Eine deratige Vorrichtung ist beispielsweise aus der US 5,879,462 A bekannt. Diese Schrift beschreibt einen Reaktor, dessen Gehäusewand von einem Quarzrohr gebil- det ist, um welches eine HF-Spule angeordnet ist. In dem Bereich, in dem die HF-Spule das Quarzrohr umgibt, liegt innerhalb des Quarzrohres ein aus Grafit gefertig- tes Rohr, welches den Suszeptor bildet. Dieses Grafit- Rohr ist ummantelt von einer Manschette, die aus einem Grafitschaum besteht. Die Manschette hat eine geringere Wärmeleitfähigkeit als das Grafitrohr. Das Grafitrohr wird durch von dem HF-Feld erzeugte Wirbelströme aufge- heizt. Die Grafitschaum-Manschette dient zu Warmeisolie- rung.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die Warmeiso- lierung zu verbessern.

Gelost wird die Aufgabe durch die in den Ansprüchen angegebene Erfindung.

00036 Der Anspruch 1 sieht zunachst und im Besonderen vor, 00037 dass die Grafitschaum-Manschette durchgehend, in Langs- 00038 richtung geschlitzt ist, wobei die Weite des Schlitzes 00039 grower ist, als die maximale beim Aufheizen auf die 00040 Prozesstemperatur zu erwartende Längenausdehnung der 00041 Grafitschaum-Manschette in Umfangsrichtung. Die erfin- 00042 dungsgemafe Vorrichtung dient insbesondere zum Abschei- 00043 den von Sic-Schichten und kann auch fur die Sublimation 00044 oder das Ausheilen von SiC-Schichten genutzt werden.

00045 Dort liegen die Prozesstemperaturen uber 1600°C. Zufol- 00046 ge der geschlitzten Grafitschaum-Manschette ist dort 00047 die Induktion von Wirbelströmen in erheblichen Maf--- 00048 reduziert. Da der Schlitz sich auch bei den Prozesstem- 00049 peraturen nicht schließt, ist eine parasitäre Aufhei- 00050 zung der der Warmeisolation dienende Grafitschaum-Man- 00051 schette auch bei den Prozesstemperaturen weitestgehend 00052 unterbunden. Der in der Grafitschaum-Wandung vorgesehen 00053 Längsschlitz erlaubt darüber hinaus eine geringfügige 00054 Ausdehnung der Grafitschaum-Manschette in Umfangsrich- 00055 tung. In einer bevorzugten Ausgestaltung der Erfindung 00056 verlauft der Langsschlitz im Wesentlichen parallel zur 00057 Achse der Grafitschaum-Manschette. Die Richtung des 00058 Schlitzes in Radialrichtung verlauft dabei aber nicht 00059 geradlinig, so dass keine direkte Strahlung von der 00060 Außenwandung des Grafitrohres durch den Schlitz gelan- 00061 gen kann. Bevorzugt besitzt der Schlitz eine V-Form. In 00062 einer Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass 00063 die Innenwandung der Grafit-Manschette, welche unmittel- 00064 bar dem Schlitz benachbart ist, einen Spaltabstand zur 00065 Außenwandung des Grafitrohres hat. Auch dieser Spaltab- 00066 stand ist größer, als die maximale, beim Aufheizen auf 00067 die Prozesstemperatur zu erwartende Ausdehnung von 00068 Grafitschaum-Manschette und Grafitrohr. Dieser Spalt 00069 bleibt demzufolge auch im heißen Zustand erhalten. Es 00070 bilden sich hier keine temporären Wärmebrücken zwischen

dem Grafitrohr und der Grafitschaum-Manschette. Hier- durch werden Spannungsuberschlage und Lichtbogen zwi- schen Grafitrohr und Grafitschaum-Manschette unterbun- den, die zu lokalen Wärmequellen und einer Materialermü- dung führen können. In einer bevorzugten Ausgestaltung besitzt das Grafitrohr einen im Wesentlichen rechtecki- gen Querschnitt, wobei drei Außenwandungen dieses recht- eckigen Grafitrohres mit Spaltabstand zur Manschettenin- nenwandung liegen. Der Schlitz kann dabei derjenigen Manschetteninnenwandung gegenuberliegen, die in Beruh- rungskontakt mit dem Grafitrohr steht. Die Spaltweite bzw. die Schlitzweite kann zwischen 0,5 und 1 mm betra- gen.

Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird nachfolgend anhand beigefügter Zeichnungen erläutert. Es zeigen: Fig. 1 ein Ausführungsbeispiel der Erfindung in per- spektivischer Darstellung teilweise aufgebro- chen im Schnitt und Fig. 2 einen Schnitt gemäß der Linie II-II in Fig. 1.

Der CVD-Reaktor besitz ein Quarzrohr 6, welches die Reaktorwand bildet. Innerhalb des Quarzrohres befindet sich etwa in dessen Zentrum und sich in Richtung der Achse des kreiszylinderformigen Quarzrohres 6 erstrek- kend ein Grafitrohr 1, welches den Suszeptor bildet.

Das Grafitrohr 1 besteht im Ausführungsbeispiel aus insgesamt vier Teilen, einem Boden 2, welcher mit sei- ner nach außen gewölbten Außenwandung 2'in berührender Anlage an einem Innenwandabschnitt einer Grafitschaum- Manschette 5 anliegt. Gegenüberliegend zum Boden 2 besitz das Grafitrohr 1 eine Decke 4, welche mittels zwei Seiten 3 von der Decke beabstandet gehalten ist.

00106 Auch die Außenwandung der Decke 4 ist nach außen hin 00107 gewolbt.

00108 00109 Die Höhlung, die von dem Boden 2, den Seiten 3 und der 00110 Decke 4 gebildet ist, ist die Prozesskammer 14.

00111 00112 Das Grafitrohr 1 ist von der Reaktorwand 6 beabstandet.

00113 Der Abstandsraum wird von einer Grafitschaum-Manschette 00114 5 ausgefüllt. Die Grafitschaum-Manschette 5 besitzt 00115 eine zentrale Höhlung, die im Wesentlichen die Form der 00116 Außenumrisskontur des Grafitrohres 1 besitzt. Diese 00117 Höhlung ist allerdings größer, so dass nur der Boden 00118 mit seiner Außenwandung 2'in berührender Anlage an der 00119 Innenwandung der Höhlung der Grafitschaum-Manschette 5 00120 anliegt. Die Seitenwände 3'liegen mit einem Spaltab- 00121 stand zu der entsprechenden Innenwandseite 9 der Graf- 00122 itschaum-Manschettenhohlung. Auch die von der Bodenau- 00123 Eenwand 2'weg gerichtete Deckenwand 4'der Decke 4 00124 liegt mit Abstand zu der ihr gegenüberliegenden Decken- 00125 innenwand 8 der Hohlung.

00126 00127 Etwa in der Mitte der zur Decke 4 gerichteten Innenwand 00128 8 beginnt ein V-formiger Schlitz, welcher sich durch 00129 die gesamte Grafitschaum-Manschette 5 bis zum Quarzrohr 00130 6 erstreckt. In Längserstreckungsrichtung (Achsrich- 00131 tung) des Grafitrohres 1 bzw. des Quarzrohres 6 ver- 00132 läuft der Schlitz 7 gradlinig. In Radialrichtung, also 00133 in Richtung vom Suszeptor 1 in Richtung Reaktorwand 6 00134 verlauft der Schlitz 7 dagegen ungradlinig. Er bildet 00135 zwei Schlitzabschnitte 7', 7"aus, welche in einem 00136 Winkel zueinander verlaufen, so dass Strahlung, die von 00137 der Deckenaußenwandung 4'abgestrahlt wird, nicht unmit- 00138 telbar bis zum Quarzrohr 6 dringt.

00139 00140 Die beiden aufeinander zu gerichteten Schlitzwände 11, 00141 12 haben einen Abstand voneinander, der so groß ist, 00142 dass sich die Schlitzwände 11,12 auch bei der Pro- 00143 zesstemperatur von mehr als 1600°C nicht beruhren. Die 00144 Schlitzweite beträgt etwa 0,5 bis 1 mm. Die gleiche 00145 Weite besitzt der Spalt zwischen der GraftirohrauBen- 00146 wandung und der Grafitschaum-Manschetteninnenwandung.

00147 00148 Der der Decke 4 zugeordnete Spalt kann etwas schmaler 00149 (1,5 mm) sein, als der den Seiten 4 zugeordnete Spalt 00150 (2 mm).

00151 00152 Alle offenbarten Merkmale sind (fur sich) erfindungswe- 00153 sentlich. In die Offenbarung der Anmeldung wird hiermit 00154 auch der Offenbarungsinhalt der zugehörigen/beigefügten 00155 Prioritätsunterlagen (Abschrift der Voranmeldung) voll- 00156 inhaltlich mit einbezogen, auch zu dem Zweck, Merkmale 00157 dieser Unterlagen in Anspruche vorliegender Anmeldung 00158 mit aufzunehmen.