MÜLLER, Hartwig (Heierkoppel 14, Lütjensee, 22952, DE)
SIEBELS, Sönke (Preystrasse 6, Hamburg, 22303, DE)
MÜLLER, Hartwig (Heierkoppel 14, Lütjensee, 22952, DE)
| P a t e n t a n s p r ü c h e 1. Vorrichtung zur Plasmabehandlung von Werkstücken, die mindestens eine evakuierbare Plasmakammer zur Aufnahme der Werkstücke aufweist und bei der die Plasmakammer im Bereich einer Behandlungsstation angeordnet ist, sowie bei der die Plasmakammer von einem Kammerboden, einem Kammerdeckel sowie einer seitlichen Kammerwandung begrenzt ist und bei der die Plasmakammer mit einer Einrichtung zur steuerbaren Zuführung und/oder Ableitung von Prozeßgasen gekoppelt ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Plasmakammer (17) auf einem rotationsfähigen Plasmarad (2) angeordnet ist, das von einem stationären Sockel (15) gelagert ist und daß im Bereich des Sockels (15) mindestens ein Prozeßgaskanal (40) angeordnet ist, der mindestens bereichsweise von einer Abdeckung (43) begrenzt ist, die als Teil des Plasmarades (2) ausgebildet ist, sowie daß die Abdeckung (43) mindestens eine Verbindungsöffnung (44) zum Prozeßgaskanal (40) auf- weist, die über einen Verbindungskanal (45) und mindestens ein Steuerventil (46) mit einem Innenraum der Plasmakammer (17) koppelbar ist. 2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sich der Prozeßgaskanal (40) im Wesentlichen konzentrisch zu einer Rotationsachse des Plasmarades (2) erstreckt . 3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2 , dadurch gekennzeichnet, daß das Steuerventil (46) im Bereich eines Ventilblockes (47) angeordnet ist. 4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß sich innerhalb des Ventilblockes (47) mindestens ein das Steuerventil (46) mit der Plasmastation (3) verbindender Kanal erstreckt, 5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Kanal mindestens eine KanalVerzweigung zur Verbindung des Steuerventils (46) mit mindestens zwei Ka- vitäten (4) aufweist. 6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5 , dadurch gekennzeichnet, daß die Kavitäten (4) reihenartig entlang eines Umfanges des Plasmarades (2) angeordnet sind. 7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß eine Kammerwandung (18) der Plasmastation (3) in einer vertikalen Richtung positionierbar angeordnet ist. 8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß ein Mikrowellengenerator (19) relativ zu einem Stations ahmen (16) der Plasmastation (3) unbeweglich angeordnet ist. 9. Vorrichtung nach Anspruch 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß der Plasmakanal (40) relativ zur Plasmastation (3) innenliegend auf dem Plasmarad (2) angeordnet ist. 10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß der Prozeßgaskanal (40) eine im Wesentlichen rechteckförmige Querschnittfläche aufweist und in lotrechter Richtung nach oben von der Abdeckung (43) begrenzt ist. |
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Plasmabehand- lung von Werkstücken, die mindestens eine evakuierbare Plasmakammer zur Aufnahme der Werkstücke aufweist und bei der die Plasmakammer im Bereich einer BehandlungsStation angeordnet ist, sowie bei der die Plasmakammer von einem Kammerboden, einem Kammerdeckel sowie einer seitlichen Kammerwandung begrenzt ist und bei der die Plasmakammer mit einer Einrichtung zur steuerbaren Zuführung und/oder Ableitung von Prozeßgasen.
Derartige Verfahren und Vorrichtungen werden beispielsweise eingesetzt, um Kunststoffe mit Oberflächenbeschichtungen zu versehen, insbesondere sind auch bereits derartige Vorrichtungen bekannt, um innere oder äußere Oberflächen von Behältern zu beschichten, die zur Verpackung von Flüssigkei- ten vorgesehen sind. Darüber hinaus sind Einrichtungen zur Plasmasterilisation bekannt.
In der PCT-WO 95/22413 wird eine Plasmakammer zur Innenbe- schichtung von Flasche aus PET beschrieben. Die zu beschichtenden Flaschen werden durch einen beweglichen Boden in eine Plasmakammer hineingehoben und im Bereich einer Flaschenmündung mit einem Adapter in Verbindung gebracht. Durch den Adapter hindurch kann eine Evakuierung des Fla- scheninnenraumes erfolgen. Darüber hinaus wird durch den Adapter hindurch eine hohle Gaslanze in den Innenraum der Flaschen eingeführt, um prozeßgas zuzuführen. Eine Zündung des Plasmas erfolgt unter Verwendung einer Mikrowelle.
Aus dieser Veröffentlichung ist es auch bereits bekannt, eine Mehrzahl von Plasmakammern auf einem rotierenden Rad anzuordnen. Hierdurch wird eine hohe Produktionsrate von Flaschen je Zeiteinheit unterstützt.
In der EP-OS 10 10 773 wird eine Zuführeinrichtung erläutert, um einen Flascheninnenraum zu evakuieren und mit Prozeßgas zu versorgen. In der PCT-WO 01/31680 wird eine Plasmakammer beschrieben, in die die Flaschen von einem beweglichen Deckel eingeführt werden, der zuvor mit einem Mündungsbereich der Flaschen verbunden wurde.
Die PCT-WO 00/58631 zeigt ebenfalls bereits die Anordnung von Plasmastationen auf einem rotierenden Rad und beschreibt für eine derartige Anordnung eine gruppenweise Zuordnung von Unterdruckpumpen und Plasmastationen, um eine günstige Evakuierung der Kammern sowie der Innenräume der Flaschen zu unterstützen. Darüber hinaus wird die Beschich- tung von mehreren Behältern in einer gemeinsamen Plasmastation bzw. einer gemeinsamen Kavität erwähnt. Eine weitere Anordnung zur Durchführung einer Innenbe- schichtung von Flaschen wird in der PCT-WO 99/17334 beschrieben. Es wird hier insbesondere eine Anordnung eines Mikrowellengenerators oberhalb der Plasmakammer sowie eine Vakuum- und Betriebsmittelzuleitung durch einen Boden der Plasmakammer hindurch beschrieben.
In der DE 10 2004 020 185 AI wird bereits eine Gaslanze beschrieben, die in den Innenraum eines zu beschichtenden Vorformlings einfahrbar ist und zur Zuleitung von Prozeßgasen dient. Die Gaslanze ist in der Längsrichtung des Behälters positionierbar.
Bei der überwiegenden Anzahl der bekannten Vorrichtungen werden zur Verbesserung von Barriereeigenschaften des thermoplastischen Kunststoffmaterials durch das Plasma erzeugte Behälterschichten aus Siliziumoxiden mit der allgemeinen chemischen Formel SiO x verwendet. Derartige Barriereschichten verhindern ein Eindringen von Sauerstoff in die verpackten Flüssigkeiten sowie ein Austreten von Kohlendioxid bei C0 2 -haltigen Flüssigkeiten.
Die Plasmastationen sind typischerweise an Unterdruckquellen mit unterschiedlich hohen Unterdrücken anzuschließen, darüber hinaus ist es erforderlich, zur Durchführung der Plasmabehandlung unterschiedliche Prozeßgase zuzuführen. Die Steuerung dieser Zuführung und Ableitung von Prozeßgasen erfolgt typischerweise unter Verwendung von Steuerventilen, die ausgangsseitig mit der Plasmakammer und ein- gangsseitig über Verbindungsleitungen mit den zugeordneten Prozeßgasquellen verbunden sind. Die entsprechende Verbindung mit den Prozeßgasquellen gestaltet sich relativ aufwendig, wenn die Plasmakammern gemeinsam mit den Ventilen auf einem rotationsfähigen Plasmarad angeordnet sind. In diesem Fall werden die Ventile zunächst über Leitungen mit einem Drehverteiler verbunden, der dann seinerseits über weitere Verbindungsleitungen mit den stationär angeordneten Prozeßgasquellen verbunden wird.
Die vorstehend beschriebene Verbindungstechnik führt zu einer Vielzahl von Kupplungen und Verbindungselementen, die bei längeren Betriebszeiten undicht werden können. Hinsichtlich der Verbindung der Plasmakammern mit den Unterdruckquellen werden darüber hinaus relativ große Leitungs- querschnitte erforderlich, um Strömungsverluste zu vermeiden.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Vorrichtung der einleitend genannten Art derart zu konstruieren, daß eine effektive Prozeßgasversorgung der Plasmakammern unterstützt wird.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die Plasmakammer auf einem rotationsfähigen Plasmarad angeordnet ist, das von einem stationären Sockel gelagert und daß im Bereich des Sockels mindestens ein Prozeßgaskanal angeordnet ist, der mindestens bereichsweise von einer Abdek- kung begrenzt ist, die als Teil des Plasmarades ausgebildet ist, sowie daß die Abdeckung mindestens eine Verbindungsöffnung zum Prozeßgaskanal aufweist, die über einen Verbindungskanal und mindestens ein Steuerventil mit einem Innenraum der Plasmakammer koppelbar ist.
Die Anordnung des Prozeßgaskanals stationär im Bereich des Sockels sowie die Anordnung des Steuerventils im Bereich der mit dem Plasmarad rotierenden Abdeckung ermöglicht eine äußerst kompakte Konstruktion. Der Prozeßgaskanal kann sich in unmittelbarer räumlicher Nähe der Plasmakammer erstrek- ken und mit einem großen Querschnitt versehen werden. Die Versorgung der Plasmakammer erfolgt hierdurch mit einem geringen Strömungswiderstand. Darüber hinaus wird die Anzahl der miteinander zu verbindenden Bauelemente gegenüber dem Stand der Technik erheblich vermindert und hierdurch die Gefahr von Leckagen reduziert. Hinsichtlich des laufenden Betriebes werden darüber hinaus erforderliche Service- und Wartungsarbeiten minimiert .
Die erfindungsgemäße Vorrichtung ist insbesondere dafür geeignet, den Ablauf eines Beschichtungsverf hrens für Flaschen aus Kunststoff zu unterstützen. Es erfolgt hierbei insbesondere eine InnenbeSchichtung dieser Flaschen mit einer Schicht aus SiOx, wobei die Haftung der Schicht aus Si- Ox auf dem Kunststoff durch eine Zwischenschicht verbessert werden kann, die als ein Haftvermittler ausgebildet ist. Das Beschichtungsverfahren wird vorzugsweise als ein PICVD- Plasmaprozess durchgeführt (Plasma impuls induced Chemical vapour deposition) . Bei einem derartigen Verfahren wird das Plasma unter Verwendung von Pulsen einer Mikrowelle gezündet. Die Pulse können hinsichtlich ihrer Pulsbreite, des Pulsabstandes sowie der Pulshöhe gesteuert werden.
Eine Abdichtung zwischen der Abdeckung und den Wandungen des Prozeßgaskanals wird dadurch vereinfacht, daß sich der Prozeßgaskanal im Wesentlichen konzentrisch zu einer Rotationsachse des Plasmarades erstreckt.
Eine kompakte Konstruktion wird dadurch unterstützt, daß das Steuerventil im Bereich eines Ventilblockes angeordnet ist. Ebenfalls wird die Kompaktheit der Anordnung dadurch unterstützt, daß sich innerhalb des Ventilblockes mindestens ein das Steuerventil mit der Plasmastation verbindender Kanal erstreckt .
Eine gleichzeitige Versorgung einer Mehrzahl von Kavitäten wird dadurch unterstützt, daß der Kanal mindestens eine Kanalverzweigung zur Verbindung des Steuerventils mit mindestens zwei Kavitäten aufweist.
Die Zuführung und Ableitung zu behandelnder Werkstücke wird dadurch erleichtert, daß die Kavitäten reihenartig entlang eines Umfanges des Plasmarades angeordnet sind.
Im wesentlichen ausschließlich horizontal verlaufende Tränsportwege der Werkstücke können dadurch erreicht werden, daß eine Kammerwandung der Plasmastation in einer vertikalen Richtung positionierbar angeordnet ist.
Eine lange Betriebsfähigkeit der Mikrowellengeneratoren wird dadurch unterstützt, daß ein Mikrowellengenerator relativ zu einem Stationsrahmen der Plasmastation unbeweglich angeo dnet ist .
Eine kompakte Konstruktion des Plasmarades sowie eine gute Zugänglichkeit wird dadurch unterstützt, daß der Plasmakanal relativ zur Plasmastation innenliegend auf dem Plasmarad angeordnet ist.
Ebenfalls trägt es zu einer kompakten Konstruktion sowie zu einer guten Zugänglichkeit bei, daß der Prozeßgaskanal eine im Wesentlichen rechteckförmige Querschnittfläche aufweist und in lotrechter Richtung nach oben von der Abdeckung begrenzt ist. In den Zeichnungen sind Ausführungsbeispiele der Erfindung schematisch dargestellt. Es zeigen:
Eine Prinzipskizze einer Mehrzahl von Plasmakam- mern, die auf einem rotierenden Plasmarad angeordnet sind und bei der das Plasmarad mit Eingabe- und Ausgaberädern gekoppelt ist, eine Anordnung ähnlich zu Fig. 1, bei der die Plasmastationen jeweils mit zwei Plasmakammern ausgestattet sind, eine perspektivische Darstellung eines Plasmarades mit einer Vielzahl von Plasmakammern, eine perspektivische Darstellung einer Plasmastation mit einer Kavität, eine Vorderansicht der Vorrichtung gemäß Fig. 4 mit geschlossener Plasmakammer, einen Querschnitt gemäß Schnittlinie VI-VI in Fig. 5, eine teilweise Darstellung eines Vertikalschnittes durch den stationären Sockel und die Bearbeitungs- station zur Veranschaulichung der Zuordnung der Prozeßgaskanäle und der Steuerventile,
Fig. 8 eine perspektivische Darstellung einer Plasmastation mit vier Kavitäten und Fig. 9 eine perspektivische Darstellung einer zu Reinigungszwecken hochgeklappten plattenartigen Ventil- halterung ,
Aus der Darstellung in Fig. 1 ist ein Plasmamodul (1) zu erkennen, das mit einem rotierenden Plasmarad (2) versehen ist. Entlang eines ümfanges des Plasmarades (2) sind eine Mehrzahl von Plasmastationen (3) angeordnet. Die Plasmastationen (3) sind mit Kavitäten (4) bzw. Plasmakammern (17) zur Aufnahme von zu behandelnden Werkstücken (5) versehen.
Die zu behandelnden Werkstücke (5) werden dem Plasmamodul
(I) im Bereich einer Eingabe (6) zugeführt und über ein Vereinzelungsrad (7) an ein Übergaberad (8) weitergeleitet, das mit positionierbaren Tragarmen (9) ausgestattet ist. Die Tragarme (9) sind relativ zu einem Sockel (10) des Übergaberades (8) verschwenkbar angeordnet, so daß eine Abstandsveränderung der Werkstücke (5) relativ zueinander durchgeführt werden kann. Hierdurch erfolgt eine Übergabe der Werkstücke (5) vom Übergaberad (8) an ein Eingaberad
(II) mit einem relativ zum Vereinzelungsrad (7) vergrößerten Abstand der Werkstücke (5) relativ zueinander. Das Eingaberad (11) übergibt die zu behandelnden Werkstücke (5) an das Plasmarad (2) . Nach einer Durchführung der Behandlung werden die behandelten Werkstücke (5) von einem Ausgaberad
(12) aus dem Bereich des Plasmarades (2) entfernt und in den Bereich einer Ausgabestrecke (13) überführt.
Bei der Ausführungsform gemäß Fig. 2 sind die Plasmastationen (3) jeweils mit zwei Kavitäten (4) bzw. Plasmakammern (17) ausgestattet. Hierdurch können jeweils zwei Werkstücke (5) gleichzeitig behandelt werden. Grundsätzlich ist es hierbei möglich, die Kavitäten (4) vollständig voneinander getrennt auszubilden, grundsätzlich ist es aber auch mög- lieh, in einem gemeinsamen Kavitätenraum lediglich Teilbereiche derart gegeneinander abzugrenzen, daß eine optimale Beschichtung aller Werkstücke (5) gewährleistet ist. Insbesondere ist hierbei daran gedacht, die Teilkavitäten zumindest durch separate Mikrowelleneinkopplungen gegeneinander abzugrenzen.
Fig. 3 zeigt eine perspektivische Darstellung eines Plasmamoduls (1) mit teilweise aufgebautem Plasmarad (2) . Die Plasmastationen (3) sind auf einem Tragring (14) angeordnet, der als Teil einer Drehverbindung ausgebildet und im Bereich eines Maschinensockels (15) gelagert ist. Die Plasmastationen (3) weisen jeweils einen Stationsrahmen (16) auf, der Plasmakammern (17) haltert. Die Plasmakammern (17) weisen zylinderförmige Kammerwandungen (18) sowie Mikrowellengeneratoren (19) auf. in einem Zentrum des Plasmarades (2) ist ein Drehverteiler (20) angeordnet, über den die Plasmastationen (3) mit Betriebsmitteln sowie Energie versorgt werden. Zur Betriebs- mittelverteilung können insbesondere Ringleitungen (21) eingesetzt werden.
Die zu behandelnden Werkstücke (5) sind unterhalb der zylinderförmigen Kammerwandungen (18) dargestellt. Unterteile der Plasmakammern (17) sind zur Vereinfachung jeweils nicht eingezeichnet .
Fig. 4 zeigt eine Plasmastation (3) in perspektivischer Darstellung. Es ist zu erkennen, daß der Stations ahmen (16) mit FührungsStangen (23) versehen ist, auf denen ein Schlitten (24) zur Halterung der zylinderförmigen Kammerwandung (18) geführt ist. Fig. 4 zeigt den Schlitten (24) mit Kammerwandung (18) in einem angehobenen Zustand, so daß das Werkstück (5) freigegeben ist.
Im oberen Bereich der Plasmastation (3) ist der Mikrowellengenerator (19) angeordnet. Der Mikrowellengenerator (19) ist über eine Umlenkung (25) und einen Adapter (26) an einen Kopplungskanal (27) angeschlossen, der in die Plasmakammer (17) einmündet. Grundsätzlich kann der Mikrowellengenerator (19) sowohl unmittelbar im Bereich des Kammerdek- kels (31) als auch über ein Distanzelement an den Kammerdeckel (31) angekoppelt mit einer vorgebbaren Entfernung zum Kammerdeckel (31) und somit in einem größeren Umgebungsbereich des Kammerdeckels (31) angeordnet werden. Der Adapter (26) hat die Funktion eines Übergangselementes und der Kopplungskanal (27) ist als ein Koaxialleiter ausgebildet. Im Bereich einer Einmündung des Kopplungskanals (27) in den Kammerdeckel (31) ist ein Quarzglasfenster angeordnet. Die Umlenkung (25) ist als ein Hohlleiter ausgebildet.
Das Werkstück (5) wird von einem Halteelement (28) positioniert, das im Bereich eines Kammerbodens (29) angeordnet ist. Der Kammerboden (29) ist als Teil eines Kammersockels (30) ausgebildet. Zur Erleichterung einer Justage ist es möglich, den Kammersockel (30) im Bereich der Führungsstangen (23) zu fixieren. Eine andere Variante besteht darin, den Kammersockel (30) direkt am Stationsrahmen (16) zu befestigen. Bei einer derartigen Anordnung ist es beispielsweise auch möglich, die Führungsstangen (23) in vertikaler Richtung zweiteilig auszuführen.
Fig. 5 zeigt eine Vorderansicht der Plasmastation (3) gemäß Fig. 3 in einem geschlossenen Zustand der Plasmakammer (17) . Der Schlitten (24) mit der zylinderförmigen Kammerwandung (18) ist hierbei gegenüber der Positionierung in Fig. 4 abgesenkt, so daß die Kammerwandung (18) gegen den Kammerboden (29) gefahren ist. In diesem Positionierzustand kann die Plasmabeschichtung durchgeführt werden.
Fig. 6 zeigt in einer Vertikalschnittdarstellung die Anordnung gemäß Fig. 5. Es ist insbesondere zu erkennen, daß der Kopplungskanal (27) in einen Kammerdeckel (31) einmündet, der einen seitlich überstehenden Flansch (32) aufweist. Im Bereich des Flansches (32) ist eine Dichtung (33) angeordnet, die von einem Innenflansch (34) der Kammerwandung (18) beaufschlagt wird, in einem abgesenkten Zustand der Kammerwandung (18) erfolgt hierdurch eine Abdichtung der Kammerwandung (18) relativ zum Kammerdeckel (31) . Eine weitere Dichtung (35) ist in einem unteren Bereich der Kammerwandung (18) angeordnet, um auch hier eine Abdichtung relativ zum Kammerboden (29) zu gewährleisten.
In der in Fig. 6 dargestellten Positionierung umschließt die Kammerwandung (18) die Kavität (4), so daß sowohl ein Innenraum der Kavität (4) als auch ein Innenraum des Werkstückes (5) evakuiert werden können. Zur Unterstützung einer Zuleitung von Prozeßgas ist im Bereich des Kammersok- kels (30) eine hohle Gaslanze (36) angeordnet, die in den Innenraum des Werkstückes (5) hineinverfahrbar ist. Zur Durchführung einer Positionierung der Gaslanze (36) wird diese von einem Lanzenschlitten (37) gehaltert, der entlang der Führungsstangen (23) positionierbar ist. Innerhalb des Lanzenschlittens (37) verläuft ein Prozeßgaskanal (38) , der in der in Fig. 6 dargestellten angehobenen Positionierung mit einem Gasanschluß (39) des Kammersockels (30) gekoppelt ist , Durch diese Anordnung werden schlauchartige Verbindungselemente am Lanzenschlitten (37) vermieden. Alternativ zur vorstehend erläuterten Konstruktion der Plasmastation ist es erfindungsgemäß aber auch möglich, das Werkstück (5) in eine relativ zur zugeordneten Tragstruktur unbewegliche Plasmakammer (17) einzuführen. Ebenfalls ist es möglich, alternativ zur dargestellten Beschichtung der Werkstücke (5) mit ihren Mündungen in lotrechter Richtung nach unten eine Beschichtung der Werkstücke mit ihren Mündungen in lotrechter Richtung nach oben durchzuführen. Insbesondere ist daran gedacht, eine Beschichtung von fla- schenförmigen Werkstücken (5) durchzuführen. Derartige Flaschen sind ebenfalls bevorzugt aus einem thermoplastischen Kunststoff ausgebildet. Vorzugsweise ist an die Verwendung von PET oder PP gedacht. Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform dienen die beschichteten Flaschen zur Aufnahme von Getränken.
Ein typischer Behandlungsvorgang wird im folgenden am Beispiel eines BeschichtungsVorganges erläutert und derart durchgeführt, daß zunächst das Werkstück (5) unter Verwendung des Eingaberades (11) zum Plasmarad (2) transportiert wird und daß in einem hochgeschobenen Zustand der hülsenartigen Kammerwandung (18) das Einsetzen des Werkstückes (5) in die Plasmastation (3) erfolgt.
Nach einem Abschluß des Einsetzvorganges wird die Kammerwandung (18) in ihre abgedichtete Positionierung abgesenkt und zeitlich versetzt folgt eine Verschiebung des Halteelementes (28) , so daß eine Abschottung des Innenraumes des Werkstückes (5) gegenüber dem Innenraum der Kavität (4) entsteht. Anschließend wird die Gaslanze (36) in den Innenraum des Werkstückes eingefahren. Ebenfalls ist es möglich, die Gaslanze (36) bereits synchron zur beginnenden Absenkung der Kavität (4) in den Innenraum des Werkstücks (5) hinein zu verfahren. Es folgt eine gleichzeitige oder zeit- lieh versetzte Evakuierung der Kavität (4) sowie vom Innenraum des Werkstückes (5) . Nach einer ausreichenden Evakuierung des Innenraumes der Kavität (4) wird der Druck im Innenraum des Werkstückes (5) anschließend noch weiter abgesenkt. Darüber hinaus ist auch daran gedacht, die Positionierbewegung der Gaslanze (36) wenigstens teilweise bereits parallel zur Positionierung der Kammerwandung (18) durchzuführen.
Nach Erreichen eines ausreichend tiefen Unterdruckes wird Prozeßgas in den Innenraum des Werkstückes (5) eingeleitet und mit Hilfe des Mikrowellengenerators (19) das Plasma gezündet. Insbesondere ist daran gedacht, mit Hilfe des Plasmas sowohl einen Haftvermittler auf eine innere Oberfläche des Werkstückes (5) als auch die eigentliche Barriereschicht aus Siliziumoxiden abzuscheiden.
Nach Abschluß des Beschichtungsvorganges wird die Plasmakammer (17) sowie der Innenraum des Werkstückes (5) belüftet. Nach Erreichen des Umgebungsdruckes innerhalb der Kavität (4) und im Innenraum des Werkstückes (5) wird die Kammerwandung (18) wieder angehoben und die Gaslanze (36) wieder aus dem Innenraum des Werkstückes (5) entfernt. Eine Entnahme des beschichteten Werkstückes (5) sowie eine Eingabe eines neuen zu beschichtenden Werkstückes (5) kann nun durchgeführt werden.
Eine Positionierung der Kammerwandung (18) , des Dichtelementes (28) und / oder der Gaslanze (36) kann unter Verwendung unterschiedlicher Antriebsaggregate erfolgen. Grundsätzlich ist die Verwendung pneumatischer Antriebe und / oder elektrischer Antriebe, insbesondere in einer Ausführungsform als Linearmotor, denkbar. Insbesondere ist aber daran gedacht, zur Unterstützung einer exakten Bewegungsko- ordinierung mit einer Rotation des Plasmarades (2) eine Kurvensteuerung zu realisieren. Die Kurvensteuerung kann beispielsweise derart ausgeführt sein, daß entlang eines Umfanges des Plasmarades (2) Steuerkurven angeordnet sind, entlang derer Kurvenrollen geführt werden. Die Kurvenrollen sind mit den jeweils zu positionierenden Bauelementen gekoppelt .
Fig. 7 veranschaulicht die Anzahl einer Mehrzahl von Prozeßgaskanälen (40) im Bereich des Maschinensockels (15) . Die Prozeßgaskanäle (40) weisen jeweils einen Boden (41) und Seitenwände (42) auf, die fest mit dem Maschinensockel (15) verbunden sind. Dem Boden (41) gegenüberliegend ist eine Abdeckung (43) angeordnet, die als Teil des Plasmarades (2) ausgebildet ist. Die Abdeckung (43) ist abgedichtet gegenüber den Seitenwänden (42) geführt.
Im Bereich der Abdeckung (43) sind Verbindungsöffnungen (44) angeordnet, die in die Prozeßgaskanäle (40) einmünden. Die Verbindungsöffnungen (44) sind jeweils über Verbindungskanäle (45) mit Steuerventilen (46) gekoppelt.
Die Steuerventile (46) steuern eine Verbindung der Plasmastationen (3) mit den Prozeßgaskanälen (40) und somit auch mit den zugeordneten Prozeßgasversorgungen, insbesondere ist daran gedacht, die Steuerventile (46) im Bereich eines Ventilblockes (47) anzuordnen, der seinerseits mit dem Kammersockel (30) verbunden ist.
Bei einer Anordnung von mehreren Kavitäten (4) im Bereich der Plasmastation (3) sind im Bereich des Ventilblockes (47) Kanalverzweigungen angeordnet, um ein bestimmtes Prozeßgas über jeweils nur ein Steuerventil (46) der Mehrzahl an Kavitäten (4) zuführen zu können bzw. ein Anschluß an eine Unterdruckversorgung zu realisieren.
Typischerweise erstrecken sich die Prozeßgaskanäle (40) konzentrisch zu einem Mittelpunkt des Plasmarades (2) . Im dargestellten Ausführungsbeispiel sind die Prozeßgaskanäle
(40) nach oben offen und werden im Bereich ihrer oberen Ausdehnung mit der Abdeckung (43) versehen. Grundsätzlich ist aber auch jede andere räumliche Orientierung der Prozeßgaskanäle (40) denkbar, beispielsweise mit der Abdeckung
(43) unterhalb der Prozeßgaskanäle oder neben den Prozeßgaskanälen.
Fig. 8 veranschaulicht eine Plasmastation (3) mit vier Kavitäten (4) . Der Mikrowellengenerator (19) weist typischerweise eine Anzahl von Mikrowellenmodulen (48) auf, die der Anzahl der Kavitäten (4) entspricht. Hierdurch kann jeder der Kavitäten (4) ein separates Mikrowellenmodul (48) zugeordnet werden.
Eine Positionierung der Kammerwandung (18) erfolgt gemäß einer bevorzugten Aus ührungsform mechanisch unter Verwendung einer Kurvensteuerung. Entlang einer entsprechenden Kurvenbahn wird hierbei eine mit der Kammerwandung (18) verbundene Kurvenrolle (49) geführt.
Für die Positionierung des Lanzenschlittens (37) wird bevorzugt ebenfalls eine mechanische Kurvensteuerung verwendet. Der Lanzenschlitten (37) ist hierzu mit einer Kurvenrolle (50) versehen.
Eine Positionierung der in Fig. 8 nicht zu erkennenden Gas- lanzen (36) relativ zum Lanzenschlitten (37) erfolgt bevorzugt unter Verwendung eines Pneumatikzylinders (51) Durch die Kombination der mechanischen Steuerung sowie der pneumatischen Steuerung lassen sich die Vorgänge des Abdichtens der Kavitäten (4) und der Werkstücke (5) sowie das eigentliche Einfahren der Gaslanzen (36) in die Werkstücke (5) hinein entkoppeln.
Fig. 9 zeigt eine perspektivische Darstellung des Ventil- blockes (47) . Es ist zu erkennen, daß eine Tragplatte (52) , die die Steuerventile (46) trägt, relativ zu einem Basiselement (53) verschwenkbar angeordnet ist. Hierzu ist ein Schwenkgelenk (54) verwendet. Das Schwenkgelenk (54) wird vorzugsweise auf einer Seite des Basiselementes (53) angeordnet, die in einer radialen Richtung des Plasmarades (2) innenliegend ist. Bei dem in Fig. 9 dargestellten hochgeklappten Betriebszustand sind hierdurch Unterseiten der Steuerventile (56) sowie im Bereich des Basiselementes (53) angeordnete Ventilsitze gut zugänglich und können gereinigt werden.
Nach einem Zurückschwenken der Tragplatte (52) in eine geschlossene Positionierung wird die Tragplatte (52) relativ zum Basiselement (53) von einem Fixierelement (55) arretiert. Das Fixierelement (55) kann als eine Schraube ausgebildet sein.
Eine Anordnung der einzelnen Prozeßgaskanäle (40) in einer radialen Richtung des Plasmarades (2) erfolgt vorzugsweise in Abhängigkeit vom jeweils maßgeblichen strömungstechnischen Leitwert. Hierunter versteht man den Quotienten aus Volumenstrom und Druck. Je größer dieser Leitwert ist, umso kritischer werden die vakuumtechnischen Anforderungen. Dies bedeutet, daß mit zunehmendem volumenströmen bzw. abnehmenden Drücken erhöhte Anforderungen gestellt werden. Radial innenliegend und somit am weitesten von der Plasmastation (3) entfernt wird der Prozeßgaskanal (40) mit dem relativ höchsten Unterdrück angeordnet. Hier liegt der geringste vakuumtechnische Leitwert vor. In radialer Richtung des Plasmarades (2) nach außen und somit mit geringeren Abständen zur Plasmastation (3) folgen dann die Prozeßgasversorgungen mit zunehmenden zu berücksichtigenden Leitwerten.