Elle vise plus particulièrement, mais non nécessairement exclusivement, le cas où ce substrat est une lentille ophtalmique.

Quelle que soit la nature minérale, organique ou composite, de leur matière constitutive, il est connu qu'il est parfois nécessaire d'appliquer après fabrication aux lentilles ophtalmiques un quelconque traitement de surface de nature à en renforcer certaines caractéristiques ou de nature à leur conférer des caractéristiques particulières.

II peut s'agir, par exemple, d'un traitement antireflet et/ou d'un traitement de durcissement.

La présente invention vise plus particulièrement, encore, le cas où la réalisation d'un tel traitement se fait par dépôt d'un revtement formé d'au moins une couche de matériau, et où, pour un tel dépôt, il est procédé par évaporation, et, plus précisément, par évaporation sous vide.

Le plus souvent, le revtement est un revtement multicouches, c'est-à-dire un revtement impliquant 1'empilement de plusieurs couches les unes sur les autres.

Les diverses couches ainsi mises en oeuvre peuvent tre constituées de matériaux différents, de matériaux identiques déposés sous des épaisseurs différentes, ou, encore, de matériaux identiques déposés sous des épaisseurs identiques.

Dans ce dernier cas, les couches sont déposées avec des paramètres d'évaporation différents, de sorte que leurs propriétés physico-chimiques sont différentes.

Par exemple, pour un traitement antireflet, il est ainsi couramment procédé à un empilement d'au moins six couches à I'aide de quatre matériaux

différents, à savoir une couche d'accrochage, quatre couches répondant aux effets optiques recherchés, et une couche hydrophobe.

Le plus souvent, également, un grand nombre de substrats sont traités en mme temps, et 1'enceinte de traitement mise en oeuvre pour ce faire comporte, intérieurement, d'une part, un support, qui, monté rotatif, présente, répartis autour de son axe de rotation, une pluralité d'emplacements propres à recevoir chacun un substrat à traiter, et qui, en pratique, est globalement en forme de calotte sphérique, et, d'autre part, une source émettrice, à partir de laquelle le matériau à déposer est évaporé.

En pratique, cette source émettrice est constituée par un support sur lequel est disposé le matériau à évaporer, par exemple un creuset ou une platine, et, pour son évaporation, le matériau est par exemple soumis à un échauffement par effet Joule, à un bombardement électronique, ou à un effet de pulvérisation cathodique.

Dans tous les cas, I'une des difficultés à surmonter tient à ce que, pour des raisons évidentes, il importe que le ou les dépôts effectués se fassent de manière uniforme sur chacun des substrats, et qu'ils soient identiques pour 1'ensemble de ceux-ci.

Or, le cône d'évaporation d'un matériau n'est en pratique pas isotrope.

II n'est pas rare, dans ces conditions, d'observer une différence entre les épaisseurs des couches d'un substrat à un autre, en fonction du matériau déposé, des paramètres conditionnant l'évaporation de celui-ci, de la géométrie de 1'enceinte de traitement mise en oeuvre, et de la position de la source émettrice dans cette enceinte de traitement.

Pour minimiser, sinon annuler, cette différence, qui peut notamment conduire à des disparités intempestives de caractéristiques, et, en particulier, de teintes, entre les substrats ainsi traités, il est connu d'interposer, entre la source émettrice et le support portant les différents substrats à traiter, un cache de répartition de configuration appropriée.

Cela est le cas, par exemple, dans les brevets américains Nos 4 380 212 et 4 449 478.

Déterminée expérimentalement, la configuration du cache de répartition ainsi mis en oeuvre est telle que l'envergure de ce cache de répartition est par exemple plus importante à proximité de I'axe de rotation du support qu'à distance de cet axe de rotation.

Ainsi, le dépôt d'une couche de matériau sur les divers substrats traités peut sensiblement se faire suivant la mme épaisseur pour 1'ensemble de ceux-ci.

Mais, si ce cache de répartition permet ainsi d'optimiser l'épaisseur d'une couche, il en est malheureusement pas de mme pour 1'ensemble des couches.

Le cache de répartition, unique, mis en oeuvre, est alors optimisé pour l'une de ces couches, et, pour les autres, on s'efforce, quand cela est techniquement possible, d'agir sur d'autres paramètres, pour modifier en conséquence la forme du cône d'évaporation correspondant, en soumettant par exemple le matériau à évaporer à une préfusion plus ou moins prolongée.

Le plus souvent, cependant, la répartition des couches de faible épaisseur est plus ou moins négligée.

Ainsi, globalement, le résultat obtenu n'est pas toujours totalement satisfaisant, les divers substrats traités en mme temps présentant à la sortie des caractéristiques qui, suivant leur position sur le support mis en oeuvre, ne sont pas rigoureusement identiques de l'un à l'autre d'entre eux.

Des essais ont été pratiqués pour accroître les possibilités d'intervention.

Par exemple, il a été proposé de prévoir, dans l'enceinte de traitement, deux caches de répartition différents, qui sont chacun individuellement adaptés au dépôt de deux couches différentes, et dont un seul est donc mis en oeuvre à chaque fois.

Mais une multiplication de tels caches de répartition différents en fonction d'un nombre plus élevé de couches à déposer deviendrait rapidement prohibitive.

II a été également déjà proposé de former le cache de répartition à I'aide de deux panneaux d'occultation distincts, dont l'un est fixe, tandis que I'autre, monté mobile, est susceptible de prendre l'une ou I'autre de deux positions distinctes, I'une correspondant à un premier matériau et I'autre correspondant à un deuxième.

Mais, comme précédemment, les possibilités d'adaptation d'un tel cache de répartition sont ainsi limitées à seulement deux couches.

La présente invention a d'une manière générale pour objet une disposition permettant au contraire une capacité d'adaptation accrue.

De manière plus précise, elle a tout d'abord pour objet un cache de répartition à mettre en oeuvre pour le contrôle du dépôt par évaporation d'un quelconque revtement sur un quelconque substrat, ce cache de répartition étant du genre comportant au moins deux panneaux d'occultation distincts dont un est monté mobile et étant d'une manière générale caractérisé en ce que ces deux panneaux d'occultation, dits ci-après par simple commodité panneaux d'occultation latéraux, sont sensiblement coplanaires, et en ce que, sous le contrôle d'une commande qui leur est commune, ils sont l'un et l'autre montés mobiles, de manière continue, entre deux positions extrmes, à savoir, une position rapprochée, pour laquelle 1'espace entre eux est minimal, et une position écartée, pour laquelle cet espace est au contraire maximal ; elle a encore pour objets toute enceinte de traitement mettant en oeuvre un tel cache de répartition et le procédé de réalisation d'un revtement multicouches correspondant.

Grâce à la disposition suivant l'invention, il est avantageusement possible, pour chaque couche à déposer, d'optimiser la surface du cache de répartition mis en oeuvre, en ajustant au plus près la surface de celui-ci.

II suffit, en effet, d'écarter plus ou moins l'un de l'autre les deux panneaux d'occultation latéraux de ce cache de répartition.

II est ainsi sensiblement possible d'obtenir une mme épaisseur pour la couche déposée sur chacun des substrats traités en mme temps, et, de

couche en couche, d'obtenir une bonne uniformité de caractéristiques pour 1'ensemble de ces substrats.

Toute intervention plus ou moins aléatoire, sur d'autres paramètres, tels que le temps de préfusion, peut ainsi corollairement tre avantageusement évitée.

En bref, le cache de répartition suivant l'invention constitue avantageusement un cache de répartition à surface variable, et, pour la réalisation d'un revtement multicouches, il est ainsi avantageusement possible de modifier si nécessaire la surface de ce cache de répartition pour le dépôt de chacune des couches.

Les caractéristiques et avantages de l'invention ressortiront d'ailleurs de la description qui va suivre, à titre d'exemple, en référence aux dessins schématiques annexés sur lesquels : la figure 1 est une vue en perspective d'un substrat à traiter la figure 2 est, à échelle réduite, une vue en élévation-coupe d'une enceinte de traitement, qui est susceptible d'tre mise en oeuvre pour le traitement de ce substrat, et dans laquelle intervient un cache de répartition suivant l'invention ; la figure 3 est, à échelle supérieure, une vue en perspective de ce cache de répartition, vu de dessous, suivant la flèche III de la figure 2, avec une partie du support auquel il est associé ; la figure 4 est, à échelle encore supérieure, et suivant la flèche IV de la figure 2, une vue de dessus du cache de répartition suivant l'invention, pour la <BR> <BR> <BR> <BR> <BR> position rapprochée des deux panneaux d'occultation latéraux qu'il comporte ; la figure 5 reprend, à échelle encore supérieure, et avec un arrachement local, le détail de la figure 4 repéré par un encart V sur cette figure 4 ; la figure 6 est une vue en perspective de 1'embase fixe que comporte le cache de répartition suivant l'invention et de l'un des leviers par lesquels ses panneaux d'occultation latéraux sont montés pivotants sur cette embase ; la figure 7 est, avec un arrachement local, une vue en perspective d'un de ces panneaux d'occultation latéraux, avec le levier qui le porte ;

la figure 8 est, à échelle différente, et suivant la flèche VIII de la figure 3, une vue de côté illustrant la fixation du cache de répartition suivant l'invention à I'attache à laquelle il est suspendu ; la figure 9 est, également à échelle différente, une vue partielle en coupe de la commande de ce cache de répartition, suivant la ligne IX-IX de la figure 2 ; la figure 10 est une vue de dessus analogue à celle de la figure 4, pour la position écartée des panneaux d'occultation latéraux du cache de répartition suivant l'invention.

Ces figures illustrent, à titre d'exemple, le cas où le substrat 10 à traiter est un palet de contour circulaire destiné à constituer une lentille ophtalmique après son débordage.

II s'agit d'appliquer à ce substrat 10 un quelconque traitement, et, par exemple, un traitement antireflet, impliquant le dépôt sur lui, par évaporation, et, plus précisément, par évaporation sous vide, d'un revtement comportant au moins une couche d'un quelconque matériau.

Tel que schématisé sur la figure 2, il est mis en oeuvre, à cet effet, une enceinte de traitement 11 comportant, intérieurement, un support 12, qui est monté rotatif autour d'un axe A, et une source émettrice 13, à partir de laquelle le matériau à déposer est évaporé.

Par exemple, et tel que représenté, le support 12 est en forme de calotte sphérique et son axe de rotation A s'étend suivant son axe de symétrie, en passant, donc, par sa zone centrale.

Quoi qu'il en soit, et ainsi qu'il est mieux visible sur la figure 3, le support 12 ainsi mis en oeuvre présente, usuellement, une pluralité d'emplacements 14, en pratique de simples ouvertures, propres à recevoir chacun un substrat 10 à traiter, par exemple par simple emboîtement.

Corollairement, la source émettrice 13 peut par exemple tre constituée par un simple creuset, qui est disposé à I'aplomb du support 12, suivant I'axe de rotation A de celui-ci, et dans lequel est mis en place le matériau à évaporer.

Dans la forme de mise en oeuvre représentée, il a été supposé que t'évaporation de ce matériau était provoquée par bombardement électronique, et on a schématisé, en 15, sur la figure 2, le canon à électrons correspondant.

En pratique, le revtement à réaliser implique le dépôt successif de plusieurs couches de matériau sur les substrats 10, et, d'une de ces couches à l'autre, les matériaux mis en oeuvre sont éventuellement différents.

Les dispositions qui précèdent sont bien connues par elles-mmes, et ne relevant pas, en propre, de la présente invention, elles ne seront pas décrites plus en détail ici, notamment en ce qui concerne les moyens mis en oeuvre pour le soutien et l'entraînement en rotation du support 12.

De manière également connue en soi, il est mis en oeuvre, dans l'enceinte de traitement 11, un cache de répartition 16, qui intervient entre le support 12 et la source émettrice 13.

Globalement, ce cache de répartition 16 s'étend sensiblement parallèlement au support 12, en dessous de celui-ci.

Par exemple, et tel que représenté, il s'étend globalement radialement suivant toute la surface utile du support 12, jusqu'à la périphérie 19 de celui-ci.

Dans la forme de réalisation représentée, et suivant des dispositions qui seront décrites plus en détail ultérieurement, le cache de répartition 16 s'étend en porte à faux à compter d'une attache fixe 20 qui entoure I'axe de rotation A du support 12.

De manière connue en soi, le cache de répartition 16 mis en oeuvre suivant l'invention comporte au moins deux panneaux d'occultation 22 distincts, dont un est monté mobile.

Suivant l'invention, ces deux panneaux d'occultation 22, dits ci-après par simple commodité panneaux d'occultation latéraux, sont sensiblement coplanaires l'un avec l'autre, et, sous le contrôle d'une commande 23, qui leur est commune, et qui sera détaillée ultérieurement, ils sont l'un et l'autre montés mobiles, de manière continue, entre deux positions extrmes, à savoir, une position rapprochée, pour laquelle, tel que représenté sur la figure 4,

t'espace E entre eux est minimal, et une position écartée, pour laquelle, tel que représenté sur la figure 10, cet espace E est au contraire maximal.

Dans la forme de réalisation représentée, les deux panneaux d'occultation latéraux 22 sont l'un et l'autre montés pivotants par rapport à une embase 24, qui est fixe.

Leurs axes de pivotement P, qui interviennent à distance l'un de l'autre, sont sensiblement parallèles l'un à I'autre, et ils s'étendent sensiblement perpendiculairement au support 12.

Ces axes de pivotement P sont repérés par leur trace sur les figures 4 et 10, et ils sont schématisés en traits interrompus sur la figure 6.

Dans la forme de réalisation représentée, 1'embase 24 se présente sous la forme générale d'une plaque.

Elle forme ainsi un troisième panneau d'occultation, ou panneau d'occultation médian, et les deux panneaux d'occultation latéraux 22 s'étendent sensiblement parallèlement à elle.

Les axes de pivotement P des panneaux d'occultation latéraux 22 sont donc sensiblement perpendiculaires à cette embase 24.

Dans la forme de réalisation représentée, I'embase 24 comporte, du côté de I'axe de rotation A du support 12, une partie avant 24A, de contour rectangulaire, par laquelle se fait sa fixation à I'attache fixe 20, et, du côté de la périphérie 19 du support 12, une partie arrière 24B, de contour trapézoïdal, qui, pour des raisons qui apparaîtront ci-après, présente une ouverture circulaire 26.

Les axes de pivotement P des panneaux d'occultation latéraux 22 interviennent sensiblement à la jonction entre ces deux parties avant 24A et arrière'24B.

Bien entendu, ces deux parties avant 24A et arrière 24B de 1'embase 24 sont en continu l'une avec l'autre.

Pour la fixation à I'attache fixe 20, la partie avant 24A est équipée d'une coulisse 27 par laquelle 1'ensemble est monté réglable en position, sous le contrôle d'une vis papillon 28, sur une patte 29, qui, tel que schématisé en

traits interrompus sur la figure 8, est elle-mme rapportée sur l'attache fixe 20 par une vis papillon 30.

Dans la forme de réalisation représentée, la commande 23 commune aux deux panneaux d'occultation latéraux 22 comporte, du côté de la surface supérieure de 1'embase 24, c'est-à-dire du côté de la surface de celle-ci tournée vers le support 12, un palonnier 32, qui est monté mobile sur 1'embase 24, et qui engrène avec ces panneaux d'occultation latéraux 22 par des montages à boutonnière 33 dont les boutonnières 34 sont globalement obliques l'une par rapport à l'autre.

En pratique, le palonnier 32 s'étend parallèlement au plan passant par les axes de pivotement P des panneaux d'occultation latéraux 22.

Par sa partie médiane, le palonnier 32 est solidaire d'une noix taraudée 35 qui est en prise avec une tige filetée 36 montée rotative sur 1'embase 24, le long de la ligne médiane de celle-ci.

Par exemple, et tel que représenté, figures 4 et 5, le palonnier 32 comporte deux bras 37, à raison d'un pour chacun des panneaux d'occultation latéraux 22, et ces deux bras 37 s'étendent chacun respectivement, dos à dos, à compter de la noix taraudée 35, en étant dûment solidarisés à celle-ci, par exemple par des vis 38.

Corollairement, dans la forme de réalisation représentée, la tige filetée 36 s'étend entre deux paliers 39 dûment solidarisés à 1'embase 24, par exemple par des vis 40, et 1ensemble est disposé à I'abri d'un capot 41, qui est lui-mme rapporté sur 1'embase 24, par exemple par des vis 42, et qui présente, latéralement, des fentes 44 pour le passage des bras 37 du palonnier 32.

Dans la forme de réalisation représentée, la commande 23 commune aux deux panneaux d'occultation latéraux 22 du cache de répartition 16 suivant l'invention est accessible de l'extérieur de l'enceinte de traitement 11.

Par exemple, et tel que représenté, la tige filetée 36 de cette commande 23 est calée en rotation sur un flexible d'entraînement 45 par un raccord 46, et, à I'abri d'une gaine 47, ce flexible d'entraînement 45 traverse 1'embase 24

à la faveur de l'ouverture circulaire 26 de sa partie arrière 24B, un embout 48 rapporté sur 1'embase 24 au droit de cette ouverture circulaire 26 assurant au passage le maintien de 1'ensemble.

A son autre extrémité, et ainsi qu'il est visible sur la figure 9, le flexible d'entraînement 45 est attelé, par un autre raccord 49, à une tige 50, qui, par un joint tournant 51, fait issue hors de l'enceinte de traitement 11, à la partie basse de celle-ci, et qui, à l'extérieur de cette enceinte de traitement 11, est en prise avec une quelconque commande en rotation 52.

Les dispositions qui précèdent ne relevant pas, en propre, de la présente invention, elles ne seront pas décrites plus en détail ici.

Dans la forme de réalisation représentée, chacun des deux panneaux d'occultation latéraux 22 du cache de répartition 16 suivant l'invention est rapporté de manière amovible sur un levier de support 54, qui est monté pivotant sur 1'embase 24, et par l'intermédiaire duquel intervient la commande 23 qui leur est commune.

Par exemple, et tel que représenté, la boutonnière 34 du montage à boutonnière 33 par lequel le palonnier 32 de cette commande 23 engrène avec un tel panneau d'occultation latéral 22 évide localement le levier de support 54 sur lequel est rapporté ce panneau d'occultation latéral 22, et, en correspondance, le palonnier 32 porte un pion 55, figure 4, qui est engagé à frottement doux dans cette boutonnière 34.

Dans la forme de réalisation représentée, le levier de support 54 de chacun des deux panneaux d'occultation latéraux 22 s'étend au moins pour partie d'un premier côté de 1'embase 24, et, plus précisément, du côté de la surface supérieure de celle-ci, pour permettre à la commande 23 d'intervenir sur lui, et le panneau d'occultation latéral 22 correspondant s'étend au contraire au moins pour partie de l'autre côté de cette embase 24, et, plus précisément, du côté de la surface inférieure de cette dernière, c'est-à-dire du côté de la surface de cette embase 24 tournée du côté opposé au support 12.

Par exemple, et tel que représenté, le levier de support 54 de chacun des deux panneaux d'occultation latéraux 22 comporte, d'une part, du côté de

la surface supérieure de 1'embase 24, un flasque 56, qui comporte la boutonnière 34 correspondante, et qui est monté pivotant sur un goujon 57 porté par 1'embase 24 pour matérialiser son axe de pivotement P, et, d'autre part, du côté de la surface inférieure de 1'embase 24, une barrette 58, qui est suspendue au flasque 56, en étant attelée à celui-ci par deux colonnettes 59, et sur laquelle le panneau d'occultation latéral 22 concerné est rapporté à I'aide de vis papillon 60.

II est ainsi avantageusement possible de déposer ces panneaux d'occultation latéraux 22 après une utilisation, en vue de leur nettoyage, ce qui facilitecelui-ci II est ainsi également possible de substituer si désiré à des panneaux d'occultation latéraux 22 de configuration donnée d'autres panneaux d'occultation latéraux 22 présentant une autre configuration.

Dans la forme de réalisation représentée, les panneaux d'occultation latéraux 22, qui sont identiques l'un à l'autre, ont un contour en plan globalement rectangulaire, mais leur côte longitudinal le plus extérieur est cependant curviligne, et, plus précisément, convexe.

Ils présentent donc, chacun, sur leur côte longitudinal le plus intérieur, à t'extrémité de celui-ci opposée à leur axe de pivotement P, une zone d'angle 62.

Quoi qu'il en soit, le cache de répartition 16 suivant l'invention admet, préférentiellement, un plan de symétrie, qui passe par la ligne médiane de son embase 24, en s'étendant en pratique suivant une direction radiale du support 12, et vis-à-vis duquel les deux panneaux d'occultation latéraux 22 sont mobiles en sens opposés l'un par rapport à I'autre.

Dans la forme de réalisation représentée, I'axe de pivotement P de ces panneaux d'occultation latéraux 22 est plus éloigné de I'axe de rotation A du support 12 que la zone d'action sur eux de la commande 23 qui leur est commune, en l'espèce le montage à boutonnière 33 par lequel le palonnier 32 de cette commande 23 engrène avec leur levier de support 54.

Conjointement, dans cette forme de réalisation, les boutonnières 34 des deux montages à boutonnière 33 en jeu convergent l'une vers l'autre en direction opposée à I'axe de rotation A du support 12.

Dans la forme de réalisation représentée, enfin, les deux panneaux d'occultation latéraux 22 sont au moins localement en contact l'un avec l'autre lorsqu'ils sont en position rapprochée, tel que représenté à la figure 4.

Par exemple, et tel que représenté, lorsqu'ils sont ainsi en position rapprochée, ils ne sont au contact l'un de I'autre que ponctuellement, par une zone d'angle, en l'espèce leur zone d'angle 62, et l'espace E qu'ils ménagent alors entre eux a un contour en plan globalement triangulaire dont la pointe est dirigée vers I'axe de rotation A du support 12.

Conjointement, le palonnier 32 de la commande 23 s'étend alors du côté de la partie avant de la tige filetée 36, c'est-à-dire du côté de celle-ci la plus proche de I'axe de rotation A du support 12.

Lorsque la commande 23 est actionnée, le palonnier 32 se déplace parallèlement à lui-mme le long de la tige filetée 36, et il provoque un écartement progressif des deux panneaux d'occultation latéraux 22 I'un par rapport à l'autre.

Les deux panneaux d'occultation latéraux 22 se déploient alors latéralement, de part et d'autre de 1'embase 24, tout se passant comme si ils venaient ainsi progressivement accroître l'envergure de cette dernière du côté de I'axe de rotation A du support 12.

En fin de course, le palonnier 32 s'étend du côté de la partie arrière de la tige filetée 36, c'est-à-dire du côté de celle-ci la plus éloignée de I'axe de rotation A du support 12, et les deux panneaux d'occultation latéraux 22 sont donc en position écartée, tel que représenté sur la figure 10.

L'espace E qu'ils ménagent alors entre eux a encore un contour en plan globalement triangulaire, mais la pointe de ce contour est alors dirigée du côté opposé à I'axe de rotation A du support 12.

Grâce à la commande 23, et ainsi qu'il est aisé de le comprendre, les deux panneaux d'occultation latéraux 22 peuvent par ailleurs occuper en

continu n'importe quelle position intermédiaire entre leur position rapprochée et leur position écartée.

II résulte de ce qui précède que, pour la réalisation d'un revtement multicouches pour le traitement d'un ensemble de substrats 10, on met en oeuvre, suivant l'invention, dans 1'enceinte de traitement 11 à évaporation sous vide correspondante, un cache de répartition 16 à surface variable, du type par exemple de celui décrit ci-dessus, et on modifie la surface de ce cache de répartition 16 pour le dépôt de l'une au moins des couches, et, par exemple, suivant les nécessités, pour le dépôt de chacune de celles-ci.

Par exemple, lorsque les substrats 10 traités sont des lentilles ophtalmiques, le revtement déposé comprend des couches telles que le traitement qui en résulte pour ces substrats 10 est un traitement antireflet.

Par exemple, également, ce revtement comporte au moins deux couches de matériaux différents.

Si désiré, les substrats 10 sont chauffés thermiquement avant le dépôt du revtement.

Si désiré, également, ils subissent un bombardement ionique avant le dépôt du revtement, l'intensité de ce bombardement ionique étant par exemple ajustée en modifiant la surface du cache de répartition 16.

De mme, le dépôt du revtement peut tre assisté par un bombardement ionique si désiré.

La présente invention ne se limite d'ailleurs pas à la forme de réalisation décrite et représentée, mais englobe toute variante d'exécution.

En outre, son domaine d'application s'étend à n'importe quelle technique d'évaporation sous vide, et, notamment, à celle à cible magnétron, pour laquelle, les substrats à traiter étant placés au voisinage du ou des matériaux à évaporer, les problèmes d'uniformité des couches se posent de façon encore plus cruciale.

II suffit, si nécessaire, d'adapter en conséquence la forme du cache de répartition mis en oeuvre.