以下において、本発明の内容について詳� ��に説明する。尚、本願明細書において「~」 とはその前後に記載される数値を下限値およ び上限値として含む意味で使用される。

 なお、本明細書中において、“(メタ)アク� �レート”はアクリレートおよびメタクリレ� �トを表し、“(メタ)アクリル”はアクリルお よびメタクリルを表し、“(メタ)アクリロイ� ��”はアクリロイルおよびメタクリロイルを� ��す。また、本明細書中において、“単量体� ��と“モノマー”とは同義である。本発明に� ��ける単量体は、オリゴマーおよびポリマー� ��区別され、重量平均分子量が1,000以下の化� �物をいう。本明細書中において、“官能基� �は重合反応に関与する基をいう。
なお、本発明でいう“ナノインプリント”と は、およそ数nmから数μmのサイズのパターン� ��写をいう。
 尚、本明細書における基(原子団)の表記に� �いて、置換および無置換を記していない表� �は、置換基を有さないものと共に置換基を� �するものをも包含するものである。例えば� �「アルキル基」とは、置換基を有さないア� �キル基(無置換アルキル基)のみならず、置換 基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも� ��含するものである。

[本発明のナノインプリント用硬化性組成物]
 本発明のナノインプリント用硬化性組成物( 以下、単に「本発明の組成物」と称する場合 もある)は、少なくとも、多環芳香族構造を� �する重合性単量体(Ax)と、光重合開始剤(B)と� ��を含む。通常、光ナノインプリント法に用� ��られる硬化性組成物は、重合性官能基を有� ��る重合性単量体と、光照射によって前記重� ��性単量体の重合反応を開始させる光重合開� ��剤と、を含み、さらに必要に応じて、溶剤� ��界面活性剤または酸化防止剤等を含んで構� ��される。本発明のナノインプリント用硬化� ��組成物においては、重合性官能基を有する� ��合性単量体(以下、本発明の組成物に含有さ れる重合性単量体を総称して「光重合性単量 体(A)」と称する場合がある)として少なくと� �前記重合性単量体(Ax)を含む。本発明のナノ� ��ンプリント用硬化性組成物は、多環芳香族� ��造を有する重合性単量体(Ax)を含むことで、 ナノインプリント法によってモールド剥離性 、エッチング耐性および耐溶剤性に優れたパ ターンを形成することができる。

(重合性単量体)
-重合性単量体(Ax)-
 本発明における重合性単量体(Ax)は、重合性 官能基を含む化合物である。前記重合性官能 基としては、カチオン重合性官能基、ラジカ ル重合性官能基が挙げられ、ラジカル重合性 官能基が好ましい。前記カチオン重合性官能 基としては、エポキシ基、オキセタン基が好 ましい。また、前記ラジカル重合性官能基と しては、エチレン性不飽和結合を有する官能 基が挙げられ、(メタ)アクリル基、ビニル基� ��アリル基が好ましい。本発明における重合� ��単量体(Ax)中に含まれる重合性官能基の数は 、硬化性、粘度の観点から1~4が好ましく、1~2 がさらに好ましい。
 また、本発明における重合性単量体(Ax)は多 環芳香族構造、即ち、少なくとも2以上の環� �造が縮合している縮合多環式の芳香族構造� �有する。したがって、前記多環芳香族構造� �は、ビスフェノール等の2以上の単独の芳香� ��が単結合や有機連結基で連結されている環� ��合構造は含まれない。また、本発明におい� ��「多環芳香族」とは、ナフタレン等の縮合� ��ている環が全て芳香環であるもののみでは� ��く、芳香環と非芳香環とが縮合した、例え� ��、ベンゼンとシクロヘキサンとが融合した1 ,2,3,4-テトラヒドロナフタレン構造等なども� �まれる。また、本発明における多環芳香族� �造は、2~4の縮合環構造であることが好まし� �、2~3の縮合環構造であることがさらに好ま� �く、2つの縮合環構造であることが特に好ま� ��い。ナノインプリント用硬化性組成物中に� ��多環芳香族構造を有する重合性単量体が含� ��れていない、即ち、ナノインプリント用硬� ��組成物中の全ての重合化合物が、1以下の環 芳香族構造を有する化合物であると、ドライ エッチング時においてパターンの劣化が大き く(すなわち、ドライエッチング耐性が低い)� ��また、パターン現像時における溶剤耐性も� ��分ではなく、さらにモールドとパターンと� ��剥離性も低くなってしまい、これらの性能� ��十分に高いレベルで同時に発揮することが� ��きない。本発明のナノインプリント用硬化� ��組成物は、特にナノメートルオーダーのパ� ��ーンを形成する際であっても、モールドと� ��剥離性が良好である。

 本発明における重合性単量体(Ax)の多環芳 香族構造としては、ナフタレン、アントラセ ン、フェナントレン、ピレン、1,2,3,4-テトラ� ��ドロナフタレンなどの炭化水素系多環芳香� ��構造のほか、インドール、カルバゾール、� ��ノリン、ベンソイソキノリンなどのヘテロ� ��環芳香族構造などが挙げられる。本発明に� ��ける多環芳香族構造としては、炭化水素系� ��環芳香族構造が好ましく、さらに好ましく� ��ナフタレン構造、アントラセン構造であり� ��特に好ましくはナフタレン構造である。

 本発明における重合性単量体(Ax)の炭素数 としては、粘度、耐溶剤性の観点から10~30が� ��ましく、10~20がさらに好ましく、11~16が特に 好ましい。また、重合性単量体(Ax)の分子量� �、粘度、耐溶剤性の観点から150~400が好まし� ��、150~300がさらに好ましく、190~300が特に好� �しい。

 多環芳香族構造を有する重合性単量体(Ax) は、下記式(I)で表される化合物であることが 好ましい。

(式(I)中、R ¹ は水素原子、置換基を有していてもよいアル キル基またはハロゲン原子を示し、Xは、単� �合または有機連結基を示し、Lは、置換基を� ��していてもよいm価の多環芳香族基を示し、 mは1~3の整数を示す。)

 前記式(I)において、R ¹ は水素原子、置換基を有していてもよいアル キル基、ハロゲン原子を示す。前記置換基を 有していてもよいアルキル基としては、硬化 性の観点から、炭素数1~4のアルキル基が好ま しく、炭素数1~3のアルキル基がさらに好まし い。前記アルキル基としては、メチル基、エ チル基、プロピル基が好ましく、より好まし くはメチル基である。前記アルキル基が有し ていてもよい置換基としては、好ましくはハ ロゲン原子、水酸基、アルコキシ基、アシル オキシ基が挙げられる。
 R ¹ および前記アルキル基の置換基としてのハロ ゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨ ウ素原子が挙げられ、好ましくはフッ素原子 である。

 前記式(I)において、Xは単結合または有機連 結基を示す。前記有機連結基としては、-O-、 -C(=O)O-、-C(=O)NRx-(Rxは、水素原子または有機基 を示し、前記有機基としては、アリール基、 アルキル基が好ましい)、アルキレン基、お� �びこれらの複数が組み合わさった連結基が� �ましく、-C(=O)O-、-C(=O)O-アルキレン-がさらに 好ましい。
 また、式(I)中、mは1~3の整数を示し、粘度、 硬化性の観点から、1または2が好ましい。mが 2以上のとき、複数存在するX、R ¹ は同一であってもよいし異なっていてもよい 。

 前記式(I)において、Lは、置換基を有して いてもよいm価の多環芳香族基を示す。該前� �多環芳香族基は、上述の多環芳香族構造を� �する基を意味し、ナフタレン構造を有する� �であることが好ましい。前記Lの置換基とし� ��は、アルキル基、アリール基、ハロゲン原� ��、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル� ��、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。

 本発明における多環芳香族構造を有する� ��合性単量体(Ax)としては、下記式(IA)で表さ� �る化合物であることがさらに好ましい。

(式(IA)中、R ¹ は水素原子、置換基を有していてもよいアル キル基またはハロゲン原子を示し、Xは単結� �または有機連結基を示し、mは1~3の整数を示� ��、R ² 有機置換基を示し、nは0~6の整数を示す。)

 式(IA)中のR ¹ 、X、mは、上述の式(I)におけるものと同義で� ��り、好ましい範囲も同様である。また、mが 2以上の時、複数存在するXおよびR ¹ は同一でもよいし、異なっていてもよい。
 式(IA)中、R ² は有機置換基を示す。前記有機置換基として は、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子 、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基 、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基が好ま しい

 式(IA)中、nは0~6の整数を示し、0~3が好まし� �。nが2以上の時、複数存在するR ² は同一でもあってもよいし異なっていてもよ い。前記式(IA)で表される化合物として、好� �しくは、ナフタレン構造を有する(メタ)アク リル酸エステル類またはナフタレン構造を有 するアクリルアミド類であり、特に好ましく は式(IB)で表される化合物である

 前記式(IB)中、Yは単結合または鎖中にヘテ� �原子を含んでいてもよいアルキレン基を示� �。該アルキレン基としては、例えば、メチ� �ン基、エチレン基、-(CH ₂ CH ₂ O)-が挙げられ、メチレン基が好ましい。前記 Yとしては、エッチング耐性、耐溶剤性の観� �から、単結合、メチレン基が好ましい。mが2 以上の時、複数存在するYおよびR ¹ は同一でもよいし、異なっていてもよい

 前記重合性単量体(Ax)としては、下記式(IC )または(ID)で表される化合物であることが、� ��粘度で他の成分との相溶性に優れ、且つ、� ��ールド充填性が良好となる観点から、さら� ��好ましい。なお、モールド充填性が向上す� ��と、ナノインプリント法によるパターン量� ��時においてモールド圧接圧力を高くしなく� ��も速やかにモールドに硬化性組成物が充填� ��れ、モールド耐久性およびスループットの� ��点からより好ましいこととなる。

 前記式(IB)中、R ¹ は、上述の式(IA)におけるものと同義であり� �好ましい範囲も同様である。

 以下に本発明における重合性単量体(Ax)の 具体例(化合物(I-1)~(I-29)を示す。

 本発明の組成物に用いられる重合性単量� ��(Ax)は常法により合成可能である。例えば式 (IB)の化合物は一般的なエステル化合物の合� �法により合成可能である。具体的には下記Sc hme1に示すようなカルボン酸とアルコールを� �条件下反応させる方法、下記Scheme2に示すよ� ��なカルボン酸エステルとアルコールのエス� ��ル交換法、下記Scheme3に示すようなカルボン 酸と脱離基(好ましくはハロゲン原子、アル� �ルスルホニルオキシ基、アリールスルホニ� �オキシ基)を有する化合物を塩基性条件下で� ��応させる方法等により合成することができ� ��。

 本発明のナノインプリント用硬化性組成� ��中における重合性単量体の総含有量は、硬� ��性の観点から、溶剤を除く全成分中、50~99.5 質量%が好ましく、70~99質量%がさらに好まし� �、90~99質量%が特に好ましい。本発明におけ� �重合性単量体(Ax)の含有量は、重合性単量体( Ax)が重合性官能基を1つ有する化合物である� �合には、ドライエッチング耐性、耐溶剤性� �パターン形成性の観点から、全重合性単量� �中5~100質量%が好ましく、より好ましくは20~10 0質量%、さらに好ましくは30~100質量%である。 また、重合性単量体(Ax)が重合性官能基を2つ� ��する化合物である場合には、本発明におけ� ��重合性単量体(Ax)の含有量は全重合性単量体 中1~70質量%が好ましく、より好ましくは5~60質 量%、さらに好ましくは10~40質量%である。ま� �、重合性単量体(Ax)が重合性官能基を3つ以上 有する化合物である場合には、本発明におけ る重合性単量体(Ax)の含有量は、全重合性単� �体中1~70質量%が好ましく、より好ましくは3~5 0質量%、さらに好ましくは5~40質量%である。� �ち、組成物粘度、ドライエッチング耐性、� �ンプリント適性、硬化性等の改良の観点か� �、特に重合性単量体(Ax)が2以上の重合性官能 基を有する場合には、重合性単量体(Ax)と、� �下に説明する重合性単量体(Ax)とは異なる他� ��重合性単量体と、を併用することが好まし� ��。

-他の重合性単量体-
 上述のように本発明のナノインプリント用� ��化性組成物は、さらに、組成物粘度、ドラ� ��エッチング耐性、インプリント適性、硬化� ��等の改良を目的に、重合性単量体として、� ��らに、重合性単量体(Ax)とは異なる他の重合 性単量体を含んでいてもよい。前記他の重合 性単量体としては、例えば、エチレン性不飽 和結合含有基を1~6個有する重合性不飽和単量 体;オキシラン環を有する化合物(エポキシ化� ��物);ビニルエーテル化合物;スチレン誘導体; フッ素原子を有する化合物;プロペニルエー� �ルまたはブテニルエーテル等を挙げること� �でき、硬化性の観点から、エチレン性不飽� �結合含有基を1~6個有する重合性不飽和単量� �が好ましい。

 前記エチレン性不飽和結合含有基を1~6個有� ��る重合性不飽和単量体(1~6官能の重合性不飽 和単量体)について説明する。
 まず、エチレン性不飽和結合含有基を1個有 する重合性不飽和単量体(1官能の重合性不飽� ��単量体)としては具体的に、2-アクリロイロ� ��シエチルフタレート、2-アクリロイロキシ2- ヒドロキシエチルフタレート、2-アクリロイ� ��キシエチルヘキサヒドロフタレート、2-ア� �リロイロキシプロピルフタレート、2-エチル -2-ブチルプロパンジオールアクリレート、2-� ��チルヘキシル(メタ)アクリレート、2-エチル ヘキシルカルビトール(メタ)アクリレート、2 -ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2-ヒ� ��ロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロ キシプロピル(メタ)アクリレート、2-メトキ� �エチル(メタ)アクリレート、3-メトキシブチ� ��(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(� �タ)アクリレート、アクリル酸ダイマー、ベ� ��ジル(メタ)アクリレート、ブタンジオール� �ノ(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メ� �)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート� �セチル(メタ)アクリレート、エチレンオキシ ド変性(以下「EO」という。)クレゾール(メタ) アクリレート、ジプロピレングリコール(メ� �)アクリレート、エトキシ化フェニル(メタ)� �クリレート、エチル(メタ)アクリレート、イ ソアミル(メタ)アクリレート、イソブチル(メ タ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリ レート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート� ��イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシク� �ペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペ ンタニルオキシエチル(メタ)アクリレート、� ��ソミリスチル(メタ)アクリレート、ラウリ� �(メタ)アクリレート、メトキシジプロピレン グリコール(メタ)アクリレート、メトキシト� ��プロピレングリコール(メタ)アクリレート� �メトキシポリエチレングリコール(メタ)アク リレート、メトキシトリエチレングリコール (メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレ� �ト、ネオペンチルグリコールベンゾエート(� ��タ)アクリレート、ノニルフェノキシポリエ チレングリコール(メタ)アクリレート、ノニ� ��フェノキシポリプロピレングリコール(メタ )アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート 、パラクミルフェノキシエチレングリコール (メタ)アクリレート、エピクロロヒドリン(以 下「ECH」という)変性フェノキシアクリレー� �、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フ ェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリ� ��ート、フェノキシヘキサエチレングリコー� ��(メタ)アクリレート、フェノキシテトラエ� �レングリコール(メタ)アクリレート、ポリエ チレングリコール(メタ)アクリレート、ポリ� ��チレングリコール-ポリプロピレングリコー ル(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリ� ��ール(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ) アクリレート、EO変性コハク酸(メタ)アクリ� �ート、tert-ブチル(メタ)アクリレート、トリ� ��ロモフェニル(メタ)アクリレート、EO変性ト リブロモフェニル(メタ)アクリレート、トリ� ��デシル(メタ)アクリレート、p-イソプロペニ ルフェノール、スチレン、α-メチルスチレン 、アクリロニトリル、が例示される。
 これらの中で特に、ベンジル(メタ)アクリ� �ート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレー ト、ジシクロペンタニルオキシエチル(メタ)� ��クリレート、イソボロニル(メタ)アクリレ� �ト、アダマンチル(メタ)アクリレートが本発 明に好適に用いられる。

 他の重合性単量体として、エチレン性不飽� ��結合含有基を2個有する多官能重合性不飽和 単量体を用いることも好ましい。
 本発明で好ましく用いることのできるエチ� ��ン性不飽和結合含有基を2個有する2官能重� �性不飽和単量体の例としては、ジエチレン� �リコールモノエチルエーテル(メタ)アクリレ ート、ジメチロールジシクロペンタンジ(メ� �)アクリレート、ジ(メタ)アクリル化イソシ� �ヌレート、1,3-ブチレングリコールジ(メタ)� �クリレート、1,4-ブタンジオールジ(メタ)ア� �リレート、EO変性1,6-ヘキサンジオールジ(メ� ��)アクリレート、ECH変性1,6-ヘキサンジオー� �ジ(メタ)アクリレート、アリロキシポリエチ レングリコールアクリレート、1,9-ノナンジ� �ールジ(メタ)アクリレート、EO変性ビスフェ� ��ールAジ(メタ)アクリレート、PO変性ビスフ� �ノールAジ(メタ)アクリレート、変性ビスフ� �ノールAジ(メタ)アクリレート、EO変性ビスフ ェノールFジ(メタ)アクリレート、ECH変性ヘキ サヒドロフタル酸ジアクリレート、ヒドロキ シピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メ� �)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ( メタ)アクリレート、EO変性ネオペンチルグリ コールジアクリレート、プロピレンオキシド (以後「PO」という。)変性ネオペンチルグリ� �ールジアクリレート、カプロラクトン変性� �ドロキシピバリン酸エステルネオペンチル� �リコール、ステアリン酸変性ペンタエリス� �トールジ(メタ)アクリレート、ECH変性フタル 酸ジ(メタ)アクリレート、ポリ(エチレングリ コール-テトラメチレングリコール)ジ(メタ)� �クリレート、ポリ(プロピレングリコール-テ トラメチレングリコール)ジ(メタ)アクリレー ト、ポリエステル(ジ)アクリレート、ポリエ� ��レングリコールジ(メタ)アクリレート、ポ� �プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート 、ECH変性プロピレングリコールジ(メタ)アク� ��レート、シリコーンジ(メタ)アクリレート� �トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレー ト、テトラエチレングリコールジ(メタ)アク� ��レート、ジメチロールトリシクロデカンジ( メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコー� �変性トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリ レート、トリプロピレングリコールジ(メタ)� ��クリレート、EO変性トリプロピレングリコ� �ルジ(メタ)アクリレート、トリグリセロール ジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコ� ��ルジ(メタ)アクリレート、ジビニルエチレ� �尿素、ジビニルプロピレン尿素が例示され� �。

 これらの中で特に、ネオペンチルグリコ� ��ルジ(メタ)アクリレート、1,9-ノナンジオー� ��ジ(メタ)アクリレート、トリプロピレング� �コールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレ ングリコールジ(メタ)アクリレート、ヒドロ� ��シピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メ タ)アクリレート、ポリエチレングリコール� �(メタ)アクリレート等が本発明に好適に用い られる。

 エチレン性不飽和結合含有基を3個以上有 する多官能重合性不飽和単量体の例としては 、ECH変性グリセロールトリ(メタ)アクリレー� ��、EO変性グリセロールトリ(メタ)アクリレー ト、PO変性グリセロールトリ(メタ)アクリレ� �ト、ペンタエリスリトールトリアクリレー� �、EO変性リン酸トリアクリレート、トリメチ ロールプロパントリ(メタ)アクリレート、カ� ��ロラクトン変性トリメチロールプロパント� ��(メタ)アクリレート、EO変性トリメチロール プロパントリ(メタ)アクリレート、PO変性ト� �メチロールプロパントリ(メタ)アクリレート 、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレ� ��ト、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)� �クリレート、カプロラクトン変性ジペンタ� �リスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジ ペンタエリスリトールヒドロキシペンタ(メ� �)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリ� ��リトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペ� �タエリスリトールポリ(メタ)アクリレート、 アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ(� �タ)アクリレート、ジトリメチロールプロパ� ��テトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリス� �トールエトキシテトラ(メタ)アクリレート、 ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレ� ��ト等が挙げられる。

 これらの中で特に、EO変性グリセロール� �リ(メタ)アクリレート、PO変性グリセロール� ��リ(メタ)アクリレート、トリメチロールプ� �パントリ(メタ)アクリレート、EO変性トリメ� ��ロールプロパントリ(メタ)アクリレート、PO 変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アク� ��レート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メ タ)アクリレート、ペンタエリスリトールエ� �キシテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリ スリトールテトラ(メタ)アクリレート等が本� ��明に好適に用いられる。

 前記オキシラン環を有する化合物(エポキ シ化合物)としては、例えば、多塩基酸のポ� �グリシジルエステル類、多価アルコールの� �リグリシジルエーテル類、ポリオキシアル� �レングリコールのポリグリシジルエーテル� �、芳香族ポリオールのポリグリシジルエテ� �テル類、芳香族ポリオールのポリグリシジ� �エーテル類の水素添加化合物類、ウレタン� �リエポキシ化合物およびエポキシ化ポリブ� �ジエン類等を挙げることができる。これら� �化合物は、その一種を単独で使用すること� �できるし、また、その二種以上を混合して� �用することもできる。

 本発明に好ましく使用することのできる� ��記オキシラン環を有する化合物(エポキシ化 合物)としては、例えばビスフェノールAジグ� ��シジルエーテル、ビスフェノールFジグリシ ジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジ� �エーテル、臭素化ビスフェノールAジグリシ� ��ルエーテル、臭素化ビスフェノールFジグリ シジルエーテル、臭素化ビスフェノールSジ� �リシジルエーテル、水添ビスフェノールAジ� ��リシジルエーテル、水添ビスフェノールFジ グリシジルエーテル、水添ビスフェノールS� �グリシジルエーテル、1,4-ブタンジオールジ� ��リシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジ グリシジルエーテル、グリセリントリグリシ ジルエーテル、トリメチロールプロパントリ グリシジルエーテル、ポリエチレングリコー ルジグリシジルエーテル、ポリプロピレング リコールジグリシジルエーテル類;エチレン� �リコール、プロピレングリコール、グリセ� �ンなどの脂肪族多価アルコールに1種または2 種以上のアルキレンオキサイドを付加するこ とにより得られるポリエーテルポリオールの ポリグリシジルエーテル類;脂肪族長鎖二塩� �酸のジグリシジルエステル類;脂肪族高級ア� ��コールのモノグリシジルエーテル類;フェノ ール、クレゾール、ブチルフェノールまたは これらにアルキレンオキサイドを付加して得 られるポリエーテルアルコールのモノグリシ ジルエーテル類;高級脂肪酸のグリシジルエ� �テル類などを例示することができる。

 これらの中で特に、ビスフェノールAジグ リシジルエーテル、ビスフェノールFジグリ� �ジルエーテル、水添ビスフェノールAジグリ� ��ジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリ シジルエーテル、1,4-ブタンジオールジグリ� �ジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリ� ��ジルエーテル、グリセリントリグリシジル� ��ーテル、トリメチロールプロパントリグリ� ��ジルエーテル、ネオペンチルグリコールジ� ��リシジルエーテル、ポリエチレングリコー� ��ジグリシジルエーテル、ポリプロピレング� ��コールジグリシジルエーテルが好ましい。

 グリシジル基含有化合物として好適に使� ��できる市販品としては、UVR-6216(ユニオンカ� ��バイド社製)、グリシドール、AOEX24、サイク ロマーA200、(以上、ダイセル化学工業(株)製)� ��エピコート828、エピコート812、エピコート1 031、エピコート872、エピコートCT508(以上、油 化シェル(株)製)、KRM-2400、KRM-2410、KRM-2408、KRM -2490、KRM-2720、KRM-2750(以上、旭電化工業(株)製 )などを挙げることができる。これらは、1種� ��独で、または2種以上組み合わせて用いるこ とができる。

 また、これらのオキシラン環を有する化� ��物はその製法は問わないが、例えば、丸善K K出版、第四版実験化学講座20有機合成II、213~ 、平成4年、Ed.by Alfred Hasfner,The chemistry of h eterocyclic compounds-Small Ring Heterocycles part3 Oxi ranes,John & Wiley and Sons,An Interscience Public ation,New York,1985、吉村、接着、29巻12号、32、1 985、吉村、接着、30巻5号、42、1986、吉村、接 着、30巻7号、42、1986、特開平11-100378号公報、 特許第2906245号公報、特許第2926262号公報など� ��文献を参考にして合成できる。

 本発明で用いる他の重合性単量体として、� ��ニルエーテル化合物を併用してもよい。
ビニルエーテル化合物は公知のものを適宜選 択することができ、例えば、2-エチルヘキシ� ��ビニルエーテル、ブタンジオール-1,4-ジビ� �ルエーテル、ジエチレングリコールモノビ� �ルエーテル、ジエチレングリコールモノビ� �ルエーテル、エチレングリコールジビニル� �ーテル、トリエチレングリコールジビニル� �ーテル、1,2-プロパンジオールジビニルエー� ��ル、1,3-プロパンジオールジビニルエーテル 、1,3-ブタンジオールジビニルエーテル、1,4-� ��タンジオールジビニルエーテル、テトラメ� ��レングリコールジビニルエーテル、ネオペ� ��チルグリコールジビニルエーテル、トリメ� ��ロールプロパントリビニルエーテル、トリ� ��チロールエタントリビニルエーテル、ヘキ� ��ンジオールジビニルエーテル、テトラエチ� ��ングリコールジビニルエーテル、ペンタエ� ��スリトールジビニルエーテル、ペンタエリ� ��リトールトリビニルエーテル、ペンタエリ� ��リトールテトラビニルエーテル、ソルビト� ��ルテトラビニルエーテル、ソルビトールペ� ��タビニルエーテル、エチレングリコールジ� ��チレンビニルエーテル、トリエチレングリ� ��ールジエチレンビニルエーテル、エチレン� ��リコールジプロピレンビニルエーテル、ト� ��エチレングリコールジエチレンビニルエー� ��ル、トリメチロールプロパントリエチレン� ��ニルエーテル、トリメチロールプロパンジ� ��チレンビニルエーテル、ペンタエリスリト� ��ルジエチレンビニルエーテル、ペンタエリ� ��リトールトリエチレンビニルエーテル、ペ� ��タエリスリトールテトラエチレンビニルエ� ��テル、1,1,1-トリス〔4-(2-ビニロキシエトキ� �)フェニル〕エタン、ビスフェノールAジビニ ロキシエチルエーテル等が挙げられる。

 これらのビニルエーテル化合物は、例え� ��、Stephen.C.Lapin,Polymers Paint Colour Journal.179(42 37)、321(1988)に記載されている方法、即ち多価 アルコールもしくは多価フェノールとアセチ レンとの反応、または多価アルコールもしく は多価フェノールとハロゲン化アルキルビニ ルエーテルとの反応により合成することがで き、これらは1種単独あるいは2種以上を組み� ��わせて用いることができる。

 また、本発明で用いる他の重合性単量体� ��しては、スチレン誘導体も採用できる。ス� ��レン誘導体としては、例えば、スチレン、p -メチルスチレン、p-メトキシスチレン、β-メ チルスチレン、p-メチル-β-メチルスチレン、 α-メチルスチレン、p-メトキシ-β-メチルスチ レン、p-ヒドロキシスチレン、等を挙げるこ� ��ができる。

 また、モールドとの剥離性や塗布性を向� ��させる目的で、トリフルオロエチル(メタ)� �クリレート、ペンタフルオロエチル(メタ)ア クリレート、(パーフルオロブチル)エチル(メ タ)アクリレート、パーフルオロブチル-ヒド� ��キシプロピル(メタ)アクリレート、(パーフ� ��オロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、� ��クタフルオロペンチル(メタ)アクリレート� �パーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレ ート、テトラフルオロプロピル(メタ)アクリ� ��ート等のフッ素原子を有する化合物も併用� ��ることができる。

 本発明で用いる他の重合性単量体として� ��、プロペニルエーテルおよびブテニルエー� ��ルを用いることもできる。前記プロペニル� ��ーテルまたはブテニルエーテルとしては、� ��えば1-ドデシル-1-プロペニルエーテル、1-ド デシル-1-ブテニルエーテル、1-ブテノキシメ� ��ル-2-ノルボルネン、1-4-ジ(1-ブテノキシ)ブ� �ン、1,10-ジ(1-ブテノキシ)デカン、1,4-ジ(1-ブ� ��ノキシメチル)シクロヘキサン、ジエチレン グリコールジ(1-ブテニル)エーテル、1,2,3-ト� �(1-ブテノキシ)プロパン、プロペニルエーテ� ��プロピレンカーボネート等が好適に適用で� ��る。

 上述の他の重合性単量体は、本発明にお� ��る重合性単量体の含有量によってその好ま� ��い含有量が変わるが、例えば、本発明の組� ��物中に含まれる全重合性単量体に対して0~90 質量%の範囲で含むことが好ましく、5~80質量% の範囲で含むことがより好ましく、10~50質量% の範囲で含むことがさらに好ましい。

 次に、本発明における重合性単量体(Ax)およ び他の重合性単量体(以下、これらを併せて� �重合性不飽和単量体」ということがある)の� ��ましいブレンド形態について説明する。
 1官能の重合性不飽和単量体は、通常、反応 性希釈剤として用いられ、本発明のナノイン プリント硬化性組成物の粘度を低下させる効 果を有し、重合性単量体の総量に対して、15� ��量%以上添加されることが好ましく、20~80質� ��%がさらにこのましく、25~70質量%がより好ま しく、30~60質量%が特に好ましい。
 不飽和結合含有基を2個有する単量体(2官能� ��合性不飽和単量体)は、全重合性不飽和単量 体の好ましくは90質量%以下、より好ましくは 80質量%以下、特に好ましくは70質量%以下の範 囲で添加される。1官能および2官能重合性不� ��和単量体の割合は、全重合性不飽和単量体� ��、好ましくは10~100質量%、より好ましくは30~ 95質量%、特に好ましくは50~90質量%の範囲で添 加される。不飽和結合含有基を3個以上有す� �多官能重合性不飽和単量体の割合は、全重� �性不飽和単量体の、好ましくは80質量%以下� �より好ましくは70質量%以下、特に好ましく� �、60質量%以下の範囲で添加される。重合性� �飽和結合含有基を3個以上有する重合性不飽� ��単量体の割合を80質量%以下とすることによ� ��、組成物の粘度を下げられるため好ましい� ��
 本発明における重合性単量体(Ax)および他の 重合性単量体の更に好ましいブレンド形態と しては全重合性単量体中、1官能の重合性単� �体(Ax)を20~90質量%、重合性単量体(Ax)以外の1� �能の重合性単量体を0~50質量%、重合性単量体 (Ax)以外の2及び/又は3官能の重合性単量体を10 ~50質量%、4官能以上の重合性単量体を0~30質量 %含有する形態である。最も好ましいブレン� �形態としては、1官能の重合性単量体(Ax)を40~ 80質量%、重合性単量体(Ax)以外の1官能の重合� ��単量体を0~40質量%、重合性単量体(Ax)以外の2 及び/又は3官能の重合性単量体を20~50質量%、4 官能以上の重合性単量体を0~10質量%含有する� ��態である。更に、上記ブレンド形態に加え� ��、重合性官能基としてアクリレート基を有� ��る重合性単量体が全重合性単量体中90~100質� ��%である形態である。これにより、光硬化性 、モールド充填性、ドライエッチング耐性、 モールド剥離性を高いレベルで両立すること ができる。

(光重合開始剤(B))
 本発明のナノインプリント硬化性組成物に� ��、光重合開始剤が含まれる。本発明に用い� ��れる光重合開始剤は、光照射により上述の� ��合性単量体を重合する活性種を発生する化� ��物であればいずれのものでも用いることが� ��きる。光重合開始剤としては、光照射によ� ��ラジカルを発生するラジカル重合開始剤、� ��照射により酸を発生するカチオン重合開始� ��が好ましく、より好ましくはラジカル重合� ��始剤であるが、前記重合性単量体の重合性� ��の種類に応じて適宜決定される。即ち、本� ��明における光重合開始剤は、使用する光源� ��波長に対して活性を有するものが配合され� ��反応形式の違い(例えばラジカル重合やカチ オン重合など)に応じて適切な活性種を発生� �せるものを用いる必要がある。また、本発� �において、光重合開始剤は複数種を併用し� �もよい。

 本発明に用いられる光重合開始剤の含有量� ��、組成物に含まれる全重合性単量体に対し� ��、例えば、0.01~15質量%であり、好ましくは0. 1~12質量%であり、さらに好ましくは0.2~7質量%� ��ある。2種類以上の光重合開始剤を用いる場 合は、その合計量が前記範囲となる。
 光重合開始剤の含有量が0.01質量%以上であ� �と、感度(速硬化性)、解像性、ラインエッジ ラフネス性、塗膜強度が向上する傾向にあり 好ましい。一方、光重合開始剤の含有量を15� ��量%以下とすると、光透過性、着色性、取り 扱い性などが向上する傾向にあり、好ましい 。これまで、染料および/または顔料を含む� �ンクジェット用組成物や液晶ディスプレイ� �ラーフィルタ用組成物においては、好まし� �光重合開始剤および/または光酸発生剤の添� ��量が種々検討されてきたが、ナノインプリ� ��ト用等の光ナノインプリント用硬化性組成� ��についての好ましい光重合開始剤および/ま たは光酸発生剤の添加量については報告され ていない。すなわち、染料および/または顔� �を含む系では、これらがラジカルトラップ� �として働くことがあり、光重合性、感度に� �響を及ぼす。その点を考慮して、これらの� �途では、光重合開始剤の添加量が最適化さ� �る。一方で、本発明のナノインプリント硬� �性組成物では、染料および/または顔料は必� ��成分でなく、光重合開始剤の最適範囲がイ� ��クジェット用組成物や液晶ディスプレイカ� ��ーフィルタ用組成物等の分野のものとは異� ��る場合がある。

 本発明で使用されるラジカル光重合開始� ��としては、アシルホスフィンオキシド系化� ��物、オキシムエステル系化合物が硬化感度� ��吸収特性の観点から好ましい。光重合開始� ��は例えば市販されている開始剤を用いるこ� ��ができる。これらの例としてはCiba社から入 手可能なIrgacure(登録商標)2959(1-[4-(2-ヒドロキ� ��エトキシ)フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1 -プロパン-1-オン、Irgacure(登録商標)184(1-ヒド� ��キシシクロヘキシルフェニルケトン)、Irgacu re(登録商標)500(1-ヒドロキシシクロヘキシル� �ェニルケトン、ベンゾフェノン)、Irgacure(登� ��商標)651(2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタ� �-1-オン)、Irgacure(登録商標)369(2-ベンジル-2-ジ メチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)ブ� �ノン-1)、Irgacure(登録商標)907(2-メチル-1[4-メ� �ルチオフェニル]-2-モルフォリノプロパン-1-� ��ン、Irgacure(登録商標)819(ビス(2,4,6-トリメチ� ��ベンゾイル)-フェニルフォスフィンオキサ� �ド、Irgacure(登録商標)1800(ビス(2,6-ジメトキシ ベンゾイル)-2,4,4-トリメチル-ペンチルフォス フィンオキサイド,1-ヒドロキシ-シクロヘキ� �ル-フェニル-ケトン)、Irgacure(登録商標)1800(� �ス(2,6-ジメトキシベンゾイル)-2,4,4-トリメチ� ��-ペンチルフォスフィンオキサイド,2-ヒドロ キシ-2-メチル-1-フェニル-1-プロパン-1-オン)� �Irgacure(登録商標)OXE01(1,2-オクタンジオン,1-[4- (フェニルチオ)フェニル]-2-(O-ベンゾイルオキ シム)、Darocur(登録商標)1173(2-ヒドロキシ-2-メ� ��ル-1-フェニル-1-プロパン-1-オン)、Darocur(登� ��商標)1116、1398、1174および1020、CGI242(エタノ� ��,1-[9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カル� �ゾール-3-イル]-1-(O-アセチルオキシム)、BASF� �から入手可能なLucirin TPO(2,4,6-トリメチルベ� ��ゾイルジフェニルホスフィンオキサイド)、 Lucirin TPO-L(2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニ ルエトキシホスフィンオキサイド)、ESACUR日� �シイベルヘグナー社から入手可能なESACURE 10 01M(1-[4-ベンゾイルフェニルスルファニル]フ� �ニル]-2-メチル-2-(4-メチルフェニルスルホニ� ��)プロパン-1-オン、N-1414旭電化社から入手可 能なアデカオプトマー(登録商標)N-1414(カルバ ゾール・フェノン系)、アデカオプトマー(登� ��商標)N-1717(アクリジン系)、アデカオプトマ� ��(登録商標)N-1606(トリアジン系)、三和ケミカ ル製のTFE-トリアジン(2-[2-(フラン-2-イル)ビニ ル]-4,6-ビス(トリクロロメチル)-1,3,5-トリアジ ン)、三和ケミカル製のTME-トリアジン(2-[2-(5-� ��チルフラン-2-イル)ビニル]-4,6-ビス(トリク� �ロメチル)-1,3,5-トリアジン)、三和ケミカル� �のMP-トリアジン(2-(4-メトキシフェニル)-4,6-� �ス(トリクロロメチル)-1,3,5-トリアジン)、ミ� ��リ化学製TAZ-113(2-[2-(3,4-ジメトキシフェニル) エテニル]-4,6-ビス(トリクロロメチル)-1,3,5-ト リアジン)、ミドリ化学製TAZ-108(2-(3,4-ジメト� �シフェニル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-1,3,5 -トリアジン)、ベンゾフェノン、4,4’-ビスジ エチルアミノベンゾフェノン、メチル-2-ベン ゾフェノン、4-ベンゾイル-4’-メチルジフェ� ��ルスルフィド、4-フェニルベンゾフェノン� �エチルミヒラーズケトン、2-クロロチオキサ ントン、2-メチルチオキサントン、2-イソプ� �ピルチオキサントン、4-イソプロピルチオキ サントン、2,4-ジエチルチオキサントン、1-ク ロロ-4-プロポキシチオキサントン、2-メチル� ��オキサントン、チオキサントンアンモニウ� ��塩、ベンゾイン、4,4’-ジメトキシベンゾイ ン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン エチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエ ーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベ ンジルジメチルケタール、1,1,1-トリクロロア セトフェノン、ジエトキシアセトフェノンお よびジベンゾスベロン、o-ベンゾイル安息香� ��メチル、2-ベンゾイルナフタレン、4-ベンゾ イルビフェニル、4-ベンゾイルジフェニルエ� ��テル、1,4-ベンゾイルベンゼン、ベンジル、 10-ブチル-2-クロロアクリドン、[4-(メチルフ� �ニルチオ)フェニル]フェニルメタン)、2-エチ ルアントラキノン、2,2-ビス(2-クロロフェニ� �)4,5,4‘,5’-テトラキス(3,4,5-トリメトキシフ� ��ニル)1,2‘-ビイミダゾール、2,2-ビス(o-クロ� ��フェニル)4,5,4’,5’-テトラフェニル-1,2’-� �イミダゾール、トリス(4-ジメチルアミノフ� �ニル)メタン、エチル-4-(ジメチルアミノ)ベ� �ゾエート、2-(ジメチルアミノ)エチルベンゾ� ��ート、ブトキシエチル-4-(ジメチルアミノ)� �ンゾエート、等が挙げられる。

 なお、本発明において「光」には、紫外� ��近紫外、遠紫外、可視、赤外等の領域の波� ��の光や、電磁波だけでなく、放射線も含ま� ��る。前記放射線には、例えばマイクロ波、� ��子線、EUV、X線が含まれる。また248nmエキシ� ��レーザー、193nmエキシマレーザー、172nmエキ シマレーザーなどのレーザー光も用いること ができる。これらの光は、光学フィルターを 通したモノクロ光(単一波長光)を用いてもよ� ��し、複数の波長の異なる光(複合光)でもよ� �。露光は、多重露光も可能であり、膜強度� �エッチング耐性を高めるなどの目的でパタ� �ン形成した後、全面露光することも可能で� �る。

 本発明で使用される光重合開始剤は、使� ��する光源の波長に対して適時に選択する必� ��があるが、モールド加圧・露光中にガスを� ��生させないものが好ましい。ガスが発生す� ��と、モールドが汚染されるため、頻繁にモ� ��ルドを洗浄しなければならなくなったり、� ��硬化性組成物がモールド内で変形し、転写� ��ターン精度を劣化させるなどの問題を生じ� ��。

 本発明のナノインプリント硬化性組成物� ��、重合性単量体(A)がラジカル重合性単量体� ��あり、光重合開始剤(B)が光照射によりラジ� ��ルを発生するラジカル重合開始剤であるラ� ��カル重合性組成物であることが好ましい。

(その他成分)
 本発明のナノインプリント硬化性組成物は� ��上述の重合性単量体(A)および光重合開始剤( B)の他に種々の目的に応じて、本発明の効果� ��損なわない範囲で、界面活性剤、酸化防止� ��、溶剤、ポリマー成分等その他の成分を含� ��でいてもよい。本発明のナノインプリント� ��化性組成物としては、フッ素系界面活性剤� ��シリコーン系界面活性剤、フッ素・シリコ� ��ン系界面活性剤、並びに、酸化防止剤から� ��ばれる少なくとも1種を含有することが好ま しい。

-界面活性剤-
 本発明のナノインプリント硬化性組成物に� ��、界面活性剤を含有することが好ましい。� ��発明に用いられる界面活性剤の含有量は、� ��組成物中、例えば、0.001~5質量%であり、好� �しくは0.002~4質量%であり、さらに好ましくは 、0.005~3質量%である。2種類以上の界面活性剤 を用いる場合は、その合計量が前記範囲とな る。界面活性剤が組成物中0.001~5質量%の範囲� ��あると、塗布の均一性の効果が良好であり� ��界面活性剤の過多によるモールド転写特性� ��悪化を招きにくい。

 前記界面活性剤としては、フッ素系界面活� ��剤、シリコーン系界面活性剤およびフッ素� ��シリコーン系界面活性剤の少なくとも1種を 含むことが好ましく、フッ素系界面活性剤と シリコーン系界面活性剤との両方または、フ ッ素・シリコーン系界面活性剤を含むことが より好ましく、フッ素・シリコーン系界面活 性剤を含むことが最も好ましい。尚、前記フ ッ素系界面活性剤およびシリコーン系界面活 性剤としては、非イオン性の界面活性剤が好 ましい。
 ここで、“フッ素・シリコーン系界面活性� ��”とは、フッ素系界面活性剤およびシリコ� ��ン系界面活性剤の両方の要件を併せ持つも� ��をいう。
 このような界面活性剤を用いることによっ� ��、半導体素子製造用のシリコンウエハや、� ��晶素子製造用のガラス角基板、クロム膜、� ��リブデン膜、モリブデン合金膜、タンタル� ��、タンタル合金膜、窒化珪素膜、アモルフ� ��スシリコーン膜、酸化錫をドープした酸化� ��ンジウム(ITO)膜や酸化錫膜などの、各種の� �が形成される基板上に本発明のナノインプ� �ント硬化性組成物を塗布したときに起こる� �トリエーションや、鱗状の模様(レジスト膜� ��乾燥むら)などの塗布不良の問題を解決する が可能となる。また、モールド凹部のキャビ ティ内への本発明の組成物の流動性の向上、 モールドとレジストとの間の剥離性の向上、 レジストと基板間との密着性の向上、組成物 の粘度を下げる等が可能になる。特に、本発 明のナノインプリント組成物は、前記界面活 性剤を添加することにより、塗布均一性を大 幅に改良でき、スピンコーターやスリットス キャンコーターを用いた塗布において、基板 サイズに依らず良好な塗布適性が得られる。

 本発明で用いることのできる、非イオン性� ��フッ素系界面活性剤の例としては、商品名� �フロラード FC-430、FC-431(住友スリーエム(株) 製)、商品名サーフロン S-382(旭硝子(株)製)、 EFTOP EF-122A、122B、122C、EF-121、EF-126、EF-127、MF -100((株)トーケムプロダクツ製)、商品名 PF-63 6、PF-6320、PF-656、PF-6520(いずれもOMNOVA Solutions , Inc.)、商品名フタージェントFT250、FT251、DFX 18 (いずれも(株)ネオス製)、商品名ユニダイ� ��DS-401、DS-403、DS-451 (いずれもダイキン工業( 株)製)、商品名メガフアック171、172、173、178K 、178A、(いずれも大日本インキ化学工業(株)� �)が挙げられる。
 また、非イオン性の前記シリコーン系界面� ��性剤の例としては、商品名SI-10シリーズ(竹� ��油脂(株)製)、メガファックペインタッド31(� ��日本インキ化学工業(株)製)、KP-341(信越化学 工業(株)製)が挙げられる。
 また、前記フッ素・シリコーン系界面活性� ��の例としては、商品名 X-70-090、X-70-091、X-70 -092、X-70-093、(いずれも、信越化学工業(株)製 )、商品名メガフアックR-08、XRB-4(いずれも、� ��日本インキ化学工業(株)製)が挙げられる。

-酸化防止剤-
 さらに、本発明のナノインプリント硬化性� ��成物には、公知の酸化防止剤を含有するこ� ��が好ましい。本発明に用いられる酸化防止� ��の含有量は、重合性単量体の総量に対し、� ��えば、0.01~10質量%であり、好ましくは0.2~5質 量%である。2種類以上の酸化防止剤を用いる� ��合は、その合計量が前記範囲となる。
 前記酸化防止剤は、熱や光照射による退色� ��よびオゾン、活性酸素、NO _x 、SO _x (Xは整数)などの各種の酸化性ガスによる退色 を抑制するものである。特に本発明では、酸 化防止剤を添加することにより、硬化膜の着 色を防止や、分解による膜厚減少を低減でき るという利点がある。このような酸化防止剤 としては、ヒドラジド類、ヒンダードアミン 系酸化防止剤、含窒素複素環メルカプト系化 合物、チオエーテル系酸化防止剤、ヒンダー ドフェノール系酸化防止剤、アスコルビン酸 類、硫酸亜鉛、チオシアン酸塩類、チオ尿素 誘導体、糖類、亜硝酸塩、亜硫酸塩、チオ硫 酸塩、ヒドロキシルアミン誘導体などを挙げ ることができる。この中でも、特にヒンダー ドフェノール系酸化防止剤、チオエーテル系 酸化防止剤が硬化膜の着色、膜厚減少の観点 で好ましい。

 前記酸化防止剤の市販品としては、商品� �� Irganox1010、1035、1076、1222(以上、チバガイ� �ー(株)製)、商品名 Antigene P、3C、FR、スミラ イザーS、スミライザーGA80(住友化学工業(株)� ��)、商品名アデカスタブAO70、AO80、AO503((株)AD EKA製)等が挙げられる。これらは単独で用い� �もよいし、混合して用いてもよい。

-溶剤-
 本発明のナノインプリント用硬化性組成物� ��は、種々の必要に応じて、溶剤を用いるこ� ��ができる。特に膜厚500nm以下のパターンを� �成する際には溶剤を含有していることが好� �しい。好ましい溶剤としては常圧における� �点が80~200℃の溶剤である。溶剤の種類とし� �は組成物を溶解可能な溶剤であればいずれ� �用いることができるが、好ましくはエステ� �構造、ケトン構造、水酸基、エーテル構造� �いずれか1つ以上を有する溶剤である。具体� ��に、好ましい溶剤としてはプロピレングリ� ��ールモノメチルエーテルアセテート、シク� ��ヘキサノン、2-ヘプタノン、ガンマブチロ� �クトン、プロピレングリコールモノメチル� �ーテル、乳酸エチルから選ばれる単独ある� �は混合溶剤であり、プロピレングリコール� �ノメチルエーテルアセテートを含有する溶� �が塗布均一性の観点で最も好ましい。
 本発明の組成物中における前記溶剤の含有� ��は、溶剤を除く成分の粘度、塗布性、目的� ��する膜厚によって最適に調整されるが、塗� ��性の観点から、組成物の0~95質量%が好まし� �、0~90質量%がさらに好ましい。特に膜厚500nm� ��下のパターンを形成する際には10~95質量%が� ��ましく、30~90質量%がさらに好ましく、40~90� �量%が特に好ましい。

-ポリマー成分-
 本発明の組成物では、架橋密度をさらに高� ��る目的で、前記多官能の他の重合性単量体� ��りもさらに分子量の大きい多官能オリゴマ� ��を、本発明の目的を達成する範囲で配合す� ��こともできる。光ラジカル重合性を有する� ��官能オリゴマーとしてはポリエステルアク� ��レート、ウレタンアクリレート、ポリエー� ��ルアクリレート、エポキシアクリレート等� ��各種アクリレートオリゴマーが挙げられる� ��オリゴマー成分の添加量としては、組成物� ��溶剤を除く成分に対し、0~30質量%が好まし� �、より好ましくは0~20質量%、さらに好ましく は0~10質量%、最も好ましくは0~5質量%である。
 本発明のナノインプリント用硬化性組成物� ��ドライエッチング耐性、インプリント適性� ��硬化性等の改良を観点からも、さらにポリ� ��ー成分を含有していてもよい。前記ポリマ� ��成分としては側鎖に重合性官能基を有する� ��リマーが好ましい。前記ポリマー成分の重� ��平均分子量としては、重合性単量体との相� ��性の観点から、2000~100000が好ましく、5000~500 00がさらに好ましい。ポリマー成分の添加量� ��しては、組成物の溶剤を除く成分に対し、0 ~30質量%が好ましく、より好ましくは0~20質量% 、さらに好ましくは0~10質量%、最も好ましく� ��2質量%以下である。本発明の組成物におい� �溶剤を除く成分中、分子量2000以上のポリマ� ��成分の含有量が30質量%以下であると、パタ� ��ン形成性が向上する。また、パターン形成� ��の観点から樹脂成分はできる限り少ない法� ��好ましく、界面活性剤や微量の添加剤を除� ��、樹脂成分を含まないことが好ましい。

 本発明のナノインプリント用硬化性組成� ��には前記成分の他に必要に応じて離型剤、� ��ランカップリング剤、重合禁止剤、紫外線� ��収剤、光安定剤、老化防止剤、可塑剤、密� ��促進剤、熱重合開始剤、着色剤、エラスト� ��ー粒子、光酸増殖剤、光塩基発生剤、塩基� ��化合物、流動調整剤、消泡剤、分散剤等を� ��加してもよい。

 本発明のナノインプリント用硬化性組成物� ��、上述の各成分を混合して調整することが� ��きる。また、前記各成分を混合した後、例� ��ば、孔径0.05μm~5.0μmのフィルターで濾過す� �ことによって溶液として調製することもで� �る。光ナノインプリント用硬化性組成物の� �合・溶解は、通常、0℃~100℃の範囲で行われ る。濾過は、多段階で行ってもよいし、多数 回繰り返してもよい。また、濾過した液を再 濾過することもできる。濾過に使用するフィ ルターの材質は、ポリエチレン樹脂、ポリプ ロピレン樹脂、フッソ樹脂、ナイロン樹脂な どのものが使用できるが特に限定されるもの ではない。
 本発明のナノインプリント用硬化性組成物� ��おいて、溶剤を除く成分の25℃における粘� �は1~100mPa・sであることが好ましい。より好� �しくは2~50mPa・s、更に好ましくは5~30mPa・sで� ��る。粘度を適切な範囲とすることで、パタ� ��ンの矩形性が向上し、更に残膜を低く抑え� ��ことができる。

[パターン形成方法]
 次に、本発明のナノインプリント用硬化性� ��成物を用いたパターン(特に、微細凹凸パタ ーン)の形成方法について説明する。本発明� �パターン形成方法では、本発明のナノイン� �リント用硬化性組成物を基板または支持体(� ��材)上に塗布してパターン形成層を形成する 工程と、前記パターン形成層表面にモールド を圧接する工程と、前記パターン形成層に光 を照射する工程と、を経て本発明の組成物を 硬化することで、微細な凹凸パターンを形成 することができる。
 ここで、本発明のナノインプリント用硬化� ��組成物は、光照射後にさらに加熱して硬化� ��せることが好ましい。具体的には、基材(基 板または支持体)上に少なくとも本発明の組� �物からなるパターン形成層を塗布し、必要� �応じて乾燥させて本発明の組成物からなる� �(パターン形成層)を形成してパターン受容体 (基材上にパターン形成層が設けられたもの)� ��作製し、当該パターン受容体のパターン形� ��層表面にモールドを圧接し、モールドパタ� ��ンを転写する加工を行い、微細凹凸パター� ��形成層を光照射により硬化させる。本発明� ��パターン形成方法による光インプリントリ� ��グラフィは、積層化や多重パターニングも� ��き、通常の熱インプリントと組み合わせて� ��いることもできる。

 本発明のナノインプリント用硬化性組成� ��は、光ナノインプリント法により微細なパ� ��ーンを低コスト且つ高い精度で形成するこ� ��可能である。このため、従来のフォトリソ� ��ラフィ技術を用いて形成されていたものを� ��らに高い精度且つ低コストで形成すること� ��できる。例えば、基板または支持体上に本� ��明の組成物を塗布し、該組成物からなる層� ��露光、硬化、必要に応じて乾燥(ベーク)さ� �ることによって、液晶ディスプレイ(LCD)など に用いられる、オーバーコート層や絶縁膜な どの永久膜や、半導体集積回路、記録材料、 あるいはフラットパネルディスプレイなどの エッチングレジストとして適用することも可 能である。特に本発明のナノインプリント用 硬化性組成物を用いて形成されたパターンは 、エッチング性にも優れ、フッ化炭素等を用 いるドライエッチングのエッチングレジスト としても好ましく用いることができる。

 液晶ディスプレイ(LCD)などに用いられる� �久膜(構造部材用のレジスト)や電子材料の基 板加工に用いられるレジストにおいては、製 品の動作を阻害しないようにするため、レジ スト中の金属あるいは有機物のイオン性不純 物の混入を極力避けることが望ましい。この ため、本発明のナノインプリント用硬化性組 成物中における金属または有機物のイオン性 不純物の濃度としては、1000ppm以下、望まし� �は10ppm以下、さらに好ましくは100ppb以下にす ることが好ましい。

 以下において、本発明のナノインプリント� ��硬化性組成物を用いたパターン形成方法(パ ターン転写方法)について具体的に述べる。
 本発明のパターン形成方法においては、ま� ��、本発明の組成物を基材上に塗布してパタ� ��ン形成層を形成する。
 本発明のナノインプリント用硬化性組成物� ��基材上に塗布する際の塗布方法としては、� ��般によく知られた塗布方法、例えば、ディ� ��プコート法、エアーナイフコート法、カー� ��ンコート法、ワイヤーバーコート法、グラ� ��アコート法、エクストルージョンコート法� ��スピンコート方法、スリットスキャン法、� ��ンクジェット法などを挙げることができる� ��また、本発明の組成物からなるパターン形� ��層の膜厚は、使用する用途によって異なる� ��、0.05μm~30μm程度である。また、本発明の組 成物を、多重塗布により塗布してもよい。尚 、基材と本発明の組成物からなるパターン形 成層との間には、例えば平坦化層等の他の有 機層などを形成してもよい。これにより、パ ターン形成層と基材とが直接接しないことか ら、基材に対するごみの付着や基材の損傷等 を防止したり、パターン形成層と基材との密 着性を向上したりすることができる。尚、本 発明の組成物によって形成されるパターンは 、基材上に有機層を設けた場合であっても、 有機層との密着性に優れる。

 本発明のナノインプリント用硬化性組成� ��を塗布するための基材(基板または支持体)� �、種々の用途によって選択可能であり、例� �ば、石英、ガラス、光学フィルム、セラミ� �ク材料、蒸着膜、磁性膜、反射膜、Ni,Cu,Cr,Fe などの金属基板、紙、SOG(Spin On Glass)、ポリ� ��ステルフイルム、ポリカーボネートフィル� ��、ポリイミドフィルム等のポリマー基板、T FTアレイ基板、PDPの電極板、ガラスや透明プ� ��スチック基板、ITOや金属などの導電性基材� ��絶縁性基材、シリコーン、窒化シリコーン� ��ポリシリコーン、酸化シリコーン、アモル� ��ァスシリコーンなどの半導体作製基板など� ��に制約されない。また、基材の形状も特に� ��定されるものではなく、板状でもよいし、� ��ール状でもよい。また、後述のように前記� ��材としては、モールドとの組み合わせ等に� ��じて、光透過性、または、非光透過性のも� ��を選択することができる。

 次いで、本発明のパターン形成方法におい� ��は、パターン形成層にパターンを転写する� ��めに、パターン形成層表面にモールドを押� ��する。これにより、モールドの押圧表面に� ��らかじめ形成された微細なパターンをパタ� ��ン形成層に転写することができる。
 本発明で用いることのできるモールド材に� ��いて説明する。本発明の組成物を用いた光� ��ノインプリントリソグラフィは、モールド� ��および/または基材の少なくとも一方に、光 透過性の材料を選択する。本発明に適用され る光インプリントリソグラフィでは、基材の 上に本発明のナノインプリント用硬化性組成 物を塗布してパターン形成層を形成し、この 表面に光透過性のモールドを押接し、モール ドの裏面から光を照射し、前記パターン形成 層を硬化させる。また、光透過性基材上に光 ナノインプリント用硬化性組成物を塗布し、 モールドを押し当て、基材の裏面から光を照 射し、光ナノインプリント用硬化性組成物を 硬化させることもできる。
 前記光照射は、モールドを付着させた状態� ��行ってもよいし、モールド剥離後に行って� ��よいが、本発明では、モールドを密着させ� ��状態で行うのが好ましい。

 本発明で用いることのできるモールドは、� ��写されるべきパターンを有するモールドが� ��われる。前記モールド上のパターンは、例� ��ば、フォトリソグラフィや電子線描画法等� ��よって、所望する加工精度に応じてパター� ��が形成できるが、本発明では、モールドパ� ��ーン形成方法は特に制限されない。
 本発明において用いられる光透過性モール� ��材は、特に限定されないが、所定の強度、� ��久性を有するものであればよい。具体的に� ��、ガラス、石英、PMMA、ポリカーボネート樹 脂などの光透明性樹脂、透明金属蒸着膜、ポ リジメチルシロキサンなどの柔軟膜、光硬化 膜、金属膜等が例示される。

 本発明において光透過性の基材を用いた� ��合に使われる非光透過型モールド材として� ��、特に限定されないが、所定の強度を有す� ��ものであればよい。具体的には、セラミッ� ��材料、蒸着膜、磁性膜、反射膜、Ni、Cu、Cr� ��Feなどの金属基板、SiC、シリコーン、窒化� �リコーン、ポリシリコーン、酸化シリコー� �、アモルファスシリコーンなどの基板など� �例示され、特に制約されない。また、モー� �ドの形状も特に制約されるものではなく、� �状モールド、ロール状モールドのどちらで� �よい。ロール状モールドは、特に転写の連� �生産性が必要な場合に適用される。

 本発明のパターン形成方法で用いられる� ��ールドは、光ナノインプリント用硬化性組� ��物とモールド表面との剥離性を向上させる� ��めに離型処理を行ったものを用いてもよい� ��このようなモールドとしては、シリコーン� ��やフッソ系などのシランカップリング剤に� ��る処理を行ったもの、例えば、ダイキン工� ��(株)製のオプツールDSXや、住友スリーエム(� ��)製のNovec EGC-1720等、市販の離型剤も好適に 用いることができる。

 本発明の組成物を用いて光インプリント� ��ソグラフィを行う場合、本発明のパターン� ��成方法では、通常、モールド圧力を10気圧� �下で行うのが好ましい。モールド圧力を10気 圧以下とすることにより、モールドや基板が 変形しにくくパターン精度が向上する傾向に ある。また、加圧が低いため装置を縮小でき る傾向にある点からも好ましい。モールド圧 力は、モールド凸部の光ナノインプリント用 硬化性組成物の残膜が少なくなる範囲で、モ ールド転写の均一性が確保できる領域を選択 することが好ましい。

 本発明のパターン形成方法中、前記パター� ��形成層に光を照射する工程における光照射� ��照射量は、硬化に必要な照射量よりも十分� ��きければよい。硬化に必要な照射量は、光� ��ノインプリント用硬化性組成物の不飽和結� ��の消費量や硬化膜のタッキネスを調べて適� ��決定される。
 また、本発明に適用される光インプリント� ��ソグラフィにおいては、光照射の際の基板� ��度は、通常、室温で行われるが、反応性を� ��めるために加熱をしながら光照射してもよ� ��。光照射の前段階として、真空状態にして� ��くと、気泡混入防止、酸素混入による反応� ��低下の抑制、モールドと光ナノインプリン� ��用硬化性組成物との密着性向上に効果があ� ��ため、真空状態で光照射してもよい。また� ��本発明のパターン形成方法中、光照射時に� ��ける好ましい真空度は、10 ^-1 Paから常圧の範囲である。

 本発明のナノインプリント用硬化性組成� ��を硬化させるために用いられる光は特に限� ��されず、例えば、高エネルギー電離放射線� ��近紫外、遠紫外、可視、赤外等の領域の波� ��の光または放射線が挙げられる。高エネル� ��ー電離放射線源としては、例えば、コック� ��ロフト型加速器、ハンデグラーフ型加速器� ��リニヤーアクセレーター、ベータトロン、� ��イクロトロン等の加速器によって加速され� ��電子線が工業的に最も便利且つ経済的に使� ��されるが、その他に放射性同位元素や原子� ��等から放射されるγ線、X線、α線、中性子� �、陽子線等の放射線も使用できる。紫外線� �としては、例えば、紫外線螢光灯、低圧水� �灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン� �、炭素アーク灯、太陽灯等が挙げられる。� �射線には、例えばマイクロ波、EUVが含まれ� �。また、LED、半導体レーザー光、あるいは24 8nmのKrFエキシマレーザー光や193nmArFエキシマ� ��ーザーなどの半導体の微細加工で用いられ� ��いるレーザー光も本発明に好適に用いるこ� ��ができる。これらの光は、モノクロ光を用� ��てもよいし、複数の波長の異なる光(ミック ス光)でもよい。

 露光に際しては、露光照度を1mW/cm ² ~50mW/cm ² の範囲にすることが望ましい。1mW/cm ² 以上とすることにより、露光時間を短縮する ことができるため生産性が向上し、50mW/cm ² 以下とすることにより、副反応が生じること による永久膜の特性の劣化を抑止できる傾向 にあり好ましい。露光量は5mJ/cm ² ~1000mJ/cm ² の範囲にすることが望ましい。5mJ/cm ² 未満では、露光マージンが狭くなり、光硬化 が不十分となりモールドへの未反応物の付着 などの問題が発生しやすくなる。一方、1000mJ /cm ² を超えると組成物の分解による永久膜の劣化 の恐れが生じる。
 さらに、露光に際しては、酸素によるラジ� ��ル重合の阻害を防ぐため、チッソやアルゴ� ��などの不活性ガスを流して、酸素濃度を100m g/L未満に制御してもよい。

 本発明のパターン形成方法においては、� ��照射によりパターン形成層を硬化させた後� ��必要におうじて硬化させたパターンに熱を� ��えてさらに硬化させる工程を含んでいても� ��い。光照射後に本発明の組成物を加熱硬化� ��せる熱としては、150~280℃が好ましく、200~25 0℃がより好ましい。また、熱を付与する時� �としては、5~60分間が好ましく、15~45分間が� �らに好ましい。

 また、本発明のパターン形成方法によって� ��成されたパターンは、エッチングレジスト� ��しても有用である。本発明のナノインプリ� ��ト用組成物をエッチングレジストとして利� ��する場合には、まず、基材として例えばSiO ₂ 等の薄膜が形成されたシリコンウエハ等を用 い、基材上に本発明のパターン形成方法によ ってナノオーダーの微細なパターンを形成す る。その後、ウェットエッチングの場合には フッ化水素等、ドライエッチングの場合には CF ₄ 等のエッチングガスを用いてエッチングする ことにより、基材上に所望のパターンを形成 することができる。本発明のナノインプリン ト用硬化性組成物は、特にドライエッチング に対するエッチング耐性が良好である。

 上述のように本発明のパターン形成方法� ��よって形成されたパターンは、液晶ディス� ��レイ(LCD)などに用いられる永久膜(構造部材� ��のレジスト)やエッチングレジストとして使 用することができる。製造後にガロン瓶やコ ート瓶などの容器にボトリングし、輸送、保 管されるが、この場合に、劣化を防ぐ目的で 、容器内を不活性なチッソ、またはアルゴン などで置換しておいてもよい。また、輸送、 保管に際しては、常温でもよいが、より永久 膜の変質を防ぐため、-20℃から0℃の範囲に� �度制御してもよい。勿論、反応が進行しな� �レベルで遮光することが好ましい。