der Oberflächenform eines Testobjekts

Die vorliegende Anmeldung beansprucht die Priorität der Deutschen Patent anmeldung DE 10 2019 201 762.2, angemeldet am 12. Februar 2019. Der Inhalt dieser DE-Anmeldung wird durch Bezugnahme („incorporation by reference“) mit in den vorliegenden Anmeldungstext aufgenommen.

HINTERGRUND DER ERFINDUNG

Gebiet der Erfindung

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Charakterisierung der Oberflächenform eines Testobjekts.

Stand der Technik

Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise oder LCD’s, angewendet. Der Mikro lithographieprozess wird in einer sogenannten Projektionsbelichtungsanlage durchgeführt, welche eine Beleuchtungseinrichtung und ein Projektionsobjektiv aufweist. Das Bild einer mittels der Beleuchtungseinrichtung beleuchteten Maske (= Retikel) wird hierbei mittels des Projektionsobjektivs auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionsobjektivs angeordnetes Substrat (z.B. ein Siliziumwafer) proji ziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Sub strats zu übertragen. In für den EUV-Bereich ausgelegten Projektionsobjektiven, d.h. bei Wellenlän gen von z.B. etwa 13 nm oder etwa 7 nm, werden mangels Verfügbarkeit ge eigneter lichtdurchlässiger refraktiver Materialien Spiegel als optische Kompo nenten für den Abbildungsprozess verwendet. Typische für EUV ausgelegte Projektionsobjektive, wie z.B. aus US 2016/0085061 A1 bekannt, können bei spielsweise eine bildseitige numerische Apertur (NA) im Bereich von NA = 0.55 aufweisen und bilden ein (z.B. ringsegmentförmiges) Objektfeld in die Bildebe ne bzw. Waferebene ab.

Mit der Erhöhung der bildseitigen numerischen Apertur (NA) geht typischer weise eine Vergrößerung der erforderlichen Spiegelflächen der in der Projektionsbelichtungsanlage eingesetzten Spiegel einher. Dies hat wiederum zur Folge, dass neben der Fertigung auch die Prüfung der Oberflächenform der Spiegel eine anspruchsvolle Herausforderung darstellt. Hierbei kommen zur hochgenauen Prüfung der Spiegel insbesondere interferometrische Mess verfahren unter Verwendung diffraktiver optischer Elemente wie z.B. Compu- ter-generierter Hologramme (CGH) zum Einsatz. Dabei ist es u.a. auch be kannt, in ein- und dasselbe CGH zusätzlich zu der für die eigentliche Prüfung benötigten Funktionalität (d.h. der entsprechend der Spiegelform ausgelegten CGH-Struktur zur Formung der mathematisch der Prüflingsform entsprechen den Wellenfront) wenigstens eine weitere„Kalibrierfunktionalität“ zur Bereitstel lung einer zur Kalibrierung bzw. Fehlerkorrektur dienenden Referenzwellen front einzukodieren.

Derartige interferometrische Messverfahren werden zur Erfüllung der etwa bei der Prüfung von EUV-Spiegeln für die Mikrolithographie geltenden hohen Ge nauigkeitsanforderungen typischerweise unter Vakuumbedingungen (bei typi schen Drücken von größenordnungsmäßig weniger als l OOmbar, insbesondere weniger als 1 mbar) durchgeführt. Hierdurch wird u.a. dem Umstand Rechnung getragen, dass bei Betrieb der interferometrischen Prüfanordnung unter Atmo sphärendruck infolge der Temperaturabhängigkeit der Brechzahl von z.B. Luft eine hochgenaue Temperaturregelung mit Genauigkeiten von größenord nungsmäßig 10m K erforderlich wäre. Bei somit gebotener Durchführung der interferometrischen Spiegelprüfung unter den vorstehend beschriebenen Vakuumbedingungen tritt jedoch in der Praxis das weitere Problem auf, dass das Einbringen optischer Komponenten in eine Vakuumkammer infolge der beim Evakuieren stattfindenden Expansion der Luft mit einer Oberflächenabkühlung der jeweiligen optischen Komponen ten einhergeht. Um hierbei durch thermisch induzierte Deformationen bedingte temperaturabhängige Messfehler zu vermeiden, können entsprechende Temperierphasen eingeplant werden. Solche Temperierphasen können jedoch bei der Spiegelprüfung Wartezeiten von wesentlich mehr als 60 Minuten erfordern (um beispielsweise zum Vermessen eines EUV-Spiegels mit einer Genauigkeit von 0.1 nm eine Temperaturhomogenität von 4mK zu erreichen), wodurch der in der jeweiligen Messanordnung erzielte Durchsatz in uner wünschter Weise eingeschränkt wird.

Das vorstehend beschriebene Problem ist umso gravierender, als zur Prüfung unterschiedlicher Testobjekte bzw. EUV-Spiegel in der Regel unterschiedliche diffraktive optische Elemente bzw. CGHs zum Einsatz kommen, wodurch die insgesamt anfallende Wartezeit weiter vergrößert wird.

Zum Stand der Technik wird lediglich beispielhaft auf DE 10 2015 209 490 A1 sowie DE 10 2015 202 676 B4 verwiesen.

ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG

Vor dem obigen Hintergrund ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Charakterisierung der Oberflächenform eines Testobjekts bereitzustellen, welche eine erhöhte Messgenauigkeit unter zumindest teilweiser Vermeidung der vorstehend beschriebenen Probleme ermöglichen. Diese Aufgabe wird durch die Vorrichtung gemäß den Merkmalen des unab hängigen Patentanspruchs 1 bzw. das Verfahren gemäß den Merkmalen des nebengeordneten Patentanspruchs 15 gelöst.

Gemäß einem Aspekt der Erfindung weist eine Vorrichtung zur Charakterisie rung der Oberflächenform eines Testobjekts

- eine Prüfanordnung zur Bestimmung der Oberflächenform eines Testob jekts unter Verwendung einer Prüfwelle, wobei die Prüfwelle eine durch Beugung an einem diffraktiven optischen Element erzeugte Wellenfront aufweist,

- eine erste Vakuumkammer, und

- eine zweite Vakuumkammer auf,

- wobei die zweite Vakuumkammer ein Magazin zur Lagerung von wenigs tens zwei diffraktiven optischen Elementen aufweist.

Der Erfindung liegt insbesondere das Konzept zugrunde, bei Durchführung in- terferometrischer Messungen an unterschiedlichen Testobjekten (z.B. EUV- Spiegeln) durch Bereitstellung von zwei Vakuumkammern, von denen die eine Vakuumkammer ein Magazin zur Lagerung einer Mehrzahl diffraktiver opti scher Elemente aufweist, zu gewährleisten, dass die jeweiligen diffraktiven op tischen Elemente (z.B. CGHs) dauerhaft im Vakuum verbleiben können mit der Folge, dass unerwünschte zeitlich ausgedehnte Warte- bzw. Temperierphasen entbehrlich werden.

Dabei ist im Sinne der vorliegenden Anmeldung unter einem„Magazin“ eine beliebige Speicher- bzw. Lagervorrichtung zur Aufnahme von einer Mehrzahl (d.h. wenigstens zwei) diffraktiven optischen Elementen zu verstehen.

Des Weiteren ist im Sinne der vorliegenden Anmeldung unter einem Vakuum zustand vorzugsweise ein Zustand mit einem (konstanten oder wechselnden) Druck von weniger als l OOmbar, insbesondere weniger als 1 mbar, zu verste hen. Dabei geht die Erfindung u.a. von der Überlegung aus, dass bei diffraktiven op tischen Elementen wie z.B. CGHs (insbesondere solchen mit Substraten aus Quarzglas) das eingangs beschriebene Problem thermisch induzierter Defor mationen auch bei den vergleichsweise moderaten Vakuumbedingungen in in- terferometrischen Messanwendungen (mit Vakuumdrücken z.B. im Bereich von 1 mbar bis l OOmbar) kritische Auswirkungen auf die Messgenauigkeit hat, wo hingegen das thermische Verhalten der eigentlichen Testobjekte wie z.B. EUV- Spiegel in solchen Szenarien - sowohl im Vergleich zu besagten CGHs als auch im Vergleich zum Einsatz in der eigentlichen mikrolithographischen Pro jektionsbelichtungsanlage - vergleichsweise stabil ist.

Von dieser Überlegung ausgehend wird in Ausführungsformen der Erfindung ein Wechsel der jeweiligen Testobjekte zwischen Vakuum- und Atmosphären druck zwar für die Testobjekte, nicht jedoch die diffraktiven optischen Elemente bzw. CGHs vorgenommen.

Dabei wird im Rahmen der vorliegenden Erfindung sowohl ein durch die Lage rung mehrerer diffraktiver optischer Elemente im Vakuum bedingter erhöhter Bauraumbedarf als auch ein höherer Automatisierungsgrad insbesondere für die Justierung der jeweiligen diffraktiven optischen Elemente bzw. CGHs in der interferometrischen Prüfanordnung in Kauf genommen, um im Gegenzug den angestrebten hohen Durchsatz in der Prüfanordnung unter Vermeidung der eingangs beschriebenen zeitlich ausgedehnten Temperierphasen zu erreichen.

Gemäß einer Ausführungsform ist die zweite Vakuumkammer zur permanenten Aufrechterhaltung eines Vakuumzustandes während des Betriebs der Vorrich tung konfiguriert.

Gemäß einer Ausführungsform ist die erste Vakuumkammer dazu konfiguriert, während des Betriebs der Vorrichtung zwischen einem Zustand mit Atmosphä rendruck und einem Vakuumzustand zu wechseln. Gemäß einer Ausführungsform weist die Vorrichtung eine erste Transportein richtung zum Transportieren eines Testobjekts von einem äußeren Bereich in die erste Vakuumkammer auf.

Gemäß einer Ausführungsform ist die Prüfanordnung in der zweiten Vakuum kammer angeordnet.

Gemäß einer Ausführungsform weist die Vorrichtung eine zweite Transportein richtung zum Transportieren jeweils eines Testobjekts von der ersten Vakuum kammer in die zweite Vakuumkammer auf.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist die Prüfanordnung in der ersten Vakuumkammer angeordnet.

Gemäß einer Ausführungsform sind die erste Vakuumkammer und die zweite Vakuumkammer dazu konfiguriert, dass die erste Vakuumkammer jeweils ei nes der diffraktiven optischen Elemente von der zweiten Vakuumkammer unter Vakuumbedingungen aufnimmt.

Gemäß einer Ausführungsform weist die Vorrichtung einen Austauschmecha nismus zum Austausch des jeweils in der Prüfanordnung befindlichen diffrakti ven optischen Elements auf.

Gemäß einer Ausführungsform sind die diffraktiven optischen Elemente Com- puter-generierte Hologramme (CGH).

Gemäß einer Ausführungsform weisen die diffraktiven optischen Elemente Quarzglas (S1O ₂ ) auf.

Gemäß einer Ausführungsform sind die Testobjekte optische Elemente, insbe sondere für die Mikrolithographie. Gemäß einer Ausführungsform sind die Testobjekte Spiegel, insbesondere für den Betrieb unter EUV-Bedingungen ausgelegte Spiegel.

Die Erfindung betrifft weiter ein Vakuumkammersystem zur Verwendung in einer Vorrichtung mit den vorstehend beschriebenen Merkmalen, sowie ein Verfahren zur Charakterisierung der Oberflächenform eines Testobjekts unter Verwendung einer Vorrichtung mit den vorstehend beschriebenen Merkmalen.

Weitere Ausgestaltungen der Erfindung sind der Beschreibung sowie den Unteransprüchen zu entnehmen.

Die Erfindung wird nachstehend anhand von in den beigefügten Abbildungen dargestellten Ausführungsbeispielen näher erläutert.

KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN

Es zeigen:

Figur 1-2 schematische Darstellungen zur Erläuterung beispielhafter

Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung;

Figur 3 eine schematische Darstellung eines möglichen Aufbaus einer interferometrischen Prüfanordnung;

Figur 4 schematische Darstellungen einer weiteren möglichen Ausge staltung einer interferometrischen Prüfanordnung; und

Figur 5 eine schematische Darstellung einer für den Betrieb im EUV ausgelegten Projektionsbelichtungsanlage. DETAILLIERTE BESCHREIBUNG BEVORZUGTER

AUSFÜHRUNGSFORMEN

Fig. 5 zeigt zunächst eine schematische Darstellung einer beispielhaften für den Betrieb im EUV ausgelegten Projektionsbelichtungsanlage, welche mit einer erfindungsgemäßen Vorrichtung prüfbare Spiegel aufweist.

Gemäß Fig. 5 weist eine Beleuchtungseinrichtung in einer für EUV ausgeleg ten Projektionsbelichtungsanlage 510 einen Feldfacettenspiegel 503 und einen Pupillenfacettenspiegel 504 auf. Auf den Feldfacettenspiegel 503 wird das Licht einer Lichtquelleneinheit, welche eine Plasmalichtquelle 501 und einen Kollektorspiegel 502 umfasst, gelenkt. Im Lichtweg nach dem Pupillenfacetten spiegel 504 sind ein erster Teleskopspiegel 505 und ein zweiter Teleskopspie gel 506 angeordnet. Im Lichtweg nachfolgend ist ein Umlenkspiegel 507 ange ordnet, der die auf ihn treffende Strahlung auf ein Objektfeld in der Objektebe ne eines sechs Spiegel 521-526 umfassenden Projektionsobjektivs lenkt. Am Ort des Objektfeldes ist eine reflektive strukturtragende Maske 531 auf einem Maskentisch 530 angeordnet, die mit Hilfe des Projektionsobjektivs in eine Bildebene abgebildet wird, in welcher sich ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes Substrat 541 auf einem Wafertisch 540 be findet.

Bei dem in einer im Weiteren beschriebenen erfindungsgemäßen Vorrichtung geprüften Testobjekt kann es sich z.B. um einen beliebigen Spiegel der Projek tionsbelichtungsanlage 510 handeln.

Im Weiteren werden Ausführungsformen der Erfindung unter Bezugnahme auf die schematischen Abbildungen in Fig. 1 und Fig. 2 beschrieben.

Den Ausführungsformen von Fig. 1 und Fig. 2 ist u.a. gemeinsam, dass die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Charakterisierung der Oberflächenform ei nes Testobjekts wie z.B. eines EUV-Spiegels eine (mit„110“ bzw.„210“ be- zeichnete) erste Vakuumkammer und eine (mit„120“ bzw.„220“ bezeichnete) zweite Vakuumkammer aufweist, wobei besagte zweite Vakuumkammer 120, 220 ein (in Fig. 1-2 nicht näher dargestelltes) Magazin zur Lagerung einer Mehrzahl von diffraktiven optischen Elementen (welche in Fig. 1 -2 mit 121 , 122, 123, ... bzw. 221 , 222, 223, ... bezeichnet sind und deren Anzahl grund sätzlich beliebig ist) aufweist.

Dabei ist jeweils besagte zweite Vakuumkammer 120 bzw. 220 zur permanen ten Aufrechterhaltung von Vakuumbedingungen (z.B. mit Vakuumdrücken von weniger als l OOmbar, insbesondere weniger als 1 mbar) konfiguriert, wohinge gen die erste Vakuumkammer 110 bzw. 210 wie im Weiteren beschrieben dazu konfiguriert ist, zwischen Atmosphärendruck und Vakuumbedingungen zu wechseln.

In der Ausführungsform von Fig. 1 befindet sich eine Prüfanordnung 130 zur Bestimmung der Oberflächenform jeweils eines Testobjekts 111 , 112, 113, ... in der zweiten Vakuumkammer 120. Mögliche Ausgestaltungen einer solchen Prüfanordnung werden unter Bezugnahme auf Fig. 3 und Fig. 4a-4b noch be schrieben.

Des Weiteren ist gemäß Fig. 1 die erste Vakuumkammer 110 als Schleusen kammer mit entsprechenden Schleusentüren 114, 115 ausgestaltet, über wel che unterschiedliche Testobjekte 111 , 112, 113, ... von einem unter

Atmosphärendruck befindlichen äußeren Bereich in die zweite Vakuumkammer 120 sowie in umgekehrter Richtung überführt werden können. Gemäß Fig. 1 sind hierzu zwei (durch Doppelpfeile symbolisierte) Transporteinrichtungen 150, 160 vorgesehen, um das jeweilige Testobjekt 111 , 112, 113, ... zunächst vom (Atmosphärendruck aufweisenden) äußeren Bereich in die hier als Schleusenkammer dienende erste Vakuumkammer 110 und anschließend bei Vakuumbedingungen in die zweite Vakuumkammer 120 zu überführen. Dabei können die Transporteinrichtungen 150, 160 z.B. einen robotergestützt betrie benen Greifarm, welcher jeweils an einer Fassung des betreffenden Test objekts (z.B. CGHs) angreift, aufweisen. Im Betrieb der Vorrichtung gemäß Fig. 1 wird nach Überführung eines„neuen“ zu prüfenden Testobjekts 111 , 112, 113,... in die als Schleusenkammer dienende erste Vakuumkammer 110 nach Schließen der Schleusentüren 114, 115 die erste Vakuumkammer 110 auf das gewünschte Vakuum (z.B. auf einen Druck von weniger als l OOmbar, vorzugsweise von weniger als 1 mbar) abgepumpt, wobei im Hinblick auf den angestrebten hohen Durchsatz vor zugsweise möglichst niedrige Abpumpzeiten von weniger als 10 Minuten, ins besondere weniger als 1 Minute (z.B. jeweils bis zum Erreichen eines Druckes von 1 mbar) realisiert werden.

Hierbei können an die Transporteinrichtungen 150, 160 gemäß Fig. 1 rechner gesteuert Befehle zur Aufnahme jeweils eines neuen Testobjekts 111 , 112, 113, ... übermittelt werden, wobei das betreffende Testobjekt 111 , 112, 113, ... dann auf den entsprechenden Befehl in die (Mess-) Position innerhalb der Prüfanordnung 130 verfahren und ferner ein Austauschmechanismus 140 zur Platzierung des jeweils für die Prüfung des betreffenden Testobjekts geeigne ten diffraktiven optischen Elements 121 , 122, 123, ... in der Prüfanordnung 130 angesteuert wird. In Ausführungsformen kann das Magazin zur Lagerung der Mehrzahl von diffraktiven optischen Elementen 121 , 122, 123, ... auch im Bereich des Austauschmechanismus 140 angeordnet oder in diesen integriert sein.

Die Erfindung macht sich u.a. auch den Umstand zunutze, dass entsprechende elektrische Antriebe bei den vorstehend beschriebenen, vergleichsweise moderaten Vakuumbedingungen kommerziell verfügbar sind und problemlos in der ersten Vakuumkammer 110 bzw. in der zweiten Vakuumkammer 120 plat ziert und über geeignete Vakuumdurchführungen angesteuert werden können.

Vorzugsweise sind die Testobjekte 111 , 112, 113, ... in die jeweilige Messposi tion innerhalb der Prüfanordnung 130 überführbar bzw. aus dieser Messpositi on wieder entnehmbar, ohne dass hierbei eine Kollision mit dem jeweiligen dif fraktiven optischen Element 121 , 122, 123, ... erfolgt, was sowohl gemäß Fig. 1 als auch gemäß Fig. 2 über eine seitliche Zuführung des jeweiligen Testobjekts in die Messposition realisiert ist. Auf diese Weise können unterschiedliche Testobjekte 111 , 112, 113, ... (für deren Vermessung z.B. ein- und dasselbe diffraktive optische Element geeignet ist) geprüft werden, ohne dass hierzu das diffraktive optische Element aus der Prüfanordnung 130 bzw. 230 entfernt zu werden braucht.

Die Ausführungsform von Fig. 2 unterscheidet sich von der Ausführungsform von Fig. 1 insbesondere dadurch, dass gemäß Fig. 2 die Prüfanordnung 230 in der (zwischen Atmosphärendruck und Vakuumbedingungen wechselnden) ers ten Vakuumkammer 210 angeordnet ist und demzufolge die Prüfanordnung 230 ebenfalls zwischen Atmosphärendruck und Vakuumbedingungen wech selt.

Gemäß Fig. 2 ist ferner im Unterschied zu Fig. 1 für den Transport der Testob jekte 211 , 212, 213, ... vom äußeren (Atmosphärendruck aufweisenden) Be reich in die erste Vakuumkammer 110 bzw. 210 lediglich eine (durch einen Doppelpfeil symbolisierte) Transporteinrichtung 250 vorgesehen. Gemäß Fig. 2 kann über diese Transporteinrichtung 250 (welche z.B. einen in Atmosphären druck befindlichen Roboter aufweisen kann) das jeweilige Testobjekt 211 , 212, 213, ... direkt in der Messposition in der Prüfanordnung 230 abgelegt werden, woraufhin typischerweise lediglich noch eine Justage um z.B. wenige Mikro meter (pm) zu erfolgen braucht.

Die Ausführungsform von Fig. 2 hat dabei gegenüber der Ausführungsform von Fig. 1 den Vorteil, dass auch vergleichsweise große und schwere Testobjekte wie z.B. EUV-Spiegel mit einem einzigen (z.B. schienenbasierten) Transport system direkt vom äußeren (Atmosphärendruck aufweisenden) Bereich in die jeweilige Messposition überführt werden können, da anders als bei Fig. 1 keine Flindurchführung des Testobjekts durch eine weitere Schleusenöffnung hin zur Prüfanordnung zu erfolgen hat. Andererseits wird gemäß Fig. 2 das Evakuie ren eines im Vergleich zum Volumen der Vakuumkammer 110 aus Fig. 1 größeren Volumens der die Prüfanordnung 230 aufnehmenden Vakuumkam mer 210 in Kauf genommen. Fig. 3 und Fig. 4a-4b zeigen in schematischer Darstellung beispielhafte mögli che Realisierungen der interferometrischen Prüfanordnung 130 bzw. 230 in den vorstehend beschrieben Ausführungsformen.

Gemäß Fig. 3 tritt von einer (nicht dargestellten) Lichtquelle erzeugte und aus der Austrittsfläche eines Lichtwellenleiters 301 austretende Beleuchtungsstrah lung als Eingangswelle 305 mit einer sphärischen Wellenfront aus, durchläuft einen Strahlteiler 310 und trifft anschließend auf ein komplex kodiertes CGH 320. Das CGH 320 erzeugt in Transmission im Beispiel gemäß seiner komple xen Kodierung aus der Eingangswelle 305 insgesamt vier Ausgangswellen, von denen eine Ausgangswelle als Prüfwelle auf die Oberfläche des Testob jekts in Form eines Spiegels 340 mit einer an die Sollform der Oberfläche die ses Spiegels 340 angepassten Wellenfront auftrifft. Des Weiteren erzeugt das CGH 320 aus der Eingangswelle 305 in Transmission drei weitere Ausgangs wellen, von denen jede auf jeweils ein weiteres reflektives optisches Element 331 , 332 bzw. 333 trifft. Mit„335“ ist ein Shutter bezeichnet. Das CGH 320 dient auch zur Überlagerung der vom Testobjekt bzw. Spiegel 340 reflektierten Prüfwelle sowie der von den Elementen 331 -333 reflektierten Referenzwellen, welche als konvergente Strahlen wieder auf den Strahlteiler 310 treffen und von diesem in Richtung einer als CCD-Kamera ausgelegten Interferometerka mera 360 reflektiert werden, wobei sie ein Okular 350 durchlaufen. Die Inter ferometerkamera 360 erfasst ein durch die interferierenden Wellen erzeugtes Interferogramm, aus welchem über eine (nicht dargestellte) Auswerteeinrich tung die tatsächliche Form der optischen Oberfläche des Testobjekts 340 bestimmt wird.

Fig. 4a-b zeigen schematische Darstellungen zur Erläuterung eines weiteren möglichen Funktionsprinzips einer interferometrischen Prüfanordnung zur Prü fung eines Spiegels 401. Gemäß Fig. 4a wird in einer Fizeau-Anordnung ein Interferogramm zwischen an einer Referenzfläche 410 („Fizeau-Platte“) reflek tiertem Referenzlicht (Referenzwelle) und einem an dem Spiegel 401 reflek tierten Messlicht (Prüfwelle) erzeugt. Dabei wird das Messlicht durch ein Com- puter-generiertes Hologramm (CGH) 420 zu einer asphärischen Wellenfront geformt, die mathematisch exakt der„Prüflingsform“ (d.h. der Form des betref fenden Spiegels 401 ) in einem Sollabstand entspricht. Die von der Referenz fläche 410 einerseits und dem betreffenden Spiegel 401 bzw. Prüfling anderer- seits reflektierten Wellenfronten interferieren miteinander in einem (in Fig. 4b im Gesamtaufbau schematisch und bespielhaft dargestellten) Interferometer 405, wobei in Fig. 4b für das Interferometer 405 ein Kollimator 409, eine Strahl teilerplatte 408, eine Blende 407, ein Okular 406 und eine CCD-Kamera 404 sowie eine Lichtquelle 403 dargestellt sind. Mit der CCD-Kamera 404 wird ein Interferogramm des jeweiligen Spiegels aufgenommen.

Wenn die Erfindung auch anhand spezieller Ausführungsformen beschrieben wurde, erschließen sich für den Fachmann zahlreiche Variationen und alterna tive Ausführungsformen, z.B. durch Kombination und/oder Austausch von Merkmalen einzelner Ausführungsformen. Dementsprechend versteht es sich für den Fachmann, dass derartige Variationen und alternative Ausführungs formen von der vorliegenden Erfindung mit umfasst sind und die Reichweite der Erfindung nur im Sinne der beigefügten Patentansprüche und deren Äqui valente beschränkt ist.