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Patent Searching and Data


Title:
COMPOSITION FOR PRODUCING A THERMAL INSULATION COATING
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2004/005427
Kind Code:
A2
Abstract:
The invention relates to a composition for producing a thermal insulation coating, which comprises at least one radiation-absorbing compound and at least one IR reflector constituent. The invention also relates to a thermal insulation coating comprising the aforementioned oriented and cured composition, and to a method for the production thereof.

Inventors:
PARKER ROBERT (DE)
SCHNEIDER NORBERT (DE)
WAGENBLAST GERHARD (DE)
BOEHM ARNO (DE)
Application Number:
PCT/EP2003/007201
Publication Date:
January 15, 2004
Filing Date:
July 04, 2003
Export Citation:
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Assignee:
BASF AG (DE)
PARKER ROBERT (DE)
SCHNEIDER NORBERT (DE)
WAGENBLAST GERHARD (DE)
BOEHM ARNO (DE)
International Classes:
C03C17/32; G02B5/20; (IPC1-7): C09K19/42; C03C17/32; G02B5/28; B32B17/10; C08F222/20
Domestic Patent References:
WO2002076988A22002-10-03
Foreign References:
DE19745647A11999-04-22
US6180025B12001-01-30
US5942030A1999-08-24
Attorney, Agent or Firm:
Pohl, Michael (Ludwigshafen, DE)
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Claims:
Patentansprüche
1. Zusammensetzung, umfassend i) wenigstens eine Strahlung absorbierende tertAlkylphenoxy substituierte polycyclische Verbindung A der allgemeinen For mel I worin P für einen gegenüber Basen und Nukleophilen stabilen, gege benenfalls Arylsubstituenten tragenden, konjugierten polycy lischen Rest steht, der keine Gruppierungen aus der Gruppe CONHCO,COOH undCOOCOenthält ; R für einen C1CaAlkylRest steht, dessen Kohlenstoffkette durch eine oder mehrere Gruppierungen, ausgewählt unterO, S,NR1,COundS02, unterbrochen sein kann, wobei die Kohlenstoffkette gegebenenfalls einoder mehrfach substi tuiert ist mit gleichen oder verschiedenen Resten, ausgewählt unter ClC6Alkoxy oder einen über ein Stickstoffatom gebunde nen, 5bis 7gliedrigen heterocyclischen Rest, der gegebe nenfalls weitere Heteroatome enthält und/oder aromatisch ist, oder für einen CgCgCycloalkylRest steht, dessen Kohlen stoffgerüst durch eine oder mehrere Gruppierungen, ausgewählt unterO,S,NR1,COundSO2unterbrochen sein kann, wobei das Kohlenstoffgerüst gegebenenfalls einoder mehrfach durch ClC6Alkyl substituiert ist ; R1 für Wasserstoff oder C1C6Alkyl steht ; Hal für Chlor und/oder Brom steht ; m eine Zahl von 0 bis 15 bedeutet ; und n eine Zahl von 1 bis 16 bedeutet, wobei die Summe m + n s 16 ist und ii) wenigstens eine härtbare IRReflektorKomponente B, die a) wenigstens ein achirales nematisches polymerisierbares Mo nomer und wenigstens ein chirales polymerisierbares Monomer ; b) wenigstens ein cholesterisches polymerisierbares Monomer ; c) wenigstens ein cholesterisches vernetzbares Polymer ; oder d) wenigstens ein cholesterisches Polymer in einem polymeri sierbaren Verdünnungsmittel enthält.
2. Zusammensetzung nach Anspruch 1, wobei in der Verbindung A der allgemeinen Formel I die Gruppierung P einen basenstabi len Rest aus der Gruppe der Naphthaline, Anthracene, Phenant hrene, Tetracene, Perylene, Terrylene, Quaterrylene, Pentary lene, Hexarylene, Anthrachinone, Indanthrone, Nsubstituier ten Naphthalin1,8dicarbonsäuremonoimide, N, N'disubsti tuierten Naphthalin1, 8 : 4,5tetracarbonsäurediimide, Nsub stituierten Perylen3,4dicarbonsäuremonoimide, N, N'disub stituierten Perylen3,4 : 9,10tetracarbonsäurediimide, N, N disubstituierten Terrylen3,4 : 11,12tetracarbonsäurediimide, N, N'disubstituierten Quaterrylen3,4 : 13,14tetracarbonsäure diimide, Acridine, Carbazole, Dibenzofurane, Dinaphthofurane, Benzimidazole, Benzthiazole, Phenazine, Dioxazine, Chinacri done, Metallphthalocyanine, Metallnaphthalocyanine, Metall porphyrine, Cumarine, Dibenzofuranone, Dinaphthofuranone, Benzimidazolone, Indigoverbindungen, Thioindigoverbindungen, Chinophthalone, Naphthochinophthalone und Diketopyrrolopyr role bedeutet.
3. Zusammensetzung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, um fassend 0,01 bis 20 Gew.% Verbindung A, bezogen auf das Ge samtgewicht der Komponente B.
4. Zusammensetzung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wo bei Komponente B wenigstens ein achirales nematisches polyme risierbares Monomer und wenigstens ein chirales polymerisier bares Monomer enthält.
5. Zusammensetzung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, um fassend weiterhin wenigstens einen Hilfstoff, der ausgewählt ist unter Photoinitiatoren, Bindemitteln, Verlaufsmitteln und Stabilisatoren gegen UVund Witterungseinflüsse.
6. Verwendung einer Zusammensetzung nach einem der vorhergehen den Ansprüche zur Herstellung einer Wärmeisolationsbeschich tung.
7. Wärmeisolationsbeschichtung, umfassend wenigstens eine orien tierte, gehärtete Schicht einer Zusamensetzung nach einem der Ansprüche 1 bis 5.
8. Wärmeisolationsbeschichtung nach Anspruch 7, umfassend wenig stens ein orientiertes, IRStrahlung reflektierendes, gehär tetes cholesterisches Polymer, das eine Ganghöhe der helika len Überstruktur aufweist, die einer Wellenlänge im IRSpek tralbereich entspricht.
9. Wärmeisolationsbeschichtung nach Anspruch 8, umfassend wenig stens 2 Schichten, wobei die die IRStrahlung reflektierenden Polymere in den unterschiedlichen Schichten jeweils unter schiedliche Ganghöhen der helikalen Überstruktur, die Wellen längen im IRSpektralbereich entsprechen, und/oder entgegen gesetzte Chiralitäten aufweisen.
10. Verfahren zur Herstellung einer Wärmeisolationsbeschichtung nach einem der Ansprüche 7 oder 8, bei dem man eine Zusammen setzung nach einem der Ansprüche 1 bis 5 auf ein Substrat aufträgt, gegebenenfalls orientiert und härtet.
11. Verfahren nach Anspruch 10, wobei die Härtung durch Polymeri sation der Monomere der Gruppen a) oder b) oder des Lösungs mittels der Gruppe d) bzw. Vernetzung des Polymers der Gruppe c) erfolgt.
12. Mit einer Wärmeisolationsbeschichtung nach einem der Ansprü che 7 bis 9 versehene Gegenstände.
Description:
Zusammensetzung zur Herstellung einer Wärmeisolationsbeschichtung Beschreibung Die vorliegende Erfindung betrifft eine Zusammensetzung zur Her- stellung einer Wärmeisolationsbeschichtung, die wenigstens eine Strahlung absorbierende Verbindung und wenigstens eine IR-Reflek- tor-Komponente umfasst, eine Wärmeisolationsbeschichtung, die diese orientierte, gehärtete Zusammensetzung umfasst, und ein Verfahren zu deren Herstellung.

Das Problem der Abschirmung von Wärmestrahlung stellt sich insbe- sondere bei der Isolation von Wohn-, Büro-oder Industriebauten, insbesondere bei solchen mit großzügigen Fensterflächen, aber auch bei Transportmitteln, wie Autos und öffentlichen Verkehrs- mitteln.

Es ist bekannt, zur Wärmeisolation, insbesondere zur Abschirmung von Wärmestrahlung im Wellenlängenbereich zwischen 800 nm und 2000 nm, Materialien einzusetzen, die Wärmestrahlung weitgehend reflektieren. Derartige Materialien können beispielsweise chole- sterische IR-reflektierende Schichten sein.

Beim Erwärmen formanisotroper Stoffe können flüssigkristalline Phasen, sogenannte Mesophasen, auftreten. Die einzelnen Phasen unterscheiden sich durch die räumliche Anordnung der Molekül- schwerpunkte einerseits sowie durch die Molekülanordnung hin- sichtlich der Längsachsen andererseits (G. W. Gray, P. A Winsor, Liquid Crystals and Plastic Crystals, Ellis Horwood Limited, Chi- chester, 1974).

Die nematisch flüssigkristalline Phase zeichnet sich durch Paral- lelorientierung der Molekül-Längsachsen aus (eindimensionaler Ordnungszustand). Unter der Voraussetzung, dass die die nemati- sche Phase aufbauenden Moleküle chiral sind, entsteht eine soge- nannte chirale nematische (cholesterische) Phase, bei der die Längsachse der Moleküle eine zu ihr senkrechte, helixartige Über- struktur ausbilden (H. Baessler, Festkörperprobleme XI, 1971).

Als Ganghöhe bezeichnet man den Abstand zwischen zwei gedachten Schichten mit identischer Ausrichtung der Moleküllängsachsen.

Der chirale Molekülteil kann sowohl im flüssigkristallinen Molekül selbst vorhanden sein als auch als Dotierstoff zur nematischen Phase gegeben werden, wodurch die chiral nematische Phase induziert wird. Dieses Phänomen wurde zuerst an Choleste- rolderivaten untersucht (z. B. H. Baessler, M. M. Labes, J. Chem.

Phys. 52,631 (1970) ). Durch Änderung der Konzentration eines chiralen Dotierstoffes kann die Ganghöhe und damit der Wellenlän- genbereich selektiv reflektierter Strahlung einer chiralen nema- tischen Schicht variiert werden.

Die chiral nematische Phase hat besondere optische Eigenschaften : eine hohe optische Rotation sowie einen ausgeprägten Zirkular- dichroismus, der durch Selektivreflektion von zirkular polari- siertem Licht innerhalb der chiral nematischen Schicht entsteht.

Solche chiral nematischen Systeme bieten für eine praktische An- wendung interessante Möglichkeiten.

Transparente Wärmeisolationsbeschichtungen sind bekannt. So be- schreibt die EP-A-727306 ein laminiertes Glas, das aus zwei Glas- platten und einer dazwischenliegenden Schicht besteht, in der ul- trafeine Partikel mit dispergiert sind. Die Zwischenschicht dient zur Wärmeisolierung und UV-Absorption.

Die JP-A-281403/92 beschreibt ein Laminat, das aus einer transpa- renten Platte und einer Beschichtung, die IR-Strahlung über einen breiten Wellenlängenbereich reflektiert, und aus einem Wellenlän- gen-Filter aus cholesterischem Flüssigkristall besteht, der Wel- lenlängen des nahen IR selektiv reflektiert und eine hohe Durch- lässigkeit für sichtbares Licht besitzt. Die Verwendung von IR absorbierenden Komponenten ist nicht erwähnt.

Die DE-A-19817069 beschreibt IR-Strahlung reflektierende Farbmit- tel, die sich aus einem IR-Strahlung reflektierenden cholesteri- schen flüssigkristallinen Polymeren und lichtabsorbierenden Farb- mitteln zusammensetzen. Unter Farbmittel werden Verbindungen ver- standen, deren Absorptionsmaximum im Bereich von 350 bis 750 nm liegt. Die Verwendung von Komponenten, die IR-Strahlung absorbie- ren, wird nicht erwähnt.

Die WO-A-99/19267 beschreibt Wärmeisolationsbeschichtungen, die eine oder mehrere cholesterische IR-reflektierende Schichten um- fasst. Die Beschichtung ist transparent und farblos. Eine effek- tive Wärmeisolation erhält man allerdings nur mit mehreren chole- sterischen Schichten.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung war es, eine möglichst dünne, wirksame, getönte Wärmeisolationsbeschichtung bereitzustellen.

Die Aufgabe wurde durch eine Zusammensetzung zur Herstellung ei- ner Wärmeisolationsbeschichtung gelöst, umfassend i) wenigstens eine Strahlung absorbierende tert-Alkylphenoxy- substituierte polycyclische Verbindung A der allgemeinen For- mel I worin P für einen gegenüber Basen und Nukleophilen stabilen, gege- benenfalls Arylsubstituenten tragenden, konjugierten polycy- lischen Rest steht, der keine Gruppierungen aus der Gruppe - CO-NH-CO-,-COOH und-CO-O-CO-enthält ; R für einen C1-Ca-Alkyl-Rest steht, dessen Kohlenstoffkette durch eine oder mehrere Gruppierungen, ausgewählt unter-O-, - S-,-NR1-,-CO-und-S02-, unterbrochen sein kann, wobei die Kohlenstoffkette gegebenenfalls ein-oder mehrfach substi- tuiert ist mit gleichen oder verschiedenen Resten, ausgewählt unter C1-C6-Alkoxy oder einen über ein Stickstoffatom gebunde- nen, 5-bis 7-gliedrigen heterocyclischen Rest, der gegebe- nenfalls weitere Heteroatome enthält und/oder aromatisch ist, oder für einen Cs-Cg-Cycloalkyl-Rest steht, dessen Kohlen- stoffgerüst durch eine oder mehrere Gruppierungen, ausgewählt unter-O-,-S-,-NR1-,-CO-und-SO2-unterbrochen sein kann, wobei das Kohlenstoffgerüst gegebenenfalls ein-oder mehrfach durch C1-C6-Alkyl substituiert ist ; R1 für Wasserstoff oder C1-C6-Alkyl steht ; Hal für Chlor und/oder Brom steht ; m eine Zahl von 0 bis 15 bedeutet ; und n eine Zahl von 1 bis 16 bedeutet, wobei die Summe m + n s 16 ist

und ii) wenigstens eine härtbare IR-Reflektor-Komponente B, die a) wenigstens ein achirales nematisches polymerisierbares Mo- nomer und wenigstens ein chirales polymerisierbares Monomer ; b) wenigstens ein cholesterisches polymerisierbares Monomer ; c) wenigstens ein cholesterisches vernetzbares Polymer ; oder d) wenigstens ein cholesterisches Polymer in einem polymeri- sierbaren Verdünnungsmittel enthält.

Die IR-Reflektor-Eigenschaft der Komponente B ist darauf zurück- zuführen, dass nach dem Orientieren und Härten der Komponente B wenigstens ein Teil der orientierten, durch Polymerisation der Monomere a) oder b) erhältlichen cholesterische Polymere bzw. we- nigstens ein Teil der orientierten Polymere c) oder d) eine Gang- höhe der helikalen Überstruktur aufweisen, die einer Wellenlänge im IR-Spektralbereich entspricht.

Unter Härten versteht man im Rahmen der vorliegenden Erfindung sowohl die Polymerisation von Monomeren als auch das Vernetzen von Polymeren.

Unter Strahlung absorbierenden Verbindungen A sollen solche ver- standen werden, die im Spektralbereich des Infrarot (IR-Strah- lung), d. h. im Spektralbereich mit einer Wellenlänge von > 750 nm bis etwa 1 mm, vorzugsweise von 751 nm bis etwa 2000 nm, und/ oder im sichtbaren Spektralbereich, d. h. im Spektralbereich mit einer Wellenlänge von 350 bis 750 nm, vorzugsweise von 550 bis 750 nm, und/oder im Spektralbereich des Ultraviolett (UV-Strah- lung), d. h. im Spektralbereich mit einer Wellenlänge von 10 nm bis <350 nm, vorzugsweise von 100 nm bis 349 nm, absorbieren.

Vorzugsweise absorbieren die Verbindungen A im Spektralbereich des Infrarot, insbesondere von 751 bis 2000 nm, und/oder im sichtbaren Spektralbereich, insbesondere von 550 bis 750 nm. Be- sonders bevorzugt absorbieren die Verbindungen A im Spektralbe- reich des Infrarot, insbesondere von 751 bis 2000 nm, und im sichtbaren Spektralbereich, insbesondere von 550 bis 750 nm.

Die Verbindungen A können als Reinsubstanzen oder als Gemische von Stellungsisomeren oder als Stoffgemische eingesetzt werden.

Die Verbindungen A der Formel I sind beispielsweise in der PCT- Anmeldung PCT/EP 02/03279 beschrieben und basieren auf einem bei den Reaktionsbedingungen gegenüber Basen und Nukleophilen stabi- len, konjugierten polycyclischen Rest P. Insbesondere weist der Rest P keine Gruppierungen aus der Gruppe-CO-NH-CO-,-COOH und -CO-O-CO-auf.

Der Rest P kann Arylsubstituenten tragen, die basisch nicht an- greifbar sind, z. B. unsubstituiertes, alkyl-und/oder alkoxysub- stituiertes Aryl, insbesondere Phenyl, oder Hetaryl, wie 2-, 3- und 4-Pyridyl und Pyrimidyl. Diese Arylsubstituenten können ent- weder direkt an das Ringgerüst oder bei den weiter unten aufge- führten polycyclischen Imiden auch an die Imidstickstoffatome ge- bunden sein.

Der bzw. die tert-Alkylphenoxyreste können bei solchen arylsub- stituierten Resten P auch über die Arylsubstituenten an den Rest P gebunden sein, also z. B. bei Diphenyldiketopyrrolopyrrol oder N, N'-Diphenylperylen-3, 4 : 9,10-tetracarbonsäurediimid über die 4- oder 3,5-Positionen des Phenylrestes.

Vorzugsweise bedeutet P einen basenstabilen Rest aus der Gruppe der Naphthaline, Anthracene, Phenanthrene, Tetracene, Perylene, Terrylene, Quaterrylene, Pentarylene und Hexarylene, Anthrachi- none, Indanthrone, N-substituierten Naphthalin-1,8-dicarbonsäure- monoimide (im folgenden kurz"Naphthalmonoimide"genannt), N, N'- disubstituierten Naphthalin-1,8 : 4,5-tetracarbonsäurediimide (kurz "Naphthalimide"), N-substituierten Perylen-3,4-dicarbonsäuremo- noimide (kurz"Perylmonoimide"), N, N'-disubstituierten Pery- len-3,4 : 9,10-tetracarbonsäurediimide (kurz"Perylimide"), N, N'- disubstituierten Terrylen-3,4 : 11,12-tetracarbonsäurediimide (kurz "Terrylimide"), N, N'-disubstituierten Quaterrylen-3,4 : 13,14-te- tracarbonsäurediimide (kurz"Quaterrylimide"), Acridine, Carba- zole, Dibenzofurane, Dinaphthofurane, Benzimidazole, Benzthia- zole, Phenazine, Dioxazine, Chinacridone, Metallphthalocyanine, Metallnaphthalocyanine, Metallporphyrine, Cumarine, Dibenzofura- none, Dinaphthofuranone, Benzimidazolone, Indigoverbindungen, Thioindigoverbindungen, Chinophthalone, Naphthochinophthalone und Diketopyrrolopyrrole.

Besonders bevorzugt sind dabei Reste P aus der Gruppe der Naph- thaline, Chinacridone, Diketopyrrolopyrrole, Dioxazine, Indan- throne, Metallphthalocyanine, Metallnaphthalocyanine, Naphthalmo- noimide, Perylmonoimide, Perylimide, Terrylimide und Quaterryl- imide, wobei die Metallphthalocyanine, Metallnaphthalocyanine, Metallporphyrine, Terrylimide und Quaterrylimide ganz besonders

bevorzugt sind. Davon sind insbesondere die Quaterrylimide bevor- zugt.

Die die Verbindungen I charakterisierenden tert-Alkylphenoxyreste sowie die gegebenenfalls zusätzlich vorhandenen Halogenatome kön- nen direkt oder, wie oben bereits beschrieben, über gegebenen- falls vorhandene Arylsubstituenten an das Ringgerüst der Reste P gebunden sein. Selbstverständlich können auch beide Bindungsfor- men in einer Verbindung I auftreten. Größere Reste P, wie Peryl- monoimide, Perylimide, Terrylimide und Quaterrylimide, tragen die tert-Alkylphenoxyreste bevorzugt direkt am Ringgerüst oder weisen zumindest direkt gebundene tert-Alkylphenoxyreste zusätzlich zu arylengebundenen tert-Alkylphenoxyresten auf.

Je nach Größe des konjugierten Ringgerüsts enthalten die Verbin- dungen I mindestens 1 und bis zu 16 (n : 1 bis 16), insbesondere 2 bis 8, tert-Alkylphenoxyreste.

Beispielhaft seien für die besonders bevorzugten Reste P die ge- nerell geeigneten und die bevorzugten Bereiche für die Summe m+n genannt : Naphthaline : 1 bis 4, insbesondere 1 bis 2 ; Chinacri- done : 1 bis 8, insbesondere 2 bis 4 ; Diketopyrrolopyrrole : 1 bis 6, insbesondere 2 bis 4 ; Dioxazine : 1 bis 8, insbesondere 2 bis 4 ; Indanthrone : 1 bis 6, insbesondere 2 bis 4 ; Metallphthalo- cyanine : 1 bis 16, insbesondere 4 bis 8 ; Metallnaphthalocyanine : 1 bis 16, insbesondere 8 bis 16 ; Naphthalmonoimide : 1 bis 4, ins- besondere 1 bis 2 ; Perylmonoimide : 1 bis 6, insbesondere 1 bis 3 ; Perylimide : 1 bis 8, insbesondere 2 bis 6 ; Terrylimide : 1 bis 12, insbesondere 2 bis 8 ; Quaterrylimide : 1 bis 14, insbesondere 2 bis 8.

Weisen die Reste P zusätzliche Arylsubstituenten auf, die nicht zur Bindung der tert-Alkylphenoxyreste dienen, erniedrigt sich natürlich die maximal mögliche Summe m+n entsprechend.

Die tert-Alkylphenoxyreste sowie die gegebenenfalls vorhandenen Hal-Substituenten sind über den Rest P vorzugsweise statistisch verteilt.

Im folgenden sind geeignete Beispiele für die in Formel I auftre- tenden Reste R und R1 sowie für deren Substituenten aufgeführt.

C1-C6-Alkyl steht beispielsweise für Methyl, Ethyl, Propyl, Iso- propyl, Butyl, Isobutyl, sec-Butyl, tert-Butyl, Pentyl, Isopen- tyl, Neopentyl, tert-Pentyl, Hexyl und 2-Methylpentyl. C1-C8-Alkyl

steht neben diesen Resten weiterhin beispielsweise für Heptyl, 1-Ethylpentyl, Octyl, 2-Ethylhexyl und Isooctyl.

C1-C8-Alkyl, dessen Kohlenstoffkette durch eine oder mehrere Grup- pierungen-O-unterbrochen sein kann, steht beispielsweise für 2-Methoxyethyl, 2-Ethoxyethyl, 2-Propoxyethyl, 2-Isopropoxyethyl, 2-Butoxyethyl, 2-und 3-Methoxypropyl, 2-und 3-Ethoxypropyl, 2- und 3-Propoxypropyl, 2-und 3-Butoxypropyl, 2-und 4-Methoxybu- tyl, 2-und 4-Ethoxybutyl, 2-und 4-Propoxybutyl, 3,6-Dioxahep- tyl, 3,6-Dioxaoctyl, 4,8-Dioxanonyl, 3,7-Dioxaoctyl, 3,7-Dioxano- nyl, 4,7-Dioxaoctyl, 4,7-Dioxanonyl, 2-und 4-Butoxybutyl, 4,8-Dioxadecyl, 3,6, 9-Trioxadecyl und 3,6, 9-Trioxaundecyl.

C1-Cg-Alkyl, dessen Kohlenstoffkette durch eine oder mehrere Grup- pierungen-S-unterbrochen sein kann, steht beispielsweise für 2-Methylthioethyl, 2-Ethylthioethyl, 2-Propylthioethyl, 2-Isopro- pylthioethyl, 2-Butylthioethyl, 2-und 3-Methylthiopropyl, 2-und 3-Ethylthiopropyl, 2-und 3-Propylthiopropyl, 2-und 3-Butyl- thiopropyl, 2-und 4-Methylthiobutyl, 2-und 4-Ethylthiobutyl, 2- und 4-Propylthiobutyl, 3,6-Dithiaheptyl, 3,6-Dithiaoctyl, 4,8-Di- thianonyl, 3,7-Dithiaoctyl, 3,7-Dithianonyl, 4,7-Dithiaoctyl, 4,7-Dithianonyl, 2-und 4-Butylthiobutyl, 4,8-Dithiadecyl, 3,6, 9-Trithiadecyl und 3,6, 9-Trithiaundecyl.

C1-C8-Alkyl, dessen Kohlenstoffkette durch eine oder mehrere Grup- pierungen-NR1-unterbrochen sein kann, steht beispielsweise für 2-Monomethyl-und 2-Monoethylaminoethyl, 2-Dimethylaminoethyl, 2- und 3-Dimethylaminopropyl, 3-Monoisopropylaminopropyl, 2-und 4-Monopropylaminobutyl, 2-und 4-Monomethylaminobutyl, 6-Me- thyl-3,6-diazaheptyl, 3,6-Dimethyl-3, 6-diazaheyptyl, 3,6-Diazaoc- tyl, 3,6-Dimethyl-3, 6-diazaoctyl, 9-Methyl-3,6, 9-triazadecyl, 3,6, 9-Trimethyl-3,6, 9-triazadecyl, 3,6, 9-Triazaundecyl und 3,6, 9-Trimethyl-3,6, 9-triazaundecyl.

C1-C8-Alkyl, dessen Kohlenstoffkette durch eine oder mehrere Grup- pierungen-CO-unterbrochen sein kann, steht beispielsweise für- Propan-2-on-1-yl, Butan-3-on-1-yl, Butan-3-on-2-yl und 2-Ethyl- pentan-3-on-1-yl.

C1-C8-Alkyl, dessen Kohlenstoffkette durch eine oder mehrere Grup- pierungen-S02-unterbrochen sein kann, steht beispielsweise für 2-Methylsulfonylethyl, 2-Ethylsulfonylethyl, 2-Propylsulfonyl- ethyl, 2-Isopropylsulfonylethyl, 2-Buthylsulfonylethyl, 2-und 3-Methylsulfonylpropyl, 2-und 3-Ethylsulfonylpropyl, 2-und 3-Propylsulfonylpropyl, 2-und 3-Butylsulfonylpropyl, 2-und

4-Methylsulfonylbutyl, 2-und 4-Ethylsulfonylbutyl, 2-und 4-Pro- pylsulfonylbutyl und 4-Butylsulfonylbutyl.

C1-C6-Alkoxy steht z. B. für Methoxy, Ethoxy, Propoxy, Isopropoxy, Butoxy, Isobutoxy, sec-Butoxy, tert-Butoxy, Pentoxy, Isopentoxy, Neopentoxy, tert-Pentoxy und Hexoxy.

Der über ein Stickstoffatom gebundene 5-bis 7-gliedrige hetero- cyclischer Rest, der gegebenenfalls weitere Heteroatome enthält und/oder aromatisch sein kann, steht beispielsweise für Pyrrol, Pyrazol, Imidazol, Triazol, Pyrrolidin, Pyrazolin, Pyrazolidin, Imidazolin, Imidazolidin, Pyridin, Pyridazin, Pyrimidin, Pyrazin, Triazin, Piperidin, Piperazin, Oxazol, Isooxazol, Thiazol, Iso- thiazol, Indol, Chinolin, Isochinolin oder Chinaldin.

C5-C8-Cycloalkyl, dessen Kohlenstoffgerüst durch eine oder mehrere Gruppierungen, ausgewählt unter-O-,-S-, NR1-,-CO-und-SO2-, unterbrochen sein kann, wobei das Kohlenstoffgerüst ein-oder mehrfach durch C1-C6-Alkyl substituiert sein kann, steht bei- spielsweise für Cyclopentyl, 2-und 3-Methylcyclopentyl, 2-und 3-Ethylcyclopentyl, Cyclohexyl, 2-, 3-und 4-Methylcyclohexyl, 2-, 3-und 4-Ethylcyclohexyl, 3-und 4-Propylcyclohexyl, 3-und 4-Isopropylcyclohexyl, 3-und 4-Butylcyclohexyl, 3-und 4-sec-Bu- tylcyclohexyl, 3-und 4-tert-Butylcyclohexyl, Cycloheptyl, 2-, 3- und 4-Methylcycloheptyl, 2-, 3-und 4-Ethylcycloheptyl, 3-und 4-Propylcycloheptyl, 3-und 4-Isopropylcycloheptyl, 3-und 4-Bu- tylcycloheptyl, 3-und 4-sec-Butylcycloheptyl, 3-und 4-tert-Bu- tylcycloheptyl, Cyclooctyl, 2-, 3-, 4-und 5-Methylcyclooctyl, 2-, 3-, 4-und 5-Ethylcyclooctyl, 3-, 4-und 5-Propylcyclooctyl, 2-Dioxanyl, 4-Morpholinyl, 2-und 3-Tetrahydrofuryl, 1-, 2-und 3-Pyrrolidinyl und 1-, 2-, 3-und 4-Piperidyl.

Als Beispiele für bevorzugte tert-Alkylphenoxyreste seien p-(l, 1-Dimethylpropyl) phenoxy, p- (1, 1-Dimethylbutyl) phenoxy, p-(l, 1-Dimethylpentyl) phenoxy, p- (1, 1, 3,3-Tetramethylbutyl) phe- noxy, p- (2-Cyclopentyl-1, 1-dimethylethyl) phenoxy, p- (2-Cyclohe- xyl-1, l-dimethylethyl) phenoxy, p- (2-Cycloheptyl-1, 1-dimethyl- ethyl) phenoxy und p- (1, 1-Dimethyl-2- (4-morpholinyl) ethyl) phenoxy genannt. Besonders bevorzugt ist p- (1, 1,3, 3-Tetramethylbutyl) phe- noxy.

Die besonders bevorzugten Naphthalmonoimide, Perylmonoimide, Pe- rylimide, Terrylimide und Quaterrylimide tragen insbesondere fol- gende basenstabile Substituenten R2 an den Imidstickstoffatomen :

C1-C30-Alkyl, dessen Kohlenstoffkette durch eine oder mehrere Gruppierungen, ausgewählt unter-O-,-S-,-NR1-,-CO-und-SO2-, unterbrochen sein kann, wobei die Kohlenstoffkette gegebenenfalls ein-oder mehrfach substituiert ist mit gleichen oder verschide- nen Resten, ausgewählt unter Cl-C6-Alkoxy und einen über ein Stickstoffatom gebundenen, 5-bis 7-gliedrigen heterocyclischen Rest, der gegebenenfalls weitere Heteroatome enthält und/oder aromatisch ist ; C5-C8-Cycloalkyl, dessen Kohlenstoffgerüst durch eine oder mehrere Gruppierungen, ausgewählt unter-O-,-S-,-NR1-,-CO-und-SO2-, unterbrochen sein kann, wobei das Kohlenstoffgerüst gegebenen- falls ein-oder mehrfach durch C1-C6-Alkyl substituiert ist ; Aryl oder Hetaryl, wie Phenyl, Naphthyl, Anthracenyl, Phenantre- nyl, Pyrrolyl, Pyrazolyl, Imidazolyl, Oxazolyl, Thiazolyl, Pyri- dinyl, Pyridazinyl, Pyrimidinyl, Pyrazinyl, Indolyl, Chinolinyl, Isochinolinyl oder Chinaldinyl, das jeweils ein-oder mehrfach durch C1-Cle-Alkyl, C1-C6-Alkoxy, Cyano,-CONH-R1 und/oder-NH-COR substituiert sein kann.

Im einzelnen seien für diese Substituenten ergänzend zu den be- reits genannten Resten folgende Reste beispielhaft aufgeführt : Cl-C30-Alkyl steht neben den zuvor genannten Alkylresten weiterhin beispielsweise für Nonyl, Isononyl, Decyl, Isodecyl, Undecyl, Do- decyl, Tridecyl, Isotridecyl, Tetradecyl, Pentadecyl, Hexadecyl, Heptadecyl, Octadecyl, Nonadecyl und Eicosyl (die Bezeichnungen Isononyl, Isodecyl und Isotridecyl sowie die weiter oben ange- führte Bezeichnung Isooctyl sind Trivialbezeichnungen und stammen von den nach der Oxosynthese erhaltenen Alkoholen) ; Durch die Gruppierung-O-oder-S-unterbrochenes Cl-C30-Alkyl steht beispielsweise für 3,6, 9-Trioxadodecyl, 3,6, 9,12-Tetraoxa- tridecyl und 3,6, 9,12-Tetraoxatetradecyl ; 3,6, 9-Trithiadodecyl, 3,6, 9,12-Tetrathiatridecyl und 3,6, 9,12-Tetrathiatetradecyl ; Die Substituenten-CO-NHR1 und-NH-COR1 stehen beispielsweise für Carbamoyl, Methylaminocarbonyl, Ethylaminocarbonyl, Propylamino- carbonyl, Butylaminocarbonyl, Pentylaminocarbonyl, Hexylaminocar- bonyl, Heptylaminocarbonyl, Octylaminocarbonyl, Nonylaminocarbo- nyl und Decylaminocarbonyl ; Formylamino, Acetylamino und Propio- nylamino ; Aryl oder Hetaryl, das jeweils ein-oder mehrfach durch CI-CIS-A1- kyl, C1-C6-Alkoxy, Cyano,-CONH-R1 und/oder-NH-COR1 substituiert sein kann, steht beispielsweise für 2-, 3-und 4-Methylphenyl,

2,4-, 2,5-, 3, 5- und 2,6-Dimethylphenyl, 2,4, 6-Trimethylphenyl, 2-, 3-und 4-Ethylphenyl, 2,4-, 2,5-, 3, 5- und 2,6-Diethylphenyl, 2,4, 6-Triethylphenyl, 2-, 3-und 4-Propylphenyl, 2,4-, 2,5-, 3,5- und 2, 6- Dipropylphenyl, 2,4, 6-Tripropylphenyl, 2-, 3-und 4-Iso- propylphenyl, 2,4-, 2,5-, 3, 5- und 2,6-Diisopropylphenyl, 2,4, 6-Triisopropylphenyl, 2-, 3-und 4-Butylphenyl, 2,4-, 2,5-, 3, 5- und 2,6-Dibutylphenyl, 2,4, 6-Tributylphenyl, 2-, 3-und 4-Isobutylphenyl, 2,4-, 2,5-, 3, 5- und 2,6-Diisobutylphenyl, 2,4, 6-Triisobutylphenyl, 2-, 3-und 4-sec-Butylphenyl, 2,4-, 2,5-, 3, 5- und 2, 6-Di-sec-butylphenyl, 2,4, 6-Tri-sec-butylphenyl, 2-, 3-und 4-tert-Butylphenyl, 2,4-, 2,5-, 3, 5- und 2,6-Di-tert- butylphenyl und 2,4, 6-Tri-tert-Butylphenyl ; 2-, 3-und 4-Methoxy- phenyl, 2,4-, 2,5-, 3, 5- und 2,6-Dimethoxyphenyl, 2,4, 6-Trimetho- xyphenyl, 2-, 3-und 4-Ethoxyphenyl, 2,4-, 2,5-, 3, 5- und 2,6-Diethoxyphenyl, 2,4, 6-Triethoxyphenyl, 2-, 3-und 4-Propoxy- phenyl, 2,4-, 2,5-, 3, 5- und 2,6-Dipropoxyphenyl, 2-, 3-und 4-Isopropoxyphenyl, 2,4-, 2,5-, 3, 5- und 2,6-Diisopropoxyphenyl und 2-, 3-und 4-Butoxyphenyl ; 2-, 3-und 4-Cyanophenyl ; 3-und 4-Carboxamidophenyl, 3-und 4-N- (Methyl) carboxamidophenyl und 3- und 4-N- (Ethyl) carboxamidophenyl ; 3-und 4-Acetylaminophenyl, 3- und 4-Propionylaminophenyl und 3-und 4-Butyrylaminophenyl.

Besonders bevorzugte Verbindungen A sind solche, in denen P für N, N'-disubstituierte Quaterrylen-3,4 : 13,14-tetracarbonsärediimide der Formel II steht wobei R2 denn vorstehend genannten, basenstabilen Imidostick- stoffatom-Substituenten entspricht.

In besonders bevorzugten Verbindungen A der Formel I, in denen P für ein Quaterrylimid II steht, stehen R vorzugsweise für H, Methyl, Ethyl, Propyl, Isopropyl, Butyl, tert-Butyl, Cyclopentyl, Cyclohexyl, Cycloheptyl, oder Morpholi- nyl, besonders bevorzugt für H, Methyl, Ethyl, Butyl oder tert- Butyl und insbesondere für tert-Butyl ;

R2 vorzugsweise für substituiertes Phenyl, besonders bevorzugt für ein-bis dreifach mit C1-C4-Alkyl substituiertes Phenyl und insbe- sondere für 2,6-Diisopropylphenyl ; n vorzugsweise für 2 bis 10, besonders bevorzugt für 4 bis 8 und insbesondere für 6 ; und m vorzugsweise für 0 bis 4, besonders bevorzugt für 0 bis 2 und insbesondere für 0.

Die n tert-Alkylphenoxysubstituenten sowie die m Substituenten Hal sind über das Quaterrylensystem vorzugsweise statistische verteilt. Besonders bevorzugt befinden sich auf den beiden Seiten einer gedachten Achse zwischen den beiden Imid-Stickstoffatomen jeweils gleich viele Substituenten.

Die Verbindungen der Formel I können mittels eines Verfahrens er- halten werden, bei dem man ein Halogenid der allgemeinen Formel III in einem inerten stickstoffbasischen Lösungsmittel in Anwesenheit einer Base mit einem tert-Alkylphenol der allgemeinen Formel IV umsetzt.

Als inertes stickstoffbasisches Lösungsmittel eignen sich hierfür insbesondere polare Lösungsmittel, vor allem Stickstoffheterocy- clen, wie Pyridin, Pyrimidin, Chinolin, Isochinolin, Chinaldin und vorzugsweise N-Methylpyrrolidon, sowie Carbonsäureamide, wie N, N-Dimethylformamid und N, N-Dimethylacetamid.

Die Lösungsmittelmenge beträgt abhängig von der Löslichkeit des Halogenids III üblicherweise 2 bis 40 g, vorzugsweise 4 bis 25 g, Lösungsmittel je g Halogenid III.

Als Base sind insbesondere nicht oder nur schwach nukleophile Verbindungen geeignet. Beispiele für solche Basen sind Alkalime- tallhydroxide, wie Kalium-und Natriumhydroxid, Alkalimetallcar-

bonate, wie Kalium-und Natriumcarbonat, sowie Alkalimetallalko- holate tertiärer Alkohole, wie Lithium-, Natrium-und Kalium- tert-butylat, die in wasserfreier Form zum Einsatz kommen.

In der Regel werden 0,8 bis 1,5, vorzugsweise 1,0 bis 1,2, Mol- äquivalente Base je mol zu substituierendes Halogenatom einge- setzt.

Die als Ausgangsstoffe eingesetzten Halogenide III sind allgemein bekannt oder nach bekannten Methoden durch Umsetzung der nichtha- logenierten konjugierten polycyclischen Verbindungen mit Haloge- nierungsmitteln, insbesondere den elementaren Halogenen, erhält- lich. Halogenide III, die die Halogenatome an Arylsubstituenten gebunden enthalten, sind bekanntermaßen in der Regel über die Einführung der halogenierten Arylreste in das polycyclische Sy- stem zugänglich.

Das Molverhältnis Halogenid III zu Phenol IV hängt von der Anzahl der zu substituierenden Halogenatome ab. Im allgemeinen verwendet man 1 bis 2, bevorzugt 1 bis 1,3, mol Phenol IV je mol auszutau- schendes Halogenatom im Halogenid III.

Die Reaktionstemperatur liegt üblicherweise im Bereich von 50 bis 200°C, vorzugsweise bei 60 bis 140°C.

Es empfiehlt sich, die Umsetzung unter Schutzgas, z. B. Stickstoff oder Argon, durchzuführen.

Die Reaktionszeit beträgt in Abhängigkeit von der Reaktivität des Halogenids III etwa 2 bis 48 h.

Durch Auswahl der Reaktionsbedingungen-Menge an Phenol IV und Base sowie der Reaktionstemperatur-kann der Halogenaustausch vorteilhaft gesteuert werden, so daß sowohl Produkte I, in denen alle Halogenatome ausgetauscht sind (m=0), als auch Produkte I, die noch Halogen enthalten, problemlos hergestellt werden können.

Gewünschtenfalls kann das Halogen anschließend noch aus dem Pro- dukt I entfernt werden. Aus einem Ausgangsprodukt III können also verschiedene Produkte I nach Wunsch hergestellt werden.

Bei der Komponente B sind bevorzugte Monomere der Gruppe a) in der WO 99/19267 sowie in der deutschen Patentanmeldung P 10203938.0 beschrieben, auf die hiermit in vollem Umfang Bezug genommen wird. Bevorzugt ist das achirale nematische polymeri- sierbare Monomer der Gruppe a) difunktionell polymerisierbar und entspricht vorzugsweise der allgemeinen Formel V

Z1-(Y1-A1)v-Y2-M-Y3-(A2-Y4)w-Z2 (V) worin Z1, Z2 für gleiche oder verschiedene reaktive Gruppen stehen, über die eine Polymerisation erfolgen kann, bzw. Reste, die solche re- aktiven Gruppen enthalten, wobei es sich bei den reaktiven Grup- pen um C=C-Doppelbindungen, C-C-Dreifachbindungen, Oxiran-, Thii- ran-, Aziran-, Cyanat-, Thiocyanat-, Isocyanat-, Carbonsäure-, Hydroxy-oder Aminogruppen handelt, wobei C=C-Doppelbindungen be- sonders bevorzugt sind ; yl, y2, y3, y4 unabhängig voneinander für eine chemische Bindung, O, S,-CO-O-,-O-CO-,-O-CO-O-,-CO-S-,-S-CO-,-CO-N (R3) -, <BR> <BR> - N (R3)-CO-,-N (R3)-CO-0-,-0-CO-N (R3) -,-N (R3)-CO-N (R3)-,-CHz-O-,<BR> <BR> <BR> <BR> <BR> <BR> -O-CH2-, vorzugsweise-CO-O-,-O-CO-oder-O-CO-O-stehen, wobei R3 für Wasserstoff oder Cl-C4-Alkyl steht ; A1, A2 für gleiche oder verschiedene Spacer stehen, beispielsweise lineare C2-C30-Alkylengruppen, vorzugsweise C2-Ciz-Alkylengruppen, die durch Sauerstoff, Schwefel, gegebenenfalls einfach substi- tuiertem Stickstoff unterbrochen sein können, wobei diese unter- brechenden Gruppen nicht benachbart sein dürfen ; wobei geeignete Aminsubstituenten Cl-C4-Alkylgruppen umfassen, wobei die Alkylen- ketten durch Fluor, Chlor, Brom, Cyan, Methyl oder Ethyl substi- tuiert sein können ; und wobei besonders bevorzugt A1 und A2 für - (CH2)-n mit n = 2 bis 6 stehen ; v, w für 0 oder 1 steht ; M eine mesogene Gruppe bedeutet, die vorzugsweise die allge- meine Formel VI besitzt : (T-Y5) m-T (VI) worin T für gleiche oder verschiedene zweiwertige isocycloaliphati- sche, heterocycloaliphatische, isoaromatische oder heteroaromati- sche Reste, vorzugsweise 1,4-gebundene unsubstituierte oder 1- bis mehrfach, z. B. 1-bis 4-fach, substituierte Benzolringe steht,

worin R4 für Fluor, Chlor, Brom, C1-C20-Alkyl, C1-C2o-Alkoxy, C1-C20-Alkylcarbonyl, C1-C20-Alkylcarbonyloxy, Hydroxy, Nitro, CHO oder CN, vorzugsweise für Chlor, Brom oder C1-C4-Alkyl und insbe- sondere für Methyl steht ; und n für eine ganze Zahl von 0 bis 4, vorzugsweise 0 bis 2 und insbesondere für 0 oder 1 steht ; Y5 für gleiche oder verschiedene Brückenglieder-CO-O-, -O-CO-,-CH2-O-,-O-CH2-,-CO-S-,-S-CO-,-CH2-S-,-S-CH2,-CH=N- oder-N=CH-oder eine direkte Bindung, vorzugsweise-CO-O-oder -O-CO-steht, und m eine ganze Zahl von 0 bis 3, vorzugsweise 0, 1 oder 2, be- deutet.

Vorzugsweise enthält die mesogene Gruppe einen substituierten 1,4-Dioxybenzol-Baustein, insbesondere einen Methyl-substituier- ten 1,4-Dioxybenzol-Baustein.

Besonders bevorzugte mesogene Gruppen weisen die folgenden Struk- turen VII auf : worin R4 für Fluor, Chlor, Brom, C1-C20-Alkyl, Cl-C2o-Alkoxy, C1-C20-Alkylcarbonyl, C1-C20-Alkylcarbonyloxy, Hydroxy, Nitro, CHO oder CN steht und n für eine ganze Zahl von 0 bis 4 steht.

Besonders bevorzugt steht in der mesogenen Gruppe VII R4 für Chlor, Brom oder C1-C4-Alkyl, und insbesondere für Methyl und n für 0 bis 2, insbesondere für 0 oder 1, speziell für 1. Ganz besonders bevorzugte mesogene Gruppen weisen folgende Struk- tur VIII auf :

Das chirale polymerisierbare Monomer der Gruppe a) entspricht vorzugsweise der Formel IX [(Z1-Y1)°-A3-Y2-M-Y3]nX[Y3-M-Y2-A4-(Y1-Z1)p]m (IX) wobei zl, Y1, y2, y3 und M wie oben definiert sind, o, p für 0 oder 1 stehen, wobei o und p nicht gleichzeitig für 0 stehen dürfen, A3 und A4 gleich oder verschieden sind und A3 wie A1 definiert ist, wenn o=1 ist oder für eine lineare C2-C30-Alkylengruppe, vorzugsweise C2-C12-A1- kylengruppe steht, die durch Sauerstoff, Schwefel, gegebenen- falls einfach substituiertem Stickstoff unterbrochen sein kann, wobei diese unterbrechenden Gruppen nicht benachbart sein dürfen ; wobei geeignete Aminsubstituenten C1-C4-Alkyl- gruppen umfassen, wobei die Alkylgruppen durch Fluor, Chlor, Brom, Cyan, Methyl oder Ethyl substituiert sein können und wobei A3 besonders bevorzugt für CH3-(CH2)1-Gruppen mit 1 = 1 bis 7 steht, wenn o=0 ist ; A4 wie A1 definiert ist, wenn p=1 ist bzw. für eine lineare C2-C30-Alkylgruppe, vorzugsweise C2-C12-A1- kylgruppe, die durch Sauerstoff, Schwefel, gegebenenfalls einfach substituiertem Stickstoff unterbrochen sein kann, wo- bei diese unterbrechenden Gruppen nicht benachbart sein dür- fen ; wobei geeignete Aminsubstituenten C1-C4-Alkylgruppen um- fassen, wobei die Alkylgruppen durch Fluor, Chlor, Brom, Cyan, Methyl oder Ethyl substituiert sein können und wobei A3 besonders bevorzugt für CH3- (-CH2) i-Gruppen mit 1 = 1 bis 7 steht, wenn p=0 ist ;

n, m für 0, 1 oder 2 stehen, wobei die Summe n+m gleich 1 oder 2, vorzugsweise 2, ist ; und X für einen chiralen Rest steht.

Von den chiralen Resten X der Verbindungen der allgemeinen Formel IX sind unter anderem aufgrund der leichteren Verfügbarkeit ins- besondere solche bevorzugt, die sich von Zuckern, Dinaphthyl- oder Diphenylderivaten sowie optisch aktiven Glykolen, Alkoholen oder Aminosäuren ableiten. Bei den Zuckern sind insbesondere Pen- tosen und Hexosen und davon abgeleitete Derivate zu nennen.

Beispiele für Reste X sind die folgenden Strukturen, wobei die endständigen Striche jeweils die freien Valenzen bedeuten.

wobei L1 C1-C4-Alkyl, C1-C4-Alkoxy, Halogen, COOR5, 0C0R5, NHCOR5 ist und R5 für C1-C4-Alkyl oder Wasserstoff steht.

Besonders bevorzugt sind Weiterhin sind auch chirale Gruppen geeignet, die folgende Struk- turen aufweisen : In obiger Definition für die Gruppen A1, A2, A3, A4, R3, R4, R5 und L1 stehen C1-C20-Alkyl insbesondere für Methyl, Ethyl, n-Propyl, Isopropyl, n-Butyl, sec-Butyl, Isobutyl, tert. -Butyl, Pentyl, He- xyl, Heptyl, Octyl, Nonyl, Decyl, Undecyl, Dodecyl, Tridecyl, Te- tradecyl, Pentadecyl, Hexadecyl, Heptadecyl, Octadecyl, Nonadecyl und Eicosyl ; C1-C4-Alkyl steht insbesondere für Methyl, Ethyl, n-Propyl, Iso- propyl, n-Butyl, sec-Butyl, Isobutyl oder tert-Butyl ; C1-C2o-Alkoxy steht insbesondere für Alkoxygruppen, deren Alkyl- rest den oben genannten C1-C20-Alkylgruppen entspricht ; und

C2-C30-Alkylen steht insbesondere für Alkylengruppen, die dem zweiwertigen Rest der oben genannten C2-C20-Alkylgruppen entspre- chen, sowie für die linearen C21-C3o-Homologe.

In einer besonderen Ausführungsform weist das nematische achirale polymerisierbare Monomer folgende Strukturformel X auf In einer weiteren besonderen Ausführungsform weist das chirale polymerisierbare Monomer folgende Strukturformel XI oder XII auf und/oder Das Mengenverhältnis von achiralem nematischem Monomer zu chira- lem Monomer wird so gewählt, dass das aus diesen Monomeren ent- stehende Polymerisat nach der Orientierung eine Ganghöhe der he- likalen Überstruktur aufweist, die einer Wellenlänge im IR-Spek- tralbereich entspricht. Dabei hängt das Mengenverhältnis von der Art der nematischen und chiralen Monomeren ab und muss von Ein- zelfall zu Einzelfall bestimmt werden.

Alternativ kann als Komponente B wenigstens ein cholesterisches polymerisierbares Monomer der Gruppe b) verwendet werden.

XII

Bevorzugte Monomere der Gruppe b) sind in der DE-A 19602848 be- schrieben, auf die hiermit in vollem Umfang Bezug genommen wird.

Insbesondere umfassen die Monomere b) mindestens ein cholesteri- sches polymerisierbares Monomer der Formel XIII (Z1-Yl-Al-y2-Ml-y3) nx (XIII) Die Variablen sind dabei wie bei den Monomeren der Gruppe a) de- finiert. Die bevorzugten Ausgestaltungen gelten entsprechend.

Alternativ kann als Komponente B wenigstens ein cholesterisches vernetzbares Polymer der Gruppe c) verwendet werden.

Bevorzugte Polymere der Gruppe c) sind cholesterische Cellulose- derivate, wie sie in der DE-A-197 136 38 beschrieben werden, ins- besondere cholesterische Mischester von (1) Hydroxyalkylethern der Cellulose mit (2) gesättigten, aliphatischen oder aromatischen Carbonsäuren und (3) ungesättigten Mono-oder Dicarbonsäuren.

Besonders bevorzugt sind Mischester, bei denen die über Ether- funktionen gebundenen Hydroxyalkylreste der Komponente (1) gerad- kettige oder verzweigte C2-C1o-Hydroxyalkylreste, insbesondere Hy- droxypropyl-und/oder Hydroxyethylreste umfassen. Die Komponente (1) der einsetzbaren Mischester weist vorzugsweise ein Molekular- gewicht von etwa 500 bis etwa 1 Million auf. Bevorzugtermaßen sind die Anhydroglukose-Einheiten der Cellulose mit einem durch- schnittlichen molaren Substitutionsgrad von 2 bis 4 mit Hydro- xyalkylresten verethert. Die Hydroxyalkylgruppen in der Cellulose können gleich oder verschieden sein. Bis zu 50 % davon können auch durch Alkylgruppen (insbesondere C1-Clo-Alkylgruppen) ersetzt werden. Ein Beispiel hierfür ist die Hydroxypropylmethylcellu- lose.

Als Komponente (2) der einsetzbaren Mischester sind geradkettige aliphatische C1-Clo-Carbonsäuren, insbesondere C2-C6-Carbonsäuren, verzweigte aliphatische C4-Clo-Carbonsäuren, insbesondere C4-C6-Carbonsäuren oder geradkettige oder verzweigte Halogencar- bonsäuren brauchbar. Die Komponente (2) kann auch Benzoesäure oder aromatisch substituierte aliphatische Carbonsäuren, insbe- sondere Phenylessigsäure sein. Besonders bevorzugt ist die Kompo- nente (2) ausgewählt unter Essigsäure, Propionsäure, n-Butter- säure, Isobuttersäure oder n-Valeriansäure, insbesondere unter

Propionsäure, 3-Cl-Propionsäure, n-Buttersäure oder Isobutter- säure.

Vorzugsweise ist die Komponente (3) ausgewählt unter ungesättig- ten C3-C12-Mono-oder Dicarbonsäuren oder Halbestern einer derar- tigen Dicarbonsäure, insbesondere a, ß-ethylenisch ungesättigten C3-C6-Mono-oder Dicarbonsäuren oder Halbestern der Dicarbonsäu- ren.

Die Komponente (3) der einsetzbaren Mischester ist besonders be- vorzugt ausgewählt unter Acrylsäure, Methacrylsäure, Crotonsäure, Vinylessigsäure, Maleinsäure, Fumarsäure oder Undecensäure, ins- besondere unter Acrylsäure oder Methacrylsäure.

Vorzugsweise ist die Komponente (1) mit einem durchschnittlichen molaren Substitutionsgrad von 1,5 bis 3, insbesondere von 1,6 bis 2,7, besonders bevorzugt von 2,3 bis 2,6 mit der Komponente (2) und (3) verestert. Vorzugsweise sind etwa 1 bis 30 %, insbeson- dere 1 bis 20 % oder 1 bis 10 %, besonders bevorzugt etwa 5 bis 7 % der OH-Gruppen der Komponente (1) mit der Komponente (3) ver- estert.

Das Mengenverhältnis der Komponente (2) zu Komponente (3) be- stimmt die Reflexionswellenlänge des Polymers.

Gut geeignete Polymere der Gruppe c) sind außerdem die in der DE-A-197 17 371 beschriebenen, propargylterminierten, cholesteri- schen Polyester oder Polycarbonate.

Bevorzugt unter diesen Verbindungen sind Polyester oder Polycar- bonate mit wenigstens einer Propargylendgruppe der Formel R6C=C-CH2-, worin R6 für H, C1-C4-Alkyl, Aryl oder Ar-C1-C4-alkyl (z. B. Benzyl oder Phenethyl) steht, die direkt oder über ein Bindeglied an die Polyester oder Polycarbonate gebunden ist. Das Bindeglied ist vorzugsweise ausgewählt unter (die Propargylgruppe ist an Z gebunden), worin R7 für H, C1-C4-Alkyl oder Phenyl steht, Z für O, S oder NR8 steht, und R8 für H, C1-C4-Alkyl oder Phenyl steht.

Vorzugsweise ist in den Polyestern die Propargylendgruppe über

gebunden.

Die Polyester enthalten vorzugsweise (4) mindestens eine aromatische oder araliphatische Dicarbonsäu- reeinheit und/oder mindestens eine aromatische oder aralipha- tische Hydroxycarbonsäureeinheit und (5) mindestens eine Dioleinheit.

Bevorzugte Dicarbonsäureeinheiten sind solche der Formel insbesondere solche der Formel

wobei jede der Phenylgruppen bzw. die Naphthylgruppe 1, 2 oder 3 Substituenten aufweisen kann, die unabhängig voneinander ausge- wählt sind unter C1-C4-Alkyl, C1-C4-Alkoxy, Halogen oder Phenyl, wobei in den obigen Formeln W für NR9, S, O, (CH2) rO (CH2) q, (CH2) s oder eine Einfachbindung steht, R9 Alkyl oder Wasserstoff bedeutet, s eine ganze Zahl von 1 bis 15 bedeutet, und r und q unabhängig voneinander für ganze Zahlen von 0 bis 10 ste- hen.

Bevorzugte Hydroxycarbonsäureeinheiten sind solche der Formel wobei jede Phenylgruppe oder die Naphthylgruppe 1, 2 oder 3 Sub- stituenten aufweisen kann, die unabhängig voneinander ausgewählt sind unter C1-C4-Alkyl, C1-C4-Alkoxy, Halogen oder Phenyl.

Bevorzugte Dioleinheiten sind solche der Formel

insbesondere solche der Formel

wobei in den obigen Formeln L für Alkyl, Alkoxy, Halogen, COOR11, COR11, CONHR11 oder NHCORII steht, X für S, O, N, CH2 oder eine Einfachbindung steht, A eine Einfachbindung, (CH2)n' O (CH2) n, S (CH2) n, NR11 (CH2) n, CH2-- (. --'CH2CH2--.)--.- --.--\0)-- V U oder bedeutet, Rll Alkyl oder Wasserstoff bedeutet, RIO Wasserstoff, Halogen, Alkyl oder Phenyl bedeutet und n eine ganze Zahl von 1 bis 15 bedeutet.

Bevorzugt sind Polyester, die mindestens eine Dicarbonsäureein- heit der Formel

und mindestens eine Dioleinheit der Formel wobei RIO für H, Halogen, C1-C4-Alkyl, insbesondere CH3 oder C (CH3) 3, oder Phenyl steht, enthalten.

Weitere bevorzugte Verbindungen sind Diester der Formel P-Y-B-CO- O-A-O-CO-B-Y-P, worin P für eine Propargylendgruppe der oben de- finierten Formel steht, Y für O, S oder NR12 (R12 = C1-C4-Alkyl) steht, B für jede Phenylgruppe oder die Naphthylgruppe 1, 2 oder 3 Substituen- ten aufweisen kann, die unabhängig voneinander ausgewählt sind unter C1-C4-Alkyl, C1-C4-Alkoxy, Halogen oder Phenyl, und A (zu- sammen mit den benachbarten Sauerstoffatomen) für eine der oben genannten Dioleinheiten steht.

Besonders bevorzugte Diester sind solche der oben genannten For- mel, in der B für insbesondere Diester der Formel HC-CCH20-B-CO-0-A-O-CO-B-OCH2-C-CH, worin

A die unter (6) genannten Bedeutungen besitzt.

Weitere bevorzugte Verbindungen sind Polycarbonate, die minde- stens eine Dioleinheit der oben genannten Formeln, insbesondere der Formeln eingebaut enthalten.

Bevorzugte Polycarbonate sind dabei solche, die als Dioleinheiten mindestens eine mesogene Einheit der Formel mindestens eine chirale Einheit der Formel

und gegebenenfalls eine nicht-chirale Einheit der Formel enthalten, wobei R10 die oben angegebenen Bedeutungen besitzt und insbesondere für H oder CH3 steht.

Besonders bevorzugte Polycarbonate sind solche mit Propargylend- gruppen der Formel HC-CCH20-R13-Co, worin R13 für Als Polymere der Gruppe c) sind außerdem cholesterische Polycar- bonate, die auch an nicht-terminaler Position photoreaktive Grup- pen enthalten, geeignet. Solche Polycarbonate werden in der DE-A-196 31 658 beschrieben. Sie entsprechen vorzugsweise der Formel XIV wobei das Molverhältnis w/x/y/z etwa 1 bis 20/etwa 1 bis 5/etwa 0 bis 10/etwa 0 bis 10 beträgt. Besonders bevorzugt ist ein Molver- hältnis w/x/y/z von etwa 1 bis 5/etwa 1 bis 2/etwa 0 bis 5/etwa 0 bis 5.

In der Formel XIV steht A für eine mesogene Gruppe der Formel B für eine chirale Gruppe der Formel

CH3 CH3 X CH2-CH CH2-CH3 X-CH2 CH CH2 CH3 L I CH3 X CH2 CH-CH2 CH3 0 1-ro 0 Ouzo 0 (Isosorbid), (Isomannid), (Isoidid), D für eine photoreaktive Gruppe der Formel oder und E für eine weitere, nicht-chirale Gruppe der Formel

wobei in den obigen Formeln L für Alkyl, Alkoxy, Halogen, COOR15, oCoR15, CONHR15 oder NHCOR15 steht, X für S, O, N, CH2 oder eine Einfachbindung steht, R15 für Alkyl oder Wasserstoff steht, A eine Einfachbindung, (CH2) ni O (CH2) n, S (CH2) n, NR (CH2) n' R14 Wasserstoff, Halogen, Alkyl oder Phenyl bedeutet und n eine ganze Zahl von 1 bis 15 bedeutet.

Wenn R14 für Alkyl, Halogen und A für eine Einfachbindung stehen oder wenn R14 für H oder Alkyl und A für steht, handelt es sich um löslichkeitsverbessernde Gruppen. Bei- spiele hierfür sind Isosorbid, Isomannid und/oder Isoidid ist die bevorzugte chirale Komponente.

Der Anteil der chiralen Diolstruktureinheiten liegt bevorzugt im Bereich von 1 bis 80 mol-% des Gesamtgehaltes an Diolstrukturein- heiten, besonders bevorzugt 2 bis 20 mol-%, je nach gewünschtem Reflexionsverhalten.

Alternativ kann als Komponente B ein cholesterisches Polymer in einem polymerisierbaren Verdünnungsmittel (Gruppe d)) verwendet werden.

Bevorzugte Polymere der Gruppe d) sind beispielsweise vernetz- bare, cholesterische Copolyisocyanate, wie sie in der US-A-08 834 745 beschrieben werden, auf die hiermit in vollem Umfang Bezug genommen wird. Solche Copolyisocyanate weisen wiederkehrende Ein- heiten der Formeln und gegebenenfalls der Formel worin R16 für einen chiralen aliphatischen oder aromatischen Rest steht, R17 für einen vernetzbaren Rest steht und R18 für einen achiralen Rest steht.

Soweit nicht anders angegeben, ist hier unter"Alkyl" (auch in Bedeutungen wie Alkoxy, Dialkyl, Alkylthio etc. ) ein verzweigtes und unverzweigtes Ci-Cis-Alkyl, vorzugsweise C3-C12-, besonders be- vorzugt C4-C1o-, insbesondere C6-Clo-Alkyl zu verstehen.

Vorzugsweise ist R16 ausgewählt unter (chiralen) verzweigten oder unverzweigten Alkyl-, Alkoxyalkyl-, Alkylthioalkyl-, Cycloalkyl-, Alkylphenyl-oder C3-C9-Epoxyalkylresten oder Resten von Estern von C1-C6-Fettsäuren mit C1-C6-Alkanolen oder C3-C9-Dialkylketonen.

Der Esterrest kann sowohl über den Fettsäureanteil als auch über

den Alkanolrest an das N-Atom gebunden sein. Der Rest R16 kann 1, 2 oder 3 Substituenten aufweisen, die gleich oder verschieden und ausgewählt sind unter Alkoxygruppen, Di-C1-C4-alkylaminogruppen, CN, Halogenatomen oder C1-C4-Alkylthiogruppen.

Vorzugsweise ist R16 ausgewählt unter Alkyl, Alkoxyalkyl, Resten von Estern von C1-C6-Fettsäuren mit C1-C6-Alkanolen, C3-C9-Dialkyl- ketonen und epoxidierten C3-C9-Epoxyalkylresten, wobei R16 durch 1 oder 2 Reste substituiert sein kann, die gleich oder verschieden und ausgewählt sind unter Alkoxy, Halogen, CN oder CF3. Bevorzugte Substituenten für verzweigte oder unverzweigte Alkyl-oder Alko- xyreste sind ausgewählt unter Alkoxygruppen, Halogenatomen oder CN ; für Ester von C1-C6-Fettsäuren mit C1-C6-Alkanolen unter Alko- xygruppen, Halogenatomen, CN oder CF3 und für C3-C9-Dialkylketone unter Alkoxygruppen, Halogenatomen oder CN.

Insbesondere weist die Hauptkette des Restes R16 eine Länge von 3 bis 12, insbesondere 6 bis 10, vorzugsweise 6 bis 8 Gliedern (C-, O-und/oder S-Atome) auf. Besonders bevorzugt sind Reste R16, die ausgewählt sind unter fH3 fH3 - CH2- CH--ECH2) 3- CH-CH3 2, 6-Dimethylheptyl * CH3 CH3 CH2 CH-C2H5/_ (CH2 t CH-C2H CH3 CH3 1-1 CH-C2H5 CH CH2-CH3 CH3 CN I --CH2- (CH2)-CH3,--CH-CH2)--CH3. 5 ci CH3 Br CH3 - CH-CH-C2H5 r-CH-CH-C2H5, * * * *

Ganz besonders bevorzugt ist die Komponente XV der einsetzbaren Copolyisocyanate von 2,6-Dimethylheptylisocyanat abgeleitet.

Der Rest R17 der einsetzbaren Copolyisocyanate ist vorzugsweise ausgewählt unter C3-C11-Alkenylresten, C4-C11-Vinyletherresten (= Vinyl-C2-C9-Alkylethern), ethylenisch ungesättigten C3-C1l-Car- bonsäureresten und Estern von ethylenisch ungesättigten C3-C6-MO- nocarbonsäuren mit C2-C6-Alkanolen, wobei die Bindung an das N- Atom über den Alkanolrest des Esters erfolgt. Besonders bevorzugt ist der Rest ausgewählt unter Methylacrylat, Ethylacrylat, Propy- lacrylat, n-Butylacrylat, Isobutylacrylat, 2-Ethylhexylacrylat, Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat, Propylmethacrylat, n-Butyl- methacrylat, Isobutylmethacrylat, 2-Ethylhexylmethacrylat, insbe- sondere unter Ethylacrylat oder Ethylmethacrylat.

Der Rest R18 besitzt vorzugsweise die gleichen Bedeutungen wie der Rest R16. Er ist aber achiral, d. h. er weist kein Chiralitätszen- trum auf oder liegt als racemisches Gemisch vor.

Besonders bevorzugt weist die Hauptkette des Restes R18 eine Länge von 4 bis 12, insbesondere 6 bis 10, vorzugsweise 6 bis 8 Glie- dern (C-, O-und/oder S-Atome) auf. Ganz besonders bevorzugt ist die Komponente XVII der erfindungsgemäßen Copolyisocyanate von n-Hexylisocyanat, n-Heptylisocyanat oder n-Octylisocyanat abge- leitet.

Die Komponenten XV, XVI und XVII sind vorzugsweise im Molmengen- verhältnis XV : XVI : XVII von etwa 1 bis 20 : 1 bis 20 : 50 bis 98, insbesondere etwa 5 bis 15 : 5 bis 15 : 65 bis 90, besonders be- vorzugtermaßen etwa 15 : 10 : 75 vorhanden.

Die Einheiten XV, XVI und XVII können in den einsetzbaren Copo- lyisocyanaten statistisch verteilt sein.

Bevorzugt wird als Komponente B der erfindungsgemäßen Zusammen- setzung ein Gemisch aus wenigstens einem achiralen nematischen polymerisierbaren Monomer und einem chiralen polymerisierbaren Monomer, d. h. Gruppe a), verwendet.

Die Verbindung bzw. die Summe der Verbindungen A liegt vorzugs- weise in einer Menge von 0,01 bis 20 Gew. -%, besonders bevorzugt von 0,01 bis 15 Gew. -%, ganz besonders bevorzugt 0,01 bis 10 Gew. -%, insbesondere von 0,01 bis 7 Gew.-% und speziell 0,01 bis 5 Gew. -%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Komponente B, vor.

Die Zusammensetzung ist vorzugsweise entweder ein inniges Gemisch der Komponenten A und B oder eine Lösung oder Dispersion der Kom- ponenten A und B in einem geeigneten Verdünnungsmittel. Dabei be- trägt der Anteil an Verdünnungsmittel vorzugsweise 5 bis 95 Gew. -%, besonders bevorzugt 30 bis 80 Gew. -%, insbesondere 40 bis 70 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung.

Geeignete Verdünnungsmittel sind für die Verbindungen der Gruppen a) oder b) lineare oder verzweigte Ester, besonders Essigsäuree- ster, cyclische Ether und Ester, Alkohole, Lactone, aliphatische und aromatische Kohlenwasserstoffe, wie Toluol, Xylol und Cyclo- hexan, sowie Ketone, Amide, N-Alkylpyrrolidone, besonders N-Me- thylpyrrolidon, und insbesondere Tetrahydrofuran (THF), Dioxan und Methylethylketon (MEK).

Geeignete Verdünnungsmittel für die Polymere der Gruppe c) sind beispielsweise Ether und cyclische Ether wie Tetrahydrofuran oder Dioxan, chlorierte Kohlenwasserstoffe, wie Dichlormethan, Trich- lormethan, Tetrachlorkohlenstoff, Dichlorethan, 1,1, 2,2-Tetrach- lorethan, 1-Chlornaphthalin, Chlorbenzol oder 1,2-Dichlorbenzol.

Diese Verdünnungsmittel sind besonders für Polyester und Polycar- bonate geeignet. Geeignete Verdünnungsmittel für Cellulosederi- vate sind beispielsweise Ether, wie Dioxan, oder Ketone, wie Ace- ton. Werden Copolyisocyanate als Polymere der Gruppe d) einge- setzt, ist es sinnvoll, polymerisierbare Verdünnungsmittel, wie in der US-A-08 834 745 beschrieben, zu verwenden. Solche polyme- risierbaren Verdünnungsmittel sind beispielsweise - Ester a, ß-ungesättigter Mono-oder Dicarbonsäuren, insbeson- dere C3-C6-Mono-oder Dicarbonsäuren, mit Cl-C12-Alkanolen, C2-C12-Alkandiolen oder deren Cl-C6-Alkylether und Phenyl- ether, beispielsweise Acrylate und Methacrylate, Hydroxy- ethyl-oder Hydroxypropylacrylat oder-methacrylat sowie 2-Ethoxyethylacrylat oder-methacrylat ; -Vinyl-Cl-Cl2-alkylether, wie Vinylethyl-, Vinylhexyl-oder Vi- nyloctylether ; - Vinylester von Cl-C12-Carbonsäuren, wie Vinylacetat, Vinylpro- pionat, Vinyllaurat ; - C3-C9-Epoxide, wie 1,2-Butylenoxid, Styroloxid ; - N-Vinylpyrrolidon, N-Vinylcaprolactam, N-Vinylformamid ;

vinylaromatische Verbindungen, wie Styrol, a-Methylstyrol, Chlorstyrol, und - Verbindungen mit zwei oder mehreren vernetzbaren Gruppen, wie Diester von Diolen (einschließlich Polyethylenglykole) mit Acryl-oder Methacrylsäure oder Divinylbenzol.

Beispiele für bevorzugte polymerisierbare Verdünnungsmittel sind 2-Ethoxyethylacrylat, Diethylenglykoldiacrylat, Ethylenglykoldi- methacrylat, Diethylenglykoldimethacrylat, Triethylenglykoldi- methacrylat, Diethylenglykolmonomethyletheracrylat, Phenoxy- ethylacrylat und Tetraethylenglykoldimethacrylat. Ein besonders bevorzugtes polymerisierbares Verdünnungsmittel ist Styrol.

Auch die Gemische der Gruppen a), b) oder c) können in kleinen Mengen polymerisierbare Verdünnungsmittel enthalten. Bevorzugte, a), b) oder c) zusetzbare, polymerisierbare Lösungsmittel sind Acrylate, insbesondere höherfunktionelle Acrylate wie Bis, Tris- oder Tetraacrylate, besonders bevorzugt hochsiedende Oligoacry- late. Die bevorzugte Zusatmenge liegt bei etwa 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Gemischs.

Die erfindungsgemäße Zusammensetzung kann zur Einstellung der Viskosität und des Verlaufverhaltens mit zusätzlichen Komponenten vermischt werden.

Einsetzbar sind beispielsweise polymere Bindemittel und/oder mo- nomere Verbindungen, die durch Polymerisation in ein polymeres Bindemittel überführt werden können. Als solche Mittel eignen sich z. B. in organischen Lösungsmitteln lösliche Polyester, Cel- luloseester, Polyurethane, Silikone, polyether-oder polyestermo- difizierte Silikone. Besonders bevorzugt werden Celluloseester wie Celluloseacetobutyrat eingesetzt.

Auch die Zugabe geringer Mengen geeigneter Verlaufsmittel kann vorteilhaft sein. Einsetzbar sind etwa 0, 005 bis 1 Gew. -%, insbe- sondere 0,01 bis 0,5 Gew. -%, bezogen auf die Menge an eingesetz- tem Cholester. Geeignete Verlaufsmittel sind beispielsweise Gly- kole, Siliconöle und insbesondere Acrylatpolymere, wie die unter der Bezeichnung Byk 361 bzw. Byk 358 der Firma Byk-Chemie erhält- lichen Acrylatcopolymere und die unter der Bezeichnung Tego flow ZFS 460 der Fa. Tego erhältlichen modifizierten silikonfreien Acrylatpolymere.

Gegebenenfalls enthält die Zusammensetzung auch Stabilisatoren gegen UV-und Witterungseinflüsse. Hierfür eignen sich zum Bei- spiel Derivate des 2,4-Dihydroxybenzophenons, Derivate des

2-Cyan-3,3-diphenylacrylates, Derivate des 2, 2', 4, 4'-Tetrahydro- xybenzophenons, Derivate des Orthohydroxyphenylbenztriazols, Sa- licylsäureester, Orthohydroxyphenyl-s-triazine oder sterisch ge- hinderte Amine. Diese Stoffe können allein oder vorzugsweise in Form von Gemischen eingesetzt werden.

Weiterhin kann die erfindungsgemäße Zusammensetzung, wenn sie photochemisch polymerisiert werden soll, handelsübliche Photoini- tiatoren enthalten. Für eine Härtung durch Elektronenstrahlen sind solche nicht notwendig. Geeignete Photoinitiatoren sind bei- spielsweise Isobutyl-benzoinether, 2,4, 6-Trimethylbenzoyldi- phenylphosphinoxid, 1-Hydroxycyclohexyl-phenylketon, 2-Benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-furan-1-on, Mischungen von Benzophenon und 1-Hydroxycyclohexyl-phenylketon, 2, 2-Dimethoxy-2-phenylacetophenon, perfluorierte Diphenyltitano- cene, 2-Methyl-1- (4- [methylthio] phenyl)-2- (4-morpholinyl)-1-pro- panon, 2-Hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-on, 4- (2-Hydroxy- ethoxy) phenyl-2-hydroxy-2-propylketon, 2,2-Diethoxyacetophenon, 4-Benzoyl-4'-methyldiphenyl-sulfid, Ethyl-4- (dimethyl- amino) benzoat, Mischungen von 2-Isopropylthioxanthon und 4-Iso- propyl-thioxanthon, 2- (Dimethylamino) ethylbenzoat, d, l-Campher- chinon, Ethyl-d, l-campherchinon, Mischungen von Benzophenon und 4-Methylbenzophenon, Benzophenon, 4,4'-Bisdimethylamin-benzo- phenon, (15-Cyclopentadienyl) (86_isopropylphenyl)-eisen (II) -hexa- fluorophosphat, Triphenylsulfonium-hexafluorophosphat oder Mischungen von Triphenylsulfoniumsalzen, sowie Butandioldiacry- lat, Dipropylenglykoldiacrylat, Hexandioldiacrylat, 4- (1, 1-Di- methylethyl) cyclohexylacrylat, Trimethylolpropantriacrylat und Tripropylenglykoldiacrylat.

Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist auch die Verwendung ei- ner wie zuvor beschriebenen Zusammensetzung zur Herstellung einer Wärmeisolationsbeschichtung.

Ein weiterer Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist eine Wär- meisolationsbeschichtung, umfassend wenigstens eine orientierte, gehärtete Schicht der erfindungsgemäßen Zusammensetzung.

Vorzugsweise umfasst die erfindungsgemäße Wärmeisolationsbe- schichtung wenigstens ein IR-Strahlung reflektierendes, gehärte- tes cholesterisches Polymer, das eine Ganghöhe der helikalen Überstruktur aufweist, die einer Wellenlänge im IR-Spektralbe- reich entspricht.

Das cholesterische Polymer ist beispielsweise durch Orientierung und Härtung einer wie zuvor beschriebenen Komponente B der Gruppe a), b), c) oder d) erhältlich.

Umfasst die Wärmeisolationsbeschichtung wenigstens zwei Schich- ten, so weisen die die IR-Strahlung reflektierenden Polymere in den unterschiedlichen Schichten vorzugsweise jeweils unterschied- liche Ganghöhen der helikalen Überstruktur, die Wellenlängen im IR-Spektralbereich entsprechen, und/oder entgegengesetzte Chira- litäten (Händigkeit) auf. Ebenfalls bevorzugt ist es, wenn bei einer wenigstens 2-schichtigen Wärmeisolationsbeschichtung die Ganghöhe der helikalen Überstrukturen von jeweils 2, vorzugsweise benachbarten, Schichten gleich, ihre Chiralität jedoch entgegen- gesetzt ist. Gleichfalls bevorzugt ist es, wenn bei einer wenig- stens 2-schichtigen Wärmeisolationsbeschichtung zwischen zwei Schichten mit helikaler Überstruktur gleicher Ganghöhe und glei- cher Chiralität ein Medium vorliegt, das die Drehrichtung des transmittierten zirkular polarisierten Lichtes umkehrt, insbeson- dere eine sog. B/2-Folie oder-Platte.

Vorzugsweise umfasst die Wärmeisolationsbeschichtung 1 bis 10 Schichten, besonders bevorzugt 1 bis 4 Schichten und speziell 2 Schichten. Vorzugsweise unterscheiden sich die beiden Schichten entweder in der Ganghöhe der helikalen Überstruktur oder in der Chiralität. Besonders bevorzugt weisen die beiden Schichten die gleiche Ganghöhe der helikalen Überstruktur, jedoch entgegenge- setzte Chiralitäten auf.

Ein weiterer Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist ein Ver- fahren zur Herstellung der erfindungsgemäßen Wärmeisolationsbe- schichtung, bei dem man eine erfindungsgemäße Zusammensetzung auf ein Substrat aufträgt, gegebenenfalls orientiert und härtet. Die Härtung erfolgt vorzugsweise durch Polymerisation der Monomere der Gruppen a) oder b) oder des Lösungsmittels der Gruppe d) bzw. durch Vernetzung des Polymers der Gruppe c).

Zur Herstellung weiterer Schichten wird den Vorgang des Aufbrin- gens, Orientierens und Härtens wiederholt, wobei dabei vorzugs- weise eine von der ersten Zusammensetzung verschiedene erfin- dungsgemäße Zusammensetzung verwendet wird, so dass die orien- tierten, durch Polymerisation der Monomere der Gruppe a) oder b) erhältlichen cholesterischen Polymere bzw. die orientierten cho- lesterischen Polymere der Gruppe c) oder d) in unterschiedlichen Schichten eine andere Ganghöhe der helikalen Überstruktur und/ oder eine entgegengesetzte Chiralität aufweisen als diejenigen der ersten Schicht. Alternativ oder ergänzend kann zwischen zwei Schichten mit helikaler Überstruktur gleicher Ganghöhe und glei-

cher Chiralität ein Medium eingebaut werden, das die Drehrichtung des transmittierten zirkular polarisierten Lichtes umkehrt, ins- besondere eine sog. B/2-Folie oder-Platte.

Die zuvor gemachten Ausführungen zu den bevorzugten Zusammenset- zungen und Wärmeisolationsbeschichtungen gelten hier entspre- chend.

Das Substrat ist vorzugsweise transparent. Das transparente Sub- strat kann beispielsweise ein Glasbaustein, eine Fensterscheibe, Autoscheibe oder eine zu Isolationszwecken auf Glas zu klebende Folie sein.

Das Aufbringen der cholesterischen IR-reflektierenden Schicht auf das Substrat kann mittels üblicher Verfahren erfolgen, beispiels- weise mittels Verfahren, die ausgewählt sind unter Luft-Rakelbe- schichtung, Rakelbeschichtung, Luftmesserbeschichtung, Quetschbe- schichtung, Imprägnierbeschichtung, Umkehrwalzenbeschichtung, Transferwalzenbeschichtung, Gravurbeschichtung,"kiss-coating", Gießbeschichtung, Spraybeschichtung, Spinnbeschichtung oder Druckverfahren, wie Hoch-, Tief-, Flexo-, Offset-oder Siebdruck.

Die erfindungsgemäße Zusammensetzung kann mit jedem geeigneten Verdünnungsmittel vor dem Aufbringen auf das Substrat verdünnt werden. Geeignete Verdünnungsmittel sind die vorstehend genann- ten.

Die Härtung der aufgebrachten IR-reflektierende (n) Schicht (en) kann thermisch, photochemisch oder durch Elektronenstrahl erfol- gen.

Selbstverständlich muss die Härtung in der cholesterischen Phase und unter Erhalt der cholesterischen Phase erfolgen.

Werden mehrere Schichten aufgebracht, können diese jeweils ein- zeln aufgetragen, gegebenenfalls orientiert, gegebenenfalls ge- trocknet und gehärtet werden. Es ist jedoch ebenso möglich, meh- rere oder auch alle aufzubringende Schichten in einem Auftra- gungsvorgang nass-in-nass auf den zu beschichtenden Gegenstand aufzubringen, gegebenenfalls gemeinsam zu trocknen und danach ge- meinsam zu härten. Voraussetzung für das gleichzeitige Auftragen der cholesterischen Schichten ist jedoch, dass es nicht zu einer Interdiffusion zwischen verschiedenen Schichten mit unterschied- lichem Reflexionsverhalten kommt.

Für das gleichzeitige Auftragen der cholesterischen Schichten sind Gießverfahren besonders geeignet, insbesondere Messer-bzw.

Rakelgießverfahren, Extrusions-bzw. Abstreifgießverfahren sowie das Kaskadengießverfahren. Die genannten Gießverfahren sind bei- spielsweise in der DE-A-19 504 930, der EP-A-431 630, der DE-A-3 733 031 sowie der EP-A-452 959 beschrieben, worauf hiermit aus- drücklich Bezug genommen wird.

Die erfindungsgemäße Zusammensetzung ist insbesondere zur Her- stellung von farbig getönten Isolierfenstern oder wärmeisolieren- den transparenten Baustoffen oder zur Isolierung von Wohn-, Büro- oder Industriebauten gegen Wärmestrahlung geeignet. Außerdem ist die erfindungsgemäße Zusammensetzung auch zur Verwendung im Auto- mobilsektor, insbesondere zur Herstellung von wärmeisolierenden farbig getönten Verbundglasscheiben, besonders geeignet. Die mit der erfindungsgemäßen Wärmeisolationsbeschichtung versehenen Ge- genstände sind daher ein weiterer Gegenstand der vorliegenden Er- findung.

Aufgrund der Gegenwart der Verbindung A weist die erfindungsge- mäße Wärmeisolationsbeschichtung eine Farbtönung, vorzugsweise eine bläuliche oder grünliche Farbtönung, auf. Zudem absorbiert Verbindung A vorteilhafterweise IR-Strahlung, so dass die Wärmei- solationseigenschaften der Beschichtung verbessert werden, da nicht reflektierte IR-Strahlung absorbiert und nicht transmit- tiert wird.

Die erfindungsgemäße Wärmeisolationsbeschichtung weist eine nach ISO 9050 bestimmte Transmission von Licht im Wellenlängenbereich von 350 bis 750 nm von wenigstens 70%, vorzugsweise wenigstens 72 % auf.

Die nachfolgenden Beispiele sollen die Erfindung veranschauli- chen, ohne sie jedoch einzuschränken.

Beispiel Als nematisches achirales polymerisierbares Monomer verwendete man eine Verbindung der Formel X.

Als chirales polymerisierbares Monomer verwendete man eine Ver- bindung der Formel XI.

Als Verbindung A verwendete man eine Verbindung der Formel I, wo- rin P für ein Quaterrylimid der Formel II steht, das am Quaterry- lengerüst mit 6 tert-Alkylphenoxy-Resten symmetrisch substituiert ist (n = 6) und keine Halogen-Substituenten trägt (m = 0) und wo-

rin R2 für Alkyl-substituiertes Phenyl steht. Diese Verbindung wird nachfolgend als Ia bezeichnet.

Als Lösungsmittel verwendete man Tetrahydrofuran (THF).

Ein Gemisch der Verbindungen X, XI und Ia, des Verlaufsmittels Byk 361 (10% ig ; Fa. Byk Chemie) und des Photoinitiators Irgacure 184 der Fa. Ciba in den in Tabelle 1 aufgeführten Konzentrationen in 10 g THF wurde mit einem Rakel in der in Tabelle 1 jeweils aufgeführten Nassschichtdicke auf eine PET-Folie aufgetragen.

Nach Abdampfen des Lösungsmittels bei ca. 85 °C bildete sich eine homogene, transparente, grüngetönte Schicht. Diese wurde mittels einer UV-Lampe gehärtet.

Tabelle 1 Versuch Menge (X) Menge Menge Menge Menge [g] (XI) [g] (Ia) [g] (Byk 361) (Irgacure) [g] [g] A 1, 5-0, 15 0, 5 0, 2 B 4, 5-0, 45 0,5 0,2 C 4, 5 0, 245 0, 45 0,5 0,2 Die visuelle Beurteilung ergab die in Tabelle 2 dargestellten Er- gebnisse.

Tabelle 2 Versuch Schichtdicke [m] Visuelle Beurteilung 4,0 transparent A 5,5 transparent 7,0 beginnende Trübung 3, 8 trüb B 5,8 zunehmende Trübung 7,1 zunehmende Trübung 3,5 transparent C 5,3 transparent 6, 6 transparent Die Messung der Transmission bei den Versuchen B und C nach ISO 9050 bestätigte die visuelle Beurteilung. Die Ergebnisse sind in nachfolgender Tabelle 3 zusammengestellt.

Tabelle 3

Versuch Schichtdicke [µm] Tvis [%] Tsol [%] B 3, 8 59, 2 51,6 C 3, 572, 8 38, 8 Tvis = Transmission im Wellenlängenbereich von 350 bis 750 nm Tsol = Transmission im Wellenlängenbereich von 350 bis 2500 nm Soll-Werte nach ISO 9050 : Tvis> 70 % Tsol < 40 %