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Title:
COATING SYSTEM AND COATING METHOD FOR PRODUCING A COATING SYSTEM
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2010/097124
Kind Code:
A1
Abstract:
The invention relates to a coating system (1) for forming a surface coating on a surface of a substrate (100), in particular on the surface of a forging die, wherein the coating system comprises at least one surface coating of the composition ((VaMebMcXd)α(NuCvOw)ß, where (a+b+c+d) = α, α = 100% based on the atoms Va,Meb,Mc,Xd present in the coating, (u+v+w) = ß, ß= 100% based on the atoms N, C, O present in the coating, where the sum of all atoms in the coating (α+ß) = 100 atom %, wherein 40 ≤ α ≤ 80 atom %, and wherein Meb is at least one element from the group of chemical elements made up of Zr, Hf, Nb, Ta, Mo, W, Ni, Cu, Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm of the periodic system of chemical elements, and Mc is at least one element from the group of chemical elements made up of Ti, Cr, and Xd is at least one element from the group of chemical elements made up of S, Se, Si, B of the periodic table of the elements, where 0 ≤ u ≤ 100, 0 ≤ v ≤ 100, and 0 ≤ w ≤ 80. According to the invention, 50 ≤ a ≤ 99, 1 ≤ b ≤ 50, 0 ≤ c ≤ 50, and 0 ≤ d ≤ 20.

Inventors:
VETTER JOERG (DE)
ERKENS GEORG (DE)
Application Number:
PCT/EP2009/058322
Publication Date:
September 02, 2010
Filing Date:
July 02, 2009
Export Citation:
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Assignee:
SULZER METAPLAS GMBH (DE)
VETTER JOERG (DE)
ERKENS GEORG (DE)
International Classes:
C23C28/00; C22C27/02; C23C14/06; C23C14/22; C23C28/04
Foreign References:
EP0093706A11983-11-09
EP1932947A22008-06-18
EP2022870A22009-02-11
EP1783245A12007-05-09
Attorney, Agent or Firm:
IRSCH, Manfred et al. (CH)
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Claims:
Patentansprüche

1. Schichtsystem zur Bildung einer Oberflächenschicht auf einer Oberfläche eines Substrats (100), insbesondere auf der Oberfläche eines Umformwerkzeugs, wobei das Schichtsystem mindestens eine erste Oberflächenschicht der Zusammensetzung (VaMebMcXd)α(NuCvOw)ß umfasst, mit (a+b+c+d) = α, α = 100%, bezogen auf die in der Schicht vorhandenen Atome Va,Meb,Mc,Xd, (u+v+w) = ß, ß= 100% bezogen auf die in der Schicht vorhandenen Atome N1C1O mit der Summe aller Atome in der Schicht (α+ß) =100 at%, wobei 40 <α < 80 at% gilt, und wobei Meb mindestens ein Element aus der Gruppe der chemischen Elemente bestehend aus:

- Zr, Hf, Nb, Ta, Mo, W, Ni, Cu, Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm

des Periodensystems der chemischen Elemente ist;

Mc mindestens ein Element aus der Gruppe der chemischen Elemente bestehend aus:

- Ti, Cr ist;

und Xd mindestens ein Element aus der Gruppe der chemischen Elemente bestehend aus:

- S, Se, Si, B

des Periodensystems der Elemente ist,

wobei 0 < u < 100 ist, 0 < v < 100 und 0 < w < 80 ist,

dadurch gekennzeichnet, dass

50 < a < 99 ist, 1 < b < 50, 0 < c < 50 und 0 < d < 20 ist.

2. Schichtsystem nach Anspruch 1 , wobei 40 < α < 80, insbesondere 45 < α < 55 ist.

3. Schichtsystem nach Anspruch 1 oder 2, wobei 80 < a ist.

4. Schichtsystem nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei c = 0 und d = 0 und v = 0 und w = 0 ist.

5. Schichtsystem nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei Mβb das Element Zr ist.

6. Schichtsystem nach Anspruch 4 oder 5, wobei a = 80 ist.

7. Schichtsystem nach Anspruch 4 oder 5, wobei a = 84 ist.

8. Schichtsystem nach Anspruch 4 oder 5, wobei a = 88 ist.

9. Schichtsystem nach Anspruch 4 oder 5, wobei a = 97 ist.

10. Schichtsystem nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei die Oberflächenschicht die Zusammensetzung (V95Me5)α(NuCvOw)ß hat, mit u = 30, v = 65, w = 5, und wobei Me bevorzugt Ni ist.

1 1 . Schichtsystem nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei die

Oberflächenschicht die Zusammensetzung (V96Me4)α(NuCvOw)ß hat, mit u = 65, v = 25, w = 10, und wobei Me bevorzugt Ce ist.

12. Schichtsystem nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei die Oberflächenschicht die Zusammensetzung (V75Mei5Xio)αNß hat, und Me bevorzugt Mo ist, und / oder X bevorzugt S ist.

13. Schichtsystem nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei die Oberflächenschicht die Zusammensetzung (V75Mei5Xio)α(NuCvOw)ß hat, mit u = 25, v = 70, w = 5, und Me bevorzugt Mo ist, und / oder X bevorzugt zu gleichen Teilen Si und B ist.

14. Schichtsystem nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei die

Oberflächenschicht die Zusammensetzung (V75Mei5M10)α(NuCvOw)ß hat, mit u = 25, v = 70, w = 5, und Me bevorzugt Mo ist, und / oder M bevorzugt Cr ist. . α ist 52 at%.

15. Schichtsystem nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei die

Oberflächenschicht die Zusammensetzung (V96Zr4)α(NuCvOw)ß hat, mit u = 0, v = 100, w = 0, und α gleich 40 at%.

16. Schichtsystem nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei 40 < oc < 60, im Speziellen 45 < α < 55, und bevorzugt α « 50 ist.

17. Schichtsystem nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei zwischen der Oberflächenschicht und dem Substrat eine weitere Teilschicht vorgesehen ist, die insbesondere eine unmittelbar auf der Oberfläche des Substrats aufgebrachte Haftschicht ist.

18. Schichtsystem nach Anspruch 17, wobei die Teilschicht eine Haftschicht der Zusammensetzung V97Zr3 ist.

19. Schichtsystem nach Anspruch 17 oder 18, wobei die Teilschicht eine Haftschicht der Zusammensetzung V8oZr2o ist.

20. Schichtsystem nach Anspruch 17 bis 19, wobei die Teilschicht die Zusammensetzung (AI55Ti45)γNδ ist, mit γ+δ =100 at% und 40 < γ < 60, und bevorzugt γ « 50 hat, und insbesondere eine Haftschicht, im Speziellen eine unmittelbar auf dem Substrat aufgebrachte Haftschicht ist.

21 . Schichtsystem nach einem der Ansprüche 17 bis 20, wobei die Teilschicht die Zusammensetzung (AI69Cr29Mg1SiI)1N5 ist, mit γ+δ =100 at% und 40< γ < 60, und bevorzugt γ « 50 hat, und insbesondere eine Haftschicht, im Speziellen eine unmittelbar auf dem Substrat aufgebrachte Haftschicht ist.

22. Schichtsystem nach einem der Ansprüche 17 bis 21 , wobei die Teilschicht die Zusammensetzung (Al6oCr3oMg5Si5)γNδ ist, mit γ+δ =100 at% und

40 < γ < 60, und bevorzugt γ « 50 hat, und insbesondere eine Haftschicht, im Speziellen eine unmittelbar auf dem Substrat aufgebrachte Haftschicht ist.

23. Schichtsystem nach einem der Ansprüche 17 bis 22, wobei die Teilschicht die Zusammensetzung (Cr9I Ni3AI3SiS)1N5 ist, mit γ+δ =100 at% und

40 < γ < 60, und bevorzugt γ « 50 hat, und insbesondere eine Haftschicht, im Speziellen eine unmittelbar auf dem Substrat aufgebrachte Haftschicht ist.

24. Schichtsystem nach einem der Ansprüche 17 bis 23, wobei die Teilschicht eine TiN Teilschicht ist, insbesondere eine Haftschicht, im Speziellen eine unmittelbar auf dem Substrat aufgebrachte Haftschicht ist.

25. Schichtsystem nach einem der Ansprüche 17 bis 24, wobei die Teilschicht eine Cr Teilschicht ist, insbesondere eine Haftschicht, im Speziellen eine unmittelbar auf dem Substrat aufgebrachte Haftschicht ist.

26. Schichtsystem nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei die Härte des Schichtsystems und / oder der Teilschicht und /oder die Oberflächenschicht eine Härte HK 0,025 zwischen 1500 und 3500 hat, im Speziellen eine Härte HK 0,025 zwischen 1900 und 3100 hat, insbesondere eine Härte HK 0,025 zwischen 2100 und 2900 hat.

27. Schichtsystem nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei eine Dicke des Schichtsystems und / oder der Teilschicht und /oder der Oberflächenschicht zwischen 0,01 μm und 100 μm liegt, im Speziellen zwischen 0,1 μm und 8 μm liegt, und bevorzugt zwischen 0,2 μm und

7,5 μm liegt.

28. Schichtsystem nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei die Oberflächenschicht eine Oberflächenrauhigkeit Rz zwischen 0,2 μm und 10 μm, insbesondere zwischen 0,5 μm und 5 μm, bevorzugt zwischen 0,5 μm und 1 ,5 μm aufweist.

29. Schichtsystem nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei eine Haftfestigkeit des Schichtsystems und / oder der Teilschicht und /oder der Oberflächenschicht von HF 1 bis HF 3 liegt, im speziellen HF2 und bevorzugt HF1 ist.

30. Beschichtungsverfahren zur Herstellung eines Schichtsystems (1 ) nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei das Beschichtungsverfahren ein PVD-Verfahren, bevorzugt ein Lichtbogenbeschichtungsverfahren, wie ein ARC-Verfahren, ein Sputterverfahren oder ein Kombinationsverfahren aus Lichtbogenbeschichtungsverfahren und Sputterverfahren ist.

Description:
SCHICHTSYSTEM SOWIE BESCHICHTUNGSVERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES SCHICHTSYSTEMS

Die Erfindung betrifft ein Schichtsystem zur Bildung einer Oberfläche auf einem Substrat, insbesondere auf einer Oberfläche eines Werkzeug, im Speziellen eines Werkzeugs für die Umformung, sowie ein Verfahren für die Herstellung eines Schichtsystems gemäss dem Oberbegriff des unabhängigen Anspruchs der jeweiligen Kategorie. Die Herstellung leistungsfähiger Werkzeuge und Bauteile wird meistens durch eine Beschichtung von deren Oberflächen realisiert. Eine wichtige Klasse solcher beschichteten Substrate sind Werkzeuge, neben anderen insbesondere Werkzeuge für die Umformung, aber auch zerspanende Werkzeuge sowie Bauteile, vor allem Verschleissteile für Maschinen in allen möglichen Ausführungsformen. Typische Substratmaterialien, die beschichtet werden, sind unter anderem Werkzeugstähle und Hartmetalle, aber auch alle möglichen anderen Substratmaterialien.

Ein bekanntes Problem beim Beschichten dieser Werkstoffe ist dabei, dass beide eine hohe Oxidationsrate an Luft bereits um 500 0 C aufweisen und bereits bei relativ niedrigen Temperaturen (ca. HSS 550 0 C, Hartmetall 650°C) erweichen. Beim Umformen jedoch kommt störend hinzu, dass neben Abrasionsverschleiß auch Aufschmierungen des zu verarbeitenden Materials sich störend auswirken. Aus diesem Grunde werden die Werkzeugoberflächen mit geeigneten Schutzschichten versehen, die sowohl die Abrasionsvorgänge als auch die Aufschmierungen deutlich senken können. Die aus dem Stand der Technik bekannten Hartstoffschichten basieren dabei häufig auf klassischen Verbindungen wie TiN, TiNC, CrN abgeschiedren mittels PVD-Verfahren oder CVD-Verfahren. Derartige Schichten können für hoch belastete Werkzeuge nur bedingt eingesetzt werden. Diese bekannten Hartschichten haben in Bezug auf ihren Einsatzbereich aufgrund ihrer speziellen physikalischen Eigenschaften daher ihre Grenzen, vor allem bezüglich der Temperaturbelastbarkeit. Einerseits sinkt nämlich die Härte bei erhöhten Temperaturen merklich ab, andererseits setzt bereits bei relativ niedrigen Temperaturen eine Oxidation ein, die zu erhöhtem Schichtverschleiß bei der Einsatztemperatur führen kann. Um diese Probleme zu umgehen wurden im wesentlichen zwei

Schichtklassen entwickelt, die eine Oxidationsbeständigkeit im Bereich bis zu 1000 0 C aufweisen und auch bezüglich der Härte verbesserte Eigenschaften haben.

Die eine Schichtklasse betrifft Al-haltige Basisschichten wie AITiN und AICrN, wobei, je nach Anforderung zusätzliche Elemente hinzulegiert werden können. Typische Verbindungen aus diesem Bereich sind Verbindungen der Form AITiXNCO, wobei X z.B. Cr oder ein anderes Metall ist. Derartige Schichten weisen sowohl bei der Zerspanung als auch bei der Umformung eine Leistungssteigerung gegenüber abrasivem Verschleiß auf. Die ist aus der positiven Veränderung sowohl der Härtesteigerung bei der Einsatztemperatur, als auch der der Erhöhung der Oxidationsbeständikeit abzuleiten.

Ein anderer im Stand der Technik beschrittener Weg zur Leistungssteigerung beschichteter Werkzeuge(vorrangig von zerspanenden Werkzeugen) besteht in der Kombination von klassischen Hartstoffschichten als Trägerschicht kombiniert mit Finish-Schichten als Funktionsschicht. Insbesondere sind hier als Finish-Schichten die Si-haltigen Schichten (ca. 1 - 20at%; at% bedeutet dabei im Rahmen dieser Anmeldung „Atomprozent") des Typs MeSiXNCO- Schicht (X weitere Metalle oder B) wie TiSiN zu nennen, die eine weitere deutlich verbesserte Temperaturbelastung ermöglichen. Diese Schichten werden meist bei der Trockenzerspanung von gehärteten Stählen eingesetzt. Leistungspotentiale sind bei diesen Schichten sicher auch beim Stanzen zu erwarten.

Die im nachfolgenden Abschnitt genannten Hartschichtsysteme sind Systeme, die speziell für spannende Werkzeuge appliziert werden. Es ist weiterhin beispielsweise bekannt, oxidische Keramikschichen wie AI 2 O 3 mittels CVD-Verfahren auf Wendeschneidplatten abzuscheiden, um den Verschleißprozessen bei erhöhten Kontakttemperaturen, insbesondere beim Drehen begegnen zu können.

Im Stadium der Erforschungen sind darüber hinaus Bor-basierte Schichten, wie zum Beispiel B 4 C oder auch kubische BN Schichten. Allerdings hat kubisches BN den entscheidenden Nachteil, dass es äußert kompliziert darstellbar ist. Dies ist vor allem durch Schwierigkeiten beim Schichtwachstum selbst, aber auch durch die hohen Eigenspannungen in den Schichten bedingt. Allen bisherigen Bemühungen zum Trotz ist es aber nur teilweise gelungen, PVD oder CVD-Beschichtungen zur Verfügung zu stellen, die den immer höheren Anforderungen an die mechanischen Eigenschaften, wie zum Beispiel Härte, Druckeigenspannungen und Zähigkeit, tribologische Eigenschaften wie Adhäsionsneigung bei höheren Temperaturen sowie Reibung, die Oxidationsresistenz, Phasenstabilität und anderen charakteristischen Eigenschaften, vor allem auch bei hohen Flächenpressungen, die in der Umformung auftreten, gerecht zu werden.

Eine bekannte Lösung ausgewählte hochbelastete Umformwerkzeuge erfolgreich zu behandeln, ist das TD-Verfahren (Toyota-Diffusionsverfahren). Das Salzbadverfahren wird dabei im Temperaturbereich von ca. 870 0 C bis ca. 1030 0 C zur Erzeugung einer Diffusionsschicht auf der der Basis von VC ausgeführt. Dieses Verfahren läuft also bei einer Behandlungstemperatur ab, die oberhalb der typischen Anlaßtemperatur von Werkzeugstählen liegt (meist zwischen 500 und 550 0 C). Auf die bekannten Nachteile der Salzbadverfahren, wie z.B. den notwendigen Spülprozess nach der Behandlung, soll nicht weiter eingegangen werden. Weiterhin ist bekannt mittels der PVD-Verfahren VCN-Schichten abzuscheiden. Die Patentanmeldung JP2005046975 A beschreibt eine Schicht für Werkzeuge, die aus einer Unterschicht bestehend aus VNC, die direkt auf ein Schneidwerkzeug aufgebracht wird. Anschließend wird eine weitere Verschleißschutzschicht abgeschieden.

In Surface Science 601 (2007) 1153-1159, A. Glaser et.al Oxidation of vanadium nitride and titanium nitride coatings , wird das Oxidationsverhalten von VN und TiN untersucht, dabei wird festgestellt, dass VN bereits bei relativ niedrigen Temperaturen eine geschlossene homogene Oxidschicht ausbildet.

Die Oxidschicht ist entsprechend der tribologischen Erfahrung in der Lage Adäsionsvorgänge (Aufschmierungen) zwischen Werkstückmaterial (z.B. Stahlblech) und beschichtetem Werkzeug zu unterbinden oder zumindest zu reduzieren.

Die Aufgabe der Erfindung ist es daher, eine verbesserte Beschichtung für ein Substrat, insbesondere für ein Werkzeug, insbesondere Umformwerkzeug, oder ein Verschleissteil bereitzustellen, die die aus dem Stand der Technik bekannten Probleme überwindet, und insbesondere ein sich tribologisch positiv auswirkendes Oxidationsverhalten und Phasenstabilität, verbesserte mechanische Eigenschaften, vor allem, aber nicht nur, in Bezug auf die Härte und Druckeigenspannungen aufweist und bei Temperaturen abscheidbar ist, die die Anlaßtemperatur der eingesetzten Stähle nicht überschreitet. Eine weitere Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren zur Herstellung einer solchen verbesserten Beschichtung bereitzustellen.

Die diese Aufgaben lösenden Gegenstände der Erfindung sind durch die Merkmale der jeweiligen unabhängigen Ansprüche gekennzeichnet.

Die abhängigen Ansprüche beziehen sich auf besonders vorteilhafte Ausführungsformen der Erfindung.

Die Erfindung betrifft somit ein Schichtsystem zur Bildung einer Oberflächenschicht auf einer Oberfläche eines Substrats, insbesondere auf der Oberfläche eines Werkzeugs, insbesondere auf der Oberfläche eines Umformwerkzeugs, wobei das Schichtsystem mindestens eine erste Oberflächenschicht der Zusammensetzung (VaMe b M c Xd) α (N u CvOw)ß umfasst, mit (a+b+c+d) = α, α = 100%, bezogen auf die in der Schicht vorhandenen Atome V a ,Me b ,M c ,X d , (u+v+w) = ß, ß= 100% bezogen auf die in der Schicht vorhandenen Atome N 1 C 1 O mit der Summe aller Atome in der Schicht (oc+ß) =100 at%, wobei 40 <α < 80 at% gilt, und wobei Me b mindestens ein Element aus der Gruppe der chemischen Elemente bestehend aus Zr, Hf, Nb, Ta, Mo, W, Ni, Cu, Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm des Periodensystems der chemischen Elemente ist und M c mindestens ein Element aus der Gruppe der chemischen Elemente bestehend aus Ti, Cr ist, und Xd mindestens ein Element aus der Gruppe der chemischen Elemente bestehend aus S, Se, Si, B des Periodensystems der Elemente ist, wobei 0 < u < 100 ist, 0 < v < 100 und 0 < w < 80 ist. Erfindungsgemäss ist 50 < a < 99 ist, 1 < b < 50, 0 < c < 50 und 0 < d < 20.

Bei einem bevorzugten Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemässen Schichtsystems gilt für den Index α der in der Schicht vorhandenen Atome Va,Me b ,Mc,Xd 40 < α < 80, insbesondere 45 < α < 55.

Betrachtet man weitere spezielle Ausführungsbeispiele der Erfindung, so kann 80 < a gelten, und / oder c = 0 und d = 0 und v = 0 und w = 0 sein, wobei Mβb bevorzugt, aber nicht notwendig das Element Zr ist.

In einem anderen Ausführungsbeispiel kann der Anteil an Vanadium durch a = 80, oder a = 84, oder a = 88 oder beispielweise durch a = 97 gegeben sein.

Insbesondere kann die die Oberflächenschicht die Zusammensetzung (V 95 Me 5 )C 1 (NuCvOw)P haben, mit u = 30, v = 65, w = 5, und wobei Me bevorzugt Ni ist und bevorzugt α =55 at% ist.

In einem weiteren Ausführungsbeispiel kann die Oberflächenschicht die Zusammensetzung (V 96 Me 4 ) α (N u CvOw)ß haben, mit u = 65, v = 25, w = 10, und wobei Me bevorzugt Ce ist und wobei bevorzugt α =50 at% ist. Bei einem dritten Ausführungsbeispiel hat die Oberflächenschicht zum Beispiel die Zusammensetzung (V 75 Mei 5 Xio) α Nß, wobei Me bevorzugt Mo ist, und / oder X bevorzugt S ist und bevorzugt α= 52 at% ist.

Bei einem vierten Ausführungsbeispiel kann die Oberflächenschicht die Zusammensetzung (V 75 Mei5Xio)α(N u CvO w )ß haben, mit u = 25, v = 70, w = 5, wobei Me bevorzugt Mo ist, und / oder X bevorzugt zu gleichen Teilen Si und B ist.

Ein anderes Ausführungsbeispiel der Erfindung betrifft ein Schichtsystem bei welchem die Oberflächenschicht die Zusammensetzung (V 7 5Mei5Mio)α(N u C v Ow)ß hat, mit u = 25, v = 70, w = 5, und Me bevorzugt Mo ist, und / oder M bevorzugt Cr ist, und α bevorzugt 52 at% ist.

Erfindungsgemäss kann die Oberflächenschicht auch die Zusammensetzung (V96Zr 4 ) α (N u C v Ow)ß haben, mit u = 0, v = 100, w = 0, wobei α bevorzugt 40 at% ist.

Erfindungsgemäss kann die Oberflächenschicht auch die Zusammensetzung (V98Zr2)α(N u C v Ow)ß haben, mit u = 100, v = 0, w = 0, wobei α bevorzugt 50 at% ist.

Besonders vorteilhaft gilt für den Parameter α die Relation 40 < α < 60, im Speziellen 45 < α < 55, und bevorzugt α « 50.

Dabei betrifft die Erfindung auch Schichtsysteme, bei welchen zwischen der Oberflächenschicht und dem Substrat eine weitere Teilschicht vorgesehen ist, die insbesondere eine unmittelbar auf der Oberfläche des Substrats aufgebrachte Haftschicht ist.

Die Teilschicht ist in einem speziellen Ausführungsbeispiel eine Haftschicht der Zusammensetzung V 97 Zr 3 , und / oder eine Haftschicht der Zusammensetzung V 8 oZr 2 o. In einem anderen Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung hat die Teilschicht die Zusammensetzung (AI 55 Ti 45 ) γ N δ , mit γ+δ =100 at% und 40 < γ < 60, wobei bevorzugt γ « 50 ist, und die Teilschicht insbesondere eine Haftschicht, im Speziellen eine unmittelbar auf dem Substrat aufgebrachte Haftschicht ist.

Ein weiteres Ausführungsbeispiel betrifft eine Teilschicht der Zusammensetzung (Al 69 Cr 29 MgiSii) γ N δ , mit γ+δ =100 at% und 40< γ < 60, und bevorzugt γ « 50, wobei die Teilschicht insbesondere eine Haftschicht, im Speziellen eine unmittelbar auf dem Substrat aufgebrachte Haftschicht ist.

Vorteilhaft kann die Teilschicht auch die Zusammensetzung

(AI 6 oCr 3 oMg 5 Si 5 ) γ N δ haben, mit γ+δ =100 at% und 40 < γ < 60, und bevorzugt γ « 50, wobei die Teilschicht insbesondere eine Haftschicht, im Speziellen eine unmittelbar auf dem Substrat aufgebrachte Haftschicht ist.

In einem anderen Fall hat die Teilschicht die Zusammensetzung (Cr 9 i Ni 3 AI 3 Si3)γN δ , mit γ+δ =100 at% und 40 < γ < 60, und bevorzugt γ * 50, wobei die Teischicht insbesondere eine Haftschicht, im Speziellen eine unmittelbar auf dem Substrat aufgebrachte Haftschicht ist.

Dabei deckt die Erfindung auch weitere Teilschichten mit anderen chemischen Zusammensetzungen ab. So kann die Teilschicht auch eine TiN und / oder eine Cr Teilschicht, insbesondere eine Haftschicht, im Speziellen eine unmittelbar auf dem Substrat aufgebrachte Haftschicht sein.

Zur Optimierung der Eigenschaften der Gesamtschicht, können die Teilschichten aus dem Fachmann bekannten Gradientenschichten, z.B. TiCrN mit zunehmenden Cr Gehalt startend von der Substratoberfläche, oder mehrlagigen Schichten, z.B Cr/CrN als Schichtfolge in der Teilschicht, bestehen.

Ein Schichtsystem und / oder eine Teilschicht und /oder eine Oberflächenschicht der vorliegenden Erfindung kann eine Härte von zum Beispiel HK 0,025 zwischen 1500 und 3500 haben, im Speziellen eine Härte HK 0,025 zwischen 1900 und 3100, insbesondere eine Härte HK 0,025 zwischen 2100 und 2900 haben.

Eine Dicke des Schichtsystems und / oder der Teilschicht und /oder der Oberflächenschicht kann vorteilhaft zwischen 0,01 μm und 100 μm liegen, im Speziellen zwischen 0,1 μm und 8 μm, und liegt bevorzugt zwischen 0,2 μm und 7,5 μm, wobei das Schichtsystem eine Oberflächenrauhigkeit R z zwischen 0,2 μm und 10 μm, insbesondere zwischen 0,5 μm und 5 μm, bevorzugt zwischen 0,5 μm und 1 ,5 μm aufweist, und / oder eine Haftfestigkeit des Schichtsystems und / oder der Teilschicht und /oder der Oberflächenschicht im Bereich von HF 1 bis HF 3 liegt, im speziellen HF2 und bevorzugt HF1 ist.

Die Erfindung betrifft des weiteren ein Beschichtungsverfahren zur Herstellung eines Schichtsystems der vorliegenden Erfindung, wobei das Beschichtungsverfahren ein PVD-Verfahren, bevorzugt ein Lichtbogenbeschichtungsverfahren, wie ein ARC-Verfahren, ein Sputterverfahren oder ein Kombinationsverfahren aus Lichtbogenbeschichtungsverfahren und Sputterverfahren ist.

Zum besseren Verständnis der Erfindung zeigt Tabelle 1 mittels der Lichtbogenverdampfung abgeschiedene Vergleichsbeispiele VN (Beispiel A), VNC (Beispiel B) und die erfindungsgemäßen Beispiele. Ziel der Erfindung war es die Härte und somit die Abrasionsbeständigkeit reiner PVD Schichten auf der Basis VN, VNC ohne Reduzierung der Haftung auf den zu beschichtenden Teilen zu verbessern. Das teilweise Substituieren von V- Atomen durch Zr ödere andere Metalle erhöhte die Härte um ca. 10 %, hier näher betrachtet bei der Zr-Substitution im Falle einer nitridischen Schicht Beispiele 1 sowie Beispiel 2 zu Vergleichsbeispiel A.

Die folgende Tabelle zeigt einige ausgewählte Ausführungsbeispiele erfindungsgemässer Oberflächenschichten.

Tabelle 1 : Eine Auswahl erfindungsgemässer Schichtsysteme mit wichtigen Schichtparametern, Härtemessung Knoophärte HKO.025, Haftungstest HRC 150 kp (VDI 3824) auf HSS der Härte 66 HRC. Anwendungsbereiche für Schichtsysteme der vorliegenden Erfindung sind insbesondere Umformwerkzeuge, insbesondere für die Halb- und Warmumformung, Giesswerkzeuge, insbesondere für Aluminiumdruckguss, Zerspanungswerkzeuge, insbesondere bei rostfreien Stählen, aber auch Werkzeuge für die Kunststoffverarbeitung, sowie Motorenelemente, insbesondere Kolbenringe, bzw. Turbinenelemente und Pumpenelemente, insbesondere bewegliche Teile.

Im Folgenden wird ein besonders bevorzugtes Verfahren zur Herstellung eines erfindungsgemässen Schichtsystems für ein Umformwerkzeug angegeben:

Beispiel: Werkzeugtest Umform Werkzeug Werkzeugstahl: DIN 1 .2379 1 . Werkzeug wurde plasmanitriert Nitrierhärtetiefe ca. 100 μm

2. Politur des Werkzeuges

3. Heizen/Ionenreinigung

Heizen auf 400 0 C 10 min AEGD lonenreinigung mit Ar, 200 V

3 min Metallionenbombardement mit VZr 1000 V

4. Beschichtung mit 200 V - 200 nm VZr Schicht - 7,1 μm VZrN-Schicht, Reaktivgas Stickstoff 5 Pa

5. Ergebnis HF-Klasse 1

6. Politur der Schicht auf R z 0.9 um Anwendungsbeispiel

Umzuformendes Material: hochfester Stahl (JIS: SAPH400)

Materialdicke: 2-3 mm Presskraft: 3000 1

Ergebnis des Standzeittestes:

PVD Beschichtung (CrN): 1000 Hübe CVD-Beschichtung (TiC) : 4000 Hübe VZrN-Beschichtung entsprechend Beispiel 1 : 7 200 Hübe (Untersuchungsstatus - kein Standzeitende)

In der Zeichnung sind weitere bevorzugte Ausführungsbeispiele der Erfindung angegeben. Es zeigen:

Fig. 1 a - 1 c: ein Schliff mittels einer Kalotte an einer Oberfläche eines erfindungsgemässen Beschichtungssystems.

Fig. 2 - 4: Ausführungsbeispiele von Zweischichtsystemen;

Fig. 5: Ausführungsbeispiele mit mehr als zwei Schichten

In Fig. 1 , die Teilfiguren 1 a - 1 c umfasst, ist eine Aufnahme der Oberfläche eines beschichteten Substrats 100 zu sehen, das mittels einer Kalotte in an sich bekannter Weise poliert wurde. Fig. 1 a zeigt den Schliff in 50 facher Vergrösserung, Fig. 1 b und 1c je einen Oberflächenbereich in 500 facher Vergrösserung.

In Fig. 1 a ist der mittlere kreisförmige Bereich 2 ein frei polierter Oberflächenbereich des Substrats 100, der keine Beschichtung mehr aufweist. Der Kreisring 3 ist ein polierter Bereich 1 ,10 der erfindungsgemässen Oberflächenbeschichtung 1. Der äussere Bereich 1 , 11 ist ein unpolierter Oberflächenbereich. Wesentliche physikalische Parameter der Oberflächenbereiche sind in der Zeichnung angegeben. Die Haftfestigkeit der Schicht ist HF 1. Die Fig. 2 bis 5 zeigen Ausführungsbeispiele mit zwei und mehr Teilschichten 4, die stöchiomethsch und nicht stöchiomethsch sein können. Die jeweiligen chemischen Zusammensetzungen der Schichtsysteme bzw. Teilschichten sind angegeben.

Fig. 4 zeigt ein erfindungsgemässes Testbeispiel mit der angegeben Kathodenzusammensetzung V97at%Zr3at%.

Fig. 5 zeigt ein Schichtsystem, das typischerweise für Umformwerkzeuge einsetzbar ist mit verschiedenen möglichen Unterschichten, deren mögliche Zusammensetzungen in Fig. 5 angegeben sind. Dabei sind die Zusammensetzungen verschiedener möglicher Unterschichten 4 schematisch eingezeichnet. Die durch Umrandung gekennzeichneten AI-Schichten zeigen dabei insbesondere gute thermische Isolationseigenschaften aufgrund schlechter thermischer Leitfähigkeit.