QUERVERWEIS AUF VERWANDTE ANMELDUNGEN

Diese Anmeldung beansprucht die Priorität gemäß 35 U.S.C. §119 der deutschen Patentanmeldung Nr. 102022 203 758.8, eingereicht am 13. April 2022, deren gesamter Inhalt hiermit durch Bezugnahme aufgenommen wird.

HINTERGRUND DER ERFINDUNG

Die vorliegende Erfindung betrifft eine optische Anordnung für die Mikrolithographie, die für die Verwendung von UV Nutzlicht geeignet ist, insbesondere von Licht im extremen ultravioletten (EUV) Bereich. Weiterhin betrifft die Erfindung ein optisches Modul, insbesondere einen Facettenspiegel, sowie eine optische Abbildungseinrichtung mit einem solchen optischen Modul. Die Erfindung lässt sich im Zusammenhang mit beliebigen optischen Abbildungsverfahren einsetzen. Besonders vorteilhaft lässt sie sich bei der Herstellung oder der Inspektion mikroelektronischer Schaltkreise sowie der hierfür verwendeten optischen Komponenten (beispielsweise optischer Masken) einsetzen.

Typischerweise umfassen die optischen Systeme, die im Zusammenhang mit der Herstellung solcher mikroelektronischer Schaltkreise verwendet werden, eine Vielzahl von optischen Elementmodulen, die optische Elemente wie etwa Linsen, Spiegel, Gitter usw. umfassen, die im Pfad des Lichts angeordnet sind. Diese optischen Elemente wirken normalerweise in einem Belichtungsprozess zusammen, um ein auf einer Maske, einem Retikel oder dergleichen gebildetes Muster zu beleuchten und ein Bild dieses Musters auf ein Substrat wie einen Wafer zu übertragen. Die optischen Elemente sind üblicherweise in einer oder mehreren funktionell unterschiedlichen optischen Elementgruppen zusammengefasst, die innerhalb unterschiedlicher optischer Elementeinheiten gehalten werden können. Facettenspiegelvorrichtungen wie die oben genannten können unter anderem dazu dienen, den Belichtungslichtstrahl zu homogenisieren, d. h. um eine möglichst gleichmäßige Leistungsverteilung innerhalb des Belichtungslichtbündels zu bewirken. Sie können auch verwendet werden, um jede gewünschte spezifische Leistungsverteilung innerhalb des Belichtungslichtbündels bereitzustellen. Aufgrund der fortschreitenden Miniaturisierung von Halbleiterbauelementen besteht nicht nur ein ständiger Bedarf an einer verbesserten Auflösung, sondern auch ein Bedarf an einer verbesserten Genauigkeit der zur Herstellung dieser Halbleiterbauelemente verwendeten optischen Systeme. Diese Genauigkeit muss natürlich nicht nur anfänglich vorhanden sein, sondern muss über den gesamten Betrieb des optischen Systems aufrechterhalten werden. Ein Problem in diesem Zusammenhang ist eine möglichst präzise Leistungsverteilung bzw. Intensitätsverteilung innerhalb des Belichtungslichtbündels, die möglichst gut mit einer gewünschten Leistungsverteilung übereinstimmt, um letztendlich unerwünschte Abbildungsfehler zu vermeiden bzw. zumindest zu reduzieren. Um eine möglichst feinfühlige Leistungsverteilung zu ermöglichen ist es daher wünschenswert, die optische Fläche der einzelnen Facettenelemente zu verringern und die Anzahl der Facettenelemente zu erhöhen, letztlich also die „Auflösung“ des Facettenspiegels zu erhöhen.

Um eine gewünschte Leistungsverteilung zu erzielen, wurden Facettenspiegelvorrichtungen entwickelt, wie sie beispielsweise in der DE 102 05425 A1 (Holderer et al.) offenbart sind, deren gesamte Offenbarung hierin durch Bezugnahme eingeschlossen ist. Die DE 102 05 425 A1 (Holderer et al.) zeigt unter anderem Facettenspiegelvorrichtungen, bei denen Facettenelemente mit sphärischer Rückfläche in einer zugeordneten Ausnehmung innerhalb eines Trägerelements sitzen. Die kugelförmige Rückfläche liegt an einer entsprechenden kugelförmigen Wand oder mehreren Kontaktpunkten des diese Ausnehmung begrenzenden Stützelementes an. Die sphärische Rückfläche weist einen vergleichsweise kleinen Krümmungsradius auf, so dass sie ein Drehzentrum des Facettenelements definiert, das weit entfernt von einem Krümmungsmittelpunkt der optischen Fläche des Facettenelements liegt. Mit der Rückseite des Facettenelementes ist zentral ein Betätigungshebel verbunden und entsprechende Manipulatoren neigen den Betätigungshebel, d.h. erzeugen seitliche Auslenkungen des freien Endes des Betätigungshebels, um sowohl die Position als auch die Ausrichtung der optischen Fläche der Facette einzustellen.

Ein ähnliches Justageprinzip ist auch aus der WO 2012/175116 A1 (Vogt et al.) bekannt offenbart, deren gesamte Offenbarung hierin durch Bezugnahme eingeschlossen ist. Auch hier ist an der Rückseite des Facettenelements ein langgestreckter Betätigungshebel angebracht. Die Verkippung der optischen Fläche des Facettenelements wird auch hier durch eine seitliche Auslenkung eines Betätigungshebels quer zu seiner Längsachse erzielt.

Diese Gestaltungen haben den Nachteil, dass eine Verstellung der Lage (also der Position und/oder Orientierung in wenigstens einem Freiheitsgrad bis hin zu allen Freiheitsgraden im Raum) der optischen Fläche des Facettenelements einen optischen Abbildungsfehler der gesamten Abbildungseinrichtung erhöhen kann. Typischerweise wirken sich solche Verstellbewegungen primär nachteilig auf die Fokussierung und das Koma der Abbildungseinrichtung aus.

KURZE ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG

Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine optische Anordnung einer Abbildungseinrichtung für die Mikrolithographie, ein entsprechendes optisches Modul sowie eine entsprechende optische Abbildungseinrichtung mit einer solchen Anordnung, ein Verfahren zum Abstützen eines optischen Elements sowie ein optisches Abbildungsverfahren zur Verfügung zu stellen, welche bzw. welches die zuvor genannten Nachteile nicht oder zumindest in geringerem Maße aufweist und insbesondere auf einfache Weise zumindest eine Reduktion der Abbildungsfehler zu erzielen, welche durch eine Verstellung des optischen Elements bedingt wird.

Die Erfindung löst diese Aufgabe mit den Merkmalen der unabhängigen Ansprüche.

Der Erfindung liegt die technische Lehre zugrunde, dass man auf einfache Weise eine gute Kompensation von Abbildungsfehlern erzielen kann, die durch eine Verstellung der Lage (also der Position und/oder Orientierung in wenigstens einem Freiheitsgrad bis hin zu allen Freiheitsgraden im Raum) der optischen Fläche erzielen kann, wenn der Abbildungsfehler durch eine Deformation der optischen Fläche zumindest teilweise kompensiert wird, wobei die Deformation durch eine Deformationseinrichtung erzielt wird, welche eine Relativbewegung, die sich bei der Verstellung der Lage der optischen Fläche zwischen zwei Komponenten der Anordnung ergibt, zwangsgekoppelt in eine Bewegung an dem optischen Element umsetzt. Die Bewegung an dem optischen Element resultiert hierbei aus einer Deformationslast, die von der Deformationseinrichtung in das optische Element eingeleitet wird. Diese Deformationslast am optischen Element bedingt eine Deformation der optischen Fläche, welche den durch die Lageverstellung des optischen Elements bzw. der optischen Fläche bedingten Abbildungsfehler zumindest teilweise (bevorzugt natürlich zumindest im Wesentlichen vollständig) kompensiert. Bei der Deformationslast kann es sich je nach der Gestaltung der Deformationseinrichtung um eine reine Deformationskraft oder ein reines Deformationsmoment oder eine Kombination hiervon handeln.

Mit anderen Worten wird der Starrkörperbewegung des optischen Elements (also der Lageänderung des nicht zwangsdeformierten optischen Elements) durch die Deformationseinrichtung in einfacher Weise eine zwangsweise Deformation überlagert, welche den durch die reine Starrkörperbewegung entstehenden Abbildungsfehler zumindest teilweise kompensiert. Die Zwangskopplung zwischen Starrkörperbewegung und der Deformation ist dabei natürlich bevorzugt auf den durch die reine Starrkörperbewegung entstehenden Abbildungsfehler abgestimmt, wobei die Kompensation so abgestimmt sein kann, dass die Kompensation kontinuierlich erfolgt (also in jeder von der definierten Ausgangslage abweichenden Lage in einem ausreichenden Maß vorliegt) oder speziell nur auf ein oder mehrere diskrete und vordefinierbare (von der definierten Ausgangslage abweichende) Lagen bzw. Stellsituationen hin abgestimmt bzw. optimiert ist. Solche definierte Stellsituationen können beispielsweise bei sogenannten Settingwechseln der Abbildungseinrichtung erforderlich bzw. vorgesehen sein. In den unterschiedlichen (typischerweise diskreten) Settings erfolgt dann eine entsprechende, zumindest teilweise Korrektur des durch die Starrkörperbewegung entstehenden Abbildungsfehlers.

Nach einem Aspekt betrifft die Erfindung daher eine optische Anordnung für die Mikrolithographie, insbesondere für die Verwendung von Licht im extremen UV-Bereich (EUV), mit einer optischen Elementeinheit, insbesondere einer Facettenelementeinheit, einer Stützeinrichtung und einer Deformationseinrichtung. Die optische Elementeinheit weist ein optisches Element mit einer optischen Fläche auf. Die Stützeinrichtung ist dazu ausgebildet, die optische Elementeinheit an einer Stützstruktur derart abzustützen, dass die optische Elementeinheit bezüglich der Stützstruktur in einem Lagestellvorgang in wenigstens einem Freiheitsgrad, insbesondere einem rotatorischen Freiheitsgrad, aus einer Ausgangslage verstellbar ist. Die Deformationseinrichtung ist dazu ausgebildet, die optische Fläche zu deformieren, wobei die Deformationseinrichtung weiterhin dazu ausgebildet ist, eine Relativbewegung, die sich in dem Lagestellvorgang zwischen einer ersten Komponente und einer zweiten Komponente der Anordnung ergibt, zwangsgekoppelt in eine Deformation der optischen Fläche umzusetzen.

Nach einem weiteren Aspekt betrifft die Erfindung eine optische Anordnung für die Mikrolithographie, insbesondere für die Verwendung von Licht im extremen UV-Bereich (EUV), mit einer optischen Elementeinheit, insbesondere einer Facettenelementeinheit, einer Stützeinrichtung und einer Deformationseinrichtung. Die optische Elementeinheit weist ein optisches Element mit einer optischen Fläche auf. Die Stützeinrichtung ist dazu ausgebildet, die optische Elementeinheit an einer Stützstruktur derart abzustützen, dass die optische Elementeinheit bezüglich der Stützstruktur in einem Lagestellvorgang in wenigstens einem Freiheitsgrad, insbesondere einem rotatorischen Freiheitsgrad, aus einer Ausgangslage verstellbar ist. Die Deformationseinrichtung ist dazu ausgebildet, die optische Fläche zu deformieren, wobei die Deformationseinrichtung einen ersten Anbindungsbereich und einen zweiten Anbindungsbereich aufweist und einen Deformationskraftfluss von dem ersten Anbindungsbereich zu dem zweiten Anbindungsbereich definiert. Der erste Anbindungsbereich ist an einem Antriebsende der Deformationseinrichtung angeordnet und dazu ausgebildet, an einem ersten Anbindungspunkt mit der Stützeinrichtung oder der Stützstruktur verbunden zu sein. Der zweite Anbindungsbereich an einem Abtriebsende der Deformationseinrichtung angeordnet und an einem zweiten Anbindungspunkt mit der optischen Elementeinheit verbunden. Die Deformationseinrichtung weist weiterhin einen dritten Anbindungsbereich auf, wobei der dritte Anbindungsbereich in Richtung des Deformationskraftflusses zwischen dem ersten Anbindungsbereich und dem zweiten Anbindungsbereich angeordnet ist. Der dritte Anbindungsbereich ist an einem dritten Anbindungspunkt mit der optischen Elementeinheit oder der Stützeinrichtung verbunden, wobei der dritte Anbindungspunkt derart angeordnet ist, dass der dritte Anbindungspunkt während des Lagestellvorgangs eine erste Relativbewegung zu dem ersten Anbindungspunkt erfährt. Die Deformationseinrichtung ist eine, insbesondere passive, Getriebeeinrichtung, die dazu ausgebildet ist, während des Lagestellvorgangs die erste Relativbewegung in eine zweite Relativbewegung zwischen dem zweiten Anbindungspunkt und dem dritten Anbindungspunkt umzusetzen, wobei während der zweiten Relativbewegung durch die Deformationseinrichtung an dem zweiten Anbindungspunkt eine Deformationslast in die optische Elementeinheit eingeleitet wird, die eine Deformation der optischen Fläche bewirkt.

Mit einer solchen Gestaltung, insbesondere der einfachen (vorzugsweise rein passiven) Getriebeeinrichtung, kann jeweils in einfacher Weise eine zwangsweise Deformation der optischen Fläche erzielt werden, welche den Abbildungsfehler zumindest teilweise kompensiert, der durch die Verstellung der Lage der optischen Elementeinheit bzw. die Starrkörperbewegung der optischen Elementeinheit und ihrer optischen Fläche entsteht. Die Deformationseinrichtung nutzt dabei in einfacher Weise eine Relativbewegung, die sich bei der Verstellung der Lage der optischen Fläche zwischen zwei Komponenten der Anordnung ergibt, wobei die Lageverstellung der optischen Fläche wiederum aus der hierzu in die optische Elementeinheit eingeleiteten Stelllast resultiert. Diese (aus der Stelllast resultierende) Relativbewegung zwischen den beiden Komponenten wird durch die Getriebeeinrichtung einfach in eine Deformationslast an dem optischen Element umgesetzt, in das optische Element eingeleitet wird. Die Deformationslast am optischen Element bedingt dann eine zwangsweise Deformation der optischen Fläche, welche mit der zweiten Relativbewegung einhergeht und den durch die Lageverstellung des optischen Elements bzw. der optischen Flächen erzeugten Abbildungsfehler zumindest teilweise (bevorzugt natürlich zumindest im Wesentlichen vollständig) kompensiert.

Folglich ist die Deformationseinrichtung bevorzugt derart ausgebildet, dass die durch die Deformationseinrichtung erzielte Deformation der optischen Fläche einem Abbildungsfehler der optischen Anordnung, der durch den Lagestellvorgang bedingt ist, zumindest entgegenwirkt. Die durch die Deformationseinrichtung erzielte Deformation der optischen Fläche kompensiert den Abbildungsfehler bevorzugt zumindest im Wesentlichen vollständig. Die Abstimmung bzw. Optimierung der Deformation auf die Verstellung aus der Ausgangslage kann zumindest abschnittsweise kontinuierlich gestaltet sein, sodass der Abbildungsfehler bei jeder Auslenkung (aus der Ausgangslage) über den Lagestellvorgang zumindest teilweise, vorzugsweise im Wesentlichen vollständig kompensiert ist. Bei bestimmten Varianten kann die Abstimmung bzw. Optimierung der Deformation auch nur auf diskrete vorgebbare Verstellungen bzw. Auslenkungen aus der Ausgangslage hin erfolgen, sodass in diesen diskreten Lagen jeweils die größtmögliche Kompensation des Abbildungsfehlers erzielt wird.

Bei dem kompensierten Abbildungsfehler kann es sich um Abbildungsfehler einer oder mehrerer beliebiger Arten (einzeln oder in beliebiger Kombination) handeln, die zumindest eine nennenswerte negative Auswirkung auf die Qualität der Abbildung haben. Besonders vorteilhaft ist es, wenn der kompensierte Abbildungsfehler zumindest eine der nachfolgenden Eigenschaften Fokussierung, Koma oder beliebige Kombinationen hiervon betrifft.

Bei bestimmten Varianten bedingt der Lagestellvorgang eine Defokussierung der optischen Anordnung und die durch die Deformationseinrichtung erzielte Deformation der optischen Fläche bedingt eine Änderung der Fokussierung der optischen Fläche, welche der Defokussierung der optischen Anordnung zumindest entgegenwirkt, insbesondere die Defokussierung zumindest im Wesentlichen kompensiert. Hiermit lässt sich in einfacher Weise ein häufig auftretender Abbildungsfehler in vorteilhafter weise ausgleichen.

Es versteht sich, dass die zwangsweise Deformation grundsätzlich durch Relativbewegungen entsprechender Größe an der optischen Elementeinheit erzielt werden können, die mit Deformationskräften entsprechender Größe einhergehen. Dabei kann die Deformationseinrichtung grundsätzlich eine beliebige geeignete Bewegungsübersetzung zwischen der ersten Relativbewegung und der zweiten Relativbewegung mit einem vorgebbaren Bewegungsübersetzungsverhältnis der ersten zur zweiten Relativbewegung erzeugen. Die jeweilige Relativbewegung kann grundsätzlich beliebiger Art sein, also eine reine Translation (in ein bis drei Freiheitsgraden), eine reine Rotation (in ein bis drei Freiheitsgraden) oder beliebige Kombinationen hiervon. Bevorzugt umfasst die erste Relativbewegung (bevorzugt zumindest vorrangig) eine erste Verschiebung des ersten Anbindungspunktes bezüglich des dritten Anbindungspunktes in einer ersten Richtung, während die zweite Relativbewegung (bevorzugt zumindest vorrangig) eine zweite Verschiebung des zweiten Anbindungspunktes bezüglich des dritten Anbindungspunktes in einer zweiten Richtung umfasst. Bei bestimmten günstigen Varianten beträgt das Bewegungsübersetzungsverhältnis bevorzugt 1000:1 bis 1:1000, vorzugsweise 100:1 bis 1:100, weiter vorzugsweise 10:1 bis 1:10, wobei das Verhältnis insbesondere auch 1:1 betragen kann. Bei bestimmten günstigen Varianten beträgt das Verhältnis der ersten Verschiebung zu der zweiten Verschiebung weiterhin 1000:1 bis 1:1000, vorzugsweise 100:1 bis 1 :100, weiter vorzugsweise 10:1 bis 1:10, wobei das Verhältnis insbesondere auch 1 :1 betragen kann. In beiden Fällen können günstige und bedarfsgerechte Deformationen erzielt werden.

Es versteht sich, dass bei der Umsetzung der ersten Relativbewegung in die zweite Relativbewegung grundsätzlich auch eine beliebige Umsetzung der Richtung der Bewegung zwischen dem Antriebsende und dem Abtriebsende erfolgen kann. Bei bestimmten bevorzugten Varianten umfasst die erste Relativbewegung (bevorzugt zumindest vorrangig) eine erste Verschiebung des ersten Anbindungspunktes bezüglich des dritten Anbindungspunktes in einer ersten Richtung, während die zweite Relativbewegung (bevorzugt zumindest vorrangig) eine zweite Verschiebung des zweiten Anbindungspunktes bezüglich des dritten Anbindungspunktes in einer zweiten Richtung umfasst. Die erste Richtung ist bei bestimmten Varianten zu der zweiten Richtung bevorzugt um einen Neigungswinkel geneigt, wobei der Neigungswinkel insbesondere 0° bis 20°, vorzugsweise 0° bis 10°, weiter vorzugsweise 0° bis 5°, beträgt. Hiermit lässt sich eine günstige Bewegungs- bzw. Kraftumlenkung erzielen, mit der eine entsprechende Deformation auf einfache Weise an geeigneten Deformationskrafteinleitungspunkten mit günstiger Deformationskrafteinleitung erzielt werden kann.

Bei bestimmten Varianten ist die Deformationseinrichtung derart angeordnet und ausgebildet, dass die erste Richtung und die zweite Richtung zumindest im Wesentlichen in einer gemeinsamen Ebene liegen. Mit einer solchen planaren Gestaltung kann eine besonders kompakte Gestaltung mit präziser Bewegungsübersetzung realisiert werden, da die Komponenten zumindest primär nur Lasten in der gemeinsamen Ebene aufnehmen müssen und daher einfach aber dennoch für die planaren Lastfälle ausreichend steif gestaltet werden können. Bei bestimmten vorteilhaften Varianten ist die Deformationseinrichtung derart angeordnet und ausgebildet, dass ausgehend von der Ausgangslage gegenläufige erste Verschiebungen des ersten Anbindungspunktes bezüglich des dritten Anbindungspunktes entlang der ersten Richtung gegenläufige oder gleichlaufende zweite Verschiebungen des zweiten Anbindungspunktes bezüglich des dritten Anbindungspunktes entlang der zweiten Richtung bewirken.

Mit gegenläufigen zweiten Verschiebungen können in vorteilhafter weise Situationen behandelt werden, bei denen Lagestellvorgänge in unterschiedlichen Richtungen (aus der Ausgangslage) Abbildungsfehler erzeugen, die durch gegenläufige Deformationen kompensiert werden müssen. So kann beispielsweise in einfacher Weise eine geeignete Abbildungsfehlerkompensation in Fällen erzielt werden, in denen ein Lagestellvorgang in einer Richtung (aus der Ausgangslage) eine Erhöhung der Krümmung der optischen Fläche erfordert, während ein Lagestellvorgang in der Gegenrichtung (aus der Ausgangslage) eine Verringerung der Krümmung der optischen Fläche erfordert.

Mit gleichläufigen zweiten Verschiebungen können in vorteilhafter weise Situationen behandelt werden, bei denen Lagestellvorgänge in unterschiedlichen Richtungen (aus der Ausgangslage) Abbildungsfehler erzeugen, die unabhängig davon stets durch Deformationen in der gleichen Richtung kompensiert werden müssen. So kann beispielsweise in einfacher Weise eine geeignete Abbildungsfehlerkompensation in Fällen erzielt werden, in denen ein Lagestellvorgang unabhängig von der Richtung der Auslenkung (aus der Ausgangslage) jeweils eine Erhöhung (oder Verringerung) der Krümmung der optischen Fläche erfordert.

Es versteht sich, dass die optische Elementeinheit grundsätzlich beliebig gestaltet sein kann, solange sie eine dem zu kompensierenden Abbildungsfehler entsprechende Deformation der optischen Fläche über die hierin beschriebene Zwangskopplung der Deformationseinrichtung ermöglicht. Bei bestimmten vorteilhaften Varianten definiert die Stützeinrichtung wenigstens eine Kippachse der optischen Elementeinheit, um welche die optische Fläche bei dem Lagestellvorgang verkippt wird, während die optische Elementeinheit einen von der optischen Fläche weg weisenden Vorsprung umfasst, wobei der Vorsprung ein freies Ende aufweist, welches von der wenigstens einen Kippachse entfernt ist. Der dritte Anbindungspunkt ist hierbei im Bereich des freien Endes des Vorsprungs angeordnet, sodass beim Verkippen der optischen Elementeinheit um die Kippachse eine vergleichsweise große und damit vorteilhafte Auslenkung (aus der Ausgangslage) im Bereich des freien Endes des Vorsprungs und damit des dritten Anbindungspunkts erzielt wird. Die optische Elementeinheit kann dabei einteilig oder mehrteilig gestaltet sein. Bei bestimmten Varianten weist die optische Elementeinheit ein einen Elementträger auf, der das optische Element trägt und den Vorsprung ausbildet. Dabei kann das optische Element selbst nur durch eine (ein- oder mehrlagige) Beschichtung des Elementträgers ausgebildet sein, wodurch eine vorteilhaft einfache Gestaltung erzielt werden kann. Ebenso kann das optische Element einen separaten Elementkörper aufweisen, an dem die optische Fläche ausgebildet ist (beispielsweise durch eine entsprechende Beschichtung) und der auf geeignete Weise mit dem Elementträger verbunden ist.

Die Geometrie der optischen Elementeinheit kann grundsätzlich beliebig sein. Bei bestimmten vorteilhaften Varianten weist die optische Elementeinheit eine im Wesentlichen T-förmige oder L-förmige Gestaltung mit einem ersten Schenkel und einem zweiten Schenkel auf, wobei die optische Fläche an dem ersten Schenkel ausgebildet ist und der Vorsprung durch den zweiten Schenkel ausgebildet ist. Hiermit lassen sich hinsichtlich des Gewichts und der Steifigkeit Konfigurationen erzielen, die gerade unter dynamischen Gesichtspunkten von Vorteil sind (wie dies beispielsweise für schnelle und präzise Settingwechsel von Bedeutung ist).

Es versteht sich, dass die Deformationseinrichtung grundsätzlich beliebig gestaltet sein kann, um die gewünschte, zwangsweise an den Lagestellvorgang gekoppelte Deformation zu erzielen. Dabei können grundsätzlich beliebige Wirkprinzipien zur Bewegungsumsetzung bzw. Kraftumsetzung zum Einsatz kommen. So können beispielsweise (einzeln oder in beliebiger Kombination) mechanische, hydraulische, magnetische oder elektrische (beispielsweise piezoelektrische) Wirkprinzipien zum Einsatz kommen.

Bei bevorzugten Varianten umfasst die Deformationseinrichtung eine Deformationseinheit, die nach Art eines Koppelgetriebes ausgebildet ist, wobei die Deformationseinheit eine erste Koppeleinheit, eine zweite Koppeleinheit und eine dritte Koppeleinheit umfasst. Die erste Koppeleinheit bildet den ersten Anbindungsbereich aus, während die zweite Koppeleinheit den zweiten Anbindungsbereich ausbildet. Die dritte Koppeleinheit bildet den dritten Anbindungsbereich aus, wobei wenigstens die dritte Koppeleinheit dazu ausgebildet ist, ein Bewegungsübersetzungsverhältnis der ersten Relativbewegung zu der zweiten Relativbewegung zu definieren. Hiermit lässt sich eine besonders einfache, bevorzugt rein mechanische Zwangskopplung der Deformation an die Lageverstellung erzielen.

Die Bewegungsumsetzung kann grundsätzlich auf beliebige geeignete Weise erfolgen.

Dabei können rotatorische und translatorische Bewegungen beliebig miteinander kombiniert werden. Bei bestimmten Varianten umfasst die dritte Koppeleinheit wenigstens eine Rotationseinheit, die dazu ausgebildet ist, eine Bewegung der ersten Koppeleinheit in eine Rotationsbewegung um eine Rotationsachse umzusetzen. Bei bestimmten Varianten umfasst die dritte Koppeleinheit wenigstens eine Parallelführungseinheit, die dazu ausgebildet ist, eine Bewegung der ersten Koppeleinheit in eine Translationsbewegung umzusetzen. Die dritte Koppeleinheit kann wenigstens ein Koppelelement umfassen, das im Bereich des dritten Anbindungspunkts an die optische Elementeinheit angebunden ist, da hiermit besonders einfache Konfigurationen erzielt werden können. Die erste, zweite und dritte Koppeleinheit definieren bevorzugt eine gemeinsame Haupterstreckungsebene der Deformationseinheit und erstrecken sich zumindest im Wesentlichen parallel zu der Haupterstreckungsebene, insbesondere im Wesentlichen in der Haupterstreckungsebene. Mit einer solchen planaren Gestaltung kann eine besonders einfache und robuste Konfiguration erzielt werden.

Bei bestimmten, besonders einfach und robust gestalteten Varianten ist die Deformationseinheit zumindest abschnittsweise, insbesondere vollständig, monolithisch ausgebildet. Dabei kann wenigstens ein Gelenkabschnitt der Deformationseinheit nach Art eines Festkörpergelenks ausgebildet sein. Bevorzugt sind alle Gelenkabschnitte der Deformationseinheit nach Art eines Festkörpergelenks ausgebildet. Hiermit lässt sich jeweils eine besonders präzise Bewegungsumsetzung bzw. Kraftumsetzung erzielen.

Bei bestimmten, besonders einfach gestalteten Varianten umfasst das wenigstens eine Koppelelement der dritten Koppeleinheit wenigstens ein Rotationselement, das dazu ausgebildet ist, eine Bewegung der ersten Koppeleinheit in eine Rotationsbewegung um die Rotationsachse umzusetzen. Das wenigstens eine Koppelelement definiert hierbei eine Rotationselementumfangsrichtung und eine Rotationselementradialrichtung, die senkrecht zu der Rotationsachse verläuft.

Die Rotationsachse kann dabei zumindest im Wesentlichen senkrecht zu einer Ebene verlaufen, die durch den ersten, zweiten und dritten Anbindungspunkt aufgespannt ist. Hierdurch ergibt sich eine einfache Kopplung, bei der im Falle der oben genannten planaren Gestaltung auch die Rotationsbewegung in der Haupterstreckungsebene erfolgt.

Bei bestimmten Varianten umfasst das Rotationselement einen, insbesondere stiftförmigen, Rotationsachsenabschnitt, der die Rotationsbewegung um die Rotationsachse definiert, wobei der Rotationsachsenabschnitt insbesondere dazu ausgebildet ist, die Rotationsbewegung um die Rotationsachse durch elastische Torsion des Rotationsachsenabschnitts um die Rotationsachse zur Verfügung zu stellen. Hiermit kann eine besonders einfache und kompakte Konfiguration erzielt werden.

Das Rotationselement kann grundsätzlich beliebig gestaltet sein, um die gewünschte Bewegungsumsetzung zu erzielen. Bei bevorzugten Varianten umfasst das Rotationselement wenigstens einen Hebelabschnitt, der sich in der Rotationselementradialrichtung erstreckt. Die erste Koppeleinheit ist dann in der Rotationselementradialrichtung in einem ersten Abstand von der Rotationsachse an einem ersten Hebelkopplungspunkt an den Hebelabschnitt angebunden, während ein in Richtung des Deformationskraftflusses nachfolgendes Koppelelement in der Rotationselementradialrichtung in einem zweiten Abstand von der Rotationsachse an einem zweiten Hebelkopplungspunkt an den Hebelabschnitt angebunden ist. Hierdurch lässt sich (über eine geeignete Wahl des ersten und zweiten Abstandes) in einfacher Weise das Übersetzungsverhältnis der Bewegungsumsetzung definieren. Bei besonders vorteilhaften Varianten mit günstigem Übersetzungsverhältnis beträgt das Verhältnis des ersten Abstandes zu dem zweiten Abstand bevorzugt 1000:1 bis 1:1000, vorzugsweise 100:1 bis 1:100, weiter vorzugsweise 10:1 bis 1:10, wobei das Verhältnis insbesondere auch 1:1 betragen kann.

Bei bestimmten Varianten sind der erste Hebelkopplungspunkt und der zweite Hebelkopplungspunkt in der Rotationselementumfangsrichtung um einen Umfangsversatzwinkel zueinander versetzt angeordnet, wobei der Umfangsversatzwinkel insbesondere 0° bis 180°, vorzugsweise 70° bis 160°, weiter vorzugsweise 80° bis 110°, beträgt. Dank eines solchen Versatzes in der Rotationselementumfangsrichtung lässt sich insbesondere eine nahezu beliebige Richtungsumsetzung zwischen der Eingangsbewegung und der Ausgangsbewegung am Rotationselement erzielen.

Der Hebelabschnitt kann grundsätzlich auf beliebige geeignete Weise gestaltet sein, insbesondere um die gewünschten Hebelverhältnisse und die gewünschte Richtungsumsetzung bei ausreichender Steifigkeit zu erzielen. Vorzugsweise ist der wenigstens eine Hebelabschnitt wenigstens eines von Nachfolgendem: ein im Wesentlichen plattenförmiges Element, ein im Wesentlichen scheibenförmiges Element, ein im Wesentlichen kreisscheibenförmiges Element, ein im Wesentlichen kreissegmentförmiges Element, ein im Wesentlichen dreieckförmiges Element.

Besonders kompakte und leichte Konfigurationen ergeben sich, wenn der wenigstens eine Hebelabschnitt an seinem Umfang mehrere Eckenabschnitte aufweist und wenigstens einer von dem ersten Hebelkopplungspunkt, dem zweiten Hebelkopplungspunkt und dem Rotationsachsenabschnitt ist im Bereich eines der Eckenabschnitte angeordnet ist. Vorzugsweise ist jede dieser Komponenten jeweils in einem separaten Eckenabschnitt angeordnet.

Es versteht sich, dass die Richtungsumsetzung zwischen der Eingangsbewegung und der Ausgangsbewegung am Rotationselement grundsätzlich beliebig gestaltet sein kann und entsprechend an die geometrischen Randbedingungen der optischen Elementeinheit, insbesondere an die zu erzielende Deformation angepasst ist. Bevorzugt greift ein in Richtung des Deformationskraftflusses vorlaufendes Koppelelement in einem ersten Rotationselementkopplungspunkt an dem Rotationselement an, während ein in Richtung des Deformationskraftflusses nachfolgendes Koppelelement in einem zweiten Rotationselementkopplungspunkt an dem Rotationselement angreift. Das nachfolgende Koppelelement weist einen nachfolgenden Kopplungsgelenkpunkt auf, der in einer kinematischen Kette der Deformationseinrichtung dem zweiten Rotationselementkopplungspunkt in Richtung des Deformationskraftflusses unmittelbar nachfolgt. Hiermit lässt sich in besonders einfacher Weise eine günstige Bewegungsumsetzung realisieren. Dabei liegt in der Ausgangslage bevorzugt eine durch die Deformationseinrichtung im Wesentlichen nicht deformierte optische Fläche vor.

Bevorzugt ist das vorlaufende Koppelelement derart ausgebildet und angeordnet, dass es zumindest bei Beginn des Lagestellvorgangs aus der Ausgangslage eine Ausgangsverschiebung in das Rotationselement einleitet, die zu der Rotationselementradialrichtung in dem ersten Rotationselementkopplungspunkt um einen Vorlaufneigungswinkel geneigt verläuft, wobei der Vorlaufneigungswinkel insbesondere 70° bis 90°, vorzugsweise 75° bis 89°, weiter vorzugsweise 80° bis 85°, beträgt. Hiermit lässt sich eine besonders günstige Bewegungseinleitung bzw. Krafteinleitung in das Rotationselement erzielen.

Bei bestimmten Varianten ist das nachfolgende Koppelelement derart ausgebildet und angeordnet, dass eine Verbindungslinie zwischen nachfolgenden Kopplungsgelenkpunkt und dem zweiten Rotationselementkopplungspunkt in der Ausgangslage zu der Rotationselementradialrichtung in dem zweiten Rotationselementkopplungspunkt um einen Nachlaufneigungswinkel geneigt verläuft, wobei der Nachlaufneigungswinkel insbesondere 0° bis 20°, vorzugsweise 1° bis 15°, weiter vorzugsweise 5° bis 10, insbesondere 0°, beträgt. In beiden Fällen lassen sich besonders günstige Abtriebsverhältnisse erzielen. Mit der Gestaltung, bei welcher der Nachlaufneigungswinkel (in der Ausgangslage) 0° beträgt lässt sich insbesondere die oben bereits beschriebene Gestaltung realisieren, bei welcher ausgehend von der Ausgangslage gegenläufige erste Verschiebungen des ersten Anbindungspunktes bezüglich des dritten Anbindungspunktes entlang der ersten Richtung gleichlaufende zweite Verschiebungen des zweiten Anbindungspunktes bezüglich des dritten Anbindungspunktes entlang der zweiten Richtung bewirken. Hiermit können in vorteilhafter Weise Situationen behandelt werden, bei denen Lagestellvorgänge in unterschiedlichen Richtungen (aus der Ausgangslage) Abbildungsfehler erzeugen, die unabhängig davon stets durch Deformationen in der gleichen Richtung kompensiert werden müssen. So kann wie erwähnt in einfacher Weise eine geeignete Abbildungsfehlerkompensation in Fällen erzielt werden, in denen ein Lagestellvorgang unabhängig von der Richtung der Auslenkung (aus der Ausgangslage) jeweils eine Erhöhung (oder Verringerung) der Krümmung der optischen Fläche erfordert.

Ebenso ist es hiermit möglich, bei der Lageverstellung aus der Ausgangslage den Nachlaufneigungswinkel in einer Richtung den Nullpunkt (also 0°) durchlaufen zu lassen. Damit ist es möglich, bei gleicher Amplitude der Lageverstellung aus der Ausgangslage in beiden Richtungen eine gleichlaufende Deformation unterschiedlicher Stärke bzw. Amplitude zu erzielen (sofern der Nachlaufneigungswinkel hierbei in einer Richtung den Nullpunkt durchläuft).

Es versteht sich, dass eine einzige Rotationseinheit ausreichen kann, um die gewünschte Bewegungsumsetzung bzw. Kraftumsetzung zu erzielen. Bei bestimmten Varianten umfasst die Deformationseinheit jedoch zwei oder mehr Rotationseinheiten, da hiermit insbesondere eine günstige Anpassung der Deformationseinheit an die geometrischen Randbedingungen der optischen Anordnung, insbesondere der optischen Elementeinheit möglich ist. Bevorzugt ist die Rotationseinheit daher eine erste Rotationseinheit und die dritte Koppeleinheit umfasst wenigstens eine zweite Rotationseinheit, wobei die zweite Rotationseinheit mit der ersten Rotationseinheit über ein weiteres Koppelelement verbunden ist. Die zweite Rotationseinheit ist dazu ausgebildet, eine durch das weitere Koppelelement vermittelte Bewegung in eine weitere Rotationsbewegung umzusetzen.

Die zweite Rotationseinheit kann grundsätzlich beliebig gestaltet sein. Bevorzugt ist sie nach Art der ersten Rotationseinheit ausgebildet, wobei sie insbesondere zumindest hinsichtlich ihrer Geometrie, vorzugsweise auch hinsichtlich ihrer Abmessungen, zumindest im Wesentlichen identisch zu der ersten Rotationseinheit ausgebildet ist. Insoweit wird hinsichtlich der Merkmale, Eigenschaften und Funktionen der zweiten Rotationseinheit auf die obigen Ausführungen zu der (ersten) Rotationseinheit verwiesen.

Die zweite Koppeleinheit kann auf beliebige Weise an der zweiten Rotationseinheit angebunden sein. Bevorzugt ist bevorzugt die zweite Koppeleinheit gelenkig an der zweiten Rotationseinheit angebunden, da hiermit besonders kompakte Konfigurationen erzielt werden können, bei denen die Bewegungsumsetzung zumindest primär über eine Längsbewegung der zweiten Koppeleinheit erfolgen kann.

Bei bestimmten Varianten definiert die zweite Rotationseinheit eine weitere Rotationsachse der weiteren Rotationsbewegung, wobei die weitere Rotationsachse zumindest im Wesentlichen parallel zu der Rotationsachse der ersten Rotationseinheit verläuft oder die weitere Rotationsachse zu der Rotationsachse der ersten Rotationseinheit geneigt verläuft. Im Falle paralleler Rotationsachsen kann wiederum eine oben bereits beschriebene planare Gestaltung realisiert werden. Im Falle zueinander geneigter Rotationsachsen kann eine beliebig dreidimensionale Gestaltung der Deformationseinheit realisier werden, wenn dies beispielsweise aufgrund der geometrischen Randbedingungen der optischen Anordnung, insbesondere der optischen Elementeinheit, erforderlich ist.

Bei bestimmten Varianten ist die optische Elementeinheit in der oben beschriebenen Weise mit einem ersten und zweiten Schenkel ausgebildet, wobei die erste Rotationseinheit dann im Bereich des freien Endes des zweiten Schenkels an der optischen Elementeinheit angebunden ist und die zweite Rotationseinheit im Bereich eines Übergangs zwischen dem ersten Schenkel und dem zweiten Schenkel an der optischen Elementeinheit angebunden ist. Hiermit lässt sich eine besonders kompakte und günstige Konfiguration erzielen. Ebenso kann sich bei der oben beschriebenen Gestaltung mit einem ersten und zweiten Schenkel die zweite Koppeleinheit benachbart zum ersten Schenkel entlang des ersten Schenkels erstrecken und sich das weitere Koppelelement benachbart zum zweiten Schenkel entlang des zweiten Schenkels erstrecken. Hiermit lässt sich ebenfalls eine besonders kompakte und günstige Konfiguration erzielen.

Es versteht sich, dass eine Deformationseinheit ausreichen kann, um die gewünschte Deformation zu erzielen. Bei bestimmten Varianten können aber auch zwei oder mehr Deformationseinheiten vorgesehen sein. Bei bestimmten Varianten ist daher die Deformationseinheit eine erste Deformationseinheit, wobei die Deformationseinrichtung dann wenigstens eine zweite Deformationseinheit umfasst. Hierdurch lassen sich nicht nur besonders komplexe Deformationen erzielen, es ist auch möglich, Lagestellvorgängen aus der Ausgangslage in unterschiedlichen Freiheitsgraden separate, gegebenenfalls unterschiedliche Deformationen der optischen Fläche zuzuordnen.

Die zweite Deformationseinheit kann grundsätzlich beliebig gestaltet sein. Bevorzugt ist die zweite Deformationseinheit wiederum nach Art eines Koppelgetriebes ausgebildet. Weiterhin kann die zweite Deformationseinheit nach Art der ersten Deformationseinheit ausgebildet sein, wobei sie insbesondere zumindest hinsichtlich ihrer Geometrie, vorzugsweise auch hinsichtlich ihrer Abmessungen, zumindest im Wesentlichen identisch zu der ersten Deformationseinheit ausgebildet ist. Insoweit wird hinsichtlich der Merkmale, Eigenschaften und Funktionen der zweiten Deformationseinheit auf die obigen Ausführungen zu der (ersten) Deformationseinheit verwiesen.

Wie bereits erwähnt, können die beiden Deformationseinheiten miteinander gekoppelt sein, insbesondere mechanisch gekoppelt sein. Hierbei können in einem besonders einfachen Fall die erste Deformationseinheit und die zweite Deformationseinheit über ein Portalelement gekoppelt sein, an dem dann die zweite Koppeleinheit gelenkig angebunden ist.

Die erste und zweite Deformationseinheit können grundsätzlich beliebig zueinander angeordnet werden. Bei bestimmten Varianten definiert die erste Deformationseinheit eine erste Haupterstreckungsebene, während die zweite Deformationseinheit eine zweite Haupterstreckungsebene definiert, wobei die erste Haupterstreckungsebene und die zweite Haupterstreckungsebene zueinander parallel verlaufen oder zueinander geneigt verlaufen. Bei einem solchen parallelen Verlauf lassen sich insbesondere einem Lagestellvorgang aus der Ausgangslage in demselben Freiheitsgrad unterschiedliche Deformationen der optischen Fläche zuordnen und zu einer komplexen Deformation überlagern. Bei dem zueinander geneigten Verlauf lassen sich nicht nur besonders komplexe Deformationen erzielen, es ist auch möglich, Lagestellvorgängen aus der Ausgangslage in unterschiedlichen Freiheitsgraden separate, gegebenenfalls unterschiedliche Deformationen der optischen Fläche zuzuordnen.

Um die gewünschte bzw. zur Kompensation des Abbildungsfehlers erforderliche Deformation der optischen Fläche zu erzielen, kann die optische Elementeinheit grundsätzlich in beliebiger geeigneter Weise angepasst sein, welche eine definierte Deformation gewährleistet. Bei bestimmten Varianten weist die optische Elementeinheit einen ersten Abschnitt und einen zweiten Abschnitt auf, wobei die Stützeinrichtung an dem ersten Abschnitt angreift und die Deformationseinrichtung mit dem zweiten Anbindungsbereich an dem zweiten Abschnitt angreift. Der erste Abschnitt und der zweite Abschnitt sind dabei über wenigstens einen Deformationskippachsenabschnitt miteinander verbunden, wobei der wenigstens eine Deformationskippachsenabschnitt derart ausgebildet ist, dass er wenigstens eine Deformationskippachse definiert, um welche der zweite Abschnitt gegenüber dem ersten Abschnitt bei der Deformation der optischen Fläche durch die Deformationseinrichtung verkippt wird. Hiermit ist es in einfacher Weise möglich, eine definierte entsprechende Deformation der optischen Fläche zu erzielen.

Es versteht sich, dass gegebenenfalls ein einziger Deformationskippachsenabschnitt ausreichen kann, um die gewünschte Deformation zu erzielen. Bevorzugt sind der erste Abschnitt und der zweite Abschnitt jedoch über eine Anzahl von N Deformationskippachsenabschnitten miteinander verbunden, wobei N gleich 1 bis 500, vorzugsweise 5 bis 50, weiter vorzugsweise 10 bis 20, ist. Hiermit kann insbesondere eine ausreichend gleichmäßige Krümmung der optischen Fläche sichergestellt werden, sofern dies erforderlich ist. Dies kann insbesondere von Vorteil sein, um bei einer reflektierenden optischen Fläche unerwünschte lokale Lichtintensitätskonzentrationen im Umfeld des jeweiligen Deformationskippachsenabschnitts zu vermeiden, die aus der Überlagerung des reflektierten Lichts der beiden unmittelbar benachbarten und zueinander verkippten optischen Teilflächen resultiert.

Der Deformationskippachsenabschnitt kann derart gestaltet sein, dass er lediglich eine einzige (entsprechend ausgeprägte) Deformationskippachse definiert. Hierdurch ergibt sich in einfacher Weise eine klar definierte Deformation. Bei bestimmten Varianten definiert der wenigstens eine Deformationskippachsenabschnitt jedoch eine Anzahl von M diskreten Deformationskippachsen, wobei M gleich 1 bis 15, vorzugsweise 3 bis 11, weiter vorzugsweise 5 bis 7, ist. Hiermit ist es insbesondere möglich, durch die Einleitung einer oder mehrerer Deformationskräfte entsprechender Richtung Verkippungen um mehrere Deformationskippachsen zu erzeugen und damit eine nahezu beliebig komplexe Deformation der optischen Fläche vorzugeben.

Der Deformationskippachsenabschnitt kann grundsätzlich auf beliebige geeignete Weise realisiert sein, über welche wenigstens eine Deformationskippachse definiert werden kann. So kann beispielsweise durch entsprechende lokale Materialauswahl, eine strukturelle Schwächung oder anderweitige Maßnahmen für den jeweiligen Deformationskippachsenabschnitt eine entsprechende Steifigkeitsverteilung in der optischen Elementeinheit erzielt werden, welche eine solche Deformationskippachse definiert. Bei bestimmten Varianten ist der wenigstens eine Deformationskippachsenabschnitt ist durch einen Schwächungsabschnitt ausgebildet, in dem die optische Elementeinheit geschwächt ist. Die Schwächung kann, wie eben erwähnt, durch eine lokale Reduktion der Steifigkeit der optischen Elementeinheit realisiert werden.

Bei bestimmten Varianten ist der wenigstens eine Deformationskippachsenabschnitt durch wenigstens eine Ausnehmung, insbesondere wenigstens einen Schlitz, in der optischen Elementeinheit ausgebildet, da hiermit auf besonders einfache Weise eine entsprechende lokale strukturelle Schwächung präzise definiert in die optische Elementeinheit eingebracht werden kann. Die Ausnehmung kann grundsätzlich beliebig gestaltet sein. Bevorzugt ist die Ausnehmung zumindest im Wesentlichen geradlinig ausgebildet ist, da hiermit in besonders einfacher Weise eine Deformationskippachse präzise definiert werden kann.

Bei bestimmten Varianten ist der wenigstens eine Deformationskippachsenabschnitt durch mehrere Ausnehmungen, insbesondere mehrere Schlitze, in der optischen Elementeinheit ausgebildet, da hiermit in einfacher Weise mehrere Deformationskippachsen präzise definiert werden können. Besonders günstige, komplexe Deformationen unterstützende Gestaltungen ergeben sich, wenn wenigstens zwei der Ausnehmungen einander schneiden.

Es versteht sich, dass mehrere (gegebenenfalls alle) Deformationskippachsenabschnitte gleich gestaltet sein können und insbesondere gleiche Eigenschaften aufweisen können. Bei bestimmten vorteilhaften Varianten sind der erste Abschnitt und der zweite Abschnitt über mehrere voneinander beabstandete Deformationskippachsenabschnitte miteinander verbunden, wobei jeder Deformationskippachsenabschnitt wenigstens eine Deformationskippachse und eine Deformationskippsteifigkeit um die wenigstens eine Deformationskippachse definiert. Zum Erzielen einer vorgebbaren Deformation der optischen Fläche kann zum einen der Abstand zwischen benachbarten Deformationskippachsenabschnitten variieren. Zusätzlich oder alternativ kann zu diesem Zweck die Deformationskippsteifigkeit von dem ersten Abschnitt zu dem zweiten Abschnitt hin variieren. Dabei kann die Deformationskippsteifigkeit von dem ersten Abschnitt zu dem zweiten Abschnitt hin zumindest in einem ersten Teilbereich abnehmen. Ebenso kann die Deformationskippsteifigkeit von dem ersten Abschnitt zu dem zweiten Abschnitt hin zumindest in einem zweiten Teilbereich zunehmen. ;

Bei bestimmten Varianten ist eine unterschiedliche Deformationskippsteifigkeit zweier Deformationskippachsenabschnitte ausgebildet durch wenigstens eines von Nachfolgendem: eine unterschiedliche Breite der Ausnehmungen quer zu der Deformationskippachse und einen unterschiedlichen Abstand der Ausnehmungen zu der optischen Fläche. In beiden Fällen kann die auf einfache Weise eine präzise Variation der Deformationskippsteifigkeit erzielt werden.

Es versteht sich, dass über die Ausrichtung der Deformationskippachse zu der Richtung der Deformationskraft, die durch die Deformationseinrichtung in die optische Elementeinheit eingebracht wird, ein weiterer Einflussparameter gegeben ist, über welchen die Art und/oder Stärke der Deformation der optischen Fläche definiert bzw. beeinflusst werden kann. Bei bestimmten Varianten ist die Deformationseinrichtung dazu ausgebildet, während des Lagestellvorgangs wenigstens eine Deformationskraft in einer Deformationskraftrichtung in den zweiten Abschnitt einzuleiten, wobei die wenigstens eine Deformationskippachse zu der Deformationskraftrichtung um einen Deformationskippachsenwinkel geneigt ist. Der Deformationskippachsenwinkel kann dabei 70° bis 90°, vorzugsweise 80° bis 90°, weiter vorzugsweise 85° bis 90°, betragen, da sich hiermit besonders günstige Konfigurationen erzielen lassen

Bei bestimmten Varianten kann die Deformationseinrichtung dazu ausgebildet sein, während des Lagestellvorgangs eine erste Deformationskraft in einer ersten Deformationskraftrichtung und eine zweite Deformationskraft in einer zweiten Deformationskraftrichtung in den zweiten Abschnitt einzuleiten, wobei wenigstens eine erste Deformationskippachse definiert ist, die zumindest im Wesentlichen senkrecht zu der ersten Deformationskraftrichtung verläuft, und wenigstens eine zweite Deformationskippachse definiert ist, die zumindest im Wesentlichen senkrecht zu der zweiten Deformationskraftrichtung verläuft. Hiermit lassen sich auf besonders einfache Weise komplexe Deformationen erzielen, bei denen gegebenenfalls mehrfach gekrümmte Bereiche der optischen Fläche erzielt bzw. angepasst werden können

Es versteht sich, dass die Stützeinrichtung entsprechend den Anforderungen der Abbildungseinrichtung gegebenenfalls lediglich eine Lageverstellung in einem einzigen (rotatorischen oder translatorischen) Freiheitsgrad zu Verfügung stellen kann. Bei besonders gut anpassbaren Varianten ist eine Lageverstellung in zwei oder mehr Freiheitsgraden möglich. Bevorzugt ist die Stützeinrichtung dazu ausgebildet, die optische Elementeinheit bezüglich der Stützstruktur in dem Lagestellvorgang in einem ersten Freiheitsgrad, insbesondere einem ersten rotatorischen Freiheitsgrad, aus der Ausgangslage zu verstellen. Weiterhin ist die Stützeinrichtung dazu ausgebildet, die optische Elementeinheit bezüglich der Stützstruktur in dem Lagestellvorgang in einem zweiten Freiheitsgrad, insbesondere einem zweiten rotatorischen Freiheitsgrad, aus der Ausgangslage zu verstellen, wobei der erste Freiheitsgrad von dem zweiten Freiheitsgrad verschieden ist. Die Deformationseinrichtung ist dann bevorzugt dazu ausgebildet, während des Lagestellvorgangs bei Verstellen der optischen Elementeinheit in dem ersten Freiheitsgrad eine erste Deformation der optischen Fläche zu bewirken und bei Verstellen der optischen Elementeinheit in dem zweiten Freiheitsgrad eine von der ersten Deformation abweichende zweite Deformation der optischen Fläche zu bewirken.

Besonders günstige Varianten ergeben sich dabei, wenn die erste Deformation und die zweite Deformation einen Verlauf einer Krümmung der optischen Fläche um unterschiedliche Krümmungsachsen der optischen Fläche verändern. Bei bestimmten Varianten kann die erste Deformation einen Verlauf einer Krümmung der optischen Fläche um eine erste Krümmungsachse der optischen Fläche verändern, während die zweite Deformation einen Verlauf einer Krümmung der optischen Fläche um eine zweite Krümmungsachse der optischen Fläche verändert. Dabei kann die erste Krümmungsachse zu der zweiten Krümmungsachse insbesondere um 70° bis 90°, vorzugsweise 80° bis 90°, weiter vorzugsweise 85° bis 90°, geneigt sein. Es versteht sich, dass die Deformation bei der Lageverstellung in den unterschiedlichen Freiheitsgraden grundsätzlich durch eine gemeinsame Deformationseinheit erzielt werden kann. Bei bestimmten Varianten kann die Deformationseinrichtung eine erste Deformationseinheit und eine zweite Deformationseinheit umfassen, wobei die erste Deformationseinheit dazu ausgebildet ist, die erste Deformation zu bewirken, und die zweite Deformationseinheit dazu ausgebildet ist, die zweite Deformation zu bewirken.

Die optische Elementeinheit bzw. die optische Fläche kann grundsätzlich beliebig gestaltet sein. Besonders günstige ist der Einsatz bei Konfigurationen, bei denen die optische Fläche einen Flächeninhalt von 5 mm ² bis 50000 mm ² , vorzugsweise 15 mm ² bis 2000 mm ² , weiter vorzugsweise 25 mm ² bis 500 mm ² , aufweist. Gleiches gilt bei Varianten, bei denen die optische Fläche eine maximale Abmessung von 0,5 mm bis 500 mm, vorzugsweise 1 mm bis 100 mm, weiter vorzugsweise 5 mm bis 20 mm, aufweist.

Besonders günstig ist es, wenn die optische Fläche wenigstens eines von Nachfolgendem ist: eine wenigstens einfach gekrümmte Fläche, eine sphärische Fläche, eine asphärische Fläche, eine schlanke, entlang einer Haupterstreckungsrichtung langgestreckte optische Fläche, eine schlanke, entlang einer Haupterstreckungsrichtung gekrümmt verlaufende optische Fläche. Die Anwendung kann bei beliebigen optischen Flächen erfolgen, besonders einfach und günstig ist sie, wenn die optische Fläche eine reflektierende Fläche ist .

Die vorliegende Erfindung betrifft weiterhin ein optisches Modul, insbesondere einen

Facettenspiegel, mit wenigstens zwei, insbesondere einer Mehrzahl P, erfindungsgemäßer optischer Anordnungen. Dabei können die optischen Anordnungen mit einer gemeinsamen Stützstruktur verbunden sein. Weiterhin kann die Mehrzahl P bevorzugt 5 bis 1000, vorzugsweise 10 bis 500, weiter vorzugsweise 10 bis 100, betragen.

Die vorliegende Erfindung betrifft weiterhin eine optische Abbildungseinrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit einer Beleuchtungseinrichtung mit einer ersten optischen Elementgruppe, einer Objekteinrichtung zur Aufnahme eines Objekts, einer Projektionseinrichtung mit einer zweiten optischen Elementgruppe und einer Bildeinrichtung, wobei die Beleuchtungseinrichtung zur Beleuchtung des Objekts ausgebildet ist und die Projektionseinrichtung zur Projektion einer Abbildung des Objekts auf die Bildeinrichtung ausgebildet ist. Die Beleuchtungseinrichtung und/oder die Projektionseinrichtung umfasst wenigstens ein erfindungsgemäßes optisches Modul. Hiermit lassen sich ebenfalls die oben im Zusammenhang mit der optischen Anordnung beschriebenen Varianten und Vorteile in demselben Maße realisieren, sodass zur Vermeidung von Wiederholungen insoweit auf die obigen Ausführungen verwiesen wird.

Die vorliegende Erfindung betrifft weiterhin ein Verfahren zum Abstützen einer optischen Elementeinheit, insbesondere einer Facettenelementeinheit, einer Abbildungseinrichtung für die Mikrolithographie, insbesondere für die Verwendung von Licht im extremen UV-Bereich (EUV), bei dem die optische Elementeinheit, die ein optisches Element mit einer optischen Fläche aufweist, mittels einer Stützeinrichtung an einer Stützstruktur derart abgestützt wird, dass die optische Elementeinheit bezüglich der Stützstruktur in einem Lagestellvorgang in wenigstens einem Freiheitsgrad, insbesondere einem rotatorischen Freiheitsgrad, aus einer Ausgangslage verstellbar ist. Die optische Fläche wird über eine Deformationseinrichtung deformiert, wobei eine Relativbewegung, die sich in dem Lagestellvorgang zwischen einer ersten Komponente (110; 112) und einer zweiten Komponente (109) der Anordnung ergibt, zwangsgekoppelt in eine Deformation der optischen Fläche (109.2) umgesetzt wird.

Die vorliegende Erfindung betrifft weiterhin ein Verfahren zum Abstützen einer optischen Elementeinheit, insbesondere einer Facettenelementeinheit, einer Abbildungseinrichtung für die Mikrolithographie, insbesondere für die Verwendung von Licht im extremen UV-Bereich (EUV), bei dem die optische Elementeinheit, die ein optisches Element mit einer optischen Fläche aufweist, mittels einer Stützeinrichtung an einer Stützstruktur derart abgestützt wird, dass die optische Elementeinheit bezüglich der Stützstruktur in einem Lagestellvorgang in wenigstens einem Freiheitsgrad, insbesondere einem rotatorischen Freiheitsgrad, aus einer Ausgangslage verstellbar ist. Die optische Fläche wird über eine Deformationseinrichtung deformiert, wobei die Deformationseinrichtung einen ersten Anbindungsbereich und einen zweiten Anbindungsbereich aufweist und einen Deformationskraftfluss von dem ersten Anbindungsbereich zu dem zweiten Anbindungsbereich definiert. Der erste Anbindungsbereich wird an einem Antriebsende der Deformationseinrichtung angeordnet und an einem ersten Anbindungspunkt mit der Stützeinrichtung oder der Stützstruktur verbunden. Der zweite Anbindungsbereich wird an einem Abtriebsende der Deformationseinrichtung angeordnet und an einem zweiten Anbindungspunkt mit der optischen Elementeinheit verbunden. Ein dritter Anbindungsbereich der Deformationseinrichtung wird in Richtung des Deformationskraftflusses zwischen dem ersten Anbindungsbereich und dem zweiten Anbindungsbereich angeordnet, wobei der dritte Anbindungsbereich an einem dritten Anbindungspunkt mit der optischen Elementeinheit oder der Stützeinrichtung verbunden wird. Der dritte Anbindungspunkt wird derart angeordnet, dass der dritte Anbindungspunkt während des Lagestellvorgangs eine erste Relativbewegung zu dem ersten Anbindungspunkt erfährt. Die Deformationseinrichtung ist eine, insbesondere passive, Getriebeeinrichtung, die während des Lagestellvorgangs die erste Relativbewegung in eine zweite Relativbewegung zwischen dem zweiten Anbindungspunkt und dem dritten Anbindungspunkt umsetzt, wobei während der zweiten Relativbewegung an dem zweiten Anbindungspunkt durch die Deformationseinrichtung eine Deformationslast in die optische Elementeinheit eingeleitet wird, eine Deformation der optischen Fläche bewirkt. Auch hiermit lassen sich ebenfalls die oben im Zusammenhang mit der optischen Anordnung beschriebenen Varianten und Vorteile in demselben Maße realisieren, sodass zur Vermeidung von Wiederholungen insoweit auf die obigen Ausführungen verwiesen wird.

Die vorliegende Erfindung betrifft schließlich ein optisches Abbildungsverfahren, insbesondere für die Mikrolithographie, bei dem eine Beleuchtungseinrichtung, die eine erste optische Elementgruppe aufweist, ein Objekt beleuchtet und eine Projektionseinrichtung, die eine zweite optische Elementgruppe aufweist, eine Abbildung des Objekts auf eine Bildeinrichtung projiziert. Wenigstens ein optisches Element der Beleuchtungseinrichtung und/oder der Projektionseinrichtung wird mittels eines erfindungsgemäßen Verfahrens abgestützt. Auch hiermit lassen sich ebenfalls die oben im Zusammenhang mit der optischen Anordnung beschriebenen Varianten und Vorteile in demselben Maße realisieren, sodass zur Vermeidung von Wiederholungen insoweit auf die obigen Ausführungen verwiesen wird.

Weitere Aspekte und Ausführungsbeispiele der Erfindung ergeben sich aus den abhängigen Ansprüchen und der nachfolgenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele, die sich auf die beigefügten Figuren bezieht. Alle Kombinationen der offenbarten Merkmale, unabhängig davon, ob diese Gegenstand eines Anspruchs sind oder nicht, liegen im Schutzbereich der Erfindung.

KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN

Figur 1 ist eine schematische Darstellung einer bevorzugten Ausführung einer erfindungsgemäßen Projektionsbelichtungsanlage, die eine bevorzugte Ausführung einer erfindungsgemäßen optischen Anordnung umfasst.

Figur 2 ist eine schematische Schnittansicht eines Teils der Anordnung aus Figur 1 (entlang der abgewinkelten Schnittlinie ll-ll aus Figur 3) in seiner Ausgangslage.

Figur 3 ist eine schematische Schnittansicht des Teils der Anordnung aus Figur 2 (entlang der abgewinkelten Schnittlinie Ill-Ill aus Figur 2) in seiner Ausgangslage.

Figur 4 ist eine schematische Ansicht der Deformationseinrichtung der Anordnung aus Figur 2 und 3.

Figur 5 ist eine schematische Schnittansicht des Teils der Anordnung aus Figur 1 (entlang der abgewinkelten Schnittlinie ll-ll aus Figur 3) in einer aus der Ausgangslage ausgelenkten Lage, die am Ende eines Lagestellvorgangs erreicht wird.

Figur 6 ist eine schematische Ansicht einer Komponente der Deformationseinrichtung einer weiteren bevorzugten Ausführung der erfindungsgemäßen optischen Anordnung

Figur 7 ist eine schematische, generalisierte Ansicht der Deformationseinrichtung aus Figur 4).

Figur 8 ist eine schematische Ansicht der Deformationseinrichtung einer weiteren bevorzugten Ausführung der erfindungsgemäßen optischen Anordnung (ähnlich der Ansicht aus Figur 4).

Figur 9 ist eine schematische Ansicht der Deformationseinrichtung einer weiteren bevorzugten Ausführung der erfindungsgemäßen optischen Anordnung (ähnlich der Ansicht aus Figur 4).. DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG

Erstes

Im Folgenden wird unter Bezugnahme auf die Figuren 1 bis 6 ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Projektionsbelichtungsanlage 101 für die Mikrolithographie beschrieben, die ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen optischen Anordnung umfasst. Zur Vereinfachung der nachfolgenden Ausführungen wird in den Zeichnungen ein x,y, z-Koordinatensystem angegeben, wobei die z-Richtung parallel zur Richtung der Gravitationskraft verläuft. Die x-Richtung und die y-Richtung verlaufen demgemäß horizontal, wobei die x-Richtung in der Darstellung der Figur 1 senkrecht in die Zeichnungsebene hinein verläuft. Selbstverständlich ist es in weiteren Ausgestaltungen möglich, beliebige davon abweichende Orientierungen der eines x,y, z-Koordinatensystems zu wählen.

Im Folgenden werden zunächst unter Bezugnahme auf die Figur 1 exemplarisch die wesentlichen Bestandteile einer Projektionsbelichtungsanlage 101 beschrieben. Die Beschreibung des grundsätzlichen Aufbaus der Projektionsbelichtungsanlage 101 sowie deren Bestandteile sei hierbei nicht einschränkend verstanden.

Eine Beleuchtungseinrichtung bzw. ein Beleuchtungssystem 102 der Projektionsbelichtungsanlage 101 umfasst neben einer Strahlungsquelle 102.1 eine optischen Elementgruppe in Form einer Beleuchtungsoptik 102.2 zur Beleuchtung eines (schematisiert dargestellten) Objektfeldes 103.1. Das Objektfeld 103.1 liegt in einer Objektebene 103.2 einer Objekteinrichtung 103. Beleuchtet wird hierbei ein im Objektfeld 103.1 angeordnetes Retikel 103.3 (auch als Maske bezeichnet). Das Retikel 103.3 ist von einem Retikelhalter 103.4 gehalten. Der Retikelhalter 103.4 ist über einen Retikelverlagerungsantrieb 103.5 insbesondere in einer oder mehreren Scanrichtungen verlagerbar. Eine solche Scanrichtung verläuft im vorliegenden Beispiel parallel zu der y-Achse.

Die Projektionsbelichtungsanlage 101 umfasst weiterhin eine Projektionseinrichtung 104 mit einer weiteren optischen Elementgruppe in Form einer Projektionsoptik 104.1. Die Projektionsoptik 104.1 dient zur Abbildung des Objektfeldes 103.1 in ein (schematisiert dargestelltes) Bildfeld 105.1, das in einer Bildebene 105.2 einer Bildeinrichtung 105 liegt. Die Bildebene 105.2 verläuft parallel zu der Objektebene 103.2. Alternativ ist auch ein von 0° verschiedener Winkel zwischen der Objektebene 103.2 und der Bildebene 105.2 möglich. Bei der Belichtung wird eine Struktur des Retikels 103.3 auf eine lichtempfindliche Schicht eines Substrats in Form eines Wafers 105.3 abgebildet, wobei die lichtempfindliche Schicht in der Bildebene 105.2 im Bereich des Bildfeldes 105.1 angeordnet ist. Der Wafer 105.3 wird von einem Substrathalter bzw. Waferhalter 105.4 gehalten. Der Waferhalter 105.4 ist über einen Waferverlagerungsantrieb 105.5 insbesondere längs der y-Richtung verlagerbar. Die Verlagerung einerseits des Retikels 103.3 über den Retikelverlagerungsantrieb 103.5 und andererseits des Wafers 105.3 über den Waferverlagerungsantrieb 105.5 kann synchronisiert zueinander erfolgen. Diese Synchronisation kann beispielsweise über eine gemeinsame (in Figur 1 nur stark schematisch und ohne Steuerpfade dargestellte) Steuereinrichtung 106 erfolgen.

Bei der Strahlungsquelle 102.1 handelt es sich um eine EU -Strahlungsquelle (extrem ultraviolette Strahlung), Die Strahlungsquelle 102.1 emittiert insbesondere EU -Strahlung 107, welche im Folgenden auch als Nutzstrahlung oder Beleuchtungsstrahlung bezeichnet wird. Die Nutzstrahlung hat insbesondere eine Wellenlänge im Bereich zwischen 5 nm und 30 nm, insbesondere einer Wellenlänge von etwa 13 nm. Bei der Strahlungsquelle 102.1 kann es sich um eine Plasmaquelle handeln, zum Beispiel um eine LPP-Quelle (Laser Produced Plasma, also mithilfe eines Lasers erzeugtes Plasma) oder um eine DPP-Quelle (Gas Discharged Produced Plasma, also mittels Gasentladung erzeugtes Plasma). Es kann sich auch um eine synchrotronbasierte Strahlungsquelle handeln. Bei der Strahlungsquelle 102.1 kann es sich aber auch um einen Freie-Elektronen-Laser (Free-Electron-Laser, FEL) handeln.

Da die Projektionsbelichtungsanlage 101 mit Nutzlicht im EUV-Bereich arbeitet, handelt es sich bei den verwendeten optischen Elementen ausschließlich um reflektive optische Elemente. In weiteren Ausgestaltungen der Erfindung ist es (insbesondere in Abhängigkeit von der Wellenlänge des Beleuchtungslichts) selbstverständlich auch möglich, für die optischen Elemente jede Art von optischen Elementen (refraktiv, reflektiv, diffraktiv) alleine oder in beliebiger Kombination einzusetzen.

Die Beleuchtungsstrahlung 107, die von der Strahlungsquelle 102.1 ausgeht, wird von einem Kollektor 102.3 gebündelt. Bei dem Kollektor 102.3 kann es sich um einen Kollektor mit einer oder mit mehreren ellipsoidalen und/oder hyperboloiden Reflexionsflächen handeln. Die mindestens eine Reflexionsfläche des Kollektors 102.3 kann im streifenden Einfall (Grazing Incidence, Gl), also mit Einfallswinkeln größer als 45°, oder im normalen Einfall (Normal Incidence, NI), also mit Einfallwinkeln kleiner als 45°, mit der Beleuchtungsstrahlung 107 beaufschlagt werden. Der Kollektor 11 kann einerseits zur Optimierung seiner Reflektivität für die Nutzstrahlung und andererseits zur Unterdrückung von Falschlicht strukturiert und/oder beschichtet sein.

Nach dem Kollektor 102.3 propagiert die Beleuchtungsstrahlung 107 durch einen Zwischenfokus in einer Zwischenfokusebene 107.1. Die Zwischenfokusebene 107.1 kann bei bestimmten Varianten eine Trennung zwischen der Beleuchtungsoptik 102.2 und einem Strahlungsquellenmodul 102.4 darstellen, das die Strahlungsquelle 102.1 und den Kollektor 102.3 umfasst.

Die Beleuchtungsoptik 102.2 umfasst entlang des Strahlengangs einen Umlenkspiegel 102.5 einen nachgeordneten ersten Facettenspiegel 102.6. Bei dem Umlenkspiegel 102.5 kann es sich um einen planen Umlenkspiegel oder alternativ um einen Spiegel mit einer über die reine Umlenkungswirkung hinaus bündelbeeinflussenden Wirkung handeln. Alternativ oder zusätzlich kann der Umlenkspiegel 102.5 als Spektralfilter ausgeführt sein, der aus der Beleuchtungsstrahlung 107 zumindest teilweise so genanntes Falschlicht heraustrennt, dessen Wellenlänge von der Nutzlichtwellenlänge abweicht. Sofern die optisch wirksamen Flächen des ersten Facettenspiegels 102.6 im Bereich einer Ebene der Beleuchtungsoptik 102.2 angeordnet sind, die zur Objektebene 103.2 als Feldebene optisch konjugiert ist, wird der erste Facettenspiegel 102.6 auch als Feldfacettenspiegel bezeichnet. Der erste Facettenspiegel 102.6 umfasst eine Vielzahl von einzelnen ersten Facetten 102.7, welche im Folgenden auch als Feldfacetten bezeichnet werden. Diese ersten Facetten und deren optische Flächen sind in der Figur 1 nur stark schematisch durch die gestrichelte Kontur 102.7 angedeutet.

Die ersten Facetten 102.7 können als makroskopische Facetten ausgeführt sein, insbesondere als rechteckige Facetten oder als Facetten mit bogenförmiger oder teilkreisförmiger Randkontur. Die ersten Facetten 102.7 können als Facetten mit planarer oder alternativ mit konvex oder konkav gekrümmter optischer Fläche ausgeführt sein.

Wie beispielsweise aus der DE 102008 009600 A1 (deren gesamte Offenbarung hierin durch Bezugnahme eingeschlossen wird) bekannt ist, können die ersten Facetten 102.7 selbst jeweils auch aus einer Vielzahl von Einzelspiegeln, insbesondere einer Vielzahl von Mikrospiegeln, zusammengesetzt sein. Der erste Facettenspiegel 102.6 kann insbesondere als mikroelektromechanisches System (MEMS-System) ausgebildet sein, wie dies beispielsweise in der DE 10 2008 009 600 A1 im Detail beschrieben ist. Zwischen dem Kollektor 102.3 und dem Umlenkspiegel 102.5 verläuft die Beleuchtungsstrahlung 107 im vorliegenden Beispiel horizontal, also längs der y-Richtung. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten auch eine andere Ausrichtung gewählt sein kann.

Im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 102.2 ist dem ersten Facettenspiegel 102.6 ein zweiter Facettenspiegel 102.8 nachgeordnet. Sofern die optisch wirksamen Flächen des zweiten Facettenspiegels 102.8 im Bereich einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 102.2 angeordnet sind, wird der zweite Facettenspiegel 102.8 auch als Pupillenfacettenspiegel bezeichnet. Der zweite Facettenspiegel 102.8 kann auch beabstandet zu einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 102.2 angeordnet sein. In diesem Fall wird die Kombination aus dem ersten Facettenspiegel 102.6 und dem zweiten Facettenspiegel 102.8 auch als spekularer Reflektor bezeichnet. Solche spekulare Reflektoren sind beispielsweise bekannt aus der US 2006/0132747 A1, der EP 1 614 008 B1 oder der US 6,573,978 (deren jeweilige gesamte Offenbarung hierin durch Bezugnahme eingeschlossen wird).

Der zweite Facettenspiegel 102.8 umfasst wiederum eine Mehrzahl von zweiten Facetten, die in der Figur 1 nur stark schematisch durch die gestrichelte Kontur 102.9 angedeutet sind. Die zweiten Facetten 102.9 werden im Falle eines Pupillenfacettenspiegels auch als Pupillenfacetten bezeichnet. Die zweiten Facetten 102.9 können grundsätzlich wie die ersten Facetten 102.7 gestaltet sein. Insbesondere kann es sich bei den zweiten Facetten 102.9 ebenfalls um makroskopische Facetten handeln, die beispielsweise rund, rechteckig oder auch hexagonal berandet sein können. Alternativ kann es sich bei den zweiten Facetten 102.9 um aus Mikrospiegeln zusammengesetzte Facetten handeln. Die zweiten Facetten 102.9 können wiederum planare oder alternativ konvex oder konkav gekrümmte Reflexionsflächen aufweisen. Diesbezüglich wird erneut auf die DE 102008 009 600 A1 verwiesen.

Die Beleuchtungsoptik 102.2 bildet im vorliegenden Beispiel somit ein doppelt facettiertes System. Dieses grundlegende Prinzip wird auch als Fliegenaugenintegrator (Fly's Eye Integrator) bezeichnet. Es kann bei bestimmten Varianten weiterhin vorteilhaft sein, die optischen Flächen des zweiten Facettenspiegels 102.8 nicht exakt in einer Ebene anzuordnen, welche zu einer Pupillenebene der Projektionsoptik 104.1 optisch konjugiert ist.

Bei einer weiteren, nicht dargestellten Ausführung der Beleuchtungsoptik 102.2 kann im Strahlengang zwischen dem zweiten Facettenspiegel 102.8 und dem Objektfeld 103.1 eine (nur stark schematisiert dargestellte) Übertragungsoptik 102.10 angeordnet sein, die insbesondere zur Abbildung der ersten Facetten 102.7 in das Objektfeld 103.1 beiträgt. Die Übertragungsoptik 102.10 kann genau einen Spiegel, alternativ aber auch zwei oder mehr Spiegel aufweisen, welche hintereinander im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 102.2 angeordnet sind. Die Übertragungsoptik 102.10 kann insbesondere einen oder zwei Spiegel für senkrechten Einfall (Nl-Spiegel, Normal Incidence Spiegel) und/oder einen oder zwei Spiegel für streifenden Einfall (Gl-Spiegel, Grazing Incidence Spiegel) umfassen.

Die Beleuchtungsoptik 102.2 hat bei der Ausführung, wie sie in der Figur 1 gezeigt ist, nach dem Kollektor 102.3 genau drei Spiegel, nämlich den Umlenkspiegel 102.5, den ersten Facettenspiegel 102.6 (z. B. einen Feldfacettenspiegel) und den zweiten Facettenspiegel 102.8 (z. B. einen Pupillenfacettenspiegel). Bei einer weiteren Ausführung der Beleuchtungsoptik 102.2 kann der Umlenkspiegel 102.5 auch entfallen, sodass die Beleuchtungsoptik 102.2 nach dem Kollektor 102.3 dann genau zwei Spiegel aufweisen kann, nämlich den ersten Facettenspiegel 102.6 und den zweiten Facettenspiegel 102.8.

Mit Hilfe des zweiten Facettenspiegels 102.8 werden die einzelnen ersten Facetten 102.7 in das Objektfeld 103.1 abgebildet. Der zweite Facettenspiegel 102.8 ist der letzte bündelformende oder auch tatsächlich der letzte Spiegel für die Beleuchtungsstrahlung 107 im Strahlengang vor dem Objektfeld 103.1. Die Abbildung der ersten Facetten 102.7 mittels der zweiten Facetten 102.9 bzw. mit den zweiten Facetten 102.9 und einer Übertragungsoptik 102.10 in die Objektebene 103.2 ist regelmäßig nur eine näherungsweise Abbildung.

Die Projektionsoptik 104.1 umfasst eine Mehrzahl von Spiegeln Mi, welche gemäß ihrer Anordnung entlang des Strahlengangs der Projektionsbelichtungsanlage 101 nummeriert sind. Bei dem in der Figur 1 dargestellten Beispiel umfasst die Projektionsoptik 104.1 sechs Spiegel M1 bis M6. Alternativen mit vier, acht, zehn, zwölf oder einer anderen Anzahl an Spiegeln Mi sind ebenso möglich. Der vorletzte Spiegel M5 und der letzte Spiegel M6 können jeweils eine (nicht näher dargestellte) Durchtrittsöffnung für die Beleuchtungsstrahlung 107 aufweisen. Bei der Projektionsoptik 104.1 handelt es sich im vorliegenden Beispiel um eine doppelt obskurierte Optik. Die Projektionsoptik 104.1 hat eine bildseitige numerische Apertur NA, die größer ist als 0,5. Insbesondere kann die bildseitige numerische Apertur NA auch größer sein kann als 0,6. Beispielsweise kann die bildseitige numerische Apertur NA 0,7 oder 0,75 betragen.

Die Reflexionsflächen der Spiegel Mi können als Freiformflächen ohne

Rotationssymmetrieachse ausgeführt sein. Alternativ können die Reflexionsflächen der Spiegel Mi als asphärische Flächen mit genau einer Rotationssymmetrieachse der Reflexionsflächenform gestaltet sein. Die Spiegel Mi können, genauso wie die Spiegel der Beleuchtungsoptik 102.2, hoch reflektierende Beschichtungen für die Beleuchtungsstrahlung 107 aufweisen. Diese Beschichtungen können aus mehreren Schichten aufgebaut sein (Multilayer-Beschichtungen), insbesondere können sie mit alternierenden Lagen aus Molybdän und Silizium gestaltet sein.

Die Projektionsoptik 104.1 hat im vorliegenden Beispiel einen großen Objekt-Bildversatz in der y-Richtung zwischen einer y-Koordinate eines Zentrums des Objektfeldes 103.1 und einer y-Koordinate des Zentrums des Bildfeldes 105.1. Dieser Objekt-Bild-Versatz in der y-Richtung kann in etwa so groß sein wie ein Abstand zwischen der Objektebene 103.2 und der Bildebene 105.2 in der z-Richtung.

Die Projektionsoptik 104.1 kann insbesondere anamorphotisch ausgebildet sein. Sie weist insbesondere unterschiedliche Abbildungsmaßstäbe ßx, ßy in x- und y-Richtung auf. Die beiden Abbildungsmaßstäbe ßx, ßy der Projektionsoptik 104.1 liegen bevorzugt bei (ßx; ßy) = (+/- 0,25; +/- 0,125). Ein positiver Abbildungsmaßstab ß bedeutet eine Abbildung ohne Bildumkehr. Ein negatives Vorzeichen für den Abbildungsmaßstab ß bedeutet eine Abbildung mit Bildumkehr. Die Projektionsoptik 104.1 führt im vorliegenden Beispiel somit in x-Richtung, das heißt in Richtung senkrecht zur Scanrichtung, zu einer Verkleinerung im Verhältnis von 4:1. Demgegenüber führt die Projektionsoptik 104.1 in y-Richtung, das heißt in Scanrichtung, zu einer Verkleinerung im Verhältnis von 8:1. Andere Abbildungsmaßstäbe sind ebenso möglich. Auch vorzeichengleiche und absolut gleiche Abbildungsmaßstäbe in x- und y-Richtung sind möglich, zum Beispiel mit Absolutwerten von 0,125 oder von 0,25.

Die Anzahl von Zwischenbildebenen in der x- und in der y-Richtung im Strahlengang zwischen dem Objektfeld 103.1 und dem Bildfeld 105.1 kann gleich sein. Ebenso kann die Anzahl von Zwischenbildebenen je nach Ausführung der Projektionsoptik 104.1 unterschiedlich sein. Beispiele für Projektionsoptiken mit unterschiedlicher Anzahl derartiger Zwischenbilder in x- und y-Richtung sind beispielsweise aus der US 2018/0074303 A1 bekannt (deren gesamte Offenbarung hierin durch Bezugnahme eingeschlossen wird).

Im vorliegenden Beispiel ist jeweils eine der Pupillenfacetten 102.9 genau einer der Feldfacetten 102.7 zur Ausbildung jeweils eines Beleuchtungskanals zur Ausleuchtung des Objektfeldes 103.1 zugeordnet. Es kann sich hierdurch insbesondere eine Beleuchtung nach dem Köhlerschen Prinzip ergeben. Das Fernfeld wird mit Hilfe der Feldfacetten 102.7 in eine Vielzahl an Objektfeldern 103.1 zerlegt. Die Feldfacetten 102.7 erzeugen eine Mehrzahl von Bildern des Zwischenfokus auf den diesen jeweils zugeordneten Pupillenfacetten 102.9.

Die Feldfacetten 102.7 werden jeweils von einer zugeordneten Pupillenfacette 102.9 auf das Retikel 103.3 abgebildet, wobei sich die Abbildungen überlagern, sodass es mithin zu einer überlagernden Ausleuchtung des Objektfeldes 103.1 kommt. Die Ausleuchtung des Objektfeldes 103.1 ist bevorzugt möglichst homogen. Sie weist vorzugsweise einen Uniformitätsfehler von weniger als 2% auf. Die Felduniformität kann durch die Überlagerung unterschiedlicher Beleuchtungskanäle erreicht werden.

Durch eine Anordnung der Pupillenfacetten 102.9 kann geometrisch die Ausleuchtung der Eintrittspupille der Projektionsoptik 104.1 definiert werden. Durch Auswahl der Beleuchtungskanäle, insbesondere der Teilmenge der Pupillenfacetten 102.9, die Licht führen, kann die Intensitätsverteilung in der Eintrittspupille der Projektionsoptik 104.1 eingestellt werden. Diese Intensitätsverteilung wird auch als Beleuchtungssetting des Beleuchtungssystems 102 bezeichnet. Eine ebenfalls bevorzugte Pupillenuniformität im Bereich definiert ausgeleuchteter Abschnitte einer Beleuchtungspupille der Beleuchtungsoptik 102.2 kann durch eine Umverteilung der Beleuchtungskanäle erreicht werden. Die vorgenannten Einstellungen können bei aktiv verstellbaren Facetten jeweils durch eine entsprechende Ansteuerung über die Steuereinrichtung 106 vorgenommen werden.

Im Folgenden werden weitere Aspekte und Details der Ausleuchtung des Objektfeldes 103.1 sowie insbesondere der Eintrittspupille der Projektionsoptik 104.1 beschrieben.

Die Projektionsoptik 104.1 kann insbesondere eine homozentrische Eintrittspupille aufweisen. Diese kann zugänglich oder auch unzugänglich sein. Die Eintrittspupille der Projektionsoptik 104.1 lässt sich häufig mit dem Pupillenfacettenspiegel 102.8 nicht exakt ausleuchten. Bei einer Abbildung der Projektionsoptik 104.1, welche das Zentrum des Pupillenfacettenspiegels 102.8 telezentrisch auf den Wafer 105.3 abbildet, schneiden sich die Aperturstrahlen oftmals nicht in einem einzigen Punkt. Es lässt sich jedoch eine Fläche finden, in welcher der paarweise bestimmte Abstand der Aperturstrahlen minimal wird. Diese Fläche stellt die Eintrittspupille oder eine zu ihr konjugierte Fläche im Ortsraum dar. Insbesondere zeigt diese Fläche eine endliche Krümmung.

Es kann bei bestimmten Varianten sein, dass die Projektionsoptik 104.1 unterschiedliche

Lagen der Eintrittspupille für den tangentialen und für den sagittalen Strahlengang aufweist. In diesem Fall ist es bevorzugt, wenn ein abbildendes optisches Element, insbesondere ein optisches Bauelement der Übertragungsoptik 102.10, zwischen dem zweiten Facettenspiegel 102.8 und dem Retikel 103.3 bereitgestellt wird. Mit Hilfe dieses abbildenden optischen Elements kann die unterschiedliche Lage der tangentialen Eintrittspupille und der sagittalen Eintrittspupille berücksichtigt werden.

Bei der Anordnung der Komponenten der Beleuchtungsoptik 102.2, wie sie in der Figur 1 dargestellt ist, sind die optischen Flächen des Pupillenfacettenspiegels 102.8 in einer zur Eintrittspupille der Projektionsoptik 104.1 konjugierten Fläche angeordnet. Der erste Facettenspiegel 102.6 (Feldfacettenspiegel) definiert eine erste Haupterstreckungsebene seiner optischen Flächen, die im vorliegenden Beispiel zur Objektebene 5 verkippt angeordnet ist. Diese erste Haupterstreckungsebene des ersten Facettenspiegels 102.6 ist im vorliegenden Beispiel verkippt zu einer zweiten Haupterstreckungsebene angeordnet, die von der optischen Fläche des Umlenkspiegels 102.5 definiert ist. Die erste Haupterstreckungsebene des ersten Facettenspiegels 102.6 ist im vorliegenden Beispiel weiterhin verkippt zu einer dritten Haupterstreckungsebene angeordnet, die von den optischen Flächen des zweiten Facettenspiegels 102.8 definiert wird.

Wie nachfolgend anhand des zweiten Facettenspiegels 102.8 und der Figur 2 erläutert wird, sind im vorliegenden Beispiel die Facettenspiegel 102.6 und 102.8 als erfindungsgemäße optische Module aufgebaut, die eine Vielzahl P optischer Anordnungen in Form von Facetteneinheiten 108 umfassen, von denen in Figur 2 eine Facetteneinheit 108 dargestellt ist. Die Facetteneinheiten 108 sind vorliegenden Beispiel identisch gestaltet. Bei anderen Varianten können sie aber auch jeweils (einzeln oder in Gruppen) unterschiedlich gestaltet sein.

Die jeweilige Facetteneinheit 108 umfasst eine optische Elementeinheit in Form einer Facettenelementeinheit 109, eine Stützeinrichtung 110 und eine Deformationseinrichtung 111. Die Facettenelementeinheit 109 weist ein optisches Element in Form eines Facettenelements 109.1 auf. Das Facettenelement 109.1 weist eine optische Fläche 109.2 auf. Die optische Fläche 109.2 ist eine reflektierende optische Fläche, die beispielsweise durch eine geeignete, das Nutzlicht reflektierende Beschichtung auf einem Facettenkörper 109.3 des Facettenelements 109.1 ausgebildet ist. Es versteht sich jedoch, dass die optische Fläche 109.2 bei anderen Varianten auch auf beliebige andere Weise gestaltet sein kann, beispielsweise durch eine entsprechende Oberflächenbearbeitung des Facetten körpers 109.3 erreicht werden kann. Die Stützeinrichtung 110 stützt die Facettenelementeinheit 109 an einer Stützstruktur in Form eines Trägers 112 des Facettenspiegels 102.8 ab. Dabei können mehrere Facetteneinheiten 108 (in Gruppen) bis hin zu allen Facetteneinheiten 108 des zweiten Facettenspiegels 102.8 an einem gemeinsamen Träger 112 abgestützt sein. Dabei kann die Mehrzahl P an Facetteneinheiten 108 5 bis 1000, vorzugsweise 10 bis 500, weiter vorzugsweise 10 bis 100, betragen.

Die Stützeinrichtung 110 ist dazu ausgebildet, die Facettenelementeinheit 109 derart an der Stützstruktur 112 abzustützen, dass die Facettenelementeinheit 109 bezüglich der Stützstruktur 112 in einem Lagestellvorgang in wenigstens einem Freiheitsgrad aus der in Figur 2 und 3 dargestellten Ausgangslage verstellbar ist. Im vorliegenden Beispiel definiert die Stützeinrichtung 110 zwei rotatorische Verstellfreiheitsgrade, nämlich einen ersten Kippfreiheitsgrad um eine erste Kippachse 110.1 (siehe Figur 3) und einen zweiten Kippfreiheitsgrad um eine zweite Kippachse 110.2 (siege Figur 2), um welche die Facettenelementeinheit 109 in einem Lagestellvorgang jeweils bezüglich der Stützstruktur 112 verkippt werden kann. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten eine beliebige andere Anzahl von Verstellfreiheitsgraden definiert sein kann (bis hin zu fünf oder gar allen sechs Freiheitsgraden im Raum).

Die erste Kippachse 110.1 und die zweite Kippachse 110.2 werden im vorliegenden Beispiel in grundsätzlich hinlänglich bekannter Weise jeweils durch zwei Blattfederpaare 110.3 bzw.

110.4 realisiert, die ineinander verschachtelt sind und kinematisch seriell zwischen der Stützstruktur 112 und der Facettenelementeinheit 109 wirken. Die erste Kippachse 110.1 wird im vorliegenden Beispiel durch die Schnittlinie der Haupterstreckungsebenen der beiden Blattfedern des Blattfederpaars 110.3 definiert, während die zweite Kippachse 110.2 durch die Schnittlinie der Haupterstreckungsebenen der beiden Blattfedern des zweiten Blattfederpaars 110.4 definiert wird. Der Lagestellvorgang erfolgt im vorliegenden Beispiel in grundsätzlich bekannter Weise durch eine Stellkraft FA (siehe Figur 5), die in ein Stellelement 109.4 der Facettenelementeinheit 109 eingeleitet wird. Die Stellkraft FA greift dabei an dem von der optischen Fläche weg weisenden freien Ende 109.5 des Stellelements

109.4 an, das durch eine Ausnehmung der Stützstruktur 112 hindurchragt. In dem in Figur 5 beispielhaft dargestellten Zustand wird die Facettenelementeinheit 109 dabei um die erste Kippachse 110.1 verkippt.

Die Deformationseinrichtung 111 ist dazu ausgebildet, die optische Fläche 109.2 zu deformieren, wobei die Deformationseinrichtung 111 einen ersten Anbindungsbereich 111.1 und einen zweiten Anbindungsbereich 111.2 aufweist und einen Deformationskraftfluss DFF von dem ersten Anbindungsbereich 111.1 zu dem zweiten Anbindungsbereich 111.2 definiert. Der erste Anbindungsbereich 111.1 ist an einem Antriebsende 111.3 der Deformationseinrichtung 111 angeordnet, während der zweite Anbindungsbereich 111.2 ist an einem Abtriebsende 111.4 der Deformationseinrichtung 111 angeordnet ist. Der erste Anbindungsbereich 111.1 ist (in dem in Figur 2 und 3 dargestellten montierten Zustand) an wenigstens einem ersten Anbindungspunkt 111.5 mit der Stützeinrichtung 110 verbunden. Der zweite Anbindungsbereich ist (in dem in Figur 2 und 3 dargestellten montierten Zustand) an einem zweiten Anbindungspunkt 111.6 mit der optischen Elementeinheit 109 verbunden.

Die Deformationseinrichtung 111 weist weiterhin einen dritten Anbindungsbereich 111.7 auf, der in Richtung des Deformationskraftflusses DFF zwischen dem ersten Anbindungsbereich 111.1 und dem zweiten Anbindungsbereich 111.2 angeordnet ist. Der dritte Anbindungsbereich 111.7 ist an einem dritten Anbindungspunkt 111.8 mit der optischen Elementeinheit 109 verbunden, wobei der dritte Anbindungspunkt 111.8 derart angeordnet ist, dass der dritte Anbindungspunkt 111.8 während des Lagestellvorgangs eine erste Relativbewegung RM1 zu dem ersten Anbindungspunkt 111.5 erfährt. Die Deformationseinrichtung 111 ist im vorliegenden Beispiel eine passive Getriebeeinrichtung, die während des Lagestellvorgangs die erste Relativbewegung RM1 in eine zweite Relativbewegung RM2 zwischen dem zweiten Anbindungspunkt 111.6 und dem dritten Anbindungspunkt 111.8 umsetzt. Dabei wird während der ersten Relativbewegung RM 1 durch die Deformationseinrichtung 111 an dem zweiten Anbindungspunkt 111.6 eine Deformationslast LD in die optische Elementeinheit 109 eingeleitet, welche eine Deformation der optischen Elementeinheit 109 (und damit der optischen Fläche 109.2) bewirkt, mit der die zweite Relativbewegung RM2 einhergeht.

Bei der Deformationslast LD kann es sich je nach der Gestaltung und Anordnung der Deformationseinrichtung 111 um eine reine Deformationskraft FD oder ein reines Deformationsmoment MD oder eine Kombination hiervon handeln. Im vorliegenden Beispiel (siehe Figur 5) handelt es sich bei der Deformationslast LD um eine kombinierte Last, die sich aus einer Deformationskraft FD und einem Deformationsmoment MD zusammensetzt.

Im vorliegenden Beispiel umfasst die Deformationseinrichtung 111 eine erste Deformationseinheit 111.9 und eine zweite Deformationseinheit 111.10, die jeweils nach Art eines Koppelgetriebes ausgebildet sind, wie nachfolgend am Beispiel der ersten Deformationseinheit 111.9 erläutert wird. Hierdurch lassen sich nicht nur besonders komplexe Deformationen der optischen Fläche 109.2 erzielen. Zudem es ist auch möglich, Lagestellvorgängen aus der Ausgangslage in unterschiedlichen Freiheitsgraden separate, gegebenenfalls unterschiedliche Deformationen der optischen Fläche 109.2 zuzuordnen. Es versteht sich jedoch, dass je nach den Anforderungen an die Deformation bzw.

Kompensation grundsätzlich eine einzige Deformationseinheit 111.9 bzw. 111.10 ausreichen kann, um die gewünschte Deformation der optischen Fläche 109.2 zu erzielen.

Im vorliegenden Beispiel umfasst die erste Deformationseinheit 111.9 eine erste Koppeleinheit 111.11, eine zweite Koppeleinheit 111.12 und eine dritte Koppeleinheit 111.13. Die erste Koppeleinheit 111.11 bildet den ersten Anbindungsbereich 111.1 aus, während die zweite Koppeleinheit 111.12 den zweiten Anbindungsbereich 111.6 ausbildet. Die dritte Koppeleinheit 111.13 bildet den dritten Anbindungsbereich 111.8 aus, wobei die dritte Koppeleinheit 111.13 dazu ausgebildet ist, ein Bewegungsübersetzungsverhältnis MTR der ersten Relativbewegung RM1 zu der zweiten Relativbewegung RM2 zu definieren. Hiermit lässt sich eine besonders einfache, bevorzugt rein mechanische Zwangskopplung der Deformation der optischen Fläche 109.2 an die Lageverstellung der Facettenelementeinheit 109 erzielen.

Mit einer solchen Gestaltung, insbesondere der einfachen, rein passiven Getriebeeinrichtung der Deformationseinrichtung 111 , kann in einfacher Weise eine zwangsweise Deformation der optischen Fläche 109.2 erzielt werden, wie dies in Figur 5 dargestellt ist. Dabei repräsentiert die gestrichelte Kontur 113 in Figur 5 die Ausgangslage der Facettenelementeinheit 109 (siehe auch Figur 2), während die gepunktete Kontur 114 in Figur 5 die Facettenelementeinheit 109 bei Vorliegen einer reinen Starrkörperbewegung (d.h. einer Auslenkung aus der Ausgangslage ohne die überlagerte Einwirkung der Deformationseinrichtung 111) repräsentiert. Die zwangsweise Deformation der optischen Fläche 109.2 kompensiert dabei zumindest teilweise den Abbildungsfehler, der durch die Verstellung der Lage der Facettenelementeinheit 109 bzw. die Starrkörperbewegung (siehe gepunktete Kontur 114) der Facettenelementeinheit 109 und ihrer optischen Fläche 109.2 entsteht. Die Deformationseinrichtung 111 nutzt dabei in einfacher Weise die Relativbewegung RM1 , die sich bei der Verstellung der Lage der Facettenelementeinheit 109 und ihrer optischen Fläche 102.2 zwischen der Facettenelementeinheit 109 und der Stützeinrichtung 110 ergibt. Diese aus der Stellkraft FA resultierende erste Relativbewegung RM1 wird durch die Getriebeeinrichtung (hier: die Deformationseinheit 111.9) einfach in eine Deformationslast LD umgesetzt, die in die Facettenelementeinheit 109 eingeleitet wird. Die Deformationslast LD an der Facettenelementeinheit 109 bedingt dann eine zwangsweise Deformation der Facettenelementeinheit 109, speziell ihrer optischen Fläche 109.2, mit welcher die zweite Relativbewegung RM2 einhergeht. Die resultierende Deformation der optischen Fläche 109.2 kompensiert dann den durch die Lageverstellung der Facettenelementeinheit 109 bzw. der optischen Fläche 109.2 erzeugten Abbildungsfehler IE zumindest teilweise (bevorzugt natürlich zumindest im Wesentlichen vollständig).

Folglich ist die Deformationseinrichtung 111 im vorliegenden Beispiel derart ausgebildet, dass die durch die Deformationseinrichtung 111 erzielte Deformation der optischen Fläche 109.2 einem Abbildungsfehler IE der optischen Anordnung 108, der durch den Lagestellvorgang bedingt ist, zumindest entgegenwirkt. Die durch die Deformationseinrichtung 111 erzielte Deformation der optischen Fläche 109.2 kompensiert diesen Abbildungsfehler IE bevorzugt zumindest im Wesentlichen vollständig. Die Abstimmung bzw. Optimierung der Deformation auf die Verstellung aus der Ausgangslage kann zumindest abschnittsweise kontinuierlich gestaltet sein, sodass der Abbildungsfehler IE bei jeder Auslenkung (aus der Ausgangslage) über den Lagestellvorgang zumindest teilweise, vorzugsweise im Wesentlichen vollständig kompensiert ist. Im vorliegenden Beispiel kann die Abstimmung bzw. Optimierung der Deformation auch nur auf diskrete vorgebbare Verstellungen bzw. Auslenkungen aus der Ausgangslage hin erfolgen, sodass in diesen diskreten Lagen jeweils die größtmögliche Kompensation des Abbildungsfehlers erzielt wird. Dies kann beispielsweise dann der Fall sein, wenn für die optische Anordnung 108 eine Mehrzahl definierter und diskreter Settings mit diskreten Auslenkungen aus der Ausgangslage vorgesehen sind.

Bei dem kompensierten Abbildungsfehler IE kann es sich um Abbildungsfehler einer oder mehrerer beliebiger Arten (einzeln oder in beliebiger Kombination) handeln, die zumindest eine nennenswerte negative Auswirkung auf die Qualität der Abbildung der Abbildungseinrichtung 101 haben. Besonders vorteilhaft ist es, wenn der kompensierte Abbildungsfehler IE zumindest eine der nachfolgenden Eigenschaften Fokussierung, Koma, oder beliebige Kombinationen hiervon betrifft.

Im vorliegenden Beispiel bedingt der Lagestellvorgang an der Facettenelementeinheit 109 eine Defokussierung der optischen Anordnung 108. Die durch die Deformationseinrichtung 111 erzielte Deformation der optischen Fläche 109.2 bedingt dann eine Änderung der Fokussierung der optischen Fläche 109.2, welche der Defokussierung der optischen Anordnung 108 zumindest entgegenwirkt, insbesondere die Defokussierung zumindest im Wesentlichen kompensiert. Hiermit lässt sich in einfacher Weise ein bei einer solchen Verstellung aus der Ausgangslage häufig auftretender Abbildungsfehler IE in vorteilhafter Weise ausgleichen. Es versteht sich, dass die zwangsweise Deformation grundsätzlich durch Relativbewegungen entsprechender Größe an der Facettenelementeinheit 109 erzielt werden kann, die mit Deformationslasten LD entsprechender Größe einhergehen. Dabei kann die Deformationseinrichtung 111 grundsätzlich eine beliebige geeignete Bewegungsübersetzung zwischen der ersten Relativbewegung RM1 und der zweiten Relativbewegung RM2 mit einem vorgebbaren Bewegungsübersetzungsverhältnis MTR der ersten zur zweiten Relativbewegung RM1, RM2 erzeugen.

Die jeweilige Relativbewegung RM1, RM2 kann grundsätzlich beliebiger Art sein, also eine reine Translation (in ein bis drei Freiheitsgraden), eine reine Rotation (in ein bis drei Freiheitsgraden) oder beliebige Kombinationen hiervon. Bevorzugt umfasst die erste Relativbewegung (bevorzugt zumindest vorrangig) eine erste Verschiebung S1 des ersten Anbindungspunktes 111.5 bezüglich des dritten Anbindungspunktes 111.8 in einer ersten Richtung D1 , während die zweite Relativbewegung RM2 (bevorzugt zumindest vorrangig) eine zweite Verschiebung S2 des zweiten Anbindungspunktes 111.6 bezüglich des dritten Anbindungspunktes 111.8 in einer zweiten Richtung D2 umfasst. Bei bestimmten günstigen Varianten beträgt das Bewegungsübersetzungsverhältnis MTR bevorzugt 1000:1 bis 1:1000, vorzugsweise 100:1 bis 1 :100, weiter vorzugsweise 10:1 bis 1:10, wobei das Verhältnis insbesondere auch 1:1 betragen kann. Bei bestimmten günstigen Varianten beträgt das Verhältnis der ersten Verschiebung S1 zu der zweiten Verschiebung S2 weiterhin 1000:1 bis 1:1000, vorzugsweise 100:1 bis 1:100, weiter vorzugsweise 10:1 bis 1 :10, wobei das Verhältnis insbesondere auch 1 :1 betragen kann. In beiden Fällen können günstige und bedarfsgerechte Deformationen der optischen Fläche 109.2 erzielt werden.

Es versteht sich, dass bei der Umsetzung der ersten Relativbewegung RM1 in die zweite Relativbewegung RM2 grundsätzlich auch eine beliebige Umsetzung der Richtung der Bewegung zwischen dem Antriebsende und dem Abtriebsende erfolgen kann. Bei bestimmten bevorzugten Varianten umfasst die erste Relativbewegung RM1 (bevorzugt zumindest vorrangig) eine erste Verschiebung S1 des ersten Anbindungspunktes 111.5 bezüglich des dritten Anbindungspunktes 111.8 in einer ersten Richtung D1, während die zweite Relativbewegung RM1 (bevorzugt zumindest vorrangig) eine zweite Verschiebung S2 des zweiten Anbindungspunktes 111.6 bezüglich des dritten Anbindungspunktes 111.8 in einer zweiten Richtung D2 umfasst. Die erste Richtung D1 ist bei bestimmten bevorzugten Varianten zu der zweiten Richtung D2 um einen Neigungswinkel IA geneigt (siehe Figur 4), wobei der Neigungswinkel IA insbesondere 0° bis 20°, vorzugsweise 0° bis 10°, weiter vorzugsweise 0° bis 5°, beträgt. Hiermit lässt sich eine günstige Bewegungs- bzw. Kraftumlenkung erzielen, mit der eine entsprechende Deformation auf einfache Weise an geeigneten Deformationskrafteinleitungspunkten (im vorliegenden Beispiel: Anbindungspunkt

111.6) mit günstiger Deformationskrafteinleitung erzielt werden kann.

In vorliegenden Beispiel ist die Deformationseinrichtung 111 derart angeordnet und ausgebildet, dass die erste Richtung D1 und die zweite Richtung D2 zumindest im Wesentlichen in einer gemeinsamen Ebene liegen. Mit einer solchen planaren Gestaltung der Deformationseinheit 111.9 kann eine besonders kompakte Gestaltung mit präziser Bewegungsübersetzung realisiert werden, da die Komponenten zumindest primär nur Lasten in der gemeinsamen Ebene aufnehmen müssen und daher einfach aber dennoch für die planaren Lastfälle ausreichend steif gestaltet werden können.

Im vorliegenden Beispiel liegt in der Ausgangslage (siehe Figur 2) eine durch die Deformationseinrichtung 111 im Wesentlichen nicht deformierte optische Fläche 109.2 vor. Die Deformationseinrichtung 111 derart angeordnet und ausgebildet, dass ausgehend von der Ausgangslage durch gegenläufige erste Verschiebungen S1 des ersten Anbindungspunktes 111.5 bezüglich des dritten Anbindungspunktes 111.8 entlang der ersten Richtung D1 ebenfalls gegenläufige zweite Verschiebungen S2 des zweiten Anbindungspunktes 111.6 bezüglich des dritten Anbindungspunktes 111.8 entlang der zweiten Richtung D2 bewirken.

Bei anderen Varianten (siehe Figur 6) kann aber auch eine Gestaltung realisiert werden, bei der gegenläufige erste Verschiebungen S1 des ersten Anbindungspunktes 111.5 bezüglich des dritten Anbindungspunktes 111.8 entlang der ersten Richtung D1 gleichlaufende zweite Verschiebungen S2 des zweiten Anbindungspunktes 111.6 bezüglich des dritten Anbindungspunktes 111.8 entlang der zweiten Richtung D2 bewirken.

Mit gegenläufigen zweiten Verschiebungen S2 (siehe Beispiel der Figur 2) können in vorteilhafter Weise Situationen behandelt werden, bei denen Lagestellvorgänge in unterschiedlichen Richtungen (aus der Ausgangslage) Abbildungsfehler IE erzeugen, die durch gegenläufige Deformationen kompensiert werden müssen. So kann beispielsweise in einfacher Weise eine geeignete Abbildungsfehlerkompensation in Fällen erzielt werden, in denen ein Lagestellvorgang in einer Richtung (aus der Ausgangslage) eine Erhöhung der Krümmung der optischen Fläche 109.2 erfordert, während ein Lagestellvorgang in der Gegenrichtung (aus der Ausgangslage) eine Verringerung der Krümmung der optischen Fläche 109.2 erfordert. Mit gleichläufigen zweiten Verschiebungen (siehe Beispiel der Figur 6) können in vorteilhafter Weise Situationen behandelt werden, bei denen Lagestellvorgänge in unterschiedlichen Richtungen (aus der Ausgangslage) Abbildungsfehler erzeugen, die unabhängig davon stets durch Deformationen in der gleichen Richtung kompensiert werden müssen. So kann beispielsweise in einfacher Weise eine geeignete Abbildungsfehlerkompensation in Fällen erzielt werden, in denen ein Lagestellvorgang unabhängig von der Richtung der Auslenkung (aus der Ausgangslage) jeweils eine Erhöhung (oder Verringerung) der Krümmung der optischen Fläche 109.2 erfordert.

Es versteht sich, dass die optische Elementeinheit 109 grundsätzlich beliebig gestaltet sein kann, solange sie eine dem zu kompensierenden Abbildungsfehler IE entsprechende Deformation der optischen Fläche 109.2 über die hierin beschriebene Zwangskopplung der Deformationseinrichtung 111 ermöglicht. Im vorliegenden Beispiel weist die optische Elementeinheit 109 einen von der optischen Fläche 109.2 weg weisenden Vorsprung 109.6 auf, wobei der Vorsprung 109.6 ein freies Ende 109.7 aufweist, welches von der ersten Kippachse 110.1 entfernt ist. Der dritte Anbindungspunkt 111.6 ist hierbei im Bereich des freien Endes 109.7 des Vorsprungs 109.6 angeordnet, sodass beim Verkippen der optischen Elementeinheit 109 um die erste Kippachse 110.1 eine vergleichsweise große und damit vorteilhafte Auslenkung (aus der Ausgangslage) im Bereich des freien Endes 109.7 des Vorsprungs 109.6 und damit des dritten Anbindungspunkts 111.8 erzielt wird.

Die optische Elementeinheit 109 kann dabei einteilig oder mehrteilig gestaltet sein. Bei bestimmten Varianten weist die optische Elementeinheit 109 ein einen Elementträger auf, der das optische Element trägt und den Vorsprung ausbildet, wie dies in Figur 2 durch die gestrichelte Kontur 109.8 angedeutet ist. Dabei kann das optische Element 109.1 selbst nur durch eine (ein- oder mehrlagige) Beschichtung des Elementträgers 109.8 ausgebildet sein, wodurch eine vorteilhaft einfache Gestaltung erzielt werden kann. Ebenso kann das optische Element 109.1 einen separaten Elementkörper aufweisen, an dem die optische Fläche 109.2 ausgebildet ist (beispielsweise durch eine entsprechende Beschichtung) und der auf geeignete Weise mit dem Elementträger 109.8 verbunden ist.

Die Geometrie der optischen Elementeinheit 109 kann grundsätzlich beliebig entsprechend den Anforderungen der Abbildungseinrichtung 101 gewählt sein. Im vorliegenden Beispiel weist die optische Elementeinheit 109 eine im Wesentlichen T-förmige oder L-förmige Gestaltung mit einem ersten Schenkel und einem zweiten Schenkel auf, wobei die optische Fläche 109.2 an dem ersten Schenkel ausgebildet ist und der Vorsprung 109.6 durch den zweiten Schenkel ausgebildet ist. Hiermit lassen sich hinsichtlich des Gewichts und der Steifigkeit Konfigurationen erzielen, die gerade unter dynamischen Gesichtspunkten von Vorteil sind (wie dies beispielsweise für schnelle und präzise Settingwechsel von Bedeutung ist).

Es versteht sich weiterhin, dass die Deformationseinrichtung 111 grundsätzlich beliebig gestaltet sein kann, um die gewünschte, zwangsweise an den Lagestellvorgang gekoppelte Deformation der optischen Fläche 109.2 zu erzielen. Dabei können grundsätzlich beliebige Wirkprinzipien zur Bewegungsumsetzung bzw. Kraftumsetzung zum Einsatz kommen. So können beispielsweise (einzeln oder in beliebiger Kombination) mechanische, hydraulische, magnetische oder elektrische (beispielsweise piezoelektrische) Wirkprinzipien zum Einsatz kommen.

Bei bevorzugten Varianten umfasst die Deformationseinrichtung 111 wie im vorliegenden Beispiel eine Deformationseinheit 111.9, 111.10, die (wie oben beschrieben) nach Art eines Koppelgetriebes ausgebildet ist, wobei die dritte Koppeleinheit 111.13 das Bewegungsübersetzungsverhältnis MTR der ersten Relativbewegung RM1 zu der zweiten Relativbewegung RM2 zu definieren. Hiermit lässt sich eine besonders einfache, bevorzugt rein mechanische Zwangskopplung der Deformation an die Lageverstellung erzielen.

Die Bewegungsumsetzung von der ersten Relativbewegung RM1 in die zweite Relativbewegung RM2 kann grundsätzlich auf beliebige geeignete Weise erfolgen. Dabei können rotatorische und translatorische Bewegungen beliebig miteinander kombiniert werden. Im vorliegenden Beispiel umfasst die dritte Koppeleinheit 111.13 hierzu ein Koppelelement in Form einer ersten Rotationseinheit 111.14, die zum einen gelenkig an die erste Koppeleinheit 111.11 und zum anderen im Bereich des dritten Anbindungspunkts 111.8 drehbar an die optische Elementeinheit 109 angebunden ist. Die erste Rotationseinheit 111.14 setzt eine Relativbewegung der ersten Koppeleinheit 111.11 (zum dritten Anbindungspunkt 111.8) in eine Rotationsbewegung um eine erste Rotationsachse 111.15 um. Diese Rotationsbewegung wird dann dazu genutzt, um die zweite Relativbewegung RM2 zu vermitteln.

Die erste Rotationsachse 111.15 kann dabei zumindest im Wesentlichen senkrecht zu einer Ebene verlaufen, die durch den ersten, zweiten und dritten Anbindungspunkt 111.5, 111.6,

111.8 aufgespannt ist. Hierdurch ergibt sich eine einfache Kopplung, bei der im Falle der oben genannten planaren Gestaltung auch die Rotationsbewegung der ersten Rotationseinheit 111.14 in der Haupterstreckungsebene der ersten Deformationseinheit

111.9 erfolgt. Im vorliegenden Beispiel umfasst die erste Rotationseinheit 111.14 ein Rotationselement 111.19 und einen, insbesondere stiftförmigen, Rotationsachsenabschnitt 111.20, der die Rotationsbewegung um die Rotationsachse 111.15 definiert. Das Rotationselement 111.19 definiert dabei eine Rotationselementumfangsrichtung und eine Rotationselementradialrichtung, die senkrecht zu der Rotationsachse 111.15 verläuft. Dabei kann der Rotationsachsenabschnitt 111.20 insbesondere dazu ausgebildet sein, die Rotationsbewegung um die Rotationsachse 111.15 durch elastische Torsion des Rotationsachsenabschnitts 111.20 um die Rotationsachse 111.15 zur Verfügung zu stellen. Hiermit kann eine besonders einfache und kompakte Konfiguration erzielt werden.

Es versteht sich, dass gegebenenfalls eine einzige Rotationseinheit 111.14 ausreichen kann, um die gewünschte Bewegungsumsetzung bzw. Kraftumsetzung zu erzielen. Im vorliegenden Beispiel umfasst die Deformationseinheit 111 , genauer gesagt, die dritte Koppeleinheit 111.13 jedoch eine weitere, zweite Rotationseinheit 111.16, die um eine zweite Rotationsachse 111.17 drehbar ist, wobei die zweite Rotationsachse 111.17 zumindest im Wesentlichen parallel zu der ersten Rotationsachse 111.15 der ersten Rotationseinheit 111.14 verläuft. Hiermit ist insbesondere eine besonders kompakte Gestaltung mit einer günstigen Anpassung der Deformationseinheit 111 an die geometrischen Randbedingungen der optischen Anordnung 108 (insbesondere der optischen Elementeinheit 109) möglich.

Bei bestimmten Varianten kann die zweite Rotationsachse 111.17 aber auch zu der ersten Rotationsachse 111.15 geneigt verlaufen. Hierdurch kann eine beliebig dreidimensionale Gestaltung der Deformationseinheit 111 realisiert werden, wenn dies beispielsweise aufgrund der geometrischen Randbedingungen der optischen Anordnung 108, insbesondere der optischen Elementeinheit 109, erforderlich ist.

Die erste Rotationseinheit 111.14 und die zweite Rotationseinheit 111.16 sind im vorliegenden Beispiel über ein weiteres Koppelelement 111.18 derart verbunden, dass sie eine Parallelführungseinheit 111.16 bilden, die eine Bewegung (hier: die vorgenannte Relativbewegung zum dritten Anbindungspunkt 111.8) der ersten Koppeleinheit 111.11 in eine Translationsbewegung des Koppelelements 111.18 umzusetzen. Die Parallelführung wird im vorliegenden Beispiel dadurch erreicht, dass die Anlenkpunkte des Koppelelements 111.18 und die Rotationsachsen 111.15, 111.17 die Eckpunkte eines (ebenen) Parallelogramms definieren. Die zweite Rotationseinheit 111.16 setzt dann die durch das Koppelelement 111.18 vermittelte Bewegung wiederum in eine weitere Rotationsbewegung um, welche dann in eine Bewegung der zweiten Koppeleinheit 111.12 umgesetzt wird. Die zweite Rotationseinheit 111.16 kann grundsätzlich beliebig gestaltet sein. Bevorzugt ist sie nach Art der ersten Rotationseinheit 111.14 ausgebildet, wobei sie insbesondere zumindest hinsichtlich ihrer Geometrie, vorzugsweise auch hinsichtlich ihrer Abmessungen, zumindest im Wesentlichen identisch zu der ersten Rotationseinheit 111.14 ausgebildet ist. Insoweit wird hinsichtlich der Merkmale, Eigenschaften und Funktionen der zweiten Rotationseinheit 111.16 auf die obigen Ausführungen zu der ersten Rotationseinheit 111.14 verwiesen.

Die erste, zweite und dritte Koppeleinheit 111.11 bis 111.13 definieren bevorzugt eine gemeinsame Haupterstreckungsebene der Deformationseinheit 111, wobei sie sich zumindest im Wesentlichen parallel zu der Haupterstreckungsebene, insbesondere im Wesentlichen in der Haupterstreckungsebene, erstrecken. Mit einer solchen planaren Gestaltung kann eine besonders einfache und robuste Konfiguration erzielt werden.

Die jeweilige Koppeleinheit 111.11, 111.12 kann auf beliebige Weise an der ersten bzw. zweiten Rotationseinheit 111.14, 111.16 angebunden sein. Bevorzugt ist die jeweilige Koppeleinheit 111.11, 111.12 gelenkig an der zugehörigen Rotationseinheit 111.14, 111.16 angebunden, da hiermit besonders kompakte Konfigurationen erzielt werden können, bei denen die Bewegungsumsetzung zumindest primär über eine Längsbewegung der ersten bzw. zweiten Koppeleinheit 111.11, 111.12 erfolgen kann.

Im vorliegenden Beispiel ist die erste Rotationseinheit 111.14 im Bereich des freien Endes 109.7 des zweiten Schenkels, also des Vorsprungs 109.6, an der optischen Elementeinheit 109 angebunden, während die zweite Rotationseinheit 111.16 im Bereich des Übergangs zwischen dem ersten Schenkel (an dem die optische Fläche 109.2 ausgebildet ist) und dem zweiten Schenkel (Vorsprung 109.6) an der optischen Elementeinheit 109 angebunden ist. Hiermit lässt sich eine besonders kompakte und günstige Konfiguration erzielen. Ebenso kann sich bei der oben beschriebenen Gestaltung mit einem ersten und zweiten Schenkel die zweite Koppeleinheit 111.12 benachbart zum ersten Schenkel entlang des ersten Schenkels erstrecken und sich das weitere Koppelelement 111.18 benachbart zum zweiten Schenkel entlang des zweiten Schenkels erstrecken. Hiermit lässt sich eine besonders kompakte und günstige Konfiguration erzielen.

Bei bestimmten, besonders einfach und robust gestalteten Varianten ist die Deformationseinheit 111.9 zumindest abschnittsweise, insbesondere vollständig, monolithisch ausgebildet. Dabei kann wenigstens ein Gelenkabschnitt der Deformationseinheit 111 nach Art eines Festkörpergelenks ausgebildet sein. Bevorzugt sind alle Gelenkabschnitte der Deformationseinheit 111 nach Art eines Festkörpergelenks ausgebildet. Hiermit lässt sich jeweils eine besonders präzise Bewegungsumsetzung bzw. Kraftumsetzung erzielen.

Das Rotationselement 111.19 kann grundsätzlich beliebig gestaltet sein, um die gewünschte Bewegungsumsetzung zu erzielen. Bei bevorzugten Varianten (siehe Figur 6) umfasst das Rotationselement 111.19 einen Hebelabschnitt 111.21 , der sich in der Rotationselementradialrichtung erstreckt. Die erste Koppeleinheit 111.11 ist dann in der Rotationselementradialrichtung in einem ersten Abstand CED1 von der Rotationsachse 111.15 an einem ersten Hebelkopplungspunkt 111.22 an den Hebelabschnitt 111.21 angebunden, während das in Richtung des Deformationskraftflusses nachfolgende Koppelelement 111.18 in der Rotationselementradialrichtung in einem zweiten Abstand CED2 von der Rotationsachse 111.15 an einem zweiten Hebelkopplungspunkt 111.23 an den Hebelabschnitt 111.21 angebunden ist. Hierdurch lässt sich (über eine geeignete Wahl des ersten Abstandes CED1 und zweiten Abstandes CED2) in einfacher Weise das Übersetzungsverhältnis MTR der Bewegungsumsetzung definieren. Bei besonders vorteilhaften Varianten mit günstigem Übersetzungsverhältnis beträgt das Verhältnis CEDR des ersten Abstandes CED1 zu dem zweiten Abstand CED2 bevorzugt 1000:1 bis 1:1000, vorzugsweise 100:1 bis 1 :100, weiter vorzugsweise 10:1 bis 1:10, wobei das Verhältnis insbesondere auch 1:1 betragen kann.

Bei bestimmten Varianten sind der erste Hebelkopplungspunkt 111.22 und der zweite Hebelkopplungspunkt 111.23 in der Rotationselementumfangsrichtung um einen Umfangsversatzwinkel COA zueinander versetzt angeordnet, wobei der Umfangsversatzwinkel COA insbesondere 0° bis 180°, vorzugsweise 70° bis 160°, weiter vorzugsweise 80° bis 110°, beträgt. Dank eines solchen Versatzes in der Rotationselementumfangsrichtung lässt sich insbesondere eine nahezu beliebige Richtungsumsetzung zwischen der Eingangsbewegung und der Ausgangsbewegung am Rotationselement 111.19 erzielen.

Der Hebelabschnitt 111.21 kann grundsätzlich auf beliebige geeignete Weise gestaltet sein, insbesondere um die gewünschten Hebelverhältnisse und die gewünschte Richtungsumsetzung bei ausreichender Steifigkeit zu erzielen. Vorzugsweise ist der Hebelabschnitt 111.21 wie im vorliegenden Beispiel ein im Wesentlichen kreissegmentförmiges Element. Der Hebelabschnitt 111.21 kann dabei als plattenförmiges Element gestaltet sein. Im vorliegenden Beispiel ist der Hebelabschnitt 111.21 aus zwei geradlinigen Radialabschnitten 111.24 und einem bogenförmigen Umfangsabschnitt 111.25 aufgebaut. Bei weiteren Varianten kann der Hebelabschnitt 111.21 als ein im Wesentlichen plattenförmiges Element, ein im Wesentlichen scheibenförmiges Element, ein im Wesentlichen kreisscheibenförmiges Element und/oder ein im Wesentlichen dreieckförmiges Element sein.

Besonders kompakte und leichte Konfigurationen ergeben sich, wenn der Hebelabschnitt wie im vorliegenden Beispiel an seinem Umfang mehrere Eckenabschnitte aufweist und der ersten Hebelkopplungspunkt 111.22, der zweite Hebelkopplungspunkt 111.23 und der Rotationsachsenabschnitt 111.20 jeweils im Bereich eines der Eckenabschnitte angeordnet ist. Vorzugsweise ist jede dieser Komponenten 111.22, 111.23 und 111.20 wie im vorliegenden Beispiel jeweils in einem separaten Eckenabschnitt angeordnet.

Es versteht sich, dass die Richtungsumsetzung zwischen der Eingangsbewegung und der Ausgangsbewegung am Rotationselement 111.19 grundsätzlich beliebig gestaltet sein kann und entsprechend an die geometrischen Randbedingungen der optischen Elementeinheit 109, insbesondere an die zu erzielende Deformation der optischen Fläche 109.2 angepasst ist. Bevorzugt (siehe insbesondere Figur 4) greift ein in Richtung des Deformationskraftflusses vorlaufendes Koppelelement (beispielsweise die erste Koppeleinheit 111.11) in einem ersten Rotationselementkopplungspunkt (beispielsweise dem ersten Hebelkopplungspunkt 111.22) an dem Rotationselement 111.19 an, während ein in Richtung des Deformationskraftflusses nachfolgendes Koppelelement (beispielsweise das Koppelelement 111.18) in einem zweiten Rotationselementkopplungspunkt (beispielsweise dem zweiten Hebelkopplungspunkt 111.23) an dem Rotationselement angreift. Das nachfolgende Koppelelement 111.18 weist einen nachfolgenden Kopplungsgelenkpunkt 111.24 auf, der in einer kinematischen Kette der Deformationseinrichtung 111 dem zweiten Rotationselementkopplungspunkt 111.23 in Richtung des Deformationskraftflusses unmittelbar nachfolgt. Dem Kopplungsgelenkpunkt 111.24 folgt in der kinematischen Kette der Deformationseinrichtung 111 dann in Richtung des Deformationskraftflusses unmittelbar ein Rotationselementkopplungspunkt 111.25 nach, an dem schließlich die zweite Koppeleinheit 111.12 angelenkt ist. Hiermit lässt sich in besonders einfacher Weise eine günstige Bewegungsumsetzung realisieren.

Wie der (stark verallgemeinerten) Darstellung der Figur 7 zu entnehmen ist, ist das vorlaufende (von der ersten Koppeleinheit gebildete) Koppelelement 111.11 derart ausgebildet und angeordnet, dass es zumindest bei Beginn des Lagestellvorgangs aus der Ausgangslage eine Ausgangsverschiebung in das erste Rotationselement 111.19 einleitet, die zu der Rotationselementradialrichtung in dem ersten Rotationselementkopplungspunkt 111.22 um einen Vorlaufneigungswinkel PRIA geneigt verläuft, wobei der Vorlaufneigungswinkel PRA insbesondere 70° bis 90°, vorzugsweise 75° bis 89°, weiter vorzugsweise 80° bis 85°, beträgt. Hiermit lässt sich eine besonders günstige Bewegungseinleitung bzw. Krafteinleitung in das erste Rotationselement 111.19 erzielen.

Bei bestimmten Varianten ist das nachfolgende Koppelelement 111.18 derart ausgebildet und angeordnet, dass eine Verbindungslinie zwischen nachfolgenden Kopplungsgelenkpunkt 111.24 und dem zweiten Rotationselementkopplungspunkt 111.23 in der Ausgangslage zu der Rotationselementradialrichtung in dem zweiten Rotationselementkopplungspunkt 111.23 um einen Nachlaufneigungswinkel POIA geneigt verläuft, wobei der Nachlaufneigungswinkel POIA insbesondere 0° bis 20°, vorzugsweise 1° bis 15°, weiter vorzugsweise 5° bis 10, insbesondere 0°, beträgt. In beiden Fällen lassen sich besonders günstige Abtriebsverhältnisse erzielen.

Mit der Gestaltung, bei welcher der Nachlaufneigungswinkel POIA (in der Ausgangslage) 0° beträgt lässt sich insbesondere die oben bereits beschriebene Gestaltung realisieren, bei welcher ausgehend von der Ausgangslage gegenläufige erste Verschiebungen S1 des ersten Anbindungspunktes 111.5 bezüglich des dritten Anbindungspunktes 111.8 entlang der ersten Richtung D1 gleichlaufende zweite Verschiebungen S2 des zweiten Anbindungspunktes 111.6 bezüglich des dritten Anbindungspunktes 111.8 entlang der zweiten Richtung D2 bewirken. Hiermit können in vorteilhafter weise Situationen behandelt werden, bei denen Lagestellvorgänge in unterschiedlichen Richtungen (aus der Ausgangslage) Abbildungsfehler IE erzeugen, die unabhängig davon stets durch Deformationen der optischen Fläche 109.2 in der gleichen Richtung kompensiert werden müssen. So kann wie erwähnt in einfacher Weise eine geeignete Abbildungsfehlerkompensation in Fällen erzielt werden, in denen ein Lagestellvorgang unabhängig von der Richtung der Auslenkung (aus der Ausgangslage) jeweils eine Erhöhung (oder Verringerung) der Krümmung der optischen Fläche 109.2 erfordert.

Ebenso ist es hiermit möglich, bei der Lageverstellung aus der Ausgangslage den Nachlaufneigungswinkel POIA an dem zweiten Rotationselementkopplungspunkt 111.23 in einer Stellrichtung den Nullpunkt (also POIA = 0°) durchlaufen zu lassen (siehe auch Figur 8). Damit ist es möglich, bei gleicher Amplitude der Lageverstellung aus der Ausgangslage in beiden Richtungen eine gleichlaufende Deformation der optischen Fläche 109.2 mit unterschiedlicher Stärke bzw. Amplitude zu erzielen (sofern der Nachlaufneigungswinkel hierbei in einer Richtung den Nullpunkt, also POIA = 0°, durchläuft). Es sei nochmals erwähnt, dass die zweite Rotationseinheit 111.16 grundsätzlich beliebig gestaltet sein kann, bevorzugt jedoch sie nach Art der ersten Rotationseinheit 111.14 ausgebildet ist. Dabei kann sie zumindest hinsichtlich ihrer Geometrie, vorzugsweise auch hinsichtlich ihrer Abmessungen, zumindest im Wesentlichen identisch zu der ersten Rotationseinheit 111.14 ausgebildet sein. Insoweit wird hinsichtlich der Merkmale, Eigenschaften und Funktionen der zweiten Rotationseinheit 111.16 auf die hierin gemachten Ausführungen zu der ersten Rotationseinheit 111.14 verwiesen. Insbesondere gelten die Ausführungen zur relativen Lage bzw. Anordnung der Rotationselementkopplungspunkte 111.22, 111.23 in gleichem Maße für die Rotationselementkopplungspunkte 111.24, 111.25 Der Rotationselementkopplungspunkt 111.24 entspricht dann dem Rotationselementkopplungspunkt 111.22 während der Rotationselementkopplungspunkt 111.25 dem Rotationselementkopplungspunkt 111.23 entspricht. Dies gilt speziell auch für die obigen Angaben zum Verhältnis CEDR, zum Umfangsversatzwinkel COA, zum Vorlaufneigungswinkel PRIA, sowie zum Nachlaufneigungswinkel POIA.

Es versteht sich, dass eine Deformationseinheit 111.9 ausreichen kann, um die gewünschte Deformation der optischen Fläche 109.2 zu erzielen. Bei bestimmten Varianten können aber auch zwei oder mehr Deformationseinheiten vorgesehen sein. Im vorliegenden Beispiel sind wie erwähnt die erste Deformationseinheit 111.9 und die zweite Deformationseinheit 111.10 vorgesehen (siehe Figur 2, 3 und 5), wobei die zweite Deformationseinheit 111.10 über eine erste Koppeleinheit 111.11 in einem ersten Ankopplungspunkt an der Stützstruktur angekoppelt ist. Hierdurch lassen sich nicht nur besonders komplexe Deformationen erzielen, es ist auch möglich, Lagestellvorgängen aus der Ausgangslage in unterschiedlichen Freiheitsgraden (beispielsweise der jeweiligen Verkippung um die Kippachse 110.1 bzw. 110.2) separate, gegebenenfalls unterschiedliche Deformationen der optischen Fläche 109.2 zuzuordnen.

Die zweite Deformationseinheit 111.10 kann grundsätzlich beliebig gestaltet sein. Bevorzugt ist die zweite Deformationseinheit 111.10 wiederum nach Art eines Koppelgetriebes ausgebildet. Weiterhin kann die zweite Deformationseinheit 111.10 nach Art der ersten Deformationseinheit 111.9 ausgebildet sein, wobei sie insbesondere zumindest hinsichtlich ihrer Geometrie, vorzugsweise auch hinsichtlich ihrer Abmessungen, zumindest im Wesentlichen identisch zu der ersten Deformationseinheit ausgebildet ist. Insoweit wird hinsichtlich der Merkmale, Eigenschaften und Funktionen der zweiten Deformationseinheit 111.10 auf die obigen Ausführungen zu der (ersten) Deformationseinheit 111.9 verwiesen. Wie bereits erwähnt, können die beiden Deformationseinheiten 111.0, 111.10 miteinander mechanisch gekoppelt sein. Hierbei können in einem besonders einfachen Fall (stark schematisch in Figur 9 dargestellt) die erste Deformationseinheit 111.9 und die zweite Deformationseinheit 111.10 über ein Portalelement 111.26 gekoppelt sein, an dem dann die zweite Koppeleinheit 111.12 gelenkig angebunden ist. Über den Abstand der Anbindung der zweiten Koppeleinheit 111.12 zur jeweiligen Anbindung der erste und zweiten Deformationseinheit 111.9, 111.10 am Portalelement 111.26 kann dann die Bewegungsübersetzung für die Abtriebsbewegung an der zweiten Koppeleinheit 111.12 bzw. der optischen Elementeinheit 109 eingestellt werden.

Die erste und zweite Deformationseinheit 111.9, 111.10 können grundsätzlich beliebig zueinander angeordnet werden. Bei bestimmten Varianten definiert die erste Deformationseinheit 111.9 eine erste Haupterstreckungsebene, während die zweite Deformationseinheit 111.10 eine zweite Haupterstreckungsebene definiert, wobei die erste Haupterstreckungsebene und die zweite Haupterstreckungsebene dann zueinander parallel oder zueinander geneigt verlaufen können. Bei einem solchen parallelen Verlauf lassen sich insbesondere einem Lagestellvorgang aus der Ausgangslage in demselben Freiheitsgrad unterschiedliche Deformationen der optischen Fläche 109.2 zuordnen und zu einer komplexen Deformation der optischen Fläche 109.2 überlagern. Bei dem zueinander geneigten Verlauf lassen sich nicht nur besonders komplexe Deformationen der optischen Fläche 109.2 erzielen, es ist auch möglich, Lagestellvorgängen aus der Ausgangslage in unterschiedlichen Freiheitsgraden separate, gegebenenfalls unterschiedliche Deformationen der optischen Fläche 109.2 zuzuordnen.

Um die gewünschte bzw. zur Kompensation des Abbildungsfehlers erforderliche Deformation der optischen Fläche 109.2 zu erzielen, kann die optische Elementeinheit 109 grundsätzlich in beliebiger geeigneter Weise angepasst sein, welche eine definierte Deformation der optischen Fläche 109.2 gewährleistet. Im vorliegenden Beispiel weist die optische Elementeinheit 109.1 einen ersten Abschnitt 109.9 und einen zweiten Abschnitt 109.10 auf, wobei die Stützeinrichtung 110 an dem ersten Abschnitt 109.9 angreift und die Deformationseinrichtung 111 mit dem zweiten Anbindungsbereich 111.6 an dem zweiten Abschnitt 109.10 angreift. Der erste Abschnitt 109.9 und der zweite Abschnitt 109.10 sind dabei über (wenigstens) einen Deformationskippachsenabschnitt 109.11 miteinander verbunden, wobei der Deformationskippachsenabschnitt 109.11 derart ausgebildet ist, dass er wenigstens eine Deformationskippachse definiert, um welche der zweite Abschnitt 109.10 gegenüber dem ersten Abschnitt 109.9 bei der Deformation der optischen Fläche 109.2 durch die Deformationseinrichtung 111 verkippt wird. Hiermit ist es in einfacher Weise möglich, eine definierte entsprechende Deformation der optischen Fläche 109.2 zu erzielen.

Es versteht sich, dass gegebenenfalls ein einziger Deformationskippachsenabschnitt 109.1 ausreichen kann, um die gewünschte Deformation zu erzielen. Bevorzugt sind der erste Abschnitt 109.9 und der zweite Abschnitt 109.10 jedoch über eine Anzahl von N Deformationskippachsenabschnitten miteinander verbunden (wie dies in Figur 2 und 5 durch die gestrichelten Konturen 115 angedeutet ist). Die Anzahl N ist dabei bevorzugt gleich 1 bis 500, vorzugsweise 5 bis 50, weiter vorzugsweise 10 bis 20. Hiermit kann insbesondere eine ausreichend gleichmäßige Krümmung der optischen Fläche 109.2 sichergestellt werden, sofern dies erforderlich ist. Dies kann insbesondere von Vorteil sein, um bei einer reflektierenden optischen Fläche 109.2 unerwünschte lokale Lichtintensitätskonzentrationen im Umfeld des jeweiligen Deformationskippachsenabschnitts 109.11, 115 zu vermeiden, die aus der Überlagerung des reflektierten Lichts der beiden unmittelbar benachbarten und zueinander verkippten optischen Teilflächen resultiert.

Der Deformationskippachsenabschnitt 109.11 kann derart gestaltet sein, dass er lediglich eine einzige (entsprechend ausgeprägte) Deformationskippachse definiert. Dies hat den großen Vorteil, dass eine genau definierte Verkippung erzielt werden kann. Im vorliegenden Beispiel definiert der Deformationskippachsenabschnitt 109.11 jedoch eine Anzahl von M diskreten Deformationskippachsen, wobei M gleich 1 bis 15, vorzugsweise 3 bis 11, weiter vorzugsweise 5 bis 7, ist. Hiermit ist es insbesondere möglich, durch die Einleitung einer oder mehrerer Deformationskräfte entsprechender Richtung Verkippungen um mehrere Deformationskippachsen zu erzeugen und damit eine nahezu beliebig komplexe Deformation der optischen Fläche 109.2 vorzugeben.

Der Deformationskippachsenabschnitt 109.11 kann grundsätzlich auf beliebige geeignete Weise realisiert sein, über welche wenigstens eine Deformationskippachse definiert werden kann. So kann beispielsweise durch entsprechende lokale Materialauswahl, eine strukturelle Schwächung oder anderweitige Maßnahmen für den jeweiligen Deformationskippachsenabschnitt 109.11 eine entsprechende Steifigkeitsverteilung in der optischen Elementeinheit 109 erzielt werden, welche eine solche Deformationskippachse definiert. Im vorliegenden Beispiel ist der Deformationskippachsenabschnitt 109.11 ist durch einen Schwächungsabschnitt ausgebildet, in dem die optische Elementeinheit 109 geschwächt ist. Die Schwächung kann, wie eben erwähnt, durch eine lokale Reduktion der Steifigkeit der optischen Elementeinheit 109 realisiert werden. - M -

Im vorliegenden Beispiel wird der Deformationskippachsenabschnitt 109.11 ausgebildet, indem eine erste Ausnehmung in Form eines Schlitzes 109.12 in die optische Elementeinheit 109 eingebracht wird. Hiermit kann auf besonders einfache Weise eine entsprechende lokale strukturelle Schwächung präzise definiert in die optische Elementeinheit 109 eingebracht werden. Die Ausnehmung bzw. der Schlitz 109.12 kann grundsätzlich beliebig gestaltet sein. Bevorzugt ist die Ausnehmung 109.12 zumindest im Wesentlichen geradlinig ausgebildet, da hiermit in besonders einfacher Weise eine Deformationskippachse präzise definiert werden kann.

Grundsätzlich kann eine Ausnehmung bzw. Schlitz 109.12 ausreichen, um den Deformationskippachsenabschnitt 109.11 zu realisieren. Im vorliegenden Beispiel ist der eine Deformationskippachsenabschnitt 109.11 durch zwei Ausnehmungen bzw. Schlitze 109.12, 109.13 in der optischen Elementeinheit 109 ausgebildet. Hiermit lassen sich mehrere Deformationskippachsen (wie oben beschrieben) einfach und präzise definieren. Besonders günstige, komplexe Deformationen unterstützende Gestaltungen ergeben sich, wenn wenigstens zwei der Ausnehmungen einander (real in der optischen Elementeinheit 109) schneiden (nicht gezeigt).

Es versteht sich, dass mehrere (gegebenenfalls alle) Deformationskippachsenabschnitte 109.11 , 115 gleich gestaltet sein können und insbesondere gleiche Eigenschaften aufweisen können. Bei bestimmten vorteilhaften Varianten sind der erste Abschnitt 109.9 und der zweite Abschnitt 109.10 über mehrere voneinander beabstandete Deformationskippachsenabschnitte 109.11, 115 miteinander verbunden, wobei jeder Deformationskippachsenabschnitt 109.11, 115 wenigstens eine Deformationskippachse und eine Deformationskippsteifigkeit DTR um die wenigstens eine Deformationskippachse definiert.

Zum Erzielen einer vorgebbaren Deformation der optischen Fläche 109.2 kann dann zum einen der Abstand zwischen benachbarten Deformationskippachsenabschnitten 109.11, 115 variieren. Zusätzlich oder alternativ kann zu diesem Zweck die Deformationskippsteifigkeit DTR von dem ersten Abschnitt zu dem zweiten Abschnitt hin variieren. Dabei kann die Deformationskippsteifigkeit DTR von dem ersten Abschnitt 109.9 zu dem zweiten Abschnitt 109.10 hin zumindest in einem ersten Teilbereich abnehmen. Ebenso kann die Deformationskippsteifigkeit DTR von dem ersten Abschnitt 109.9 zu dem zweiten Abschnitt 109.10 hin zumindest in einem zweiten Teilbereich zunehmen. Bei bestimmten Varianten ist eine unterschiedliche Deformationskippsteifigkeit DTR zweier Deformationskippachsenabschnitte 109.11, 115 ausgebildet durch wenigstens eines von Nachfolgendem: eine unterschiedliche Breite der Ausnehmungen 109.12, 109.13 quer zu der Deformationskippachse und einen unterschiedlichen Abstand der Ausnehmungen 109.12, 109.13 zu der optischen Fläche 109.2 (mithin also eine unterschiedliche Tiefe des Schlitzes 109.12, 109.13 in der optischen Elementeinheit 109). In beiden Fällen kann die auf einfache Weise eine präzise Variation der Deformationskippsteifigkeit DTR erzielt werden.

Es versteht sich, dass über die Ausrichtung der Deformationskippachse zu der Richtung der Deformationslast LD, die durch die Deformationseinrichtung 111 in die optische Elementeinheit 109 eingebracht wird, ein weiterer Einflussparameter gegeben ist, über welchen die Art und/oder Stärke der Deformation der optischen Fläche 109.2 definiert bzw. beeinflusst werden kann. Bei bestimmten Varianten ist die Deformationseinrichtung 111 dazu ausgebildet, während des Lagestellvorgangs wenigstens eine Deformationskraft in einer Deformationskraftrichtung in den zweiten Abschnitt einzuleiten, wobei die wenigstens eine Deformationskippachse zu der Deformationskraftrichtung um einen Deformationskippachsenwinkel geneigt ist. Der Deformationskippachsenwinkel kann dabei 70° bis 90°, vorzugsweise 80° bis 90°, weiter vorzugsweise 85° bis 90°, betragen, da sich hiermit besonders günstige Konfigurationen erzielen lassen

Bei bestimmten Varianten kann die Deformationseinrichtung 111 dazu ausgebildet sein, während des Lagestellvorgangs eine erste Deformationskraft in einer ersten Deformationskraftrichtung und eine zweite Deformationskraft in einer zweiten Deformationskraftrichtung in den zweiten Abschnitt 109.10 einzuleiten, wobei dann durch den ersten Schlitz 109.12 wenigstens eine erste Deformationskippachse definiert ist, die zumindest im Wesentlichen senkrecht zu der ersten Deformationskraftrichtung verläuft, und durch den zweiten Schlitz 109.13 eine zweite Deformationskippachse definiert ist, die zumindest im Wesentlichen senkrecht zu der zweiten Deformationskraftrichtung verläuft. Hiermit lassen sich auf besonders einfache Weise komplexe Deformationen der optischen Fläche 109.2 erzielen, bei denen gegebenenfalls mehrfach gekrümmte Bereiche der optischen Fläche 109.2 erzielt bzw. angepasst werden können.

Es versteht sich, dass die Stützeinrichtung 110 entsprechend den Anforderungen der Abbildungseinrichtung 101 gegebenenfalls lediglich eine Lageverstellung in einem einzigen (rotatorischen oder translatorischen) Freiheitsgrad zu Verfügung stellen kann. Bei besonders gut anpassbaren Varianten ist eine Lageverstellung in zwei oder mehr Freiheitsgraden möglich. Im vorliegenden Beispiel ist die Stützeinrichtung 110 wie erwähnt dazu ausgebildet, die optische Elementeinheit 109 bezüglich der Stützstruktur 112 in dem Lagestellvorgang in einem ersten rotatorischen Freiheitsgrad um die erste Kippachse 110.1 und/oder in einem zweiten rotatorischen Freiheitsgrad um die zweite Kippachse 110.2 aus der Ausgangslage (siehe Figur 2) zu verstellen. Die Deformationseinrichtung 111 ist dabei dazu ausgebildet, während des Lagestellvorgangs bei Verstellen der optischen Elementeinheit 109 in dem ersten Freiheitsgrad mittels der ersten Defomationseinheit 111.9 eine erste Deformation der optischen Fläche 109.2 zu bewirken und bei Verstellen der optischen Elementeinheit 109 in dem zweiten Freiheitsgrad mittels der zweiten Defomationseinheit 111.10 eine von der ersten Deformation abweichende zweite Deformation der optischen Fläche 109.2 zu bewirken.

Besonders günstige Varianten kenn es hierbei sein, wenn die erste Deformation und die zweite Deformation einen Verlauf einer Krümmung der optischen Fläche 109.2 um unterschiedliche Krümmungsachsen der optischen Fläche 109.2 verändern. Bei bestimmten Varianten kann die erste Deformation einen Verlauf einer Krümmung der optischen Fläche 109.2 um eine erste Krümmungsachse der optischen Fläche 109.2 verändern, während die zweite Deformation einen Verlauf einer Krümmung der optischen Fläche 109.2 um eine zweite Krümmungsachse der optischen Fläche 109.2 verändert. Dabei kann die erste Krümmungsachse zu der zweiten Krümmungsachse insbesondere um 70° bis 90°, vorzugsweise 80° bis 90°, weiter vorzugsweise 85° bis 90°, geneigt sein.

Es versteht sich jedoch, dass die gewünschte Deformation der optischen Fläche 109.2 bei der Lageverstellung in den unterschiedlichen Freiheitsgraden grundsätzlich aber auch durch eine gemeinsame Deformationseinheit erzielt werden kann. Ebenso können beide Deformationseinheiten 111.9 und 111.10 zumindest beim Verstellen der optischen Elementeinheit 109 in einem der beiden Freiheitsgrade (also beim Verkippen um die erste Kippachse 110.1 und/oder die zweite Kippachse 110.2) entsprechend wirksam werden und einander überlagernde Deformationen der optischen Fläche 109.2 erzeugen.

Bei bestimmten Varianten kann die Deformationseinrichtung 111 weiterhin dazu ausgebildet sein, über mehrere weitere zweite Koppeleinheiten 111.27 an der optischen Elementeinheit 109 anzugreifen, wie dies in Figur 8 angedeutet ist. Die zweiten Koppeleinheiten 111.12 und 111.27 können dann alle entsprechend an der dritten Koppeleinheit 111.13 angebunden sein, um jeweils eine entsprechende Deformationslast in die optischen Elementeinheit 109 einzubringen und so einander überlagernde Deformationen zu erzielen, die zu einer (typischerweise möglichst gleichmäßigen) Gesamtdeformation der optischen Fläche 109.2 führen. Hiermit ist es insbesondere möglich, eine nahezu beliebig komplexe Deformation der optischen Fläche 109.2 zu erzielen.

Bevorzugt sind die Angriffspunkte der zweiten Koppeleinheiten 111.12 und 111.27 an der optischen Elementeinheit 109 zueinander versetzt angeordnet. Dabei kann insbesondere vorgesehen sein, dass zwischen zwei (insbesondere zwei unmittelbar benachbarten) Deformationskippachsenabschnitten 109.11 , 115 jeweils eine der zweiten Koppeleinheiten 111.12, 111.27 angreift.

Die optische Elementeinheit 109 bzw. die optische Fläche 109.2 kann grundsätzlich beliebig gestaltet sein. Besonders günstige ist der Einsatz bei Konfigurationen, bei denen die optische Fläche 109.2 einen Flächeninhalt von 5 mm ² bis 50000 mm ² , vorzugsweise 15 mm ² bis 2000 mm ² , weiter vorzugsweise 25 mm ² bis 500 mm ² , aufweist. Geliches gilt bei Varianten, bei denen die optische Fläche 109.2 eine maximale Abmessung von 0,5 mm bis 500 mm, vorzugsweise 1 mm bis 100 mm, weiter vorzugsweise 5 mm bis 20 mm, aufweist.

Die Vorteile der hierin beschriebenen Gestaltungen kommen besonders gut zum Tragen, wenn die optische Fläche 109.2 eine wenigstens einfach gekrümmte Fläche, eine sphärische Fläche, eine asphärische Fläche, eine schlanke, entlang einer Haupterstreckungsrichtung langgestreckte optische Fläche (wie im vorliegenden Beispiel) bzw. eine schlanke, entlang einer Haupterstreckungsrichtung gekrümmt verlaufende optische Fläche (wie im vorliegenden Beispiel) ist. Die Anwendung der vorliegenden Lehre kann bei beliebigen optischen Flächen 109.2 erfolgen, besonders einfach und günstig ist sie, wenn die optische Fläche 109.2 (wie im vorliegenden Beispiel) eine reflektierende Fläche ist.

Die vorliegende Erfindung wurde vorstehend lediglich anhand von Beispielen erläutert, bei denen die dritte Koppeleinheit 111.13 eine erste Rotationseinheit 111.14 und eine zweite Rotationseinheit 111.16 umfasst, die über ein weiteres Koppelelement 111.18 verbunden sind. Es versteht sich jedoch, dass beispielsweise noch weitere Rotationseinheiten vorgesehen sein können, um eine (beispielsweise durch beengte Platzverhältnisse bedingte) noch komplexere Gestaltung der Deformationseinrichtung 111 zu realisieren. Dabei kann, wie in Figur 9 schematisch dargestellt, beispielsweise eine dritte Rotationseinheit 111.28 vorgesehen sein, die über ein weiteres Koppelelement 111 .29 gelenkig mit der zweiten Rotationseinheit 111.16 gekoppelt ist. Zudem können noch ein oder mehrere weitere Rotationseinheiten angekoppelt werden. Auch hier kann die dritte Rotationseinheit 111.28 ein Rotationselement 111.30 aufweisen, dass um eine dritte Rotationsachse 111.31 drehbar an der optischen Elementeinheit 109 angelenkt ist. Im vorliegenden Beispiel ist die dritte Rotationsachse 111.31 zu der ersten Rotationsachse 111.15 und der zweiten Rotationsachse 111.17 geneigt. Dabei kann die Neigung beliebig entsprechend den jeweiligen (beispielsweise geometrischen) Anforderungen gewählt sein. Im vorliegenden Fall sind die dritte Rotationsachse 111.31 zu und die erste bzw. zweite Rotationsachse 111.15, 111.17 jeweils zu einer Normalebene senkrecht, wobei die beiden Normalebenen wiederum zueinander senkrecht verlaufen. Hierdurch kann jeweils eine beliebig dreidimensionale Gestaltung der Deformationseinheit 111 realisiert werden, wenn dies beispielsweise aufgrund der geometrischen Randbedingungen der optischen Anordnung 108, insbesondere der optischen Elementeinheit 109, erforderlich ist.

Die vorliegende Erfindung wurde vorstehend ausschließlich anhand von Beispielen aus dem Bereich der Mikrolithographie beschrieben. Es versteht sich jedoch, dass die Erfindung auch im Zusammenhang mit beliebigen anderen optischen Anwendungen, insbesondere Abbildungsverfahren bei anderen Wellenlängen, zum Einsatz kommen kann, bei denen sich ähnliche Probleme hinsichtlich der Kippverstellung von Komponenten auf geringem Bauraum stellen.

Weiterhin kann die Erfindung im Zusammenhang mit der Inspektion von Objekten, wie beispielsweise der so genannten Maskeninspektion zu Einsatz kommen, bei welcher die für die Mikrolithographie verwendeten Masken auf ihre Integrität etc. untersucht werden. An Stelle des Wafers 105.1 tritt dann in Figur 1 beispielsweise eine Sensoreinheit, welche die Abbildung des Projektionsmusters des Retikels 104.1 (zur weiteren Verarbeitung) erfasst. Diese Maskeninspektion kann dann sowohl im Wesentlichen bei derselben Wellenlänge erfolgen, die im späteren Mikrolithographieprozess verwendet wird. Ebenso können aber auch beliebige hiervon abweichende Wellenlängen für die Inspektion verwendet werden.

Die vorliegende Erfindung wurde vorstehend schließlich anhand konkreter Ausführungsbeispiele beschrieben, welches konkrete Kombinationen der in den nachfolgenden Patentansprüchen definierten Merkmale zeigt. Es sei an dieser Stelle ausdrücklich darauf hingewiesen, dass der Gegenstand der vorliegenden Erfindung nicht auf diese Merkmalskombinationen beschränkt ist, sondern auch sämtliche übrigen Merkmalskombinationen, wie sie sich aus den nachfolgenden Patentansprüchen ergeben, zum Gegenstand der vorliegenden Erfindung gehören.