Title:
COMPOSITION FOR POLISHING AND METHOD OF POLISHING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE USING SAME
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2012/063757
Kind Code:
A1
Abstract:
Provided is a composition for polishing containing: abrasive grains; a compound of at least one kind of alcohol selected from aliphatic alcohol having 2 to 6 carbon atoms and glycol ether having 3 to 10 carbon atoms; at least one kind of basic compound selected from a salt of quaternary ammonium and a alkali metal salt; and water. The average primary particle diameter of the abrasive grains is 5 to 50 nm. The content of alcohol in the composition for polishing is 0.01 to 1% by mass. This composition for polishing is mainly used in an application for polishing a surface of a semiconductor substrate.
Inventors:
SHINODA, Toshio (1-1 Chiryo 2-chome, Nishibiwajima-cho, Kiyosu-sh, Aichi 02, 〒4528502, JP)
篠田 敏男 (〒02 愛知県清須市西枇杷島町地領二丁目１番地１ 株式会社 フジミインコーポレーテッド 内 Aichi, 〒4528502, JP)
NAGAHARA, Kayoko (1-1 Chiryo 2-chome, Nishibiwajima-cho, Kiyosu-sh, Aichi 02, 〒4528502, JP)
永原 佳代子 (〒02 愛知県清須市西枇杷島町地領二丁目１番地１ 株式会社 フジミインコーポレーテッド 内 Aichi, 〒4528502, JP)
INOUE, Yutaka (1-1 Chiryo 2-chome, Nishibiwajima-cho, Kiyosu-sh, Aichi 02, 〒4528502, JP)
篠田 敏男 (〒02 愛知県清須市西枇杷島町地領二丁目１番地１ 株式会社 フジミインコーポレーテッド 内 Aichi, 〒4528502, JP)
NAGAHARA, Kayoko (1-1 Chiryo 2-chome, Nishibiwajima-cho, Kiyosu-sh, Aichi 02, 〒4528502, JP)
永原 佳代子 (〒02 愛知県清須市西枇杷島町地領二丁目１番地１ 株式会社 フジミインコーポレーテッド 内 Aichi, 〒4528502, JP)
INOUE, Yutaka (1-1 Chiryo 2-chome, Nishibiwajima-cho, Kiyosu-sh, Aichi 02, 〒4528502, JP)
Application Number:
JP2011/075543
Publication Date:
May 18, 2012
Filing Date:
November 07, 2011
Export Citation:
Assignee:
FUJIMI INCORPORATED (1-1 Chiryo 2-chome, Nishibiwajima-cho Kiyosu-sh, Aichi 02, 〒4528502, JP)
株式会社 フジミインコーポレーテッド (〒02 愛知県清須市西枇杷島町地領二丁目１番地１ Aichi, 〒4528502, JP)
SHINODA, Toshio (1-1 Chiryo 2-chome, Nishibiwajima-cho, Kiyosu-sh, Aichi 02, 〒4528502, JP)
篠田 敏男 (〒02 愛知県清須市西枇杷島町地領二丁目１番地１ 株式会社 フジミインコーポレーテッド 内 Aichi, 〒4528502, JP)
NAGAHARA, Kayoko (1-1 Chiryo 2-chome, Nishibiwajima-cho, Kiyosu-sh, Aichi 02, 〒4528502, JP)
永原 佳代子 (〒02 愛知県清須市西枇杷島町地領二丁目１番地１ 株式会社 フジミインコーポレーテッド 内 Aichi, 〒4528502, JP)
株式会社 フジミインコーポレーテッド (〒02 愛知県清須市西枇杷島町地領二丁目１番地１ Aichi, 〒4528502, JP)
SHINODA, Toshio (1-1 Chiryo 2-chome, Nishibiwajima-cho, Kiyosu-sh, Aichi 02, 〒4528502, JP)
篠田 敏男 (〒02 愛知県清須市西枇杷島町地領二丁目１番地１ 株式会社 フジミインコーポレーテッド 内 Aichi, 〒4528502, JP)
NAGAHARA, Kayoko (1-1 Chiryo 2-chome, Nishibiwajima-cho, Kiyosu-sh, Aichi 02, 〒4528502, JP)
永原 佳代子 (〒02 愛知県清須市西枇杷島町地領二丁目１番地１ 株式会社 フジミインコーポレーテッド 内 Aichi, 〒4528502, JP)
International Classes:
H01L21/304; B24B37/00
Attorney, Agent or Firm:
ONDA, Hironori et al. (12-1, Ohmiya-cho 2-chome Gifu-sh, Gifu 31, 〒5008731, JP)
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Claims:
Previous Patent: STAIN-RESISTANT COATING COMPOSITION WITH EXCELLENT DURABILITY
Next Patent: LIGHTING DEVICE AND DISPLAY DEVICE
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