Die Erfindung betrifft weiter eine Vakuumbeschichtungsanlage nach dem Oberbegriff von Anspruch 18, ein Substrat mit mindes- tens einer magnetischen Schicht nach demjenigen von Anspruch 20, ein Verfahren zur Herstellung von Substraten nach dem Ober- begriff von Anspruch 22 sowie eine Verwendung der Anordnung nach Anspruch 24.

Bei der Herstellung magnetischer Schichten, z. B. durch Katho- denzerstäuben, ist es oft erwünscht, in diesen Schichten eine magnetische Anisotropie zu erzeugen, welche eine SOLL- Verteilung innerhalb und entlang der Schicht aufweist. Als SOLL-Verteilung wird insbesondere oft eine einachsige, d. h. ko- lineare magnetische Anisotropie verlangt, deren Richtung in be- zug auf das Substrat festgelegt ist.

Unter einer kolinearen Anisotropie bzw. kolinearen Anisotropie- Verteilung sei verstanden eine magnetische Anisotropie, die entlang eines betrachteten Schichtbereiches gleichgerichtet ist. In diesem Sinne kann auch von einer Homogenität der Ani- sotropie"gesprochen werden.

Dabei sind normalerweise nur kleine Winkelabweichungen der Ani- sotropierichtung von der vorgegebenen Richtung erlaubt. Eine derartige Anisotropie in der magnetischen Schicht wird dadurch erreicht, dass während der Substratbeschichtung ein entspre-

chend gerichtetes bzw. ausgerichtetes magnetisches Feld im Be- schichtungsbereich zur Wirkung gebracht wird. Die magnetische Anisotropie hat dann, nach der Beschichtung, die Richtung des vormals angelegten Feldes.

Aus der DE-OS 196 43 841 ist es bekannt, an einem Substratträ- ger, radial versetzt um das Zentrum verteilt, Substrate anzu- ordnen und sie dort mit einem magnetischen Werktstoff zu be- schichten. Der Substratträger wird dabei um die Zentralachse rotiert. Unterhalb der durch die Substrathalterungen am Träger festgelegten Positionierungsebene für die Substrate ist, bezüg- lich der Zentralachse radial ausgerichtet, ein stationärer Elektromagnet mit Spule und Joch vorgesehen, welch letzteres unmittelbar unter der Positionierungsebene ein im wesentlichen radial zur Zentralachse gerichtetes Magnetfeld erzeugt. Dieses Vorgehen ist unter verschiedenen Aspekten nachteilig : Sollen grössere Substrate beschichtet werden, so wird auf- grund der zwingend exzentrischen Lagerung und Substratträger- Rotation die Trägeranordnung ausserordentlich gross und me- chanisch aufwendig. Die Trägergrösse wirkt sich dabei nachteilig aus auf die Beschichtungsrate, beispielsweise mit- tels Sputterquellen.

'Die Herstellung von Substraten mit Mehrlagen-Schichtsystemen aus eventuell verschiedenen magnetischen Materialien verbun- den mit der Forderung, in den verschiedenen magnetischen Schichten unterschiedliche Anisotropie-Verteilungen, insbe- sondere-Richtungen, zu realisieren, kann mit dieser vorbe- kannten Anordnung mit ausschliesslich radial gerichteten Mag- netfeldern nicht realisiert werden, es sei denn, man positio- niere die Substrate jeweils um, um unterschiedliche Anisotro- pierichtungen an unterschiedlichen Substratschichten zu rea- lisieren.

Aus der US-A-5 630 916 ist es bekannt, unterhalb einer Positio- nierungsebene für Substrate einen Elektromagneten vorzusehen, der sich weit über die Ausdehnung des Substrates erstreckt. Um kolineare Feldlinien im Substratbereich zu erzeugen, muss dabei die Dimension des Elektromagneten deutlich grösser sein als die Substratdimension. Es besteht auch hier keine Möglichkeit, bei Mehrlagenschichten auf dem Substrat den magnetischen Einzel- schichten unterschiedliche Anisotropie-Verteilungen, insbeson- dere-Richtungen, aufzuprägen, ohne dafür das Substrat zwischen den einzelnen Beschichtungsschritten geometrisch zu drehen. Ein weiterer Nachteil besteht darin, wie bei allen Anordnungen zur Magnetfelderzeugung im Substratbereich, bei denen eine ge- schlossene Jochplatte eventuell mit Spule unterhalb der Sub- stratebene vorhanden ist, dass es schwierig oder unmöglich ist, mechanische Vorrichtungen z. B. zur Substratbewegung von unten an das Substrat heranzubringen. Solche Vorrichtungen sind aber in modernen Beschichtungsanlagen oft erforderlich, z. B. zum Substrattransport. Gleiche Probleme ergeben sich, wenn das Sub- strat von unten gekühlt oder geheizt werden soll oder auch zum Anbringen von Messeinrichtungen.

Aus der DE-OS 43 12 444 ist ein Vorgehen, ähnlich dem im Zusam- menhang mit der DE-OS 196 43 841 beschriebenen, vorbekannt, bei welchem die Distanz zwischen einem radial angeordneten Perman- tentmagneten und dem exzentrisch drehgelagerten Substrat einge- stellt werden kann.

Aus der EP-A-0 435 838 ist es bekannt, koaxial zu einem Sub- stratträger eine polygonal gewickelte, ebene Spule vorzusehen, womit auf dem zentrisch gelagerten Substrat eine radiale, mag- netische Anisotropie erzielt wird. Die bereits oben aufgeführ- ten Nachteile treffen im wesentlichen auch auf diese Anordnung zu.

Aus der EP-A-0 584 768 ist es weiter bekannt, eine uniaxiale Anisotropie mit kleinen Winkelabweichungen an magnetisch be-

schichteten, rechteckigen Substraten dadurch zu erzeugen, dass parallele Stabmagnete lateral unterhalb des Substrates angeord- net werden. Auch hier ist ein Wechsel zwischen SOLL-Anisotro- pie-Verteilungen nicht möglich, es sei denn, wie bei den vorer- wanten, bekannten Vorgehen, durch mechanisches Drehen von Mag- netanordnung bezüglich Substrat, was nur mit erheblichem Auf- wand realisierbar ist.

Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Anordnung bzw. eine Beschichtungsanlage bzw. ein Herstellungsverfahren vorzu- schlagen, mittels welchen auf einfache Art und Weise eine erwünschte SOLL-Anisotropie- Verteilung an mindestens einer magnetischen Schicht eines Substrates realisierbar ist. Dabei soll insbesondere für die Vakuumbeschichtung eines Substrates mit einer weichmagneti- schen Schicht, die erwünschte SOLL-Anisotropieverteilung eine in vorgegebener Richtung kolineare Anisotropie sein ; ohne mechanische Veränderung der Relativposition von Substrat und Magnetanordnung mehrere auf einem Substrat vorgesehene weichmagnetische Schichten mit unterschiedlichen Anisotropie- Verteilungen, insbesondere-Richtungen, realisiert werden können, indem die zu erzielende Anisotropie-Verteilung bzw.

-Richtung einfach eingestellt werden kann ; grossflächige Substrate mit erwünschter magnetischer Ani- sotropie-Verteilung beaufschlagt werden können, insbesondere mit einer kolinearen in vorgegebener bzw. vorgebbarer Rich- tung. Ganz besonders bei grossflächigen Substraten mit den genannten Schichten soll eine sehr gute Kolinearität der Ani- sotropierichtung, mindestens weitestgehend im gesamten Sub- stratbereich, erreicht werden können.

Diese Aufgabe wird an der erfindungsgemässen Anordnung dadurch gelöst, dass, dem Wortlaut des kennzeichnenden Teils von An-

spruch 1 folgend, die Magnetanordnung mindestens drei Elektro- magnete umfasst, deren Dipol-Achsen mindestens genähert paral- lel zur Positionierungsebene liegen und, senkrecht zur Positio- nierungsebene betrachtet, eine geschlossene Fläche aufspannen.

Dadurch wird es möglich, durch Überlagerung der Felder der Elektromagnete und entsprechender Bemessung und Ausrichtung ih- rer Dipole, in der Positionierungsebene bzw. in der entspre- chenden magnetischen Schicht eines auf der Substrathalterung gehalterten Substrates ein erwünschtes resultierendes Feldli- nienmuster zu realisieren bzw. eine SOLL-Anisotropie-Richtungs- verteilung, und diese z. B. für die Beaufschlagung einer zweiten Schicht höchst einfach umzuschalten, wie noch erläutert werden wird.

In einer bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemässen An- ordnung liegen die Dipolachsen in einer Ebene parallel zur Po- sitionierungsebene. Weiter spannen sie, bevorzugt zusätzlich, bevorzugt ein regelmässiges n-Eck auf, wobei weiter bevorzugt mehr als drei Elektromagnete vorgesehen sind, wobei n die An- zahl der Elektromagnete ist.

Insbesondere mit Blick auf das Bedürfnis, an den erwähnten Schichten eine homogene Verteilung der Anisotropie-Richtung in- nerhalb möglichst grosser Bereiche der Schicht zu realisieren, diese Anisotropie aber bezüglich ihrer Richtung weiterhin höchst einfach ändern zu können, wird vorgeschlagen, dass eine gerade Anzahl Elektromagnete vorgesehen ist, vorzugsweise eine durch 4 teilbare Anzahl, womit-wie noch zu erläutern sein wird-die Elektromagnete, in Quadranten gruppiert, bezüglich ihrer Dipolrichtungen und Dipolstärken, unter Ausnützung von Symmetrien, optimal gestellt und umgestellt werden können.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform umfasst die Mag- netanordnung zwei Elektromagnetgruppen, woran die Elektromagne- ten wie folgt gerichtete Dipole erzeugen :

Die Dipole haben-im Sinne von Vektor-Komponenten-erste Komponenten, parallel zur Positionierungsebene und in einer ersten Richtung, die an den Elektromagneten beider Gruppen gleichgerichtet sind.

Die Dipole haben zweite Komponenten, parallel zur Positionie- rungsebene und senkrecht zu der ersterwähnten Richtung, die an einer Gruppe invers zu denen der zweiten Gruppte gerichtet sind, also in sich kompensierende Richtungen weisen zwischen den Gruppen.

Im weiteren sind in bevorzugter Ausführungsform die Elektromag- nete durch Spulen gebildet, welche auf einen gemeinsamen, die erwähnte Fläche umschlingenden Magnetkern gewickelt sind, dabei bevorzugterweise auf einen gemeinsamen Ringkern.

Die Abstimmung der Dipolgrössen bzw.-betrage an den Elektro- magneten erfolgt in einer ersten Ausführungsform durch Vorsehen von Spulen, die mindestens teilweise unterschiedliche Wick- lungszahlen aufweisen.

Die Elektromagnete sind im weiteren mit Stromgeneratoren ver- bunden, die sie mit DC-und/oder AC-und/oder DC-mit überla- gertem AC-Strom beschicken. Wird AC-Strom eingesetzt, ggf. in Überlagerung mit DC-Strom, dann bevorzugt mit einer Frequenz f, für die gilt : 1 Hz < f < 100 Hz.

Anstelle oder ergänzend zur Einstellung der Dipolgrösse an den vorgesehene Elektromagneten durch Vorsehen von Spulen unter- schiedlicher Wicklungszahlen wird in einer zweiten Ausführung vorgeschlagen, dass mindestens ein Teil der Elektromagnete an Stromgeneratoren angeschlossen ist, die die Elektromagnete mit Strömen beschicken, für die gilt : "Die DC-Stromwerte sind unterschiedlich und/oder

* die AC-Stromamplituden und/oder-phasen sind unterschiedlich.

Somit kann bei vorgesehenem Satz von Elektromagneten die er- wünschte Anisotropie-Verteilung, insbesondere die erwünschte Anisotropie-Richtung, durch Umsteuerung der die Elektromag- netspulen beaufschlagenden Ströme erreicht werden.

Daraus folgt unmittelbar eine weitere bevorzugte Ausführungs- form der erfindungsgemässen Anordnung, bei welcher die Elektro- magnete an einer Stromgeneratoranordnung angeschlossen sind, woran die Verteilung von Ausgangsströmen zu den Elektromagneten in mindestens zwei unterschiedliche Verteilungszustände um- schaltbar ist. Dabei ist es selbstverständlich möglich, mehr als zwei Stromverteilungs-Zustände zu definieren und die Ani- sotropie-Richtung praktisch in beliebiger Richtung von 0° bis 360° in der Positionierungsebene umzusteuern. Unter Verteilung der Ausgangsströme der Generatoren verstehen wir die Verteilung von DC-Werten bzw. AC-Amplitude bzw. gegenseitiger Phasenlage der Ströme, wie sie an einem vorgegebenen Satz der Elektromag- nete erzeugt werden.

Wenn Spulen der Elektromagnete auf einen gemeinsamen Ringkern gewickelt sind, dabei bevorzugterweise eine gerade Spulenzahl, insbesondere bevorzugt eine durch 4 teilbare Anzahl, und wenn eine Symmetrieebene, die die Achse des Ringkernes enthält, die Spule in zwei Gruppen teilt, wobei Richtungskomponenten der Di- pole der Spulen beider Gruppen in Richtung parallel zur erwähn- ten Symmetrieebene gleichgerichtet sind, so wird bevorzugter- weise die Stärke der Dipole mindestens genähert proportional zu einer cos-Funktion gewählt, wobei der Polarlagewinkel der jeweiligen Spule bezüglich der Achse des Ringkernes ist.

Läuft man mithin entlang den Spulen einer Gruppe um den Ring- kern, so sind wie erwähnt bevorzugt die Beträge der erwähnten Dipole nach der erwähnten cos-Funktion ausgelegt. Dadurch wird die Kreisanordnung der Spulen berücksichtigt, mit Blick auf die

Erzeugung einer resultierenden kolinearen Anisotropie. Die Ani- sotropie-Richtung ergibt sich in Richtung der Schnittgeraden der erwähnten Symmetrieebene mit der Positionierungsebene.

Nun ist ohne weiteres ersichtlich, dass durch Umschalten der Verteilung von die Spulen durchfliessenden Strömen die Winkel- lage der erwähnten Symmetrieebene um die Ringkernachse schwenk- bar ist in vorgegebene Winkellagen und/oder, im Bereich 0° bis 360°, vorzugsweise in Schritten, frei wählbar.

Während nämlich die Elektromagnete ortsfest sind, ebenso wie das Substrat auf der Positionierungsebene, ergibt sich durch stromgeführte Umdefinition der erwähnten Symmetrieebene eine Verstellung der resultierenden Anisotropie-Richtung in der Po- sitionierungsebene bzw. am Substrat.

Um im weiteren rasch von einer bevorzugten SOLL-Anisotropie- Verteilung bzw.-Richtung zu einer andern wechseln zu können, insbesondere von der Erzeugung einer kolinearen Anisotropie in einer ersten Richtung hin zur Erzeugung einer kolinearen Ani- sotropie in einer anderen und um hiermit, beispielsweise in zwei magnetischen Schichten eines Substrates, erst eine koli- neare Anisotropie in der einen, darnach, in der zweiten Schicht, in einer zweiten Richtung, z. B. um 90° gedreht, zu er- zeugen, wird vorgeschlagen, dass mindestens zwei der Magnetan- ordnungen vorgesehen sind, welche jeweils selektiv in Betrieb genommen werden.

Dadurch ergibt sich eine weitere Möglichkeit zur Richtungsum- schaltung der Anisotropie-Richtung, hinzukommend zu der oben erwähnten, gemäss welcher diese Änderung an ein und demselben Elektromagnetsatz durch Umsteuerung der dipolerzeugenden Ströme vorgenommen wird. Selbstverständlich ist es ohne weiteres mög- lich, ggf. sowohl zwei oder mehr der erwähnten Magnetanordnun- gen vorzusehen, diese alternativ oder ggf. sogar gemeinsam zu betreiben und hinzukommend die die Dipole an den Elektromagne-

ten der erwähnten Magnetanordnungen erzeugenden Ströme selektiv einzustellen bzw. umzusteuern.

In einer bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemässen An- ordnung mit zwei der Magnetanordnungen wird vorgeschlagen, dass bezüglich einer Achse senkrecht zur Positionierungsebene die Magnetanordnungen koaxial angeordnet sind, dabei vorzugsweise gleich sind, aber bezüglich dieser Achse gegenseitig um einen Winkel, vorzugsweise von 90°, verdreht sind. Dadurch wird, ins- besondere im Falle der oben definierten Symmetrieebene an einem Ringkern, durch jede der Magnetanordnungen eine Symmetrieebene festgelegt, die unterschiedlich gerichtet sind, wie erwähnt be- vorzugterweise einen 90°-Winkel einschliessen. Es ergibt sich dadurch die Möglichkeit, die resultierende Feldrichtung bzw.

Anisotropie-Richtung einfach in einem Umschaltschritt um 90° umzusteuern.

Eine höchst kompakte Bauform, bei der zusätzlich bezüglich der Positionierungsebenen für beide Magnetanordnungen identische Verhältnisse herrschen, wird dadurch erreicht, dass Spulen bei- der Magnetanordnungen auf denselben Kern, vorzugsweise Ring- kern, gewickelt sind.

An der erfindungsgemässen Anordnung ist die Substrathalterung bevorzugterweise zur Aufnahme mindestens eines scheibenförmi- gen, dabei bevorzugt rechteckförmigen oder, und dies besonders bevorzugt, kreisförmigen Substrates ausgebildet. Dabei kann die Substrathalterung aber durchaus für die Aufnahme mehrerer scheibenförmiger Substrate ausgebildet sein. Jedenfalls ist aber bevorzugterweise die Magnetanordnung oder sind die zwei oder mehr Magnetanordnungen symmetrisch zu einer Zentrumsachse durch die Substrathalterung angeordnet. Ist die Substrathalte- rung zur Aufnahme eines Substrates ausgebildet, so wird dieses bezüglich der erwähnten Zentrumsachse zentriert an der Halte- rung vorgesehen, werden mehrere Substrate auf der Halterung

vorgesehen, so in analoger Weise um die erwähnte Achse herum zentriert gruppiert.

Weil mit der erfindungsgemässen Anordnung in der erwähnten Po- sitionierungsebene grossflächig ein kolineares Feldlinienmuster realisierbar ist und daraus entsprechend grossflächig eine ko- lineare Anisotropieverteilung an der oder den magnetischen Schichten eines Substrates, kann in bevorzugter Ausführungsform die Substrathalterung für die Aufnahme mindestens eines schei- benförmigen Substrates mit einem maximalen Durchmesser von min- destens 100 mm, vorzugsweise von mindestens 150 mm, vorzugswei- se gar von 200 mm oder gar von 300 mm, ausgebildet sein.

Dabei erzeugt die erfindungsgemässe Anordnung in bevorzugter Ausführungsform in und entlang der erwähnten Positionierungs- ebene der Substrathalterung, insbesondere entlang Flächen ent- sprechend den eben angegebenen Substratdimensionen, ein Magnet- feld mit kolinearen Feldlinien, die höchstens 5°, vorzugswei- se höchstens 3°, vorzugsweise gar höchstens 2° von idealer Kolinearität bzw. Parallelität abweichen.

Eine erfindungsgemässe Beschichtungsanlage zeichnet sich nach dem Wortlaut von Anspruch 18 aus. Sie weist für die Aufnahme mindestens eines zu beschichtenden Substrates in der Beschich- tungskammer eine Anordnung der vorbeschriebenen Art auf. In ei- ner bevorzugten Ausführungsform weist die Beschichtungsanlage in der Kammer mindestens eine Sputterquelle auf mit einem Tar- get aus magnetischem, vorzugsweise weichmagnetischem Material.

Ein erfindungsgemässes Substrat mit mindestens einer magnet- schen Schicht zeichnet sich nach dem Wortlaut von Anspruch 20 aus. Dabei weist das erfindungsgemässe Substrat in einer bevor- zugten Ausführungsform mindestens zwei magnetische Schichten auf mit je der erwähnten magnetischen Anisotropie bevorzugt in unterschiedlichen Richtungen.

Das erfindungsgemässe Verfahren zeichnet sich im weiteren nach dem Kennzeichen von Anspruch 22 aus.

Mit dem erfindungsgemässen Vorgehen lassen sich nicht nur mag- netische Anisotropien äusserst exakt kolinear und grossflächig in magnetischen Substratschichten erzeugen, sondern es kann hinzukommend die Richtung dieser Anisotropie höchst einfach ge- ändert werden, so dass an Substraten mit zwei und mehr magneti- schen Schichten, jeweils in unterschiedlichen Richtungen, koli- neare Anisotropien erzeugt werden können ohne Umpositionierung der Substrate während des Beschichtungsprozesses.

Die Forderung nach derartigen Substraten mit um 90° verschobe- nen kolinearen Anisotropien ergibt sich z. B. bei der Herstel- lung von magnetischen Sensoren, wie sie in sogenannten Dünn- schichtköpfen für Festplatten, in der Sensorik des KFZ- Bereiches und in sogenannten MRAMs (Magnetic RAM, siehe z. B.

Hubert Brückl,"Non-Volatile Memory", Magnetic Storage Industry Sourcebook, 1999) Verwendung finden. Im weiteren wird die er- wähnte Forderung auch bei der Herstellung von Mehrlagen- Schichtsystemen, die nach dem"spin valve"-Prinzip (s. B.

Ocker, W. Maass et al.,"Spin Valves for High Density", Magne- tic Storage) aufgebaut sind, gestellt.

Eine weitere Anwendung der Erfindung ist die magnetische Mess- technik, bei der z. B. die magnetischen Eigenschaften magneti- scher Schichten oder Werkstoffe vermessen werden. Bei diesen Messungen ist es in vielen Fällen nötig, kolineare, homogene Magnetfelder in verschiedenen Richtungen an die zu messenden Proben anzulegen.

Das im oben erwähnten Zusammenhang erfindungsgemäss realisierte Vorgehen eignet sich somit gemäss erfindungsgemässer Verwendung für alle Einsatzzwecke, wo in einer bestimmten Ebene grossflä- chig eine bestimmte Magnetfeldverteilung erwünscht ist, dabei insbesondere wiederum eine homogene, kolineare Feldverteilung

über grössere Flächenbereiche, wobei hierfür die genannte Ebene anstelle der obengenannten Positionierungsebene definiert wird.

Die Erfindung wird anschliessend beispielsweise anhand von Fi- guren erläutert. Es zeigen : Fig. 1 Schematisch und in Minimalkonfiguration, eine erfin- dungsgemässe Anordnung zur Realisation des erfindungs- gemässen Herstellungsverfahrens der erfindungsgemässen Substrate ; Fig. 2 schematisch, in Aufsicht, die Anordnung nach Fig. 1 ; Fig. 3 in Aufsicht analog zur Darstellung von Fig. 2, eine bevorzugte Ausführungsform der erfindungsgemässen An- ordnung für die Erzeugung grossflächiger, kolinearer Magnetfelder und damit-Anisotropien, selektiv Rich- tungs-umschaltbar ; Fig. 4 schematisch, die elektrische Beschaltung der Spulen an der Anordnung gemäss Fig. 3 bei gleicher Strombeauf- schlagung unterschiedlich gewickelter Spulen ; Fig. 5 im Querschnitt, die Spulenanordnung bei Realisation nach Fig. 4, mit selektiv in Betrieb zu nehmenden Spu- lensätzen ; Fig. 6 in einer Abwicklungsdarstellung, im Querschnitt, die Wicklungsverhältnisse an Spulen bei der Realisation nach den Fig. 4 und 5 für die Richtungsumschaltung der realisierten Anisotropie ; Fig. 7 schematisch, die Realisation der Anordnung nach Fig.

3, mit Stromumschaltung zu den Spulen für Richtungs- wechsel der realisierten Anisotropie ; Fig. 8 an einem kreisscheibenförmigen, weichmagnetisch be- schichteten Substrat die erfindungsgemäss realisierte

magnetische Anisotropie, dargestellt an der einen Hälfte des Substrates ; Fig. 9 einen Ausschnitt einer weiteren bevorzugten Ausfüh- rungsform der erfindungsgemässen Anordnung, und Fig. 10 den Querschnitt eines bevorzugt ausgeformten, an der Anordnung gemäss Fig. 9 eingesetzten Flussführungsstü- ckes.

In Fig. 1 ist, schematisch und in Seitensicht, eine erfindungs- gemässe Anordnung zur Magnetisierung dünner Schichten darge- stellt, in Minimalkonfiguration. In Aufsicht ist die Anordnung in Fig. 2 dargestellt. Die erfindungsgemässe Anordnung umfasst eine Substrathalterung 1, woran-wie gestrichelt dargestellt- gebogene, in bevorzugter Anwendungsform aber insbesondere plane Substrate 3 gehaltert werden. Jedenfalls definiert die Sub- strathalterung 1 eine Positionierungsebene E für wie auch immer geformte Substrate 3. Die Halterung 1 ist dabei, im Einsatz, Teil einer Vakuumbeschichtungskammer 5 mit einer in Fig. 1 schematisch dargestellten Beschichtungsquelle 7, bevorzugt ei- ner Sputterquelle, insbesondere einer Magnetronsputterquelle.

Unterhalb der Positionierungsebene E, definiert durch die Sub- strathalterung 1, ist die erfindungsgemässe Magnetanordnung 8 vorgesehen. Sie umfasst mindestens drei Elektromagnete 9 mit den ihren Spulen zugeordneten elektrischen Anschlüssen, wie insbesondere in Fig. 2 schematisch dargestellt ist.

Gemäss Fig. 2 definiert jeder Elektromagnet 9a bis 9c einen magnetischen Dipol, entsprechend Da bis De, welch letztere wie- derum magnetische Dipol-Achsen Aa bis Ac definieren. Wie sich aus Fig. 1 ohne weiteres ergibt, brauchen die Elektromagnete 9 nicht zwingend, mit ihren Dipol-Achsen A, in einer Ebene zu liegen, was aber weitaus bevorzugt ist. Liegen sie nicht in ei- ner Ebene, wie in Fig. 1 dargestellt, so kann durchaus der Ein- fluss unterschiedlicher Abstände zur Ebene E durch das an den

jeweiligen Elektromagneten 9 erzeugte Magnetfeld kompensiert werden.

Wie in Fig. 2 aber ersichtlich, umranden die Dipol-Achsen A der vorgesehenen Elektromagnete 9 in Aufsicht auf die Positionie- rungsebene E jedenfalls eine in sich geschlossene Fläche F.

Ausgehend von der Minimalkonfiguration nach Fig. 1 werden be- vorzugterweise mehr als drei Elektromagnete vorgesehen, bei deren Anzahl n, die Dipol-Achsen A1n, in der Ansicht gemäss Fig. 2 ein n-Eck, vorzugsweise ein regelmässiges n-Eck, aufspannen.

Im weiteren werden die Elektromagnete jeweils durch Spulen gebildet, welche gemeinsam auf einen die Fläche F gemäss Fig.

2 umschlingenden Magnetkern, dabei bevorzugt Ringkern, gewi- ckelt sind.

Obwohl die Figuren 1 und 2 im Zusammenhang mit der Realisation einer erwünschten Anisotropie-Verteilung, insbesondere einer kolinearen, an einer oder mehreren magnetischen Schichten eines Substrates erläutert worden sind, geht ohne weiteres insbeson- dere für den Fachmann hervor, dass Bedingung der Realisation einer derartigen Anisotropie-Verteilung ist, in der Ebene E ei- ne entsprechende Magnetfeldverteilung, insbesondere eine koli- neare homogene Magnetverteilung, zu erzielen. Damit kann nun diese und die nachfolgend beschriebene Vorrichtung überall dort eingesetzt werden, wo entsprechend grossflachig-wie noch zu erläutern sein wird-eine homogene kolineare Magnetfeldvertei- lung in einer Ebene entsprechend E erwünscht ist, welche bezüg- lich ihrer Richtung auf einfache Art und Weise eingestellt wer- den kann.

In Fig. 3 ist eine bevorzugte Realisationsform der erfindungs- gemässen Magnetanordnung 8a bzw. deren Elektromagnete 9 in An- sicht gemäss Fig. 2 dargestellt, insbesondere für die Realisa-

tion einer magnetischen Anisotropie an einer magnetischen, bei- spielsweise gemäss Fig. 1 aufgesputterten Schicht, mit weitge- hendst über die ganze Substratausdehung kolinearen Feldlinien, mit einer Winkelabweichung von idealer Parallelität von höchs- tens 5°, vorzugsweise von höchstens 3°, vorzugsweise gar von höchstens 2°.

Die in Fig. 3 dargestellte Magnetanordnung umfasst eine gerade Anzahl Magnete 9, gebildet durch Spulen auf einem gemeinsamen Ringkern 11. Mit Z ist das Zentrum der Magnetanordnung-hier des Ringkernes-dargestellt, welches, bei der Beschichtung von zentrischen Substraten, wie insbesondere kreisförmiger oder rechteckförmiger bzw. quadratischer, in der in Fig. 1 bei M an- gedeuteten Zentrumsachse des Substrates 3 liegt.

Werden an der Substrathalterung 1 gemäss Fig. 1 mehr als ein Substrat angeordnet, so bevorzugterweise zentrisch um die Achse M und entsprechend, mit Blick auf Fig. 3, um die Achse Z grup- piert.

Wie aus Fig. 3 ersichtlich, sind die Spulen der Magnete 9 pro Quadrant mit den Nr. 1 bis 6 durchnumeriert. Im weiteren sind in Fig. 3 die bevorzugt eingesetzten Dipolrichtungen eingetra- gen. Wie ersichtlich, wird die gerade Anzahl gesamthaft vorge- sehener Elektromagnete 9 durch eine Ebene E2, welche die Achse Z enthält und wovon in Fig. 3 lediglich die Achse AS1 ersicht- lich ist, in zwei Gruppen geteilt werden. Jede der Gruppen, nämlich einerseits der in den Quadranten 1 und 4 enthaltenen Elektromagnete 9 sowie, anderseits, der in den Quadranten 2 und 3 enthaltenen Magnete 9, erzeugen Dipole mit einer Richtungs- komponente parallel zu den Ebenen E2 und E (gemäss Fig. 1), welche an beiden Gruppen gleichgerichtet sind.

Dipol-Richtungskomponenten senkrecht zur erwähnten, also in Richtung AN2 gemäss Fig. 3, d. h. senkrecht zur Ebene E2 sind aber in der einen Gruppe G41, für die Quadranten 1 und 4 invers

zu den entsprechenden Richtungskomponenten der Dipole in der Gruppe G32 mit den Quadranten 2 und 3 gerichtet. Im weiteren werden die Beträge der erwähnten Dipole unterschiedlich gross ausgelegt, was durch Vorsehen unterschiedlicher Windungszahlen an den Spulen der Elektromagnete 9 und/oder durch Ansteuerung der Elektromagnetspulen gleicher oder unterschiedlicher Win- dungszahlen mit entsprechend bemessenen unterschiedlichen Strö- men realisiert wird. In der in Fig. 3 dargestellten Ausfüh- rungsform sind die Beträge der magnetischen Dipole an den Grup- pen zugeordneter Elektromagnetspulen wie ersichtlich bezüglich der Ebene E2 bzw. der Achse AS1 spiegelbildlich gewählt.

In der nachfolgenden Tabelle sind die Spulen wie folgt nume- riert : Qx,y r worin x die Quadrantennummer und y die Spulennummer gemäss Fig.

3 bezeichnet.

Normiert auf den Betrag der geringsten Spulenfeldstärke in ei- nem Quadranten sind in der nachfolgenden Tabelle-für die Er- zeugung einer Anisotropie in Richtung = 0°, d. h. in Richtung von AN2 in Fig. 3 sowie für eine diesbezüglich um 90° gedrehte Anisotropie-Richtung, gemäss AN1-die pro Spule zu erzeugenden Feldstärke-Beträge bzw. Dipolstärken zusammengestellt.

Bevorzugterweise werden die Beträge und Richtungen der magneti- schen Dipole, mit als polarer Ortskoordinate der jeweiligen betrachteten Elektromagnetspule, mindestens genähert proportio- nal zur Funktion cos ausgelegt.

Die unterschiedlichen Feldstärke-Beträge und damit Dipol-Werte an den jeweiligen Spulen können-wie erwähnt-durch Vorsehen unterschiedlicher Wicklungszahlen an den Spulen, entsprechend den in genannter Tabelle zusammengestellten Gewichtungsfakto-

ren, realisiert werden und/oder durch Beaufschlagung der Spulen mit den Gewichtungsfaktoren entsprechenden Strömen. Bevorzug- terweise werden entweder Spulen mit gleichen Windungszahlen und Gewichtung durch Beaufschlagung mit unterschiedlichen Strömen gewählt oder Spulen mit unterschiedlichen Windungszahlen, be- aufschlagt mit gleichen Strömen. Eine Mischform ist aber durch- aus möglich.

Tabelle 1 Quadrant Nr. Anisotropie-Anisotropie- Spulen Nr. Richtung Richtung bei 00 bei 90' Q11-Q21-Q31-Q41 1 7, 5 6 Q12 = Q22 = Q32 = Q42 2,92 7,05 Q13 = Q23 = Q33 = Q43 4,65 6,05 Q14 = Q24 = Q34 = Q44 6,05 4,65 Q15 = Q25 = Q35 = Q45 7,05 2,92 Q16 = Q26 = Q36 = Q46 7,56 1 Es ist nun ohne weiteres ersichtlich, dass durch Umsteuerung der die Spulen der Elektromagnete 9 beschickenden Ströme die Lage der Ebene E2 gemäss Fig. 3 gedreht werden kann. Erfolgt beispielsweise die Gewichtung der Dipole durch entsprechende Strombemessung so, dass für die erwähnte cos-Funktion der Nullwinkel bei 2 liegt, ergibt sich eine entsprechende Dipol- Polaritätsumkehr an den Spulen Q25, Q26 und Q46, Q45, mit dem Er- gebnis einer Schwenkung der Richtung des kolinearen Feldes und damit auch der erzeugten kolinearen Anisotropie um #2. Durch Umsteuerung der die Spulen ansteuernden Stromgeneratoren kann die erwähnte Richtung in einzelnen, vorgewählten Schritten oder, von Spule zu Spule inkrementell, von 0° bis 360° bezüg- lich der Achse Z elektrisch umgesteuert werden.

Eine weitere Realisationsform ist in den Figuren 4 und 5 darge- stellt.

Bei dieser Realisationsform ist die Umschaltung der Anisotro- pie-Richtung, beispielsweise von AN1 auf AN2 gemäss Fig. 3, da- durch zu realisieren, dass auf denselben Kern 11 gemäss Fig. 3, bevorzugterweise koaxial zur Kernachse, jeweils zwei, ggf.- für mehr als zwei umschaltbare Anisotropie-Richtungen-mehr als zwei Spulen gewickelt werden. Schematisch ist dies in Fig.

5 dargestellt, mit Ringkern 11 im Querschnitt und Spule des Satzes I und koaxial hierzu Spule des Satzes II.

Die Wicklungszahlen für die Spulen und deren Beschaltung erge- ben sich aus Fig. 4 In Fig. 6 ist dies schematisch für einen der Quadranten darge- stellt. Die in obiger Tabelle angegebenen Gewichtungsfaktoren sind auch hier eingetragen.

Das zweite Prinzip in Reinform ist dasjenige der Stromgewich- tung bei Spulen mit gleicher Wicklungszahl.

Gemäss Fig. 7 werden in diesem Fall die Spulen über eine Strom- verteilelektronik 20 mit den gewichteten Stromwerten versorgt.

Es muss betont werden, dass sich für die Realisation der Strom- umschaltung an der Einheit 20 dem Fachmann viele Möglichkeiten eröffnen, und dass die in Fig. 7 in Analogie zu der Tabelle aufgeführten Gewichtungsfaktoren nur erläuternden Charakter ha- ben sollen.

Bei diesem Vorgehen ist die Umschaltung von der Erzeugung der einen Anisotropie-Richtung, beispielsweise AN1, zur zweiten, beispielsweise AN2 gemäss Fig. 3, ohne einen zweiten Spulensatz vorsehen zu müssen einfach, indem lediglich die Spulenströme umgeschaltet werden.

Anstelle von sechs Spulen pro Quadrant können selbstverständ- lich je nach Anforderungen an die zu erzielende Genauigkeit der IST-Anisotropie-Verteilung bezüglich einer vorgegebenen SOLL- Anisotropie-Verteilung mehr oder weniger Spulen vorgesehen wer- den.

Mit der in Fig. 3 dargestellten Anordnung, dimensioniert nach der Tabelle und mit Aussendurchmesser 0 = 450 mm, wurden kreis- scheibenförmige Substrate mit Durchmesser 05 = 150 mm und 05 = 200 mm während der Herstellung einer Schicht aus Permalloy mag- netisiert. Es wurden Spulen gleicher Wicklungszahl eingesetzt, mit unterschiedlichen Stromstärken und Stromrichtungen in den Einzelspulen.

Die Stromstärken wurden im wesentlichen gemäss den in der Ta- belle angegebenen Gewichtungsfaktoren realisiert. Der Abstand zwischen den in einer Ebene liegenden Dipolachsen zu der be- schichteten Oberfläche der planen kreisscheibenförmigen Sub- strate betrug 70 mm. Die Substrate bestanden aus Silizium.

In Fig. 8 ist die gemessene Richtung der Feldlinien als Funkti- on des Ortes dargestellt. Entsprechend ergibt sich eine für Substrate mit Os = 150 mm eine maximale Abweichung der Ani- sotropie-Richtung von der SOLL-Richtung von höchstens 1°.

Für 05 = 200 mm-Substrate wird die maximale Abweichung höchs- tens 3°.

In Fig. 9 ist der Ausschnitt einer weiteren bevorzugten Ausfüh- rungsform der erfindungsgemässen Anordnung dargestellt. Dabei sind Spulen 9 in einer der bis anhin beschriebenen Arten auf einen Ringkern 11 gewickelt. Zwischen den Spulen 9 sind Fluss- führungsstücke 12 aus Eisen gemäss Fig. 10 aufgesetzt. Sie wei- sen jeweils gegen das Zentrum Z gerichtete Flussführungsnasen 15 auf. Durch Vorsehen dieser Flussführungsstücke 12 wird bei

ansonsten gleichen Strömen durch die Spulen 9 ein stärkeres Magnetfeld erreicht, welches aber ebenfalls die erwünschte ko- lineare Anisotropie bzw. kolineare Anisotropie-Verteilung auf- weist.

Durch die vorgeschlagene Technik wird es möglich, insbesondere kolineare Magnetfelder relativ zu einem Substrat ohne mechani- sche Vorrichtungen zu drehen. An Substraten werden kolineare Feldbereiche erzielt, entlang der wesentlichsten Substratflä- chenbereiche, und dies an grossflächigen Substraten oder kreis- scheibenförmigen bzw. quadratischen.