す吹出角度θ1は、例えば45度程度であ� �、基板2に対して乾燥気体を吹き出す吹出角� ��θ2も、例えば45度程度である。また、溶解� �出ヘッド43及び乾燥吹出ヘッド47には、例え� ��、第3の実施の形態に係るスリット調整部81� ��第4の実施の形態に係るバッファボックス91� ��設けられている(なお、第3及び第4の実施の� ��態で説明した部分と同じ部分の説明を省略� ��る)。

 吸引ヘッド51Aは、溶解吹出ヘッド43に設� �られたバッファボックス91との制約から溶解 吹出ヘッド43に対して所定距離だけ離間する� ��うに設けられている。したがって、吸引ヘ� ��ド51Aは、溶解吹出ヘッド43から吹き出され� �溶解用気体を確実に吸引するため、溶解吹� �ヘッド43の吹出口43aの近傍まで伸びる突出部 T1を有している。すなわち、吸引ヘッド51Aに� ��ける溶解吹出ヘッド43側の側壁W1は、Z軸方� �に伸びる側壁W1aと、その側壁W1aから溶解吹� �ヘッド43の吹出口43aに向けて徐々に傾斜する 傾斜壁W1bとにより構成されている。この傾斜 壁W1bが突出部T1として機能する。これにより� ��吸引ヘッド51Aの吸気口51aが溶解吹出ヘッド4 3の吹出口43aに隣接する状態となることから� �吹出口43aから吹き出された溶解用気体を確� �に吸引することが可能となるので、溶解用� �体の拡散を確実に防止することができる。

 吸引ヘッド51Bは、乾燥吹出ヘッド47に設� �られたバッファボックス91との制約から乾燥 吹出ヘッド47に対して所定距離だけ離間する� ��うに設けられている。したがって、吸引ヘ� ��ド51Bは、乾燥吹出ヘッド47から吹き出され� �乾燥気体を確実に吸引するため、乾燥吹出� �ッド47の吹出口47aの近傍まで伸びる突出部T2� ��有している。すなわち、吸引ヘッド51Bにお� ��る乾燥吹出ヘッド47側の側壁W2は、Z軸方向� �伸びる側壁W2aと、その側壁W2aから乾燥吹出� �ッド47の吹出口47aに向けて徐々に傾斜する傾 斜壁W2bとにより構成されている。この傾斜壁 W2bが突出部T2として機能する。これにより、� ��引ヘッド51Bの吸気口51bが乾燥吹出ヘッド47� �吹出口47aに隣接する状態となることから、� �出口47aから吹き出された乾燥気体を確実に� �引することが可能となるので、乾燥気体の� �散を確実に防止することができる。

 吸引風速分布調整部121Aは吸引ヘッド51Aに 接続されており、吸引風速分布調整部121Bは� �引ヘッド51Bに接続されている。これらの吸� �風速分布調整部121A及び吸引風速分布調整部1 21Bは同じ構造である。したがって、吸引風速 分布調整部121Aを例にして説明する。

 図16に示すように、吸引風速分布調整部12 1Aは、吸引ヘッド51Aの長手方向に平行に伸び� ��箱形状の3本のバッファ121a、121b、121cと、吸 引ヘッド51Aとバッファ121aとをそれぞれ連通� �る8本のパイプP1と、バッファ121aとバッファ1 21bとをそれぞれ連通する4本のパイプP2と、バ ッファ121bとバッファ121cとをそれぞれ連通す� ��2本のパイプP3と、バッファ121cに接続されて 吸引部53に連通する1本のパイプP4と、8本のパ イプP1にそれぞれ設けられた8個のバルブV1と� ��備えている。これらのバルブV1は、それぞ� �対応するパイプP1を通過する気体の流量を調 整するバルブである。各バルブとしては、例 えばニードルバルブを用いる。ここで、バッ ファ数を増やして段数を増加させれば、吸引 風速分布の均一性を向上させることが可能で あるが、調整装置自体が大型化するため、設 置スペースなどを考慮して段数が選択される 。

 この吸引風速分布調整部121Aは、各バッフ ァ121a、121b、121c及び各パイプP1、P2、P3により 吸引ヘッド51Aから排気管54としてのパイプP4� �で伸びる複数の排気経路(気体流路)を有する ことになり、それらの排気経路の長さが同じ になるように構成されており、さらに、パイ プの接続数が吸引ヘッド51AからパイプP4に向� ��ってバッファ121a、121b、121cを介する度に減� ��するように(例えば二分の一になるように)� �成されている。これにより、吸込による吸� �風速分布を均一化することができる。また� �各バルブV1が各パイプP1にそれぞれ設けられ� ��いることから、吸引風速分布を均一化する� ��めに微調整することができ、加えて、吸引� ��速分布を意図的に不均一化することもでき� ��。

 ここで、吸引風速分布(排気風速分布)が� �じると、塗布対象面内で各溶質物の厚さ方� �の断面形状のばらつきが発生してしまう。� �の場合には、吸引風速分布を均一に調整す� �。一方、吸引風速分布が均一であっても、� �解用気体や乾燥気体の吹付風速分布が不均� �になると、塗布対象面内で各溶質物の厚さ� �向の断面形状のばらつきが発生してしまう� �この場合には、そのばらつきの発生を抑え� �ように、塗布対象面内で各溶質物の凹凸率� �応じて吸引風速分布を不均一に調整する。

 吸引風速分布を調整する場合には、オペ� ��ータ等の調整者は、例えば熱線の温度変化� ��より風速を計測する熱線風速計(図示せず)� �用いて、吸引ヘッド51Aの吸気口51aの近傍に� �線を近づけて、その吸気口51aの長手方向に� �ピッチで移動させながら、各箇所での風速� �計測する。その後、調整者は、計測した風� �に基づいて各バルブV1を微調整して、例えば 、吸引風速分布を均一にしたり、あるいは、 各バルブV1を調整して、塗布対象面内で各溶� ��物の凹凸率に合わせて吸引風速分布を意図� ��に不均一化したりする。吸引ヘッド51Bでも� ��様の調整が行われる。

 以上説明したように、本発明の第5の実施 の形態によれば、第1の実施の形態と同様の� �果を得ることができる。さらに、吸引ヘッ� �51Aに突出部T1を設けることによって、吸引ヘ ッド51Aの吸気口51aが溶解吹出ヘッド43の吹出� ��43aに隣接する状態となることから、吹出口4 3aから吹き出された溶解用気体を確実に吸引� ��ることが可能となるので、溶解用気体の拡� ��を確実に防止することができる。同様に、� ��引ヘッド51Bに突出部T2を設けることによっ� �、吸引ヘッド51Bの吸気口51bが乾燥吹出ヘッ� �47の吹出口47aに隣接する状態となることから 、吹出口47aから吹き出された乾燥気体を確実 に吸引することが可能となるので、乾燥気体 の拡散を確実に防止することができる。

 また、各吸引風速分布調整部121A、121Bを� �けることによって、各吸引ヘッド51A、51Bの� �引風速分布を調整し、各吸引ヘッド51A、51B� �より一様に気体を吸引することが可能にな� �ので、各吸引ヘッド51A、51Bによる気体の一� �な吸引、すなわち吸引風速分布の均一化を� �現することができる。これにより、塗布対� �面内で各溶質物の凹凸率の均一性をさらに� �上させることができ、その結果、各溶質物� �厚さ方向の断面形状のばらつきに起因する� �布体2aの製造不良の発生を確実に防止するこ とができる。加えて、吸引風速分布は均一で あるが、溶解用気体や乾燥気体の吹付風速分 布が不均一であるため、塗布対象面内で各溶 質物の厚さ方向の断面形状のばらつきが発生 した場合でも、各溶質物の凹凸率に合わせて 各吸引ヘッド51A、51Bの吸引風速分布を調整す ることが可能になるので、溶解用気体や乾燥 気体の吹付風速分布の不均一に起因し、塗布 対象面内で各溶質物の凹凸率の均一性が低下 してしまうことを抑止することができる。

 特に、排気部6dは、直方体の箱形状のヘ� �ドであって、吹き付けられた溶解用気体を� �引する長方形状の吸気口51aを有する吸引ヘ� �ド51Aと、吸気口51aの長手方向に平行にされ� �吸気口51aの長手方向及び短手方向の両方に� �直な方向に並べられそれぞれ設けられた複� �のバッファ121a、121b、121cと、吸気口51aの長� �方向に並べられ、隣接する吸引ヘッド51Aと� �ッファ121aとの間を接続し、かつ、隣接する� ��ッファ121a、121bの間及び隣接するバッファ12 1b、121cの間を接続する複数のパイプP1、P2、P3 と、吸引ヘッド51Aから一番遠くに位置するバ ッファ121cに接続されたパイプ(排気管)P4とを� ��備しており、各パイプP1、P2、P3は、吸引ヘ� ��ド51AからパイプP4まで伸びる複数の排気経� �が同じ長さになるように、かつ、パイプの� �続数が吸引ヘッド51AからパイプP4に向かって バッファ121a、121b、121cを介する度に減少する ように(例えば二分の一になるように)配設さ� ��ている。これにより、吸引ヘッド51Aによる� ��体の一様な吸引、すなわち吸引風速分布の� ��一化を実現することができる。なお、吸引� ��ッド51Bにおいても、同様な構成により吸引� ��ッド51Aによる気体の一様な吸引、すなわち� ��引風速分布の均一化が実現される。

(第6の実施の形態)
 本発明の第6の実施の形態について図17乃至� ��19を参照して説明する。

 本発明の第6の実施の形態は第1の実施の� �態の変形である。したがって、特に、第1の� ��施の形態と異なる部分について説明する。� ��お、第6の実施の形態においては、第1の実� �の形態で説明した部分と同じ部分の説明を� �略する。

 図17乃至図19に示すように、基板保持テー ブル42は、凹部42a(図18参照)を有する基体42bと 、凹部42aの底面に設けられ基板2を支持する� �数のピン部材42c(図18参照)と、基体42b上に凹� ��42aを避けて枠状に配置された複数の板部材4 2dと、それらの板部材42dの位置を決める複数� ��位置決めピン42e、42fとを備えている。

 各ピン部材42cは、例えばプロキシピンで� ��る。これらのピン部材42cは、基板2と基体42b との間に空間を形成する。これにより、基板 2が基体42bに直接接触することがなくなり、� �板2における接触部分と不接触部分との温度� ��の発生が抑えられるので、温度差に起因す� ��各溶質物の凹凸率の不均一化を抑止するこ� ��ができる。各板部材42dは、例えばダミー用� ��ガラス基板である。また、各位置決めピン4 2e、42fの中には、1枚の板部材42d毎に、3つの� �定ピン42eと、それらの固定ピン42eに基板2を� ��し付けて固定する1つの可動ピン42fとが存在 している。この可動ピン42fの回転板42g(図19参 照)は、その中心から回転軸がずらされ回転� �能に形成されている。

 各板部材42dが基板保持テーブル42上の基� �2の周囲、すなわち基板2が載置される載置領 域を囲むように設けられている。これにより 、各板部材42dが存在しない場合に比べ、基板 2の中央付近及び基板2の縁付近における気体� ��当たり方や気体の拡散の仕方が同じになる� ��で、基板2の中央付近及び基板2の縁付近に� �ける各溶質物の厚さ方向の断面形状を同じ� �することが可能になる。ここで、各板部材42 dが存在しない場合には、基板2の中央付近及� ��基板2の縁付近における気体の当たり方や気 体の拡散の仕方が異なるため、基板2の中央� �近及び基板2の縁付近における各溶質物の厚� ��方向の断面形状が異なってしまう。

 以上説明したように、本発明の第6の実施 の形態によれば、第1の実施の形態と同様の� �果を得ることができる。さらに、基板保持� �ーブル42上の基板2の周囲に各板部材42dを設� �ることによって、各板部材42dが存在しない� �合に比べ、基板2の中央付近及び基板2の縁付 近における気体の当たり方や気体の拡散の仕 方が同じになるので、基板2の中央付近及び� �板2の縁付近における各溶質物の厚さ方向の� ��面形状を同じにすることが可能になる。こ� ��により、塗布対象面内で各溶質物の凹凸率� ��均一性をさらに向上させることができ、そ� ��結果、各溶質物の厚さ方向の断面形状のば� ��つきに起因する塗布体2aの製造不良の発生� �確実に防止することができる。

(第7の実施の形態)
 本発明の第7の実施の形態について図20乃至� ��25を参照して説明する。

 本発明の第7の実施の形態は第1の実施の� �態の変形であり、本発明の第7の実施の形態� ��係る流体吹出装置101Aは第1の実施の形態に� �る溶解吹出ヘッド43あるいは乾燥吹出ヘッド 47に適応することができる。したがって、第1 の実施の形態と異なる部分、流体吹出装置101 Aについて説明する。なお、第7の実施の形態� ��おいては、第1の実施の形態で説明した部分 と同じ部分の説明を省略する。

 図20乃至図22に示すように、本発明の第7� �実施の形態に係る流体吹出装置101Aは、基体� ��なる一対の第1ブロック部材101及び第2ブロ� �ク部材102と、それらの間に設けられた一対� �第1スペーサ部材103及び第2スペーサ部材104と 、弾性を有する枠状の弾性部材105と、基体上 に弾性部材105を介して設けられた蓋部材106と を備えている。この流体吹出装置101Aは、そ� �吹出口Kの長手方向(スリット長手方向)を基� �2の移動方向に平面内で直交する方向に平行� ��して設けられている。

 第1ブロック部材101及び第2ブロック部材10 2は、第1スペーサ部材103及び第2スペーサ部材 104を介してボルト等の複数の固定部材B1(図20� ��照)により互いに固定されて基体となる。第 1スペーサ部材103及び第2スペーサ部材104は第1 ブロック部材101及び第2ブロック部材102の長� �方向の両端部にそれぞれ位置付けられて設� �られている。これにより、吹出用流路F1(図22 参照)が、流体(溶解用気体あるいは乾燥気体) が流れる方向に対して垂直方向に長いスリッ ト(細長い隙間)状に形成され、流体吹出装置1 01Aの吹出口Kが長方形状となる。蓋部材106は� �ボルト等の複数の固定部材B2(図20参照)によ� �基体としての第1ブロック部材101及び第2ブロ ック部材102に固定されて設けられている。な お、第1ブロック部材101、第2ブロック部材102� ��第1スペーサ部材103及び第2スペーサ部材104� �材料としては、例えばステンレス等を用い� �。

 第1ブロック部材101は、直方体形状に形成 された部材であり、長手方向に平行な第1ブ� �ック主面M1a、第1ブロック主面M1aに垂直で長� ��方向に平行な第1ブロック長手側面M1b、第1� �ロック主面M1bに垂直で短手方向に平行な第1� ��ロック短手側面M1c、第1ブロック主面M1aから 第1ブロック長手側面M1bに連続して傾斜する� �1ブロック傾斜面M1d、第1ブロック短手側面M1c から長手方向に伸びる第1ブロック流路101a、� ��の第1ブロック流路101aより細く第1ブロック� ��面M1aから第1ブロック流路101aに直交する方� �にそれぞれ伸びて連通し長手方向に並ぶ複� �の第1ブロック細流路101bを有している。

 第1ブロック流路101aは、第1ブロック部材1 01の第1ブロック短手側面M1cに長手方向に伸び る穴を形成することにより生成されている。 この第1ブロック流路101aには、流体を供給す� ��供給管(例えば溶解用気体供給管46あるいは� ��燥気体供給管50)が接続される。また、各第1 ブロック細流路101bは、蓋部材106の凹部106aの� ��面に向かってそれぞれ開口しており、その� ��面に向かって流体を吹き出す。これらの第1 ブロック細流路101bは、第1ブロック部材101の� ��1ブロック主面M1aに第1ブロック流路101aに直� ��する方向に伸びる穴(オリフィス)を複数形� �することにより生成されている。

 第2ブロック部材102は、直方体形状に形成 された部材であり、長手方向に平行な第2ブ� �ック主面M2a、第2ブロック主面M2aに垂直で長� ��方向に平行な第2ブロック長手側面M2b、第2� �ロック主面M2bに垂直で短手方向に平行な第2� ��ロック短手側面M2c、第2ブロック主面M2aから 第2ブロック長手側面M2bに連続して傾斜する� �2ブロック傾斜面M2d、第2ブロック短手側面M2c から長手方向に伸びる第2ブロック流路102a、� ��の第2ブロック流路102aより細く第2ブロック� ��面M2aから第2ブロック流路102aに直交する方� �にそれぞれ伸びて連通し長手方向に並ぶ複� �の第2ブロック細流路102bを有している。

 第2ブロック流路101bは、第2ブロック部材1 02の第2ブロック短手側面M2cに長手方向に伸び る穴を形成することにより生成されている。 この第2ブロック流路102aには、流体を供給す� ��供給管(例えば溶解用気体供給管46あるいは� ��燥気体供給管50)が接続される。また、各第2 ブロック細流路102bは、蓋部材106の凹部106aの� ��面に向かってそれぞれ開口しており、その� ��面に向かって流体を吹き出す。これらの第2 ブロック細流路102bは、第2ブロック部材102の� ��2ブロック主面M2aに第2ブロック流路102aに直� ��する方向に伸びる穴(オリフィス)を複数形� �することにより生成されている。

 第1スペーサ部材103は、板状の部材であり 、第1ブロック長手側面M1aと第2ブロック長手� ��面M2aとを向け合わせた状態の第1ブロック部 材101及び第2ブロック部材102の長手方向の一� �部に位置付けられ、その板厚方向が第1ブロ� ��ク長手側面M1a及び第2ブロック長手側面M2aに 垂直にされて、第1ブロック長手側面M1aと第2� ��ロック長手側面M2aとの間に気密に設けられ� ��いる。

 第2スペーサ部材104は、第1スペーサ部材10 3と同じ厚さを有する板状の部材であり、前� �の一端部に対する他端部に位置付けられ、� �の板厚方向が第1ブロック長手側面M1a及び第2 ブロック長手側面M2aに垂直にされて、第1ブ� �ック長手側面M1aと第2ブロック長手側面M2aと� ��間に気密に設けられている。

 蓋部材106は、直方体形状の部材であり、� ��手方向に伸びる凹部106a(図22参照)を有し、� �1スペーサ部材103及び第2スペーサ部材104を介 して組み立てられた状態の第1ブロック部材10 1及び第2ブロック部材102における第1ブロック 主面M1a及び第2ブロック主面M2a上に弾性部材10 5を介して、凹部106aが第1ブロック主面M1aの各 第1ブロック細流路101b及び第2ブロック主面M2a の各第2ブロック細流路102bを覆うように設け� ��れている。

 また、第1ブロック部材101及び第2ブロッ� �部材102には、図20及び図22に示すように、各� ��定部材B2がそれぞれ挿入される複数の穴部h1 が設けられており、弾性部材105には、各固定 部材B2がそれぞれ挿入される複数の貫通孔h2� �設けられている。さらに、蓋部材106にも、� �固定部材B2がそれぞれ挿入される複数の貫通 孔h3が設けられている。各穴部h1は各ブロッ� �部材101、102の周縁に等ピッチで設けられて� �り、各貫通孔h2も弾性部材105の形状に沿って 等ピッチで設けられており、各貫通孔h3も蓋� ��材106の周縁に等ピッチで設けられている。� ��穴部h1には、らせん状の溝が形成されてお� �、各穴部h1は雌ネジとして機能する。したが って、各固定部材B2としては、例えば雄ネジ� ��用いる。

 ここで、第1ブロック流路101a及び第2ブロ� ��ク流路102aの直径は、例えば12mmである。第1� ��ロック細流路101b及び第2ブロック細流路102b� ��直径は、例えば2mm±0.005mmであり、第1ブロッ ク細流路101b及び第2ブロック細流路102bのピッ チは、例えば10mmである。また、吹出用流路F1 のスリット間隔(スリットの短手方向の幅)は� ��例えば0.5mmあるいは1.5mmである。すなわち、 一対の第1スペーサ部材103及び第2スペーサ部� ��104の厚さが、例えば0.5mmあるいは1.5mmである 。このように一対の第1スペーサ部材103及び� �2スペーサ部材104を他の厚さを有する一対の� ��ペーサ部材に交換するだけでスリット間隔� ��変更することが可能である。したがって、� ��種の厚さを有する一対のスペーサ部材を用� ��しておくことにより、容易にさらに精度良� ��スリット間隔を変更することができる。

 このような流路構造によれば、流体(例え ば溶解用気体あるいは乾燥気体)は第1ブロッ� ��流路101a及び第2ブロック流路102aから各第1ブ ロック細流路101b及び各第2ブロック細流路102b に流れることになるので、その流体の圧力損 失が大きくなる。これにより、各第1ブロッ� �細流路101b及び各第2ブロック細流路102bから� �吹出風速が一定となる。さらに、各第1ブロ� ��ク細流路101b及び各第2ブロック細流路102bを� ��過した流体は、蓋部材106の凹部106aの底面に 当接して分散された後、第1ブロック傾斜面M1 d及び第2ブロック傾斜面M2dにより導かれて吹� ��用流路F1に到達するので、各第1ブロック細� ��路101b及び各第2ブロック細流路102bの影響を� ��けない均一な流速分布(吹付風速分布)を得� �ことができる。

 蓋部材106は、長手方向に伸びる凹部106aに 加え、第1ブロック部材101における第1ブロッ� ��長手側面M1bに対向する第1ブロック対向側面 M1eに沿って離間する基準部106bと、その基準� �106bに第1ブロック対向側面M1eを押圧可能に長 手方向に並べて設けられた複数の押圧部材B3� ��を具備している。

 各押圧部材B3は、第1ブロック部材101の外� ��(図22中の左側の外面)である第1ブロック対� �側面M1eを吹出用流路F1が狭くなる方向にそれ ぞれ押す部材である。また、基準部106bは、� �1ブロック部材101の第1ブロック対向側面M1eか ら離間して略平行に長手方向に伸びている。 この基準部106bは第1ブロック部材101より曲げ� ��度が高くなるように形成されており、基準� ��106bはスリット間隔を調整する際の基準位置 となる。

 基準部106bには、各押圧部材B3がそれぞれ� ��入される複数の貫通孔h4が設けられている� �これらの貫通孔h4は、流体が吹出用流路F1を� ��過する方向に垂直な方向、すなわち長手方� ��に並べて一列にそれぞれ設けられている。� ��た、第1ブロック部材101の第1ブロック対向� �面M1eには、各貫通孔h4に対向させて複数の穴 部101cが設けられている。これらの穴部101cも� ��手方向に一列に並ぶことになる。各貫通孔h 4には、らせん状の溝がそれぞれ形成されて� �り、各貫通孔h4は雌ネジとして機能する。し たがって、各押圧部材B3としては、例えば雄� ��ジを用いる。各押圧部材B3は各貫通孔h4及び 各穴部101cにそれぞれ挿入されて設けられて� �る。

 また、基準部106bには、その基準部106a2の� ��手方向と同じ方向(スリット長手方向)に伸� �る補強部106cが設けられている。これにより� ��基準部106bの反り等が防止されている。ここ で、蓋部材106及び基準部106bを有する流体吹� �装置101Aは支持部材(例えば支持部44)により支 持されるため、その重量は軽いことが望まし い。このため、基準部106bができるだけ薄く� �るように形成されるため、基準位置となる� �準部106bに反りが生じてしまうことがある。� ��こで、その基準部106bの反りを防止するため 、基準部106bを肉厚にする補強部106cが設けら� ��ている。これにより、重量の増加を抑制し� ��がら、基準部106bの強度を増加させることが できる。なお、重量より強度の向上を目的と する場合には、補強部106cに加え、その補強� �106cに対して垂直な複数の補強部を等ピッチ� ��設けるようにしてもよい。

 ここで、図21に示すように、流体吹出装� �101Aの長手方向の長さL1は、例えば1000mmであ� �、流体吹出装置101Aの短手方向の長さ(例えば 、70mm程度)に比べ非常に長い。このため、反� ��が流体吹出装置101Aの長手方向に発生しやす いので、補強部106cを設ける必要がある。こ� �補強部106cは、その厚さL2が5mmとなるように� �成され、長さL3が30mm、長さL4が30mmとなるよ� �に設けられている。なお、各固定部材B2のピ ッチL5は、例えば40mmであり、各押圧部材B3の� ��ッチL6は、例えば30mmである。

 なお、基板2の大型化に伴って流体吹出装 置101Aも大型化し、その吹出口Kの長手方向の� ��きさも例えば1000mm程度と大きくなっている� ��このため、吹出口Kの平面形状を長方形にす ることは困難であり、特に、吹出口Kの短手� �向の幅(スリット間隔)が一定とならないこと が多い。この場合には、溶解用気体を一様(� �一)に吹き出すことが困難となり、基板2の面 内で各溶質物の凹凸率の均一性が低下してし まう。このため、吹出口Kの短手方向の幅(ス� ��ット間隔)を一定に調整することが必要とな る。

 スリット間隔の調整を行う場合には、各� ��圧部材B3が操作者等により回転させられ、� �体吹出装置101Aの第1ブロック部材101の外面(� �1ブロック対向側面M1e)を押す押圧力が調整さ れ、吹出用流路F1のスリット間隔が変更され� ��。このとき、スリット状の吹出口Kの平面形 状を長方形、すなわち流体吹出装置101Aの吹� �用流路F1の流路断面形状が長方形になるよう に押圧力が調整される。これにより、吹付風 速分布の微調整を行うことが可能になる。な お、この押圧力が弱められると、第1ブロッ� �部材101の復元力により吹出用流路F1のスリッ ト間隔が広がることになる。

 ここで、吹付風速分布が生じると、塗布� ��象面内で各溶質物の厚さ方向の断面形状の� ��らつきが発生してしまう。また、吹付風速� ��布が均一でない場合には、風速の弱い部分� ��合わせて風速条件を設定しなれければなら� ��、気体を必要以上に消費するため、ランニ� ��グコストが悪化してしまう。したがって、� ��付風速分布を均一に調整する必要がある。

 吹付風速分布を調整する場合には、オペ� ��ータ等の調整者は、例えば熱線の温度変化� ��より風速を計測する熱線風速計(図示せず)� �用いて、流体吹出装置101Aの吹出口Kの近傍に 熱線を近づけて、その吹出口Kの長手方向に� �ピッチで移動させながら、各箇所での風速� �計測する。詳述すると、調整者は、まず、� �端の押圧部材B3の下方(図21中)からスリット� �長手方向に沿って30mmピッチで熱線を移動さ� ��、順次、押圧部材B3の下方の風速を計測す� �。次いで、調整者は、押圧部材B3の間の中央 (左端の押圧部材B3から15mmの位置)の下方から� ��リットの長手方向に沿って30mmピッチで熱線 を移動させ、順次、押圧部材B3の間の下方の� ��速を計測する。その後、調整者は、計測し� ��風速に基づいて各押圧部材B3を微調整し、� �付風速分布を均一にする。なお、溶解用気� �の風速は、用いるインクの種類等に応じて� �整されるが、例えば1.5m/s±0.05m/sであり、同� �に、乾燥気体の風速も、用いるインクの種� �等に応じて調整されるが、例えば3.0m/s±0.05m/ sである。

 また、吹付風速分布の調整負担、すなわ� ��スリット間隔調整負担を軽減するためには� ��スリット間隔(吹出口Kの短手方向の幅)があ� ��かじめ一定になっていることが好ましい。� ��のスリット間隔を一定にするためには、第1 スペーサ部材103及び第2スペーサ部材104が互� �に同じ平坦度を有することが好ましく、さ� �に、吹出用流路F1を形成する壁面を平行にす るためには、第1スペーサ部材103及び第2スペ� ��サ部材104の表裏面が平行になることが好ま� ��い。したがって、第1スペーサ部材103及び第 2スペーサ部材104を同時に研磨する研磨加工� �行われる。

 すなわち、一対の第1スペーサ部材103及び 第2スペーサ部材104の研磨工程では、図23に示 すように、一対の第1スペーサ部材103及び第2� ��ペーサ部材104が載置台111A上に載置され、そ の状態で荒削り用の研磨部材112Aにより研磨� �れる(第1研磨)。次いで、図24に示すように、 第1研磨後の一対の第1スペーサ部材103及び第2 スペーサ部材104が載置台111B上に載置され、� �の状態で砥石のラップ盤等の研磨部材112Bに� ��り研磨される(第2研磨)。最後に、図25に示� �ように、第2研磨後の一対の第1スペーサ部材 103及び第2スペーサ部材104が載置台111C上に載� ��され、その状態でバフ研磨用の研磨部材112C により研磨される(第3研磨)。

 このように、スリット状の吹出用流路F1� �形成するために一対の第1スペーサ部材103及� ��第2スペーサ部材104を用いることによって、 それらの第1スペーサ部材103及び第2スペーサ� ��材104を同時に研磨することが可能になるの� ��、一対の第1スペーサ部材103及び第2スペー� �部材104の互いの平坦度を同じにすることが� �き、さらに、第1スペーサ部材103及び第2スペ ーサ部材104の表裏面の平行度を向上させるこ とができる。特に、一対の第1スペーサ部材10 3及び第2スペーサ部材104が一対の第1ブロック 部材101及び第2ブロック部材102に比べ非常に� �さい板部材であることから、それらの第1ス� ��ーサ部材103及び第2スペーサ部材104に対して 複数の研磨工程を同時に行うことが可能にな るので、所望の面精度(例えば、平坦度0.02mm� �下)を得ることができる。

 したがって、第1スペーサ部材103及び第2� �ペーサ部材104を第1ブロック部材101及び第2ブ ロック部材102と別体にして流体吹出装置101A� �構成することから、それらの部材が一体で� �る場合に比べ、所望の面精度を容易に得る� �とができる。各部材のいずれかあるいは全� �を一体に構成する場合には、スライス加工� �が用いられることになるため、面精度は例� �ば、平坦度0.1mm程度となって悪く、所望の面 精度(例えば、平坦度0.02mm以下)を得ることは� ��しい。

 以上説明したように、本発明の第7の実施 の形態によれば、第1の実施の形態と同様の� �果を得ることができる。さらに、第1ブロッ� ��流路101a、第2ブロック流路102a、各第1ブロッ ク細流路101b及び各第2ブロック細流路102bを設 けることによって、流体(例えば溶解用気体� �るいは乾燥気体)は第1ブロック流路101a及び� �2ブロック流路102aから各第1ブロック細流路10 1b及び各第2ブロック細流路102bに流れるので� �流体の圧力損失が大きくなり、各第1ブロッ� ��細流路101b及び各第2ブロック細流路102bから� ��吹出風速が一定となる。加えて、各第1ブロ ック細流路101b及び各第2ブロック細流路102bが 蓋部材106の凹部106aの底面に向けて流体を吹� �出すことから、各第1ブロック細流路101b及び 各第2ブロック細流路102bを通過した流体は、� ��の凹部106aの底面に当接して分散された後、 吹出用流路F1に到達する。これらのことから� ��各第1ブロック細流路101b及び各第2ブロック� ��流路102bの影響を受けずに均一な吹付風速分 布(流量分布)を得ることができる。このよう� ��して、塗布対象面内で各溶質物の凹凸率の� ��一性をさらに向上させることができ、その� ��果、各溶質物の厚さ方向の断面形状のばら� ��きに起因する塗布体2aの製造不良の発生を� �実に防止することができる。

 また、蓋部材106に基準部106bを設け、その 基準部106bに各押圧部材B3を長手方向に並べて 設けることによって、流体吹出装置101Aの吹� �用流路F1のスリット間隔を調整することが可 能になるので、流体吹出装置101Aからの流体(� ��えば溶解用気体あるいは乾燥気体)の一様な 吹き出し、すなわち吹付風速分布の均一化を より確実に実現することができる。さらに、 各押圧部材B3が吹出用流路F1内に存在せず、� �押圧部材が吹出用流路F1内に存在する場合に 比べ、その吹出用流路F1を通過する流体の流� ��を妨げることがなくなるので、流体を一様� ��吹き出すことができる。したがって、流体� ��溶解用気体である場合には、基板2の全面に 亘って加湿が一様に行われるので、基板2の� �内で各溶質物の凹凸率の均一性を向上させ� �ことができる。

 なお、本発明の実施の形態では、流体吹� ��装置101Aを溶解吹出ヘッド43あるいは乾燥吹� ��ヘッド47等の気体吹出装置に適応させてい� �が、これに限るものではなく、例えば、流� �として液体を吹き出す液体吹出装置に適応� �せることも可能である。

(他の実施の形態)
 なお、本発明は、前述の実施の形態に限る� ��のではなく、その要旨を逸脱しない範囲に� ��いて種々変更可能である。

 例えば、前述の実施の形態においては、� ��解吹付部6bの溶解吹出ヘッド43、乾燥吹付部 6cの乾燥吹出ヘッド47及び排気部6dの吸引ヘッ ド51に対して基板2を移動させるようにしてい るが、これに限るものではなく、例えば、基 板2に対して溶解吹出ヘッド43、乾燥吹出ヘッ ド47及び吸引ヘッド51を移動させるようにし� �もよく、溶解吹出ヘッド43、乾燥吹出ヘッド 47及び吸引ヘッド51と基板2とを相対移動させ� ��ようにすればよい。

 また、前述の実施の形態においては、溶� ��吹付部6bの溶解吹出ヘッド43、乾燥吹付部6c� ��乾燥吹出ヘッド47及び排気部6dの吸引ヘッド 51を基板2に対する各々の相対位置を変更可能 に設けているが、これに限るものではなく、 例えば、基板2に対する各々の相対位置を固� �して設けるようにしてもよい。

 また、前述の実施の形態においては、溶� ��吹出ヘッド43と吸引ヘッド51と別体として設 けているが、これに限るものではなく、例え ば、溶解吹出ヘッド43と吸引ヘッド51とを連� �して一体構造にするようにしてもよい。

 また、前述の実施の形態においては、排� ��部6d(吸引ヘッド51及び排気管54等)を設けて� �るが、これに限るものではなく、加湿量を� �正に維持することや、処理ごとに強制的に� �置内の雰囲気を置換すること等を行うこと� �より、装置内で局所的に湿度が徐々に上が� �ようなことがなくなる場合には、排気部6d(� �引ヘッド51及び排気管54等)を設けないように してもよい。

 また、前述の実施の形態においては、第2 の溶媒を気化して吹き付けているが、これに 限るものではなく、溶媒の飛散が十分に防げ るように設計されたならば、霧化した溶媒を 、乾燥した気体によって溶質に吹き付けるよ うに構成してもよい。

 また、前述の実施の形態においては、第1 の溶液を噴射して被塗布物に付着させた後、 減圧乾燥させる工程を経てから第2の溶媒に� �って溶質を溶解する工程を示しているが、� �れに限るものではなく、物品を製造する上� �減圧乾燥させる必要がない場合には、その� �程を省略するようにしてもよい。

 また、第1の溶媒と第2の溶媒とは、同じ� �成の液体であってもよいし、異なる組成の� �体であってもよい。なお、通常、第1の溶媒� ��しては、液滴噴射ヘッドFからの液離れ性が 良好な溶媒を用い、第2の溶媒としては、作� �環境保全の観点から水を用いることが好ま� �い。溶媒としては、特段の事情がない限り� �溶質と化学的な反応をして反応産物が形成� �れない物質が選択されるが、必要に応じて� �媒を適宜選択してもよい。

 また、前述の実施の形態においては、検� ��部6fの各距離センサ71の下方を通過する基板 2を往復移動させ、往路で離間距離H4を順次測 定し、復路で測定データに基づいて溶解及び 乾燥を行っているが、これに限るものではな く、例えば、往路で測定、溶解及び乾燥の全 てを行うようにしてもよい。この場合には、 往路で離間距離H4を順次測定し、その測定デ� ��タに基づいて溶解及び乾燥をリアルタイム� ��順次行う。

 また、前述の実施の形態においては、支� ��部44及び支持部48により溶解吹出ヘッド43及� ��乾燥吹出ヘッド47を水平にZ軸方向に移動さ� ��ているが、これに限るものではなく、それ� ��に傾きを持たせてZ軸方向に移動させるよう にしてもよい。この場合には、両側に位置す る2つの距離センサ71により測定された2つの� �定データを平均することなく、そのまま用� �ることが可能になる。これにより、移動す� �基板2に対する離間距離H1及び離間距離H2を精 度良く一定にすることが可能になるので、基 板2の全面に亘って加湿及び乾燥をより一様� �行うことができる。

 また、前述の実施の形態においては、基� ��収容部3、液滴噴射モジュール4、減圧乾燥� �ジュール5、復潤乾燥モジュール6、塗布体収 容部7及び搬送部8をモジュール化し、1つのシ ステムとして構成しているが、これに限るも のではなく、例えば、基板収容部3、液滴噴� �モジュール4、減圧乾燥モジュール5、復潤乾 燥モジュール6、塗布体収容部7及び搬送部8を 1つの装置として一体に構成するようにして� �よく、さらに、それらのうちの一部、例え� �液滴噴射モジュール4、減圧乾燥モジュール5 、復潤乾燥モジュール6だけを1つの装置とし� ��一体に構成するようにしてもよい。

 最後に、前述の実施の形態においては、� ��種の数値を挙げているが、それらの数値は� ��示であり、限定されるものではない。