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Patent Searching and Data


Title:
CUTTING INSERT AND PRODUCTION METHOD
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2018/158221
Kind Code:
A1
Abstract:
The invention relates to a cutting insert (12) having a main body (21) made of a sintered hard metal. A top side of the main body is structured. The top side (22) has elevations at a mean spacing of 50 µm to 250 µm from one another. A height (30) of the elevations is in the range between 1/8 and 1/2 of the mean spacing (29) of the elevations. One or more intermediate layers (24), which have an adhesion promoting layer (25), have been applied to the top side (22) of the main body (21). The adhesion promoting layer (25) is made of a nitride of a transition metal of group IV, group V, and group VI, and contains a large number of platelets (34) oriented at an angle to the top side (22). A diamond layer that has been grown on the adhesion promoting layer (25) has stalk-like crystals oriented vertically relative to the top side (22).

Inventors:
SURBERG CORD-HENRIK (AT)
ROSIWAL STEFAN (DE)
HELMREICH THOMAS (DE)
Application Number:
PCT/EP2018/054753
Publication Date:
September 07, 2018
Filing Date:
February 27, 2018
Export Citation:
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Assignee:
HILTI AG (LI)
International Classes:
C23C16/02; C23C16/27
Foreign References:
US5391422A1995-02-21
US5776355A1998-07-07
Other References:
J BAREIB ET AL: "CVD diamond coating of steel on a CVD-TiBN interlayer", SURFACE AND COATINGS TECHNOLOGY, vol. 201, no. 3-4, 5 October 2006 (2006-10-05), pages 718 - 723, XP055004829, ISSN: 0257-8972, DOI: 10.1016/j.surfcoat.2005.12.035
HUANG H H ET AL: "Effect of NH"3 on the growth characterization of TiN films at low temperature", JOURNAL OF CRYSTAL GR, ELSEVIER, AMSTERDAM, NL, vol. 240, no. 3-4, 1 May 2002 (2002-05-01), pages 513 - 520, XP004351456, ISSN: 0022-0248, DOI: 10.1016/S0022-0248(02)01081-3
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Claims:
PATENTANSPRÜCHE

Herstellungsverfahren für eine Schneidplatte (12), insbesondere eine Schneidplatte (12) für eine Kernbohrkrone (2), mit den Schritten:

Formen eines Grundkörpers (21 ) der Schneidplatte (12) aus einem Hartmetall,

Strukturieren einer Oberseite (22) unter Ausbildung von Erhebungen (27), deren mittlerer Abstand (29) zwischen 50 μηη und 250 μηη beträgt und deren Höhe zwischen 12,5 % und 50 % des mittleren Abstands (29) beträgt,

Abscheiden von ein oder mehreren Zwischenschichten (24) einschließlich einer Haftvermittlungsschicht (25) auf der Oberseite (22) des Grundkörpers (21 ) mittels eines Gasabscheideverfahrens (CVD), wobei das Abscheiden der Haftvermittlungsschicht (25) aus Nitriden von Übergangsmetallen die Schritte umfasst: Abscheiden von Nitriden eines oder mehrerer Übergangsmetalle aus der Gruppe IV, Gruppe V und Gruppe VI des Periodensystems bei einer Temperatur zwischen 950°C und 1 100°C zum Ausbilden einer Vielzahl zu der Oberseite (22) geneigt orientierter Plättchen (34), welche aus den Nitriden der Übergangsmetalle bestehen und;

Aufwachsen einer Diamantschicht (23) auf der Haftvermittlungsschicht (25), welches die Schritte umfasst:

Bekeimen der Haftvermittlungsschicht (25) mit Diamantstaub und

Aufwachsen von Stängel-förmigen Diamanten aus der Gasphase auf der

Haftvermittlungsschicht (25).

Herstellungsverfahren nach Anspruch 1 , dadurch kennzeichnet, dass die strukturierte Oberseite (22) vor dem Abscheiden mit einem Partikelstrahlverfahren mit einem festen Strahlmittel bearbeitet wird, bis eine gemittelte Rautiefe Rz für eine Messstrecke mit einer Länge von 800 μηη wenigstens 5 μηη beträgt.

Herstellungsverfahren nach Anspruch 1 , dadurch kennzeichnet, dass der Grundkörper (21 ) vor dem Strukturieren gesintert wird.

Herstellungsverfahren nach Anspruch 1 , dadurch kennzeichnet, dass der Grundkörper (21 ) nach dem Strukturieren gesintert wird.

5. Herstellungsverfahren nach Anspruch 1 , dadurch kennzeichnet, dass das Abscheiden der Haftvermittlungsschicht (25) ein Abscheiden eines Borids und/oder Bornitrids der ein oder mehreren Übergangsmetalle beinhaltet.

6. Schneidplatte (12) mit

einem Grundkörper (21 ) aus einem gesinterten Hartmetall, einer strukturierten Oberseite (22) des Grundkörpers (21 ), die Erhebungen in einem mittleren Abstand (29) von 50 μηη bis 250 μηη und einer Höhe (30) zwischen 12,5 % und 50 % des mittleren Abstands (29) aufweist,

ein oder mehreren Zwischenschichten (24) auf einer Oberseite (22) des Grundkörpers (21 ), wobei die Zwischenschichten eine Haftvermittlungsschicht (25) aufweisen, welche aus einem Nitrid eines Übergangsmetalls der Gruppe IV, Gruppe V und Gruppe VI Gruppe besteht und eine Vielzahl zu der Oberseite (22) geneigt orientierter Plättchen (34) enthält,

einer auf der Haftvermittlungsschicht (25) aufgewachsenen Diamantschicht, wobei die Diamantschicht (23) aus zu der Oberseite (22) vertikal orientierten, Stängel-förmigen Kristallen besteht. 7. Schneidplatte (12) nach Anspruch 6, wobei die Diamantschicht (23) aus zu der Oberseite (22) vertikal orientierten, Stängel-förmigen Kristallen besteht, deren Aspektverhältnis größer fünf ist.

8. Schneidplatte (12) nach Anspruch 6, dadurch kennzeichnet, dass die Oberseite (22) des Grundkörpers (21 ) eine gemittelte Rautiefe Rz für eine Messstrecke mit einer Länge von

800 μηη wenigstens 5 μηη beträgt.

9. Schneidplatte (12) nach Anspruch 6 oder 8, dadurch kennzeichnet, dass die zu der Oberseite (22) vertikalen Kristallachsen der Stängel-förmigen Kristallen (35) identisch sind.

10. Schneidplatte (12) nach Anspruch 6 bis 9, dadurch kennzeichnet, dass die Höhe (36) der Diamantschicht (23) gleich der Höhe der Stängel-förmigen Kristalle ist. 1 1 . Schneidplatte (12) nach Anspruch 6 bis 10, dadurch kennzeichnet, dass die Stängel- förmigen Kristalle einen homogenen Durchmesser aufweisen.

12. Schneidplatte (12) nach Anspruch 6 bis 1 1 , dadurch kennzeichnet, dass benachbarte Stängel-förmigen Kristalle über eine Korngrenze aneinander angrenzen.

13. Schneidplatte (12) nach Anspruch 6 bis 12, dadurch kennzeichnet, dass wenigstens ein an die Oberseite (22) angrenzender Abschnitt einer Mantelfläche (20) des Grundkörpers (21 ) gleich der Oberseite (22) strukturiert, ein oder mehrere der Zwischenschichten aufweist und mit der Diamantschicht (23) versehen ist.

Description:
Schneidplatte und Herstellungsverfahren

GEBIET DER ERFINDUNG

Die vorliegende Erfindung betrifft Schneidplatten zum spanendenden Bearbeiten von mineralischen Baustoffen, insbesondere von stahlarmierten Beton. Ferner betrifft die Erfindung ein Herstellungsverfahren für eine solche Schneidplatte. OFFENBARUNG DER ERFINDUNG

Die erfindungsgemäße Schneidplatte hat einen Grundkörper aus einem gesinterten Hartmetall. Die Oberseite des Grundkörpers ist strukturiert. Die Oberseite weist in einem mittleren Abstand von 50 μηη bis 250 μηη zueinander Erhebung auf. Eine Höhe der Erhebungen liegt im Bereich zwischen 1/8 und 1/2 des Abstands der Erhebungen. Die Erhebungen sind vorzugsweise gleich und vorzugsweise einem regelmäßigen geometrischen Muster folgend angeordnet. Auf der Oberseite des Grundkörpers sind ein oder mehrere Zwischenschichten, welche eine Haftvermittlungsschicht aufweisen. Die Haftvermittlungsschicht ist aus einem borhaltigen Nitrid eines Übergangsmetalls der Gruppe IV, Gruppe V und Gruppe VI und enthält eine Vielzahl zu der Oberseite geneigt orientierter, lenticularer Plättchen. Eine auf der Haftvermittlungsschicht aufgewachsene Diamantschicht hat zu der Oberseite vertikal orientierte, Stängel-förmige Kristalle, deren Aspektverhältnis vorzugsweise größer drei, beispielsweise größer fünf ist. Eine Höhe der Stängel erreicht vorzugsweise bis zu 100 μηη.

Die makroskopische Strukturierung der Oberseite erhöht die Haftfestigkeit der Diamantschicht.

Eine Ausgestaltung sieht vor, dass die Oberseite des Grundkörpers sehr rau auf einer Skala von 1 mm ist. Eine gemittelte Rautiefe Rz nach DIN ISO 4287 definiert für eine Messstrecke mit einer Länge von 800 μηη beträgt wenigstens 5 μηη, vorzugsweise höchstens 12 μηη.

Ausgestaltungen der Erfindung sehen vor, dass die Stängel-förmigen Kristalle zueinander parallel sein können, eine Höhe der Stängel-förmigen Kristalle gleich einer Höhe der Diamantschicht sein kann, die Stängel-förmigen Kristalle über Korngrenzen aneinander angrenzen können, die Stängel-förmigen Kristalle etwa den gleichen Durchmesser aufweisen.

Ein erfindungsgemäßes Herstellungsverfahren für eine Schneidplatte, insbesondere eine Schneidplatte für eine Kernbohrkrone sieht folgende Schritte vor. Ein Grundkörper wird aus einem Hartmetall geformt. Eine Oberseite wird unter Ausbildung von Erhebungen strukturiert. Der mittlere Abstand der Erhebungen liegt zwischen 50 μηη und 250 μηη und deren Höhe liegt zwischen 12,5 % und 50 % des mittleren Abstands. Der Grundkörper kann vor dem Strukturieren oder nach dem Strukturieren gesintert werden. Ein oder mehreren Zwischenschichten einschließlich einer Haftvermittlungsschicht werden auf die strukturierte Oberseite des Grundkörpers mittels eines Gasabscheideverfahrens (CVD) abgeschieden. Das Abscheiden der Haftvermittlungsschicht aus bohrhaltigen Nitriden von Übergangsmetallen umfasst die Teilschritte: Abscheiden von Nitriden eines oder mehrerer Übergangsmetalle aus der Gruppe IV, Gruppe V und Gruppe VI des Periodensystems bei einer Temperatur zwischen 950°C und 1 100°C zum Ausbilden einer Vielzahl zu der Oberseite geneigt orientierter Plättchen. Ein Aufwachsen der Diamantschicht auf der Haftvermittlungsschicht umfasst die Teilschritte: Bekeimen der Haftvermittlungsschicht mit Diamantstaub und Aufwachsen von Stängel-förmigen Diamanten aus der Gasphase auf der Haftvermittlungsschicht.

Die makroskopische Strukturierung der Oberseite erhöht die Stabilität der Diamantschicht.

Die Oberseite des Grundkörpers kann vor dem Aufbringen der Zwischenschichten aufgeraut werden, bis sich eine hohe Rauheit einstellt. Eine gemittelte Rautiefe Rz definiert für eine Messstrecke mit einer Länge von 800 μηη beträgt wenigstens 5 μηη, vorzugsweise höchstens 12 μπι.

Die Schneidplatte hat die Oberseite, eine der Oberseite im Wesentlichen gegenüberliegende parallele Rückseite, und eine zu der Oberseite und Rückseite geneigte umlaufende Mantelfläche. Die Mantelfläche kann in gleicherweise wie die Oberseite strukturiert und beschichtet sein.

KURZE BESCHREIBUNG DER FIGUREN Die nachfolgende Beschreibung erläutert die Erfindung anhand von exemplarischen Ausführungsformen und Figuren. In den Figuren zeigen: Fig. 1 eine ständergeführte Kernbohrmaschine

Fig. 2 eine Teilansicht einer Kernbohrkrone

Fig. 3 einen schematischen Querschnitt durch eine Schneidplatte der Kernbohrkrone

Fig. 4 eine schematische Oberseite eines Grundkörpers,

Fig. 5 eine lichtmikroskopische Abbildung der Oberseite des Grundkörpers,

Fig. 6 eine Abbildung der Oberseite mit einer Haftvermittlungsschicht,

Fig. 7 eine Abbildung der Oberseite mit einer Haftvermittlungsschicht,

Fig. 8 eine Abbildung der Oberseite mit einer dünnstängeligen Diamantschicht,

Fig. 9 einen Querschliff durch eine Schneidplatte

Fig. 10 eine Schneidplatte mit strukturierter Grundplatte

Fig. 1 1 eine Schneidplatte ohne strukturierter Grundplatte

Gleiche oder funktionsgleiche Elemente werden durch gleiche Bezugszeichen in den Figuren indiziert, soweit nicht anders angegeben.

AUSFÜHRUNGSFORMEN DER ERFINDUNG

Fig. 1 zeigt beispielhaft eine ständergeführte Kernbohrmaschine 1 mit einer Kernbohrkrone 2. Die Kernbohrmaschine 1 hat eine Antriebseinheit 3 mit einem Motor 4. Die Antriebseinheit 3 kann neben dem Motor 4 unter Anderem ein Getriebe und eine Sicherheitskupplung enthalten. Der Anwender kann den Motor 4 durch einen Betriebsschalter einschalten und ausschalten. Die Antriebseinheit 3 dreht einen Werkzeughalter 5 um eine Arbeitsachse 6. Die Kernbohrkrone 2 kann, koaxial zu der Arbeitsachse 6 ausgerichtet, in den Werkzeughalter 5 eingehängt und verriegelt werden. Der Werkzeughalter 5 überträgt das Drehmoment der Antriebseinheit 3 auf die Kernbohrkrone 2, welche sich somit um die Arbeitsachse 6 in einer Umlaufrichtung 7 dreht. Die Antriebseinheit 3 ist an einem Schlitten 8 aufgehängt, der parallel zu der Arbeitsachse 6 entlang einer Ständers 9 verfahrbar ist. Beispielsweise kann der Anwender mittels einer Kurbel den Schlitten 8 verschieben, alternativ kann ein Motor mit geeigneter Steuerung den Schlitten 8 bewegen. Die schneidende Stirnfläche 10 der Kernbohrkrone 2 wird mit einem konstanten Anpressdruck an einen zu bearbeitenden Untergrund 11 angepresst. Die Kernbohrkrone 2 hat mehrere in die Stirnfläche 10 eingesetzte Schneidplatten 12, die einen kreisförmigen Schlitz in den Untergrund 11 schneiden. Die Schneidplatten 12 sind für die Bearbeitung von mineralischen Bauwerkstoffen, insbesondere für stahlarmierten Beton, ausgelegt.

Fig. 2 zeigt eine beispielhafte Stirnfläche 10 der Kernbohrkrone 2. Die Kernbohrkrone 2 hat ein zylindrisches Rohr 13, das in der ringförmigen Stirnfläche 10 endet. Der Durchmesser des Rohrs 13 und der Stirnfläche 10 variiert nach Anwendungsgebiet. Typische Durchmesser liegen im Bereich von 5 cm bis 1 m. Die Wandstärke 14 des Rohrs 13 ist typischerweise zwischen 1 mm und 8 mm. Die Stirnfläche 10 ist durch mehrere in Umlaufrichtung 7 angeordneten Aussparungen 15 unterbrochen. Die Aussparungen 15 haben in Umlaufrichtung 7 aufeinanderfolgend eine von der Stirnfläche 10 abfallende, steile Flanke 16 und eine zu der Stirnfläche 10 hin ansteigende, flache Flanke 17. Die steile Flanke 16 ist beispielsweise parallel oder um weniger als 10 Gad zu der Arbeitsachse 6 geneigt. Die flache Flanke 17 verläuft mit einer mittleren Steigung von weniger als 45 Grad, z.B. von mehr als 30 Grad, und vorzugsweise wenigstens 10 Grad von der steilen Flanke 16 bis zu der Stirnfläche 10.

Die Schneidplatte 12 ist in die Aussparung 15 eingesetzt. Die Schneidfläche 18 der Schneidplatte 12 weist in die Umlaufrichtung 7, vorzugsweise ist die Schneidfläche 18 senkrecht zu der Umlaufrichtung 7 orientiert. Die Schneidplatte 12 hat einen weitgehend prismatischen Aufbau, d.h. eine Rückseite 19 der Schneidplatte 12 hat die gleiche oder eine geringfügig kleinere Fläche wie die Schneidfläche 18. Die umlaufende Mantelfläche 20 der Schneidplatte 12 ist senkrecht oder näherungsweise senkrecht zu der Schneidfläche 18. Die Mantelfläche 20 der beispielhaften Schneidplatte 12 ist um wenigstens 75 Grad, vorzugsweise wenigstens 80 Grad, beispielsweise höchstens 85 Grad, gegenüber der Schneidfläche 18 geneigt.

Die Rückseite 19 der Schneidplatte 12 liegt flächig an der steilen Flanke 16 der Aussparung 15 an. Die Schneidplatte 12 liegt vorzugsweise mit wenigstens 75 % ihrer Rückseite an dem Rohr 13 an, um die Schneidplatte 12 bei einwirkenden Stöße während des Bearbeitens von Bauwerkstoffen, insbesondere beim plötzlichen Eingreifen in Armierungseisen, abzustützen. Die Rückseite 19 kann mit dem Rohr 13 verlötet oder verschweißt sein. Die in Umlaufrichtung 7 weisende Schneidfläche 18 liegt weitgehend frei. Die flache Flanke 16 und die Schneidfläche 18 begrenzen einen Volumen, das gegenüber der Stirnfläche 10 zurückgesetzt ist. Die Schneidplatte 12 steht längs der Arbeitsachse 6 über die Stirnfläche 10 hinaus. Der axiale Überstand liegt im Bereich von 0,1 mm bis 1 mm. Eine Breite der Schneidplatte 12 kann größer als die Wandstärke 14 des Rohrs 13 sein, wodurch die Schneidplatte 12 in radialer Richtung, vorzugsweise nach innen zu der Arbeitsachse 6 und nach außen von der Arbeitsachse 6 weg, übersteht. Der radiale Überstand liegt vorzugsweise im Bereich zwischen 0,1 mm und 0,5 mm. Die Schneidplatte 12 hat einen Grundkörper 21 und auf einer Oberseite 22 des Grundkörpers 21 eine Diamantschicht 23, welche die Schneidfläche 18 bildet (Fig. 3). Ein oder mehrere Zwischenschichten 24, beispielhaft drei Zwischenschichten 24, sind zwischen dem Grundkörper 21 und der Diamantschicht 23 angeordnet. Die Zwischenschichten 24 ermöglichen prozesstechnisch die Diamantschicht 23 abzuscheiden und auch eine robuste, insbesondere eine stoßfeste Anbindung der Diamantschicht 23 an den Grundkörper 21. Dies gilt insbesondere für die an die Diamantschicht 23 angrenzende Zwischenschicht, welche nachfolgend als Haftvermittlungsschicht 25 bezeichnet wird. Die Zwischenschichten 24, einschließlich der Haftvermittlungsschicht 25, und die Diamantschicht 23 sind nacheinander in einer Wachstumsrichtung 26 auf den Grundkörper 21 abgeschieden. Die Schneidplatte 12 wird vorzugsweise derart in das Werkzeug eingesetzt, dass deren Arbeitsrichtung, hier die Umlaufrichtung 7, parallel zu der Wachstumsrichtung 26 ist.

Der beispielhafte Grundkörper 21 bildet den größten Teil der Schneidplatte 12 und legt die Form und Abmessungen der Schneidplatte 12 fest, insbesondere der Rückseite 19 und der Mantelfläche 20. Der Grundkörper 21 gibt der Schneidplatte 12 die notwendige mechanische Stabilität, insbesondere schützt der Grundkörper 21 die Diamantschicht 23 vor Biege- und Scherkräften beim Bearbeiten von mineralischen Bauwerkstoffen. Zudem ist der Grundkörper 21 ausreichend hart, um ein Durchbiegen der Diamantschicht 23 beim Bearbeiten von mineralischen Bauwerkstoffen zu verhindern.

Der Grundkörper 21 besteht weitgehend aus einem gesinterten Hartmetall. Ein bevorzugtes Hartmetall beinhaltet Körner aus Wolframkarbid, welche in einer metallischen Matrix eingebettet sind. Der Volumenanteil der Körner ist größer als 70 Gewichtsprozent (Gew.-%), vorzugsweise größer oder gleich 80 Gew.-%, und geringer als 95 Gew.-%. Die metallische Matrix besteht beispielsweise aus Kobalt oder einer Kobaltbasierten Legierung. Die Körner des Hartmetalls können neben oder anstelle von Wolframkarbid aus anderen Karbiden und/oder Karbonitriden von Übergangsmetallen der Gruppe IV, Gruppe V und der Gruppe VI des chemischen Periodensystems bestehen. Insbesondere können dem Wolframkarbid Körner aus Titannitrid, Titankarbonitrid, Tantalkarbid beigemengt sein, die sich durch ihre hohe Härte auszeichnen.

Der Volumenanteil der metallischen Matrix ist nahe der Oberseite 22 nicht reduziert. Insbesondere ist die Kobalt-haltige Legierung nicht durch ätzende Verfahren herausgelöst, wodurch die Oberseite 22 porös würde. Das Hartmetall ist an der Oberseite 22 gleichermaßen verdichtet, wie innerhalb des Grundkörpers 21. Der Volumenanteil der metallischen Matrix ist vorzugsweise in der Wachstumsrichtung 26 konstant. Die Oberseite 22 des Grundkörpers 21 ist mit einem Muster strukturiert (Fig. 4). Das Muster besteht aus Erhebungen 27 und zwischen den Erhebungen 27 verlaufenden Gräben 28. Die Gräben 28 können nach dem Sintern in die Oberseite 22 gefräst, geschliffen oder spanend eingebracht werden. Die Oberseite 22 kann auch per Ablation oder anderen geeignete Verfahren durch einen Laser bearbeitet werden. Alternativ kann die Oberseite 22 vor dem Sintern strukturiert werden. Die Oberseite 22 kann nach dem Verpressen des Grünlings gefräst, geschliffen, oder sonstig spanend bearbeitet werden, gleichfalls können die Gräben per Laser eingebracht werden. Ferner kann die Oberseite 22 mittels eines Stempels beim Verpressen mit den gewünschten Erhebungen 27 versehen werden.

Die schematisch dargestellte Oberseite 22 zeigt inselförmige Erhebungen 27. Jede der Erhebungen 27 ist von den sich kreuzenden Gräben 28 umschlossen. Eine Gruppe der Gräben 28 verläuft im Wesentlichen senkrecht zu der anderen Gruppe von Gräben 28. Die Gräben können wie dargestellt im Wesentlichen parallel zueinander verlaufen. Alternativ verlaufen die Gräben parallel oder senkrecht zu Rand der Oberseite 22. Die beispielhaften Gräben 28 sind wellenförmig ausgebildet. Die Erhebungen 27 haben entsprechend geschwungene Ränder. In anderen Ausführungen sind die Gräben geradlinig, die Erhebungen 27 können eine quadratische, rechteck-förmige, dreieck-förmige, etc. Grundfläche aufweisen. Die Erhebungen 27 haben jeweils etwa ähnliche Abmessungen in den zueinander vertikalen Richtungen entlang der Oberseite 22. Ein Verhältnis der Abmessungen liegt vorzugsweise im Bereich zwischen 1 :1 und 1 :3. In einer Ausgestaltung sind die alle Gräben zueinander parallel. Die Erhebungen sind entsprechend länglich. Die gemäß dem Muster angeordneten Erhebungen 27 haben einen Abstand 29 zu ihren benachbarten Erhebungen 27. Der Abstand 29 ist auf die jeweiligen Schwerpunkte der Erhebungen 27 bezogen. Ein mittlerer Abstand 29 liegt im Bereich zwischen 50 μηη und 250 μηη. Der Abstand 29 ist für alle Erhebungen 27 vorzugsweise etwa gleich. Insbesondere können die Erhebungen 27 innerhalb von Abschnitten der Oberseite 22 auf einem regelmäßigen Raster angeordnet sein. Die Abstände 29 können beispielsweise äquidistant längs einer Richtung und ebenfalls äquidistant in der dazu senkrechten Richtung angeordnet sein. Ferner können die Abstände längs einer Richtung äquidistant sein und in konstanten Winkel bezogen auf ein Zentrum angeordnet sein, insbesondere entlang von gekrümmten Rändern der Oberseite 22.

Die Erhebungen 27 sind im Wesentlichen gleich hoch. Die Höhe der Erhebungen 27 ist geringer als deren mittlerer Abstand 29, vorzugsweise ist die Höhe geringer als die Hälfte des mittleren Abstands 29 und vorzugsweise ist die Höhe 30 größer als ein Achtel des mittleren Abstands 29.

Die Oberseite 22 mit den Erhebungen 27 ist vorzugsweise aufgeraut (Fig. 5). Die Rauheit kann durch den arithmetischen Mittenrauwert Ra und die gemittelte Rautiefe Rz angegeben werden. Die Rauheit des Grundkörpers 21 wird über eine Messstrecke bestimmt, deren Länge auf 800 μηη festgelegt ist. Bei dem arithmetischen Mittenrauwert Ra wird das arithmetische Mittel der betragsmäßigen Abweichung der punktuellen Höhe der Oberseite 22 innerhalb der Messstrecke von einer mittleren Höhe auf der Messstrecke ermittelt. Das Höhenprofil der Erhebungen 27 gegenüber den Gräben 28 wird dabei ausgeblendet. Dies kann beispielsweise numerisch durch einen entsprechenden Hochpassfilter oder durch Ausblenden von Messpunkten in den Gräben 28 erfolgen. Der arithmetische Mittenrauwert Ra der Oberseite 22 ist größer als 0,7 μηη, vorzugsweise größer 1 ,0 μηη, und geringer als 2,3 μηη, vorzugsweise geringer als 1 ,9 μηη. Die gemittelte Rautiefe Rz ist das arithmetische Mittel der Differenz der Höhe der größten Profilspitzen und der Tiefe des größten Profiltals innerhalb von fünf der Messstrecken. Die Oberseite 22 ist vorzugsweise sehr schroff, daher ergibt sich eine deutlich höhere gemittelte Rautiefe Rz gegenüber dem arithmetischen Mittenrauwert Ra. Die gemittelte Rautiefe Rz liegt im Bereich zwischen 5 μηη und 13 μη"ΐ, vorzugsweise größer als 6 μηη, vorzugsweise geringer als 9 μηη. Die Rauheit kann durch ein geeignetes Partikelstrahlverfahren, d.h. Druckluftstrahlen mit einem körnigen Abrasivmittel, der Erhebungen 27 der Oberseite 22 eingestellt werden. Das Partikelstrahlverfahren wird vorzugsweise auf den gesinterten Grundkörper 21 angewandt. Das Partikelstrahlverfahren wird solange angewandt, bis die gewünschte Rauheit erreicht ist und dann beendet. Die Oberfläche der Erhebungen 27 und auch der Gräben 28 wird aufgeraut, jedoch ohne einen wesentlichen Abtrag des Volumens der Erhebungen 27 zu erwirken.

Eine dünne Barriereschicht 31 kann unmittelbar auf dem Hartmetall an der Oberseite 22 des Grundkörpers 21 aufgewachsen sein. Die Barriereschicht 31 hat eine Stärke zwischen 0,1 μηη und 2,0 μηη und deckt die Oberseite 22 vollständig ab. Die Barriereschicht 31 soll eine Diffusionsbarriere für Kohlenstoff darstellen, um ein Austreten des Kohlenstoffs aus dem Hartmetall zu unterbinden. Die Barriereschicht 31 soll gut an dem Hartmetall haften und die gesamte Härte des Bauteils möglichst wenig reduzieren. Als besonders geeignet erweist sich hierfür Titannitrid, welches bereits bei einer geringen Schichtdicke von 0,3 μηη eine ausreichend Diffusionsbarriere ausbildet. Zudem haftet Titannitrid gut auf Wolframkarbid- basierten Hartmetallen. Eine Kohlenstoff-haltige Promotionsschicht 32 kann auf der Barriereschicht 31 aus der Gasphase aufgewachsen. Die Promotionsschicht 32 ist beispielsweise zwischen 0,5 μηη und 3 μηη stark. Die bevorzugte Promotionsschicht 32 besteht aus einem Karbid und/oder Karbonitrid des Übergangsmetalls der Barriereschicht 31 , z.B. Titankarbid bzw. Titankarbonitrid. Anstelle oder zusätzlich zu dem Übergangsmetall der Barriereschicht 31 können die Karbide und/oder Karbonitride von Übergangsmetallen der Gruppe IV, Gruppe V und Gruppe VI abgeschieden werden.

Die Zwischenschichten 24 enthalten eine Haftvermittlungsschicht 25, welche das Aufwachsen der Diamanten in gewünschter Weise ermöglicht. Die Haftvermittlungsschicht 25 hat eine hohe Mikrorauheit an ihrer der Diamantschicht 23 zugewandten Kontaktseite 33. Die Rauheit ergibt sich durch eine Struktur von im Wesentlichen vertikal zu der Oberseite 22 orientierten, dünnen Plättchen 34. Die Plättchen 34 bestehen weitgehend aus einem oder mehreren Nitriden der Übergangsmetalle der Gruppe IV, Gruppe V und Gruppe VI. Das Übergangsmetall ist vorzugsweise Titan, insbesondere wenn die vorhergehenden Zwischenschichten 24 Titan-basiert sind. Die Plättchen 34 enthalten vorzugsweise keinen Kohlenstoff und kein Karbid. Das molare Verhältnis von Kohlenstoff zu Stickstoff kann in den Plättchen 34 deutlich geringer als eins zu zwanzig sein und können auf Verunreinigungen in der Reaktionskammer oder Diffusionsprozesse aus der Diamantabscheidung zurückzuführen sein. Die schmalen Seiten oder Kanten der Plättchen 34, welche zu der Diamantschicht 23 weisen, enthalten vorzugsweise Bor. Das Bor kann als Borid des Übergangsmetalls, Bornitrid des Übergangsmetalls und/oder atomares Bor an Gitterfehlstellen vorliegen. Vorzugsweise ist nur eine dünne Grenzschicht der Plättchen 34, z.B. von weniger als 100 nm Stärke, borhaltig. Die Haftvermittlungsschicht 25 bindet die Diamantschicht 23 chemisch und mechanisch an das gesinterte Hartmetall des Grundkörpers 21 an.

Die Plättchen 34 bilden eine lenticulare Struktur mit sehr steilen Hängen. Die Plättchen 34 haben jeweils zwei gegenüberliegende weitgehend identischen Seitenflächen, die parallel oder leicht zueinander geneigt sind. Die Seitenflächen sind vertikal oder geneigt zu der mittleren Oberseite 22 des Grundkörpers 21 orientiert. Die Neigung der Seitenflächen ist größer als 60 Grad, vorzugsweise größer als 80 Grad. Eine Dicke des Plättchens ist durch den Abstand der Seitenflächen vorgegeben. Die Dicke ist deutlich geringer als die Länge und Höhe der Seitenflächen bzw. des Plättchens 34, vorzugsweise ist die Höhe wenigstens doppelt, z.B. zehnfach, so groß wie die Breite. Die Länge der Plättchen 34 kann gleich oder größer als die Höhe sein. Die Plättchen 34 sind im Mittel zwischen 1 μηη und 5 μηη lang, 0,5 μηη und 2 μηη hoch und deutlich unter 0,7 μηη breit. Fig. 6 zeigt eine Draufsicht auf die Haftvermittlungsschicht 25 mit den Plättchen 34. Fig. 7 zeigt einen Ausschnitt in vergrößerter Darstellung von Fig. 6. Die Plättchen 34 haben schmale freiliegende Kanten, die in Wachstumsrichtung 26, d.h. zu der Diamantschicht 23 hin, weisen. Die Plättchen 34 bedecken weitgehend die gesamte Kontaktseite 33, vorzugsweise wenigstens 75 % derer Oberfläche. Die Kanten der Plättchen 34 bilden eine erhabene netzförmige Struktur. Die Plättchen 34 sind ohne erkennbare Regelmäßigkeit in unterschiedliche Richtungen in der Ebene der Haftvermittlungsschicht 25 orientiert. Die Plättchen 34 können unter verschiedenen Winkel aneinandergrenzen, die Winkel können beispielsweise im Bereich zwischen 20 Grad und 90 Grad liegen. Die Diamantschicht 23 ist auf der Haftvermittlungsschicht 25, insbesondere den Plättchen 34 abgeschieden. Die vorzugsweise borhaltigen Kanten der Plättchen 34 begünstigen die chemische Anbindung von Diamant auf der Haftvermittlungsschicht 25. Die frei orientierten Plättchen 34 erhöhen die Haftfestigkeit zwischen der Diamantschicht 23 und dem Grundkörper 21.

Die Diamantschicht 23 besteht aus zu mehr als 90% aus vielen einzelnen stabförmigen Kristallen, nachfolgend als Stängel 35 bezeichnet, welche sich durch Auswachsen der Nanodiamant-Keime bildet. Die erste Nanodiamantkeimschicht ist fest mit der Haftvermittlungsschicht 25 chemisch und mechanisch verankert. Die Stängel 35 sind vertikal zu der Kontaktseite 33 der Haftvermittlungsschicht 25, d.h. der Oberseite 22, orientiert. Die Stängel 35 grenzen aneinander an. Benachbarte Stängel sind durch zwischen ihnen ausgebildete Korngrenzflächen getrennt. Die Stängel 35 erstrecken sich in der Regel von der Nanodiamantkeimschicht bis zu der Schneidfläche 18, d.h. eine Höhe der Stängel 35 ist gleich der Höhe 36 der Diamantschicht 23. Die Diamantschicht 23 erweist sich als äußert belastbar in Hinblick auf Stöße. Die Diamantschicht 23 aus den Stängeln erweist sich als mechanisch stabil und robust gegenüber statischen und dynamischen Belastungen aus unterschiedlichen Richtungen und Schlägen. Die Diamantschicht 23 weist trotz der Stängelform eine sehr hohe Härte auf, welche für das Bearbeiten von harten mineralischen Werkstoffen notwendig ist.

Die Stängel 35 sind vorzugsweise sehr dünn. Das Aspektverhältnis der Stängel, d.h. das Verhältnis der Höhe zu dem Durchmesser ist größer drei, vorzugsweise größer fünf. Die dünnen Stängel erweisen sich als robuster gegenüber Schlagbelastungen. Der Durchmesser wird in einer Ebene parallel zu der Oberseite 22 und die Höhe senkrecht zu der Oberseite 22 bestimmt. Die dünnen Stängel 35 haben vorzugsweise eine Höhe von mehr als 10 μηη, beispielsweise mehr als 20 μηη, mehr als 40 μηη. Eine Höhe 36 von bis zu 100 μηη kann realisiert werden. Die Stängel 35 erstrecken sich über die gesamte Höhe 36 der Diamantschicht 23. Der Durchmesser der Stängel liegt unter 10 μηη, bevorzugt ist jedoch ein deutlich geringerer Durchmesser von unter 2 μηη, weniger als 100 nm, und wenigstens 10nm. Die Stabilität der Stängel ergibt sich durch das Abstützen an benachbarten Stängel und der chemischen Bindung.

Die Stängel 35 der Diamantschicht 23 sind in ihren Abmessungen und der Kristallorientierung längs Wachstumsrichtung 26 über die gesamte Diamantschicht 23 homogen (Fig. 9). Beispielsweise weicht der Durchmesser von etwa 80 % der Stängel 35 um weniger als 50 % von dem mittleren Durchmesser der Stängel 35 ab. Die Stängel 35 haben ein dem Diamant entsprechendes kubisches Kristallgitter. Eine Kristallachse der Stängel 35 ist längs der Höhe 36 der Stängel 35 orientiert. Diese vertikale Kristallachse kann beispielsweise die [1 10]-Kristallachse oder die [1 1 1 ]-Kristallachse sein. Die Stängel 35 der Diamantschicht 23 haben weitgehend alle die gleiche vertikale Kristallachse. Die Kristallorientierung der Stängel 35 sind somit längs der Wachstumsrichtung 26 oder Höhe der Stängel 35 zueinander parallel.

Die Abscheidung (CVD-Verfahren) der Schichten erfolgt vorzugsweise in einem Reaktor. Die Haftvermittlungsschicht 25 aus Plättchen 34 kann auf eine Abfolge von zwei Zwischenschichten 24 aufgebracht werden. Auf den Grundkörper 21 wird zunächst eine Barriereschicht 31 und auf die Barriereschicht 31 eine kohlenstoffreiche Schicht aufgebracht, bevor die kohlenstofffreie Haftvermittlungsschicht 25 aufgebracht wird. Die beispielhaften Zwischenschichten 24 enthalten Titan als Basis für die Nitride und Karbide, insbesondere für die kohlenstoffhaltige Promotionsschicht 32 kann die Schicht neben Titan auch Tantal, Vanadium oder Chrom enthalten.

Die Barriereschicht 31 wird aus einer Gasphase mit Titan(IV)-chlorid (TiCI4), Stickstoff (N2) und Wasserstoff (H2) abgeschieden. Titan(IV)-chlorid hat einen Anteil von 1 Vol.-% bis 4 Vol.-%, Stickstoff und Wasserstoff sind etwa in gleichen Anteilen vorhanden. Die Abscheidung findet vorzugsweise bei einer vergleichsweise niederen Temperatur im Bereich von 750°C bis 850°C, z.B. bei 800°C statt. Der Druck in der Reaktionskammer liegt zwischen 550 mbar und 650 mbar, z.B. 600 mbar. Die Barriereschicht 31 wächst kontinuierlich als glatte Schicht auf. Die Abscheidung wird fortgesetzt, bis eine 0,1 μηη und 0,5 μηη dicke Barriereschicht 31 erreicht ist. Bei den genannten Wachstumsbedingungen dauert dies zwischen 60 und 90 Minuten.

Die Zusammensetzung der Gasphase wird für die Promotionsschicht 32 verändert. Die Gasphase enthält nun Titan(IV)-chlorid, Methan (CH4) und Wasserstoff (H2). Methan hat einen Anteil zwischen 5 Vol.-% und 10 Vol.-%, z.B. 7,5 Vol.-%. Titan(IV)-chlorid hat einen Anteil zwischen 2 Vol.-% und 8 Vol.-%., z.B. 4,5 Vol.-%. Das Verhältnis von Methan zu Titan(IV)-chlorid liegt näherungsweise bei 10 zu 6. Wasserstoff wird in großem Überschuss angeboten. Der Druck in der Reaktionskammer wird auf einen Bereich zwischen 70 mbar und 90 mbar, z.B. 80 mbar, abgesenkt. Die Temperatur wird vorzugsweise auf 950°C bis 1050°C, z.B. 1000°C angehoben. Die Abscheidung wird solange fortgesetzt, bis eine zwischen 1 μηη und 2 μηη dicke Promotionsschicht 32 abgeschieden ist. Bei den genannten Wachstumsparametern sind hierfür 10 min bis 20 min zu veranschlagen. Die Haftvermittlungsschicht 25 wird anfänglich mit einer Niederdruckabscheidung auf die Promotionsschicht 32 begonnen. Die Gasphase enthält Titan(IV)-chlorid (TiCI4), Stickstoff (N2) und Wasserstoff (H2). Die Atmosphäre ist insbesondere frei von kohlenstoffhaltigen Gasen. Titan(IV)-chlorid hat einen Volumenanteil zwischen 0,5 Vol. -% und 4 Vol.-%, vorzugsweise einen Anteil zwischen 1 ,0 Vol.-% und 1 ,5 Vol.-%. Wasserstoff hat beispielsweise einen Volumenanteil zwischen 50 Vol.-% und 90 Vol.-%, Stickstoff hat beispielsweise einen Volumenanteil zwischen 15 Vol.-% und 40 Vol.-%. Stickstoff wird in der Gasphase in großem Überschuss zu dem Titan(IV)-chlorid angeboten. In einem Beispiel sind die relativen Anteile: 240 Volumeneinheiten Wasserstoff, 50 Volumeneinheiten Stickstoff und 4 Volumeneinheiten Titan(IV)-chlorid. Der Druck in der Reaktionskammer liegt bei 550 mbar bis 650 mbar, z.B. 600 mbar. Die Temperatur wird auf hohen Niveau zwischen 950°C und 1050°C, z.B. 1000°C, gehalten. Die Abscheidung erfolgt für etwa 60 Minuten bis 120 Minuten, um eine zwischen 2 μηη und 3 μηη dicke Titannitridschicht zu erhalten. Die Plättchen 34 haben eine Höhe von 1 μηη bis 2 μηη. Die optionale Borierung der Plättchen 34 erfolgt mit einer geänderten Zusammensetzung der Atmosphäre, indem zu Titan(IV)-chlorid (TiCI4), Stickstoff (N2) und Wasserstoff (H2) noch Bortrichlorid (BCI3) eingeleitet wird. Das Borchlorid hat einen Anteil von 0,1 % und 0,4 %, die Gasanteile von TiCI4, N2 und H2 bleiben gegenüber der vorhergehenden Abscheidung der Plättchen 34 unverändert. Ebenso bleibt die Temperatur auf dem angehobenen Niveau. Der Druck wird auf 550 mbar bis 650 mbar, z.B. 600 mbar, erhöht. Die Plättchen 34 aus Titannitrid wachsen weiter. An den Kanten der Plättchen 34 scheidet sich Kristalle aus Titanborverbindungen ab, hingegen im Wesentlich nicht auf den Seitenflächen der Plättchen 34. Die Seitenflächen bleiben somit aus reinem Titannitrid. Die Abscheidung wird nach 10 Minuten beendet. Die Schichtdicke der Titanboridverbindungen liegt im Bereich zwischen 10 nm und 200 nm. Die Diamantschicht 23 wird auf die Plättchen 34 oder borierten Plättchen 34 abgeschieden. Die Haftvermittlungsschicht 25 wird mit Nanodiamantpulver bekeimt. Das Wachstum der stabförmigen Diamantkristalle erfolgt aus der Gasphase (CVD-Verfahren). Die Atmosphäre enthält Methan (CH4) und Wasserstoff (H2). Der Metangehalt liegt mit 2,5 Vol.-% bis 4,0 Vol.-%, z.B. 2,9 Vol.-%, höher als bei der Abscheidung gemäß dem ersten Verfahren. Der Druck liegt zwischen 2 mbar und 20 mbar, vorzugsweise zwischen 5 mbar bis 8 mbar. Die Abscheidungstemperatur liegt im Bereich zwischen 700°C und 850°C, z.B. bei 750°C. Der hohe Methangehalt in der Gasphase führt vermehrt zu sekundärer Keimbildung während des Diamantwachstums, was den Korndurchmesser quer zur Wachstumsrichtung bis in den Nanometerbereit reduziert. Trotzdem liegt teilweise noch Stängel-förmiges Wachstum vor. Es ergeben sich jedoch mehr Korngrenzen und in Folge wesentlich dünnere Stängel 35. Die Diamantschicht 23 kann auch bei einem geringeren Methangehalt zwischen 0,8 Vol.-% bis 1 ,6 Vol.-% abgeschieden werden, um breitere Stängel zu erhalten. Fig. 10 zeigt eine Schneidplatte 12, deren Grundkörper 21 mit der zuvor beschriebenen Struktur aus Erhebungen 27 und Gräben 28 versehen ist. Die Struktur ist auch bei der aufgewachsenen Diamantschicht 23 noch zu sehen. Fig. 1 1 zeigt eine Schneidplatte 37, welche ohne regelmäßige Struktur auf dem Grundkörper 21 hergestellt wurde. Beide Schneidplatten 12 haben die gleiche chemische Zusammensetzung, die Haftvermittlungsschicht 25 und die Diamantschicht 23 wurden unter gleichen Bedingungen hergestellt. Beide Schneidplatten 12 wurden in gleicher weise belastet. Erkennbar hat sich die Diamantschicht 23 von dem unstrukturierten Grundkörper 21 bereits abgelöst, während die Diamantschicht 23 auf dem strukturierten Grundkörper 21 noch hält. Die chemische Zusammensetzung des Grundkörpers 21 hat einen Einfluss auf die Stabilität der Diamantschicht 23. Vergleichsversuche zeigen, dass Grundkörper 21 vorzugsweise einen Wolframkarbidanteil von wenigstens 85 Gew.-%, z.B. mehr als 92 Gew.-% aufweisen sollten. Der bevorzugte metallische Binder ist Kobalt oder eine Kobalt-basierte Legierung mit einem Anteil von wenigstens 50 Gew.-% Kobalt.

Die gesamte Oberseite 22 der Schneidplatte 12 kann strukturiert und mit der Diamantschicht 23 überzogen sein. Je nach Einbau der Schneidplatte 12 in das Werkzeug 2 wird nur ein Arbeitsabschnitt der Oberseite 22 für die Bearbeitung eines Untergrunds 11 genutzt (vgl. Fig. 10). Während ein anderer (Befestigungs-) Abschnitt der Oberseite 22 für die Befestigung der Schneidplatte 12 in dem Werkzeug 2 dienen kann. Der Arbeitsabschnitt ist strukturiert und mit der Diamantschicht 23 versehen, der Befestigungsabschnitt ist vorzugsweise unstrukturiert und ohne Diamantschicht 23. Die Mantelfläche 20 der Schneidplatte 12 kann ebenfalls strukturiert und mit der Diamantschicht 23 versehen sein. Insbesondere ist ein Abschnitt der Mantelfläche 20, welcher mit einer Kante an den Arbeitsabschnitt angrenzt, strukturiert und beschichtet. Die Diamantschichten an den weitgehend senkrecht aneinander angrenzenden Flächen stützen sich gegenseitig im Bereich der Kante. Ein Abspringen der Diamantschicht 23 ausgehend von der Kante kann hierdurch verringert werden. Die Struktur mit den Erhebungen 27, die Zwischenschichten 24 und die Diamantschicht 23 auf der Oberseite 22 und der Mantelfläche 20 sind vorzugsweise gleich. Die Mantelfläche 20 kann über die gesamte Höhe der Schneidplatte 12 strukturiert und beschichtet sein, d.h. von der Oberseite 22 bis zu der Rückseite 19.