本発明の透明導電膜形成用組成物におい� ��は、バインダー成分中に0.1~30質量%の水酸化 錫粉体と70~99.9質量%のその他の導電性粉体と� ��らなる導電性粉体及び高屈折率粉体が分散� ��ており、該水酸化錫粉体として水酸化錫自� ��の粉体又はドーパントとしてP、Al、In、Zn及 びSbの少なくとも一種を含む水酸化錫粉体を� ��いることができる。これらの水酸化錫粉体� ��一種のみを用いても、二種以上を併用して� ��よい。

 本発明で用い得る水酸化錫粉体は市販品� ��あっても、或いは公知の方法(例えば、錫の 塩化物が溶解した酸性溶液をアルカリで中和 して水酸化物を共沈させ、この共沈物を乾燥 させる)で製造したものであっても良い。

 本発明で用い得る、ドーパントとしてP、 Al、In、Zn及びSbの少なくとも一種を含む水酸� ��錫粉体は市販品として入手することができ� ��また、公知の方法(例えば、リンと錫の各塩 化物が溶解した酸性溶液をアルカリで中和し てリン/錫の水酸化物を共沈させ、この共沈� �を乾燥させる)で製造することもできる。ド� ��パントとしてP、Al、In、Zn及びSbの少なくと� ��一種を含む水酸化錫粉体において、(ドーパ ント+Sn)に対するドーパントの量が0.1~20at%の� �囲内であることが好ましく、1~15at%の範囲内� ��あることがより好ましい。ドーパント含有� ��が0.1at%未満の場合にはドーパント含有の効� ��が不十分であり、ドーパント含有量が20at%� �超える場合にはドーパント含有水酸化錫粒� �自体の抵抗が高くなるため、形成された膜� �導電性が低下する傾向がある。

 本発明においては、水酸化錫粉体は、そ� ��他の導電性粉体及び高屈折率粉体との相互� ��用により、形成される膜の導電性を低下さ� ��ることなしで膜強度を高め、耐擦傷性を向� ��させる。本発明においては、導電性粉体に� ��める水酸化錫粉体の割合は0.1~30質量%の範囲 であることが好ましく、1~20質量%の範囲であ� ��ことがより好ましい。導電性粉体に占める� ��酸化錫粉体の割合が0.1質量%未満である場合 には形成される膜について優れた耐擦傷性が 得られず、また水酸化錫粉体の割合が30質量% を超える場合には形成される膜の透過率は向 上するが水酸化錫の量が多くなりすぎるため 耐擦傷性が低下する。

 また、本発明においては、その他の(水酸 化錫粉体以外の)導電性粉体としては、酸化� �鉛、酸化錫、ATO、ITO、酸化インジウム、酸� �亜鉛アルミニウム、五酸化アンチモン、ア� �チモン酸亜鉛等の導電性粉体を用いること� �できる。その他の導電性粉体は一種のみを� �いても、二種以上を併用してもよい。

 本発明で用いる高屈折率粉体は、形成さ� ��る透明導電膜の屈折率を制御するために添� ��するものであり、屈折率が1.8~3.0の高屈折率 粉体を用いることが好ましい。なお、粉体の 屈折率は粉体に固有の値であり、種々の文献 に記載されている。屈折率が1.8未満の粉体を 用いた場合には高屈折率の膜が得られず、逆 に屈折率が3.0を超える粉体を用いた場合には 膜の透明性が低下する傾向がある。本発明で 用いる高屈折率粉体の種類は目的を達成でき るものであれば特には限定されず、市販品等 の公知のものを用いることができる。例えば 、酸化ジルコニウム(屈折率n=2.4)、酸化チタ� �(n=2.76)、酸化セリウム(n=2.2)などの金属酸化� �を挙げることができる。

 本発明で用い得る水酸化錫粉体、ドーパン� ��としてP、Al、In、Zn及びSbの少なくとも1種を 含む水酸化錫粉体、その他の導電性粉体及び 高屈折率粉体の平均一次粒子径が0.2μm以下で ある場合には透明膜が形成されるが、平均一 次粒子径が0.2μmを超えると形成される膜の透 明性が低下する傾向があるので、それらの粉 体は平均一次粒子径が0.2μm以下の超微粒子で あることが好ましい。しかし、形成される透 明膜の透明性が重要でない用途に対しては、 0.2μmより大粒径のそれらの粉体も使用できる 。また導電性粉体の圧粉体抵抗は1×10 ⁹ ω・cm以下であることが好ましい。

 本発明の透明導電膜形成用組成物におい� ��は、用いる導電性粉体と高屈折率粉体との� ��量比(導電性粉体/高屈折率粉体)は、好まし� ��は30/70~90/10の範囲内、より好ましくは35/65~85 /15の範囲内である。導電性粉体の量が上記質 量比で30/70よりも少ないと、形成される膜の� ��折率は高くなるが、導電性が悪くなる傾向� ��ある。逆に、導電性粉体が上記質量比で90/1 0よりも多いと、形成される膜の導電性はよ� �なるが、屈折率が低くなる傾向がある。

 本発明の透明導電膜形成用組成物におい� ��は、(導電性粉体+高屈折率粉体)とバインダ� ��成分との質量比〔(導電性粉体+高屈折率粉� �)/バインダー成分〕は、好ましくは5/95~95/5の 範囲内、より好ましくは20/80~90/10の範囲内、� ��も好ましくは30/70~85/15の範囲内である。導� �性粉体と高屈折率粉体との合計量が上記質� �比で5/95より少ないと、形成される膜の透明� ��は十分であっても、導電性が悪くなる傾向� ��ある。逆に、導電性粉体と高屈折率粉体と� ��合計量が上記質量比で95/5より多いと、粉体 の分散性が悪くなり、得られた導電膜の透明 性、基板への密着性が低くなり、膜性能が低 下する傾向がある。

 本発明の透明導電膜形成用組成物におい� ��は、使用する溶媒に溶解でき、導電性粉体� ��び高屈折率粉体を分散させることができ、� ��電性粉体及び高屈折率粉体を結合して透明� ��電膜を形成し得るバインダー成分であれば� ��一般的に塗料で用いられている任意のバイ� ��ダー成分を特に制限なく用いることができ� ��。本発明においては、活性エネルギー線硬� ��性バインダー成分であることが好ましい。

 バインダー成分として、例えば、アルキ� ��樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエス� ��ル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂� ��エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ビニル樹� ��、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、フタル酸� ��脂、アミノ樹脂、ポリアミド樹脂、ポリア� ��リルシリコーン樹脂、メラミン樹脂、尿素� ��脂、もしくはこれらを変性したバインダー� ��脂等を1種単独でもしくは2種類以上併用す� �ことができる。

 さらに上記バインダー成分中には必要に� ��じて架橋剤を含有させても良く、例えば、� ��ミノ基等の塩基性官能基、OH基等の中性官� �基、カルボキシル基等の酸性官能基、イソ� �アネート基等の反応性官能基を1分子中に2つ 以上有する任意の架橋剤を用いることができ る。

 また、上記バインダー成分はラジカル重� ��性モノマーであってもよく、ラジカル重合� ��の不飽和基(α,β-エチレン性不飽和基)を有� �ているモノマーであれば、アミノ基等の塩� �性官能基を有するもの、OH基等の中性官能基 を有するもの、カルボキシル基等の酸性官能 基を有するもの、或いはこのような官能基を 有していないもの、のいずれでもよい。

 本発明の透明導電膜形成用組成物で用い� ��る活性エネルギー線硬化性バインダー成分� ��して、例えば、アクリレート又はメタクリ� ��ート化合物を挙げることができる。以下の� ��載においては、このアクリレート化合物と� ��タクリレート化合物とを総称して(メタ)ア� �リレート化合物と記載する。

 本発明の透明導電膜形成用組成物で用い� ��活性エネルギー線硬化性バインダー成分と� ��て、上記の(メタ)アクリレート化合物の他� �、ラジカル重合性モノマー及び/又はオリゴ� ��ーを挙げることができる。ラジカル重合性� ��ノマーは、ラジカル重合性の不飽和基(α,β- エチレン性不飽和基)を有しているモノマー� �あれば、アミノ基等の塩基性官能基を有す� �もの、OH基などの中性官能基を有するもの、 カルボキシル基等の酸性官能基を有するもの 、或いはこのような官能基を有していないも の、の何れでもよい。

 ラジカル重合性モノマーの具体例として� ��スチレン、ビニルトルエン、酢酸ビニル、N -ビニルピロリドン、アクリロニトリル、ア� �ルアルコール等の(メタ)アクリレート以外の ラジカル重合性モノマー;メチル(メタ)アクリ レート、エチル(メタ)アクリレート、イソプ� ��ピル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル (メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレ� �ト、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、テ トラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、N -ビニルピロリドン、2-ヒドロキシエチル(メ� �)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ) アクリレート、ポリエチレングリコールモノ (メタ)アクリレート、メトキシポリエチレン� ��リコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプ� �ピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、 ポリエチレングリコールポリプロピレングリ コールモノ(メタ)アクリレート、ポリエチレ� ��グリコールポリテトラメチレングリコール� ��ノ(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)ア クリレート等の単官能(メタ)アクリレート;エ チレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジ� ��チレングリコールジ(メタ)アクリレート、� �リエチレングリコールジ(メタ)アクリレート 、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリ� ��ート、ポリエチレングリコールジ(メタ)ア� �リレート、ポリプロピレングリコールジ(メ� ��)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ (メタ)アクリレート、アリルジ(メタ)アクリ� �ート、ビスフェノールAジ(メタ)アクリレー� �、エチレンオキサイド変性ビスフェノールA� ��(メタ)アクリレート、ポリエチレンオキサ� �ド変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレー� �、エチレンオキサイド変性ビスフェノールS� ��(メタ)アクリレート、ビスフェノールSジ(メ タ)アクリレート、1,4-ブタンジオールジ(メタ )アクリレート、1,3-ブチレングリコールジ(メ タ)アクリレート等の二官能(メタ)アクリレー ト;トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリ レート、グリセロールトリ(メタ)アクリレー� ��、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリ� �ート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)ア クリレート、エチレン変性トリメチロールプ ロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエ� ��スリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の� �官能以上の(メタ)アクリレートを挙げること ができる。

 ラジカル重合性オリゴマーの具体例とし� ��、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリ� �レタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)� ��クリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレ� �ト、オリゴ(メタ)アクリレート、アルキド(� �タ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリ� �ート、シリコーン(メタ)アクリレートなどの (メタ)アクリロイル基を少なくとも1個有する プレポリマーを挙げることができる。特に好 ましいラジカル重合性オリゴマーは、ポリエ ステル、エポキシ、ポリウレタンの各(メタ)� ��クリレートである。

 本発明の透明導電膜形成用組成物を有用� ��活性エネルギー線硬化型とするために、組� ��物中に重合開始剤(光増感剤)を添加するこ� �が望ましい。その添加により、少量の活性� �ネルギー線の照射で組成物を硬化させるこ� �ができる。但し、本発明の透明導電膜形成� �組成物は熱硬化させることもできるので、� �硬化型として使用する場合には、光増感剤� �変えて適当なラジカル重合開始剤(例えば、� ��ゾビスイソブチロニトリル)を配合してもよ い。

 活性エネルギー線硬化型とするために用い� ��重合開始剤として、例えば、1-ヒドロキシ� �クロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェ� �ン、ベンジルジメチルケトン、ベンゾイン� �チルエーテル、ベンゾインエチルエーテル� �p-クロロベンゾフェノン、4-ベンゾイル-4-メ� ��ルジフェニルサルファイド、2-ベンジル-2-� �メチルアミノ-1-
(4-モルホリノフェニル)-ブタノン-1、2-メチル -1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルホリノプロ パノン-1を挙げることができる。重合開始剤� ��1種単独で用いても2種以上を併用してもよ� �。重合開始剤の配合量はバインダー成分100� �量部に対して、好ましくは0.1~20質量部、よ� �好ましくは1~15質量部の範囲内である。

 さらに、本発明の透明導電膜形成用組成� ��には、その目的を損なわない範囲内で、上� ��以外の慣用の各種添加剤を配合してもよい� ��このような添加剤として、重合禁止剤、硬� ��触媒、酸化防止剤、レベリング剤等を挙げ� ��ことができる。

 本発明の透明導電膜形成用組成物におい� ��は、上記バインダー成分を溶解又は分散さ� ��ることができ且つ導電性粉体及び高屈折率� ��体を分散させることができるが基材を侵さ� ��い溶剤であれば、一般的に塗料で用いられ� ��いる任意の溶剤を特に制限なく用いること� ��できる。例えば、ヘキサン、ヘプタン、シ� ��ロヘキサン、トルエン、m-キシレン等の炭� �水素、テトラクロロメタン、トリクロロエ� �レン等のハロゲン化炭化水素、アセトン、� �チルエチルケトン、メチルイソブチルケト� �、ジイソブチルケトン、イソホロン、シク� �ヘキサン等のケトン、ジエチルエーテル、� �オキサン、テトラヒドロフラン等のエーテ� �、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソアミ� �等のエステル、メタノール、エタノール、n- プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノ� ��ル、2-ブタノール、n-ペンタノール、2-エチ� ��ヘキサノール、シクロヘキサノール、ジア� ��トンアルコール、エチレングリコール、プ� ��ピレングリコール、ジエチレングリコール� ��グリセリン等のアルコール、エチレングリ� ��ールモノエチルエーテル、エチレングリコ� ��ルモノブチルエーテル、エチレングリコー� ��モノエチルエーテルアセテート、プロピレ� ��グリコールモノエチルエーテル、プロピレ� ��グリコールモノプロピルエーテル、プロピ� ��ングリコールモノブチルエーテル、プロピ� ��ングリコールモノメチルエーテルアセテー� ��等のエーテル/アルコールやエーテル/エス� �ル、及びこれら混合系を用いることができ� �。そのような溶剤の使用量については、導� �性粉体及び高屈折率粉体を分散させて最終� �に得られる組成物の粘性が塗布又は印刷に� �したものとなるように調整する。本発明の� �明導電膜形成用組成物においては粘度が2~100 00cps(E型粘度計:20℃)の範囲内にあることが好� ��しい。

 本発明の透明導電膜形成用組成物は、例� ��ば、上記バインダー成分に必要に応じて有� ��溶媒を加えて希釈したバインダー成分溶液� ��に導電性粉体及び高屈折率粉体を分散させ� ��ことにより製造することができる。また、� ��電性粉体及び高屈折率粉体を有機溶媒に分� ��させ、その後、上記バインダー成分を加え� ��分散させることによっても製造することが� ��きる。無論、バインダー成分、導電性粉体� ��高屈折率粉体、及び有機溶媒の4成分を同時 に混合し、分散させることによっても製造す ることができる。このような分散操作は、常 法により、ペイントシェーカー、ボールミル 、サンドミル、セントリミル、三本ロール等 によって行うことができる。無論、通常の攪 拌操作によって分散させることもできる。

 本発明の透明導電膜形成用組成物を塗布� ��て本発明の透明導電膜を形成するのに用い� ��る基板としては、電気・電子機器をはじめ� ��して様々な分野において広く用いられてい� ��各種の合成樹脂、ガラス、セラミックス等� ��挙げることができ、これらはシート状、フ� ��ルム状、板状等の任意の形状であり得る。� ��成樹脂の具体例としては、ポリエチレン、� ��リプロピレン、ポリカーボネート、アクリ� ��樹脂、メタクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、� ��リエステル樹脂、ポリアミド樹脂及びフェ� ��ール樹脂等を挙げることができるが、これ� ��に制限されるものではない。

 本発明の透明導電膜形成用組成物の基板へ� ��塗布又は印刷は常法により、例えば、ロー� ��コート、スピンコート、スクリーン印刷な� ��の手法で行うことができる。その後、バイ� ��ダー成分が活性エネルギー線硬化性バイン� ��ー成分でない場合には、必要により加熱し� ��溶媒を蒸発させ、塗膜を乾燥させて硬化さ� ��る。また、バインダー成分が活性エネルギ� ��線硬化性バインダー成分である場合には、� ��要により加熱して溶媒を蒸発させ、塗膜を� ��燥させ、次いで、活性エネルギー線(紫外線 又は電子線)を照射する。活性エネルギー線� �としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、メタ� �ハライドランプ、キセノンランプ、エキシ� �レーザー、色素レーザーなどの紫外線源、� �らびに電子線加速装置を使用することがで� �る。活性エネルギー線の照射量は、紫外線� �場合には50~3000mJ/cm ² 、 電子線の場合には0.2~1000μC/cm ² の範囲内が適当である。この活性エネル ギ� ��線の照射により、上記バインダー成分が重� ��し、導電性粉体、及び高屈折率粉体が樹脂� ��結合された透明導電膜が形成される。この� ��明導電膜の膜厚は一般的に0.1~10 μmの範囲� �であることが好ましい。

 基板上に本発明の透明導電膜形成用組成物� ��ら形成された本発明の透明導電膜は、例え� ��、表面抵抗値が好ましくは10 ⁶ ~10 ¹¹ ω/□、より好ましくは10 ⁷ ~10 ¹⁰ ω/□、光透過率が好ましくは85%以上、ヘイズ が好ましくは1.5%以下という、透明性、導電� �のいずれにも優れた、しかも膜の耐擦傷性� �優れ、屈折率の制御が可能な透明導電膜と� �る。このような透明導電膜は電子写真記録� �埃防止膜として、或いは帯電防止膜等とし� �利用可能であり、例えば、ディスプレイの� �示面に用いることができる。