以下、本発明の実施の形態を図面を参照� ��つつ説明する。図1は、本発明の第1実施形� �に係る塗布膜用乾燥装置の全体構成を示し� �つ内部を切断して描写した概略正面図、図2� ��、図1のA-A線に従って切断した横断平面図で ある。

 図1及び図2に示すように、本実施形態に� �る乾燥装置(乾燥炉)1は、乾燥エリアとして� �乾燥室2が上下方向に複数段に配置され、各� ��燥室2の相互間はホットプレート3により仕� �られている。この場合、最上段と最下段と� �除くホットプレート3は、上面と下面との両� ��にパネル型のヒータ(図示略)が設置される� �共に、最上段のホットプレート3は下面のみ� ��、また最下段のホットプレートは上面のみ� ��、それぞれパネル型のヒータが設置されて� ��る。

 複数段の各乾燥室2内には、外部から搬入 された水平姿勢にある基板(例えば液晶ディ� �プレイ用ガラス基板)4の下面を複数の点で支 持する固定支持手段5と、その基板4の下面を� ��定支持手段5とは異なる複数の点で支持する 移動支持手段6とがそれぞれ配備されている� �そして、固定支持手段5は、対応する乾燥室2 の下方を仕切るホットプレート3上に複数の� �定支持ピンP1を配列して構成され、また移動 支持手段6は、駆動手段7の動作により移動す� ��移動体8上に複数の移動支持ピンP2を配列し� ��構成されている。

 詳述すると、固定支持手段5は、ホットプ レート3の上面に水平面内の一方向(X方向:図2� ��上下方向)に等間隔で固設され且つ水平面内 の前記一方向と直交する他方向(Y方向:図2の� �右方向)に沿ってホットプレート3のY方向略� �長に亘って延びる複数本(図例では3本)の固� �部材9を有し、これらの固定部材9にそれぞれ 複数の固定支持ピンP1が長手方向(Y方向)に等� ��ッチで立設固定されている。図3は、固定支 持手段5の複数の固定支持ピンP1により基板4� �下面で支持された状態を示している。尚、� �3は、固定支持手段5の固定支持ピンP1と移動� ��持手段6の移動支持ピンP2とを、便宜上、Y方 向に僅かに変位させて図示したものである。

 また、移動支持手段6は、組立枠体からな る移動体8を有し、この移動体8は、ホットプ� ��ート3のX方向における両側の外方をY方向に� ��れぞれ延びる一対の内外延出部材10と、ホ� �トプレート3のY方向における両側の外方をX� �向にそれぞれ延び且つ一対の内外延出部材10 の上面に亘って架設された一対の架設部材11� ��、X方向に等間隔で配置され且つY方向にそ� �ぞれ延びて一対の架設部材11の上面に亘って 張り渡された複数本(図例では3本)の桟部材12� ��を備える。そして、これらの複数本の桟部� ��12にはそれぞれ、複数の移動支持ピンP2が長 手方向(Y方向)に等間隔で立設固定されている 。図4は、移動支持手段6の複数の移動支持ピ� ��P2により基板4が下面で支持された状態を示� ��ている。尚、図4は、固定支持手段5の固定� �持ピンP1と移動支持手段6の移動支持ピンP2と を、便宜上、Y方向に僅かに変位させて図示� �たものである。

 この塗布膜用乾燥装置1は、いわゆる密閉 型の乾燥装置(乾燥炉)に属し、複数段の乾燥� ��2は、平面視で周縁部が単一の主ケーシング 13により覆われることにより、各乾燥室2ごと にそれぞれ密閉状空間とされると共に、主ケ ーシング13のX方向両端部の外面側に、移動体 8を移動させる駆動手段7の収納空間Sを有する 補助ケーシング14がY方向両側に突出した状態 で着脱可能に取り付けられている。換言すれ ば、主ケーシング13の外面における四隅部に� ��助ケーシング14が固定されている。尚、補� �ケーシング14の横断面は、図2に示すように� �字形であってもよく、或いは額縁状の矩形� �あってもよい。また、主ケーシング13の内面 部には、内方に突出する額縁状の基台13aが固 定されており、この基台13a上にホットプレー ト3が敷設されている。そして、移動体8(内外 延出部材10の一部を除く)は、平面視で乾燥室 2の周縁部よりも内方側領域に配備されてい� �のに対して、駆動手段7は、平面視で乾燥室2 の周縁部よりも外方側領域に配備されている ことになる。この場合、4つの駆動手段7は、� ��動体8を水平姿勢に維持した状態で、水平面 内におけるX方向及びY方向並びに上下方向(Z� �向)に移動体8を移動させることが可能となる ように構成されている。尚、駆動手段7の高� �位置は、本実施形態では、ホットプレート3� ��略同一位置であるが、そのホットプレート3 の直上方の乾燥室2の上端からそのホットプ� �ート3の直下方の乾燥室2の下端までの範囲内 における高さ位置であればよい。

 そして、移動体8の一対の内外延出部材10� ��おけるそれぞれのY方向両側への延出部10aが 、密閉状の乾燥室2と収納空間Sとの間を貫通� ��て、収納空間S内の駆動手段7に連結されて� �る。この場合、図5に示すように、移動体8の Y方向両側への延出部10aが乾燥室2と収納空間S との間を貫通している部位には、乾燥室2と� �納空間Sとの間での気体の流通を実質的に阻� ��するためのシール手段15が装着されている� �詳述すると、乾燥室2と収納空間Sとを仕切っ ている主ケーシング13(または主ケーシング13� ��補助ケーシング14)の仕切部13aには、貫通孔1 6が形成されており、この貫通孔16に遊び(駆� �手段7によりX、Y、Z方向に移動可能な遊び)を もって挿通された内外延出部材10の挿通部10b� ��、仕切部13aを隙間を介在させて挟むと共に� ��通孔16の孔周縁から径方向外方に全周に亘� �て張り出す一対のシール板17が固定されてい る。この場合、内外延出部材10の挿通部10bと� ��対のシール板17とは、内外延出部材10が駆動 手段7の動作によりX、Y、Z方向に移動した場� �であっても、仕切部13aと干渉せず且つ貫通� �16が露出しないように構成されている。尚、 内外延出部材10の延出部10aには、収納空間S内 の部位にテフロン(登録商標)等でなる断熱材1 8が介設され、これにより駆動手段7に乾燥室2 側からの熱が伝導しないように配慮がなされ ている。

 駆動手段7は、電動シリンダ、エアシリン ダ、サーボモータ、またはパルスモータ等を 駆動源とするものであって、本実施形態では 、図6に示すように、補助ケーシング14内に固 定された支持板14a上に設置され且つY方向移� �の駆動源となるY駆動シリンダ7yと、このY駆� ��シリンダ7yの出退ロッド7yaと一体移動可能� �あり且つX方向移動の駆動源となるX駆動シリ ンダ7xと、このX駆動シリンダ7xの出退ロッド7 xaと一体移動可能であり且つZ方向移動の駆動 源となるZ駆動シリンダ7zとを備え、このZ駆� �シリンダ7zの出退ロッド7zaが移動体8の内外� �出部材10の延出部10aに連結されている。

 この場合、駆動手段7としては、図6に示� �ように、X、Y、Zの3方向に内外延出部材10の� �出部10aを移動させるものと、この図6に示すY 駆動シリンダ7y、X駆動シリンダ7x及びZ駆動シ リンダ7zを適宜抜き取って組み立てることに� ��り、Y、Zの2方向に延出部10aを移動させるも� ��と、X、Zの2方向に延出部10aを移動させるも� ��と、Zの1方向のみに延出部10aを移動させる� �のとを有している。本実施形態では、図2に� ��号(C)で示す箇所の駆動手段7がX、Y、Zの3方� �、符号(D)で示す箇所の駆動手段7がY、Zの2方� ��、符号(E)で示す箇所の駆動手段7がX、Zの2方 向、符号(F)で示す箇所の駆動手段7がZ方向に� ��それぞれ内外延出部材10の延出部10aを移動� �せるものである。このように4つの駆動手段7 を異なる構成とすることにより、移動体8がX� ��Y、Zの方向に熱膨脹或いは熱収縮した場合� �あっても、その変形を吸収して円滑に移動� �8を移動させることが可能となる。

 更に、図2及び図7に示すように、移動体8� ��各桟部材12の長手方向中央部にはそれぞれ� �上端が桟部材12に固定され且つ下端がホット プレート3の上面に固定された弾性付勢手段� �してのバネ19が装着されている。このバネ19� ��、各桟部材12とホットプレート3との間に介� ��されることにより、各桟部材12に上方への� �し上げ力を付与して、各桟部材12の下方への 撓み、ひいては架設部材11及び内外延出部材1 0の下方への撓みを防止する役割を果たして� �る。尚、このバネ19は、移動体8が移動する� �とにより傾斜した場合であっても、各桟部� �12に上方への押し上げ力を継続して付与する ことが可能である。

 以上のような構成を備えた本発明の第1実 施形態に係る乾燥装置1によれば、図外の搬� �口から乾燥室2に搬入された基板4は、図3に� �すように、固定支持手段5の複数の固定支持� ��ンP1により下面を複数の点で支持されて、� �燥室2の高さ方向中央部の近辺に保持される� ��この状態の下では、搬送口が閉じられて乾� ��室2が密閉状空間とされると共に、乾燥室2� �上方及び下方のホットプレート3は通電加熱� ��れ、乾燥室2内は一定の高温状態に維持され る。これにより、基板4の上面に塗布された� �向膜等の膜形成用の塗布液を乾燥させる工� �が開始する。

 このような状態から一定時間経過後に、� ��動手段7が作動して、移動支持手段6の組立� �体からなる移動体8がZ方向に沿って上昇する ことにより、基板4の下面は、複数の移動支� �ピンP2によって固定支持ピンP1とは異なる複� ��の点で支持される。そして、更なる駆動手� ��7の動作により、基板4が複数の移動支持ピ� �P2により支持された状態でX方向もしくはY方� ��またはその双方向に移動体8が移動すること により、基板4もそれと同方向に移動する。� �の後、駆動手段7が移動体8をZ方向に沿って� �降させることにより、基板4もそれに伴って� ��降し、再び複数の固定支持ピンP1によって� �板4の下面が支持される。この時点における� ��定支持ピンP1による基板4の下面の支持点は� ��前回の固定支持ピンP1による基板4の下面の� ��持点とは異なった位置となっている。更に� ��このような状態から一定時間経過後に、駆� ��手段7の動作により移動体8をZ方向に沿って� ��昇させることにより、移動支持ピンP2によ� �て基板4を支持させると共に、駆動手段7が基 板4をX方向及び/又はY方向に移動させた後、Z� ��向に沿って下降させることにより、固定支� ��ピンP1によって基板4が再び支持される。こ� ��時点における固定支持ピンP1による基板4の� ��面の支持点は、前回及び前々回の固定支持� ��ンP1による基板4の下面の支持点とは異なっ� ��位置となる。この一連の動作を繰り返し行� ��ことにより、基板4の上面に塗布した塗布液 の乾燥が支障なく円滑に行われると共に、基 板4の下面におけるピン痕の発生が抑制され� �。

 このように固定支持ピンP1による基板4の� ��持点を変化させるために移動支持ピンP2を� �動させる駆動手段7は、乾燥室2内に設けられ ていないため、駆動手段7の作動に伴って発� �するパーティクルが基板4に付着する等の不� ��合が生じなくなるのはもとより、駆動手段7 の収納空間Sを乾燥室2の下方や上方に設ける� ��要がなくなるため、乾燥装置1の全高を低く できるという利点を享受することができる。 しかも、駆動手段7の保守点検は、乾燥室2や� ��ットプレート3更には固定支持手段5や移動� �持手段6に影響を与えることなく、補助ケー� ��ング14を取り外すだけで行うことができ、� �守点検作業の簡略化を図ることも可能とな� �。

 図8~図10は、本発明に係る塗布膜用乾燥装 置1の第2実施形態を例示している。この第2実 施形態に係る乾燥装置1は、いわゆる開放型(� ��ロキシミティタイプ)に属し、図8に示すよ� �に、主ケーシングに相当するケーシングが� �在せず、上下に隣接するホットプレート3の� ��互間の乾燥エリア2は、平面視における周縁 が開放されている。従って、駆動手段7を収� �する収納空間Sが形成された補助ケーシング� ��相当する4本のケーシング14が、各ホットプ� ��ート3等を支持する支柱の役割を果している 。また、図9及び図10に示すように、各ホット プレート3の下方に、組立枠体からなる移動� �8が配置されると共に、各ホットプレート3に 、移動体8に取り付けられた各移動支持ピンP2 が遊び(駆動手段7によりX、Y方向に移動可能� �遊び)をもって挿通される複数の貫通孔20が� �成されている。そして、図9は、複数の固定� ��持ピンP1により基板4の下面が支持された状� ��を示し、図10は、複数の移動支持ピンP2によ り基板4の下面が支持された状態を示してい� �。尚、この第2実施形態に係る乾燥装置1は、 以上の構成以外が、上述の第1実施形態に係� �乾燥装置1と同一であるので、この第1実施形 態と共通の構成要件については同一符号を付 してその説明を省略する。