Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur ge¬ kapselten Aufnahme eines Materials, insbesondere eines em¬ pfindlichen Materials. Insbesondere befaßt sich die Erfin¬ dung mit einer elektrisch zu öffnenden, miniaturisierbaren Vorrichtung zur gekapselten Aufnahme eines empfindlichen Materials.

Auf vielen Gebieten werden empfindliche Materialien, z. B. chemische Indikatormaterialien, Katalysatoren, Medikamente, eingesetzt. Empfindlich heißt, die Lebensdauer, d. h. die Verwendbarkeit für einen bestimmten Zweck, wird bei Kontakt mit einem bestimmten Stoff oder Stoffgemisch reduziert. Auf¬ grund dieser begrenzten Lebensdauer ist es erwünscht, diese Materialien erst kurz vor ihrem Einsatz in dem schädlichen Meßmedium freizugeben und sie bis zu diesem Zeitpunkt unter Schutzgas oder Schutzflüssigkeit oder Vakuum zu verwahren. Das schädliche Meßmedium kann mit der zu messenden Substanz identisch sein.

Übliche Methoden sind hierzu das Kapseln der Substanz in einem Glaskolben, Kunststoff-Folien oder ähnlichen Ver¬ packungen. Der Nachteil dieser Methoden ist vielfältig: Die Kapselungsmethoden sind nur begrenzt miniaturisierbar und/oder der Verschluß ist nicht oder nur aufwending auto¬ matisch zu öffnen. Solche empfindlichen Stoffe werden auch in einem Gefäß eingeschlossen, welches über ein Ventil und/oder Schlauchsystem mit der Außenwelt verbunden ist. Diese Vorrichtung ist automatisch zu öffnen, doch kann hier die Geschwindigkeit der mechanischen Öffnung für manche An¬ wendungen nicht ausreichend sein. Ein Reagieren auf schnelle Vorgänge ist somit nicht möglich. Weiterhin begrenzt die notwendige Mechanik die minimal erreichbare Baugröße und die

Kostenreduzierung.

Die direkte Beschichtung der zu schützenden Substanz mit z.B. elektrisch abdampfbaren Materialien ist nur sehr be¬ grenzt einsetzbar, da diese Methode in vielen Fällen zu ei¬ ner irreversiblen Kontamination des beschichteten Materials führt.

Die DE 3919042 AI offenbart ein System zur Analyse von fe¬ sten Substanzen auf Quecksilber. Bei diesem bekannten System wird eine zu analysierende feste Substanz in ein Gefäß ein¬ gebracht, das nachfolgend durch eine Membran verschlossen wird, wobei, wenn über der Membran ein Deckel auf den Rand des Gefäßes gesetzt ist, die Membran durch das Erhitzen der festen Substanz und einen dadurch bedingten Überdruck in dem Gefäß zerstört wird. Die bei dem in der DE 3919042 AI offen¬ barten System verwendete Vorrichtung ist jedoch für eine Großserienfertigung nicht geeignet.

Die DE 3520416 C2 beschreibt eine Vorrichtung zum steuerba¬ ren Öffnen einer Trennwand, wobei die Trennwand aus einer in einen Spannring eingesetzten Membran mit anliegenden Heiz¬ drähten besteht, welche ein Öffnen der Membran bei Versor¬ gung mit elektrischer Energie bewirken. Auch diese Vorrich¬ tung ist nicht für eine Massenproduktion beispielsweise mit¬ tels mikromechnischer Verfahren geeignet.

Die DE 3818614 AI und DE3915920 AI offenbaren mikromechani¬ sche Strukturen mit einer Mehrzahl von Vertiefungen zur Auf¬ nahme von kleinen Materialmengen, insbesondere auf dem Ge¬ biet der Biotechnologie. Die Vertiefungen werden dabei mit¬ tels eines Deckels, der vorzugsweise mit den Vertiefungen korrespondierende Erhebungen aufweist, verschlossen.

Für den Nachweis von Stoffen in Gasen oder Flüssigkeiten existiert z.B. eine Vielzahl von Transducerbauformen. Viele funktionieren nach dem Prinzip der Widerstands- oder Kapazi¬ tätsmessung des Indikatormaterials. Bezüglich derartiger

Transducerbauformen wird verwiesen auf H.-E. Endres, S. rost, H. Sandmaier "A- PHYSICAL SYSTEM FOR CHEMICAL SENSORS", Proc. Microsystem Technologies, Berlin, 29.10.-01.11.91, 70-75. Eine Änderung dieser Größe(n) wird mit einem Ereignis in dem zu untersuchenden Medium korreliert. Die für die z. B. Widerstandsmessung notwendigen Strukturen, z.B. Inter- digitalstrukturen, werden oft in einer Dünnfilmtechnik auf ein Substrat, z.B. Silizium, Quarz, aufgebracht. Der Träger dieser Sensoren kann auch selbst wieder eine Membranstruktur sein.

Aus der Mikrosysterotechnik ist seit Jahren die Herstellung von dünnen Membranstrukturen, z.B. Si ₃ N ₄ auf Si-Trägermate- rial und andere Kombinationen, bekannt. Im allgemeinen wer¬ den diese Membranstrukturen aufgrund ihrer sehr niedrigen thermischen Wärmekapazität und/oder Wärmeleitfähigkeit ein¬ gesetzt. Sie dienen alε Trägermaterial für temperaturemp¬ findliche Widerstände, z.B. bei der Realisierung thermischen Durchflußmessers und/oder zur thermischen Isolierung eines Heizelements von seiner Umgebung.

Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Vor¬ richtung zur gekapselten Aufnahme eines Materials schaffen, bei der eine Kontamination des Materials verhindert wird und welche schnell und einfach geöffnet werden kann.

Diese Aufgabe wird durch eine Vorrichtung nach Anspruch 1 gelöst.

Die vorliegende Erfindung schafft eine Vorrichtung zur ge¬ kapselten Aufnahme eines Materials, die einen eine Ausneh¬ mung zur Aufnahme des Materials aufweisenden in Mikrosystem- technik gebildeten Grundkörper, eine den Grundkörper über¬ spannende, in Mikrosysterotechnik oder Dünnfilmtechnologie implementierte Membran zur Kapselung des Materials in der Ausnehmung des Grundkörpers, und eine elektrisch betätigbare Heizeinrichtung zum Zerstören der Membran, um das Material freizulegen aufweist.

Die erfindungsgemäße Struktur bietet aufgrund des Membran¬ abschlusses des empfindlichen Materials von der Umgebung die Möglichkeit, auf einfache, kontaminationssichere und schnel¬ le Weise das Material freizulegen, wobei die Struktur in einfacher Weise einer Großserientechnik zugänglich ist. Durch eine geeignete Elektrodengeometrie kann das ordnungs¬ gemäße Öffnen der Kapselung signalisiert werden.

Mit anderen Worten bedient sich die Erfindung einer Struk¬ tur, die mit gängigen großserientechnischen Methoden imple¬ mentierbar ist. Hierzu kommt insbesondere eine in Mikro- systemtechnik ausgeführte Membran-Grundkörper-Struktur zur Kapselung des empfindlichen Materials in Betracht. Für die Zwecke der Erfindung kann die Membran jedoch auch in Dünn¬ filmtechnik ausgeführt sein.

Die Erfindung liefert damit eine Vorrichtung, mit der emp¬ findliche Schichten oder Materialien sehr kostengünstig von Ihrer Umwelt abgeschirmt werden können, wobei diese Kapselung bei Bedarf einfach zu lösen ist.

Gemäß einem wesentlichen Effekt der Erfindung bedient sich die Erfindung der Tatsache, daß in dünnen Membranen, welche in Dünnfilmtechnologie oder Mikrosytemtechnik implementiert sind, häufig höhe Spannungskräfte auftreten, welche in ande¬ ren Bereichen der Technik als Problem derartiger Membran¬ strukturen gelten. Diese Spannungskräfte, die in der Membran vorliegen, bewirken bei Anwendung von thermischen Kräften auf die Membran ein expolsionsartigeε Zerplatzen derselben.

Da die Membran hierbei nicht verdampft, sondern in einzelne Stücke zerspringt, erfolgt lediglich eine in den meisten An¬ wendungsfällen vernachlässigbare, geringe Kontamination des empfindlichen Materials bzw. einer empfindlichen Material¬ schicht durch Membranbruchstücke, die bei geeigneter Wahl des Membranmaterialε chemisch relativ inert sind.

_A uc _h eine derartige Anlagerung von Merabranbruchstucken kann bei der erfindungsgemäßen Struktur durch Einfüllen eines Schutzgases unter leichtem Überdruck oder bei Plazieren der Membranöffnung in Richtung der Schwerkraft ausgeschlossen werden.

Die Heizeinrichtung der erfindungsgemäßen Vorrichtung ist vorzugsweise als ein auf der Membran integrierter Heizer ausgeführt. Bei dieser Ausführungsform bewirkt ein kurzer Heizimpuls eine thermische Verspannung der Membran, durch welche diese zum Platzen gebracht wird. Die Zeit für einen derartigen Öffnungsvorgang liegt deutlich unter einer Sekun¬ de, typischerweise im Millisekundenbereich. Damit schafft die Erfindung eine Vorrichtung zur Kapselung empfindlicher Materialien, welche kostengünstig ist, mikrosystemkompatibel ist, ein einfaches und schnelles Öffnen der Kapselung er¬ laubt, eine Kontamination empfindlicher Materialien verhin¬ dert und einer Serienherstellung zugänglich ist.

Gemäß einem weiterführenden Aspekt der Erfindung bildet die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Kapselung der Schicht einen Bestandteil eines Sensorbauelementes, auf dem das empfind¬ liche Material in Form eines Indikatormaterials angeordnet ist. Ein derartiger Sensor kann in automatischer Weise durch Zerspringen der Membran für Messungen zu einem beliebigen Zeitpunkt aktiviert werden.

Bevorzugte Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nach¬ folgend unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:

Fig. l und 2 eine Draufsichtdarstellung und einer Quer¬ schnittsdarstellung eines Gassensorbau¬ elementes

Ein Gassenεorbauelement, daß in den Figuren 1 und 2 in

seiner Gesamtheit mit dem Bezugszeichen 10 bezeichnet ist, umfaßt einen Träger 1, welcher beispielsweise aus Quarz besteht, auf den die Meßelemente (z.B. Leiterbandstrukturen, MOSFET, SAW u.a.) 2, 3 einer Interdigitalstruktur zur Kapazitäts- und/oder Widerstandsmessung mit zugehörigen Verbindungsleitungen 2b, 3b und Anschlußflächen 2a, 3a aufgebracht sind. Die Interdigitalstruktur ist mit einem Indikatormaterial 6 bedeckt. Bei dem hier gezeigten Ausführungsbeispiel des Gassensorbauselementes 10 handelt es sich bei dem Indikatormaterial um 3-Amino- propyltrimethyloxysilan, welches an Luft nur eine begrenzte Lebensdauer von drei Monaten hat. Es ist deshalb erwünscht, die Indikatormaterialschicht erst kurz vor ihrem Einsatz in Kontakt mit der Umgebungsluft zu bringen, um die volle Le¬ bensdauer der Indikatormaterialschicht zur Verfügung zu haben.

Zum Zwecke der Kapselung ist der Träger 1 an seiner mit dem Indikatormaterial 6 versehenen Seite mit einer Membranhalte¬ struktur 4 versehen, die bei dem hier gezeigten Ausführungs- beispiel aus einem Siliziumwafer besteht, in dem die Ausneh¬ mung 8 durch übliche photolitographische und ätztechnische Methoden eingearbeitet ist. Für einen Fachmann auf dem Ge¬ biet der Mikrosystemtechnik bedarf es keiner Erläuterung, daß Methoden zur Herstellung von einer eine Haltestruktur überspannenden Membran in der Mikrosystemtechnik üblich sind und daß hierbei üblicherweise eine Membran 5 zunächst auf eine Haltestruktur 4 aufgebracht wird, bevor die Ausnehmung 8 in die Haltestruktur 4 durch photolitographische und ätz- technische Maßnahmen eingebracht wird.

Die Membran 5 kann zwar auch aus Silizium bestehen. In Be¬ tracht kommen jedoch auch andere Materialien, wie beispiels¬ weise Kunststoffolie und Glas.

Auf der Membran ist eine Heizerstruktur 7, welche über An¬ schlußleitungen 7a, 7b mit Anschlußflachen oder Bondpads 7c, 7d in Verbindung steht.

Ist es bei diesem Gassensorbauelement 10 erwünscht, zum Zwecke des Einsatzes die Indikatormaterialschicht 6 in Kontakt mit der Umgebungsluft zu bringen, so wird nach dem Einsetzen des Gassensorbauelementes 10 in ein Meßgerät die Membran 5 kurz vor Meßbeginn automatisch zerstört, in dem ein Strompuls dem Heizer 7 zugeführt wird, wodurch es zur bereits beschriebenen Zerstörung der Membran 5 kommt. Hierdurch wird die sensitive Indikatormaterialschicht 6 in Betrieb genommen.

In Abweichung zur dem beschriebenen Einzelsensor eignet sich die erfindungsgemäße Vorrichtung auch zur Kapselung einer Mehrzahl von Sensoren beispielsweise auf einem Chip, die kaskadiert in einem Gasmeßgerät betrieben werden. Nachdem ein Gassensorbauelement verbraucht ist, da dessen Indikator¬ materialschicht 6 ihre Lebensdauer erreicht hat, aktiviert eine geeignete Steuerelektronik automatisch ein weiteres Gassensorbauelement zum Meßeinsatz, in dem dessen Membran zerstört wird. Auf diese Weise wird eine Vervielfachung der wartungsfreien Betriebszeit eines Gasmeßgerätes erreicht.

Ein weiteres Anwendungsbeipiel der erfindungsgemäßen Vor¬ richtung zur Kapselung von empfindlichen Schichten ist die Kapselung von irreversibel arbeitenden Indikatormaterialien.

Diese Materialklasse führt mit dem zu detektierenden Stoff eine irreversible Nachweisreaktion aus, so daß ein Sensor nur eine Messung ausführen kann. Der Vorteil dieser Materia¬ lien liegt in ihrer einfacheren Chemie begründet, um einen bestimmten (chemischen) Nachweis durchzuführen. Es sind in der Literatur weitaus mehr irreversible Erkennungsreaktionen bekannt, als reversible. Damit verbunden ist meistens auch eine höhere Selektivität (z.B. Immuno-Reaktion). Oft ist auch eine Kalibrierung nicht nötig. Der Transducer kann sich innerhalb der Kapselung oder außerhalb (= ein Transducer für alle gekapselten Schichten) derselben befinden.

Die hier beschriebene Vorrichtung ermöglicht den relativ un¬ komplizierten Aufbau eines großen Arrays von Einwegsensoren, wobei jeder nach der beschriebenen Methode gekapselt ist. Diese Kapselung kann für das ganze Array simultan durchge¬ führt werden. Hierzu muß der mit den Membranen versehene Baustein auf den mit dem Indikator beschichteten Träger aufgesetzt werden. Durch die große Miniaturisierungs- möglichkeit der Methode kann die Baugröße des ganzen Arrays sehr klein gehalten werden.

Ebenfalls kann der Heizer in der Ausnehmung 8 angeordnet sein, um einen thermisch erzeugten Überdruck einer Gasfül¬ lung in der Ausnehmung 8 zum Absprengen der Membran zu ver¬ wenden.