Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Materialver¬ dampfung mittels Vakuumlichtbogenentladung in einer Un- terdruckkammer mit einer selbstverzehrenden Kathode (2) mit einer kühlbaren Kathodenzuführung (1) , auf der die Kathode befestigt ist und einer selbstverzehrenden heißen Anode, wobei an der Anodenbasisplatte (6) über ein Ver¬ bindungsstück (7a) ein Tiegel (7) befestigt ist und über der Kathode (2) eine die Kathode abschirmende Blende (13) angeordnet ist, der Tiegel (7) aus einem elektrisch leit¬ fähigen und wärmeleitfähigen Material besteht und das Verbindungsstück (7a) aufgrund seiner Materialeigen¬ schaften oder seiner geometrischen Eigenschaften eine elektrisch leitende und wärmeisolierende Befestigung des Tiegels (7) an der Anodenbasisplatte (6) ermöglicht. Ein weiterer Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Materialverdampfung.

Bei der Erzeugung dünner Überzüge auf Werkstücken durch Aufdampfen von Materialien im Vakuum sind in den letzten Jahren zunehmend die plasma- und ionengestützten Be- schichtungsverfahren in den Vordergrund getreten. Dies hat seine Ursache in der besseren Qualität der erzeugten Beschichtungen, die sich insbesondere durch eine bessere Haftung der Schichten und eine kompaktere Schichtstruktur gegenüber den klassischen Verfahren hervorheben.

Zu den bisher industriell eingesetzten bekannten plasma¬ gestützten Beschichtungsverfahren zählen die Kathoden¬ zerstäubung, das Ionenplattieren sowie die Verdampfung durch Lichtbögen. Die Lichtbögen arbeiten sowohl mit

Glühkathoden (US-PS 4,197,157) oder Hohlkathoden (US-PS 3,562,141). Beide Kathodenarten benötigen zur Aufrecht¬ erhaltung der Bogenentladung ein Prozeßgas.

Eine weitere Gruppe der Lichtbögen sind die sogenannten

Vakuumlichtbögen, die ohne Prozeßgas arbeiten. Bei diesen übernimmt verdampftes Elektrodenmaterial die Funktion des

Prozeßgases. Der von den sich selbstverzehrenden Elektro- den erzeugte Materialdampf dient neben der Aufrechterhal¬ tung der Lichtbogenentladung auch zur Erzeugung von Über¬ zügen auf Werkstücken. So ist aus D.M. Sanders "Review of ion-based coating processes derived from the cathodic are", J. Vac. Sci.Technol. A7, No. 3, 2339 (1989) ein Vakuumlichtbogen mit selbstverzehrender Kaltkathode be¬ kannt und aus der DE-34 13 891 weiterhin ein Vakuumlicht¬ bogen, bei dem die aus einer selbstverzehrenden Kalt¬ kathode entstehenden Elektronen zur Verdampfung von Ma¬ terial an der Anode verwendet werden.

Dabei ist die als Verdampfungstiegel ausgebildete Anode zu einer kalten Kathode so angeordnet, daß die aus den

Kathodenflecken von der Arbeitsfläche der Kaltkathode ausgehenden Plasmaströme die Außenwandung des anodischen Verdampfungstiegels so stark aufheizen, daß das in diesem

Verdampfungstiegel befindliche Verdampfungsgut verdampft und der entstehende Materialdampf oberhalb des Tiegels mit den von den Kathodenflecken ausgehenden Plasmaströmen in Wechselwirkung tritt, so daß dieser Materialdampf ionisiert wird.

Ein ..gemeinsamer Nachteil der erwähnten plasmagestützen Beschichtungsmethoden liegt in den geringen Auftrags¬ raten, die bei industriell einsetzbaren Vorrichtungen

unter 1 μm/min liegen. Daraus resultieren bei der Anwend¬ barkeit plasmagestützter Verfahren im industriellen Ma߬ stab geringe Produktionsgeschwindigkeiten, die mit den klassischen thermischen Aufdampfverfahren, die ohne Überführung des Verdampfungsguts in den Plasmazustand arbeiten, _ unter Kostengesichtspunkten nicht konkurrieren können.

Das technische Problem der Erfindung besteht darin, eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Materialverdampfung bereitzustellen, mit der bzw. dem Auftragsraten von mehr als 1 μm/min erreicht werden, um so eine kostengünstige, qualitativ hochwertige Vakuumbedampfung von Massenarti¬ keln zu ermöglichen.

Das technische Problem wird dadurch gelöst, daß der Tiegel (7) seitlich oberhalb der Arbeitsfläche der Ka¬ thode (2a) so nahe an dieser Arbeitsfläche angeordnet ist, daß der Raumwinkel, der von dem vom Anodentiegel (7) abströmenden Metalldampfplasma (9) gebildet wird, gerade nicht durch die Blende (13) so verringert wird, daß eine homogene Bedampfung von Substraten oberhalb des Tiegels (7) nicht mehr möglich ist und die Kathode (2) und die Anode gegenüberliegend angeordnet sind.

Das technische Problem wird weiterhin durch ein Verfahren zur Materialverdampfung mittels Vakuumlichtbogenentladung in einer Unterdruckkammer mit einer selbstverzehrenden Kathode (2) mit einer kühlbaren Kathodenzuführung (1) und einer selbstverzehrenden heißen Anode gelöst, die aus der Anodenbasisplatte (6), einem Verbindungsstück (7a) und dem Tiegel (7) besteht, wobei der Wärmetransport vom Anodentiegel (7) zur Anodenbasisplatte (6) gering gehal¬ ten wird, die von den Kathodenflecken ausgehenden Plasma¬ ströme (5a, 5b) auf die Außenwandung des Tiegels (7b) und

auf dem Materialdampf oberhalb des Tiegels (9) ungehin¬ dert einwirken können, so daß ein hoher Verdampfungsgrad erreicht wird und der Tiegel (7) aus einem elektrisch leitfähigen und wärmeleitfähigen Material besteht.

Bei einer besonders bevorzugten Ausführungsform besteht der Tiegel aus Titandiborid, Wolfram oder einer Misch¬ keramik aus Bornitrid, Titandiborid und Aluminiumnitrid.

Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren und der erfindungsge¬ mäßen Vorrichtung werden qualitativ hochwertige Beschich¬ tungen mit Auftragsraten auf Werkstücken von mehr als 1 μm/sec ermöglicht, so daß eine Massenproduktion unter wirtschaftlichen Gesichtspunkten durchführbar wird.

Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren konnten in 15 cm Ab¬ stand vom Lichtbogen die in Tabelle 1 dargestellten Auf¬ tragsraten erreicht werden. Die in den Lichtbogen einge- koppelte Leistung betrug jeweils 3 kW.

TABELLE 1

Verdaiipfungsπaterial Tiegelmaterial Abstand Auftragsrate

Anode-Kathode

u inium Kαpfer Silber

Die hier aufgeführten Werte für die Auftragsrate lassen sich mit höheren Lichtbogenleistungen steigern.

Die angegebenen Auftragsraten übertreffen bei weitem die mit anderen plasmagestützten bzw. ionengestützten Verfah¬ ren erreichbaren Werte. So sind mit der für Beschichtun- gen am häufigsten angewandten Kathodenzerstäubung selbst bei Anwendung extremer Leistungen von < 50 kW kaum Auf¬ tragsraten über 1 μm/min zu erreichen.

Wird die in den Lichtbogen eingebrachte Leistung zugrunde gelegt, so übertreffen die Auftragsraten des erfindungs¬ gemäßen Verfahrens auch bei weitem jene, die mit Licht¬ bögen mit Glühkathode, Hohlkathode oder selbstverzehren¬ der Kaltkathode ohne Anodenverdampfung erreicht werden.

Das vorliegende erfindungsgemäße Verfahren zeichnet sich somit aus durch eine effektive Ausnutzung der in den Lichtbögen eingebrachten Leistung für den Verdampfungs¬ prozeß. Aufgrund dieser Effektivität lassen sich mit re¬ lativ geringen elektrischen Leistungen hohe Verdampfungs- raten erreichen.

Weiterhin führt die effektive Ausnutzung der in den Lichtbogen eingebrachten Leistung zu einer geringeren Wärmeproduktion und damit zu einer geringeren Wärmebe- lastung der zu beschichtenden Werkstücke und einem ge¬ ringeren Verbrauch an elektrischer Energie und an Kühl¬ wasser.

Aufgrund der schnellen Aufheizung des Verdampfungsguts und der nachfolgend hohen Verdampfungsrate ist das er¬ findungsgemäße Verfahren auch für eine quasi-kontinuier- liche Produktionsweise geeignet, bei der die zu be¬ schichtenden Werkstücke über Schleusen in die Be- schichtungskammer hinein- bzw. hinausgelangen und der Beda pfungsprozeß nur während der Verweilzeit des Werk¬ stücks in der Vakuumkammer eingeschaltet wird.

Figur 1 zeigt eine Vorichtung, die zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens geeignet ist.

Figur 2 zeigt die gleiche Vorrichtung, wobei jedoch die Kathode und die Anode in unerwünschter Weise zueinander angeordnet sind.

Figur 3 zeigt eine bevorzugte Anordnung der Vorrichtung nach Figur 1, wobei Anode und Kathode zueinander geneigt angeordnet sind.

Figur 1 zeigt eine gekühlte Kathodenzuführung (1) mit dem Kathodenmaterial (2) und einer Haltevorrichtung (3) für das Kathodenmaterial (2) . Die Vorrichtung (3) dient gleichzeitig zur Fixierung der Kathodenflecke (5) auf der Arbeitsfläche (2a) des Kathodenmaterials (2) . Die Licht¬ bogenentladung wird mittels einer Zündeinrichtung (4) , die nur symbolhaft dargestellt ist, nach dem Stand der Technik gezündet.

Die Anode besteht aus einer Anodenhalterung (Anodenbasis¬ platte) (6) , einem Anodentiegel (7) und einer elektrisch leitenden Verbindung (7a) zwischen Halterung (6) und Tiegel (7) . Die Verbindung (7a) ermöglicht aufgrund ihrer Material- oder geometrischen Eigenschaften eine elek¬ trisch leitende und wärmeisolierende Befestigung des Tie¬ gels (7) an der Anodenbasisplatte (6) . In einer bevorzug¬ ten Ausführungsform besitzt das Verbindungsstück (7a) einen so bemessenen elektrischen Widerstand, daß es sich durch den zum Tiegel fließenden Strom aufheizt.

Es ist vorteilhaft, die Verbindung (7a) so auszubilden, daß ein geringer Wärmetransport vom Tiegel (7) zur Hal¬ terung (6) stattfindet.

Innerhalb des Anodentiegels (7) ist das Verdampfungsgut (8) angebracht. Verbrauchtes Verdampfungsgut (8) kann durch Material in Drahtform (10) nachgeführt werden. Hierzu ist das nachführbare Material (10) auf einer Drahtrolle gespeichert und wird in der üblichen Art über Antriebsrollen (11) und ein Führungsrohr (12) dem Ver¬ dampfungstiegel (7) zugeführt.

Der Anodentiegel (7) ist gegenüber der Arbeitsfläche der Kathode (2a) geometrisch so angeordnet, daß von den Ka¬ thodenflecken ausgehende Plasmaströme (5a, 5b) sowohl auf die Außenwandung des Tiegels (7b) als auch auf den Mate¬ rialdampf (9) oberhalb des Tiegels einwirken. In einer bevorzugten Ausführungsform können die Plasmaströme (5a, 5b) von jeweils getrennten Kathoden ausgehen. Der Plasma¬ strom (5a) , der die Außenwandung (7b) des Tiegels (7) trifft, bewirkt aufgrund der hohen Energien der im Plasmastrom mitgeführten Teilchen (5) eine schnelle und starke Aufheizung des Tiegels und damit auch eine starke Aufheizung des Verdampfungsguts. Es ist daher besonders vorteilhaft, wenn der Tiegel aus einem gut wärmeleitfähi¬ gen Material besteht. Diese starke Aufheizung führt zu einer stürmischen Verdampfung des Verdampfungsguts (8) . Der Plasmastrom (5b) tritt mit dem Materialdampf (9) oberhalb des Tiegels in Wechselwirkung. Infolge inela¬ stischer Stoßprozesse zwischen den Partikeln des Plasma¬ stroms (5b) und des Materialdampfs führt diese Wechsel¬ wirkung zur Ausbildung eines dichten Plasmas oberhalb des Tiegels. Dieses Plasma trifft auf das Verdampfungsgut (8) im Tiegel (7) , was zu einer weiteren Energiezufuhr zum Verdampfungsgut und damit zu einer Steigerung der Ver¬ dampfungsgeschwindigkeit führt. Der aus der ionisierten Dampfwolke oberhalb des Tiegels in das umgebende Vakuum abströmende ionisierte Metalldampf kann dann für Be- schichtungszwecke genutzt werden.

Für eine qualitativ hochwertige Beschichtung ist es not¬ wendig, die von den Kathodenflecken (5) ausgehenden und im Plasmastrahl (5a, 5b) mitgeführten Metalltröpfchen vom zu beschichtenden Objekt fernzuhalten. Zu diesem Zweck ist die in Figur 1 dargestellte Blende (13) oberhalb der Kathode angebracht, die den kathodischen Plasmastrom (5a, 5b) auf einen Raumbereich außerhalb des zu beschichtenden Objekts begrenzt. Die Blende (13) erfordert einen mini¬ malen Abstand zwischen Arbeitsfläche (2a) der Kathode und Anodentiegel (7) , da bei zu geringem Abstand eine uner¬ wünschte räumliche Begrenzung (14) des vom Anodentiegel (7) abströmenden Metalldampfplasmas (9) erfolgt. Der Tiegel (7) ist daher seitlich oberhalb der Arbeitsfläche der Kathode (2) so nahe an dieser Arbeitsfläche angeord¬ net, daß der Raumwinkel, der von dem vom Anodentiegel (7) abströmenden Metalldampfplasma (9) gebildet wird, gerade nicht durch die Blende (13) verringert wird, so daß noch eine homogene Bedampfung von Substraten oberhalb des Tiegels (7) erfolgt.

Figur 2 zeigt eine Anordnung von Anode und Kathode, wie sie nicht erwünscht ist. Hier ist der Abstand zwischen der Arbeitsfläche (2a) der Kathode und dem Anodentiegel (7) so gering, daß das abströmende Metalldampfplasma (9) durch die Blende (13) behindert wird. Wenn die Elektroden zu dicht zusammenstehen, wird durch die Abschattung (14) ein Raumwinkel nicht genutzt und in dieser Richtung ange¬ ordnete Substrate werden nicht beschichtet.

Zur Erzielung hoher Verdampfungsgeschwindigkeiten ist es vorteilhaft, wenn das Verbindungsstück (7a) zur elek¬ trischen Kontaktierung des Verdampfungsguts (8) und/ oder des Tiegels (7) den Wärmetransport zwischen Tiegel (7) und Halterung (6) behindert. Eine Behinderung des Wärme¬ transportes kann in einer bevorzugten Ausführungsform

dadurch erreicht werden, daß das Verbindungsstück (7a) relativ lang (ca. 5 cm) ist und mit geringem Querschnitt ausgebildet ist. Diese geometrisch verursachte Verringe¬ rung des Wärmetransports wird jedoch begrenzt durch die erforderliche mechanische Stabilität des Verbindungs¬ stücks (7a) . Weiterhin kann es in einer besonders bevor¬ zugten Ausführungsform vorteilhaft sein, wenn das Ver¬ bindungsstück (7a) einen so bemessenen elektrischen Wi¬ derstand besitzt, daß infolge des Stromflusses im Licht¬ bogen das Verbindungsstück (7a) durch diesen Stromfluß aufgeheizt wird und hierdurch eine Wärmeabfuhr vom Tiegel (7) zur Halterung (6) verhindert wird oder die elek¬ trische Aufheizung des Verbindungsstücks (7a) durch den Stromfluß sogar eine zusätzliche Energiezufuhr zum Tiegel (7) bewirkt. Weiterhin ist es vorteilhaft, wenn ein mög¬ lichst großer Teil der Außenwandung (7b) des Tiegels vom Plasmastrom (5a) beaufschlagt wird. Dies wird besonders günstig dadurch erreicht, daß die Anode der Kathode gegenüberliegend angeordnet ist und der Tiegel (7) seit¬ lich oberhalb der Arbeitsfläche der Kathode (2a) ange¬ bracht ist. Der Tiegel (7) soll weiterhin aus einem gut warmeleitfahigem Material bestehen, damit die Wärme von der Tiegelaußenwandung (7b) effektiv zum Verdampfungsgut geleitet wird.

Figur 3 zeigt eine Anordnung, in der eine Kathode und eine Anode etwas geneigt zueinander angeordnet sind. Diese Anordnung bietet den Vorteil, daß einmal das schmelzflüssige Verdampfungsgut (8) infolge der Schwer¬ kraft zur Anodenspitze (zur Kathode weisendes Ende des Verdampfungstiegels (7)) fließt. Die Anodenspitze wird aufgrund der Nähe zur Kathode besonders stark durch den Plasmastrom (5a) aufgeheizt. Die Schrägstellung des

Tiegels (7) bewirkt eine stetige Benetzung der Anoden¬ spitze mit schmelzflüssigem Verdampfungsgut und damit eine effektive Verdampfung.

Zum anderen bewirkt die Schrägstellung eine weitere Ein¬ engung des vom Plasmastrom (5a, 5b) durchsetzten Raum¬ bereiches oberhalb des Tiegels (7) , so daß ein größerer Raumbereich für Beschichtungszwecke zur Verfügung steht.