本発明に使用されるステンレス鋼とは、� ��ーステナイト系、フェライト系、マルテン� ��イト系、オーステナイト・フェライト(2相)� ��析出硬化系ステンレス鋼等を意味し、その� ��体例としては、JIS G 4305: 2005に定めるSUS301 、SUS304、SUS316、SUS430、SUS430J1L、SUS434、SUS444、 SUS631等が挙げられる。また、表面仕上げ状態 は、JIS G 4305: 2005に定める光輝焼鈍仕上げ(B A)、酸洗仕上げ(2D)、酸洗後軽圧延仕上げ(2B)� �調質圧延仕上げ等が挙げられる。

第1の実施態様
 以下、本発明の第1の実施態様について説明 する。
 本発明のステンレス鋼製導電性部材を製造� ��るには、支持電解質を含んだ水溶液中でス� ��ンレス鋼をカソード電解処理する。カソー� ��電解処理によって、水溶液中のヒドロニウ� ��イオン(H ₃ O ⁺ )は水(H ₂ O)とプロトン(H ⁺ )に分離し、分離した水素イオン(プロトンH ⁺ )が不働態皮膜中へ進入する。進入したH ⁺ は、不働態皮膜を構成しているクロム酸化物 、鉄酸化物および電子(e-)と結合して、クロ� �水酸化物(Cr(OH) ₃ )や鉄水酸化物(Fe(OH) ₂ 、Fe(OH) ₃ )を形成する。元来生成している不働態皮膜� �、クロム酸化物(Cr ₂ O ₃ )、鉄酸化物(Fe ₂ O ₃ 、Fe ₃ O ₄ )から構成されており、これら酸化物の電気� �導性は低い。一方、カソード電解処理で生� �したクロム水酸化物、鉄水酸化物は電気伝� �性が優れるため、これら水酸化物の構成比� �を高くすることによって元来生成している� �働態皮膜の接触電気抵抗を著しく改善する� �とが可能となる。

 カソード処理に使用する水溶液は、酸水溶� ��、アルカリ水溶液、水溶性塩を含有した中� ��水溶液のいずれも使用できる。酸としては� ��硫酸、硝酸、リン酸、シュウ酸等が、アル� ��リとしては水酸化ナトリウム、水酸化カリ� ��ム等が、水溶性塩としては、硫酸ナトリウ� ��、硝酸カリウム等が挙げられる。しかし、� ��ロトン進入の電解効率(pH-電位図)を考慮す� �と、これら水溶液の中では酸水溶液が好ま� �く、例えば、硫酸、硝酸、リン酸等を含有� �る水溶液が好ましい。酸水溶液のpHは、好ま しくはpH0~pH3、さらに好ましくはpH0~pH2である� ��また、ハロゲンを含有する水溶液でも可能� ��あるが、カソード電解処理後にステンレス� ��に孔食など、局部腐食が発生する可能性が� ��るため、避けることが望ましい。
 プロトンの進入効率は、水溶液の電気伝導� ��とpHに依存するため、水溶液中の酸、アル� �リまたは水溶性塩の濃度は、pHと電気伝導度 の変動が小さくなる1kmol・m ^-3 程度で十分であり、これ以上の濃度にする必 要はない。また水溶液の温度は、高温になる ほど酸によるエッチング作用が激しくなり、 元来生成している不働態皮膜が除去され、外 観が変化する可能性があるため、加温する必 要はない。通常は10~30℃程度で十分である。

 電解条件は、好ましくは0.01~50A/dm ² 、電解時間は好ましくは5~1200秒、さらに好ま しくは5~600秒が適する。電流密度が高い程、� ��時間処理が可能である。高電流密度での長� ��間電解では、ステンレス鋼母材に侵入した� ��ロトンによって水素脆性が生じる可能性が� ��くなる。とくに調質圧延仕上げ材などでは� ��ばねの疲労特性が低下する可能性があるの� ��、電解条件はより好ましくは0.5~10A/dm ² で、5~120秒、例えば、30秒程度が適する。た� �し、酸化性の酸水溶液(例えば、硝酸水溶液) の場合には、カソード腐食現象が生じ、不働 態皮膜がエッチングされ、元来の外観を損な う場合があるので、低濃度(例えば、1~10質量% )、低温度(例えば、10~30℃)、低電流密度(例え ば、0.5~1A/dm ² )で処理することが好ましい。

 プロトン進入の電解効率を上昇させるには� ��上記水溶液に水素過電圧を上昇させる添加� ��分を加えることが好ましい。この添加成分� ��しては、アンチモン化合物(三塩化アンチモ ン、五塩化アンチモン、酸化アンチモン等)� �亜鉛化合物(塩化亜鉛、硫酸亜鉛、硝酸亜鉛� ��炭酸亜鉛等)、錫化合物(塩化第一錫、塩化� �二錫、硫酸錫、フッ化錫等)、砒素化合物(三 酸化二砒素、五酸化二砒素等)、珪酸塩(メタ� ��酸ナトリウム、オルソ珪酸ナトリウム等)、 ヨウ化物(ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウ� �等)等が挙げられる。
 アンチモン化合物、亜鉛化合物(塩化亜鉛、 硫酸亜鉛、硝酸亜鉛、炭酸亜鉛等)、錫化合� �、砒素化合物、珪酸塩、ヨウ化物の好適な� �度は、それぞれ物質中の金属イオン、ケイ� �原子、ヨウ素イオンに換算して、好ましく� �0.0001kmol・m ^-3 ~0.01 kmol・m ^-3 である。0.0001 kmol・m ^-3 未満では、プロトン進入に対して効果が少な く、0.01 kmol・m ^-3 を越えて増量しても効果に変化は無く、経済 的に不利である。

 このようにして得られる本発明のステン� ��ス鋼製導電性部材は、表面X線光電子分光法 (XPS)で分析した結合エネルギー530.1eVにおける X線強度に対する結合エネルギー531.3eVにおけ� ��X線強度の比が0.85以上であり、好ましくは0. 90以上であり、また下記の接触電気抵抗測定� ��法により測定した接触電気抵抗は、接触荷� ��50gfにおいて、好ましくは150mω以下、さらに 好ましくは100mω以下である。

第2の実施態様
 以下、本発明の第2の実施態様について説明 する。
 本発明のステンレス鋼製導電性部材は、フ� ��化物イオンを含有した水溶液中でステンレ� ��鋼をアノード電解処理(電気化学的処理)す� �か、酸化剤およびフッ化物イオンを含む水� �液中に浸漬処理(化学的処理)することにより 製造することができる。これらの処理によっ て、水溶液中のフッ化物イオンが不働態皮膜 中へ進入する。電子のキャリアとなるFが不� �態皮膜の電気伝導性を向上させ、元来生成� �ている不働態皮膜の接触電気抵抗を著しく� �善することが可能となる。

 フッ化物イオン源としては、フッ化水素� ��や水に溶解してフッ化物イオンを生成する� ��ッ素化合物であれば任意の化合物が使用で� ��る。例えば、アルカリ金属フッ化物(例えば 、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム等)、� �ッ化アンモニウム、三フッ化アンチモン、� �ッ化銅、二フッ化水素ナトリウム、二フッ� �水素カリウム、等が挙げられる。このうち� �アルカリ金属フッ化物、とくにフッ化ナト� �ウム、フッ化カリウムが好ましい。

 電気化学的処理は、フッ化水素水溶液中、� ��るいは上記フッ化物イオン源に硝酸、硫酸� ��リン酸などを加えた酸性水溶液中でステン� ��ス鋼をアノード電解する。処理液のpHは好� �しくは0~3、さらに好ましくは0~2である。フ� �化物濃度は、0.001kmol・m ^-3 から飽和濃度までの広範囲で適する。水溶液 は、加温する必要はなく、例えば、10~30℃、� ��ましくは室温で使用できる。電解条件は、� ��ましくは0.01~50A/dm ² 、さらに好ましくは0.5~10A/dm ² であり、電解時間は好ましくは5~600秒、さら� ��好ましくは10~60秒が適する。電流密度が高� �程、短時間処理が可能であるが、フッ化物� �オン濃度が高くなると、高電流密度でステ� �レス鋼が過不働態溶解して、元来の外観を� �なう恐れがあるので、0.5~5A/dm ² で、10~120秒、好ましくは60秒程度が適する。

 化学的処理は、フッ化水素水溶液に、ある� ��は上記フッ化物イオン源に酸化剤を加えた� ��溶液にステンレス鋼を浸漬することにより� ��うことができる。フッ化物イオン濃度は、0 .001kmol・m ^-3 から飽和濃度までの広範囲で適する。酸化剤 としては、硝酸、過マンガン酸カリウム、過 酸化水素等であり、濃度は0.1~10kmol・m ^-3 が望ましく、さらに好ましくは、1~5 kmol・m ^-3 が望ましい。水溶液の温度は好ましくは20~80� ��、さらに好ましくは30~60℃である。浸漬時� �は好ましくは10秒間以上、さらに好ましくは 1~10分間である。

 このようにして得られる本発明のステン� ��ス鋼製導電性部材は、表面X線光電子分光法 (XPS)で分析すると不働態被膜中に0.1原子%以上 、好ましくは0.2原子%以上のFを含んでおり、� ��た下記の接触電気抵抗測定方法により測定� ��た接触電気抵抗は、接触荷重50gfにおいて、 好ましくは150mω以下、さらに好ましくは100mω 以下である。

第3の実施態様
 以下、本発明の第3の実施態様について説明 する。
 本発明のステンレス鋼製導電性部材は、例� ��ば、リチウムイオンを含有する水溶液また� ��非水溶液中でステンレス鋼をカソード電解� ��理(電気化学的処理)するか浸漬処理(化学的� ��理)することにより製造することができる。 これらの処理によって、溶液中のリチウムイ オンが不働態皮膜中へ進入する。電子のキャ リアとなるLiが不働態皮膜の電気伝導性を向� ��させ、元来生成している不働態皮膜の接触� ��気抵抗を改善することが可能となる。

 さらに、リチウムイオンを不働態皮膜に� ��入させた後、大気中または不活性ガス雰囲� ��中で熱処理することによって、不働態皮膜� ��電気伝導性はさらに向上し、元来生成して� ��る不働態皮膜の接触電気抵抗を著しく改善� ��ることが可能となる。

 リチウムイオン源としては、水や非水溶� ��に溶解して、リチウムイオンを生成するリ� ��ウム化合物であれば任意の化合物が使用で� ��る。例えば、酸素化合物としては、水酸化� ��チウム、酸化リチウムなど、ハロゲン化物� ��しては、塩化リチウム、臭化リチウム、ヨ� ��化リチウムなど、酸素酸塩としては、硝酸� ��チウム、硫酸リチウム、等が挙げられる。� ��水溶媒としては、エタノール、メタノール� ��エーテル(ジメチルエーテル、ジエチルエー テル、メチルエチルエーテル等)等が挙げら� �る。水と水混和性非水溶媒の混合液も使用� �きる。

 リチウムイオン源を含む水溶液または非水� ��液中のリチウム化合物の濃度は、好ましく� ��0.1kmol・m ^-3 以上であり、飽和溶液まで適する。溶液は加 温する必要は無く、好ましくは10~30℃、例え� ��、室温でよい。浸漬処理の場合、処理時間� ��好ましくは10秒間~10分間、さらに好ましく� �30秒間~5分間程度が適する。カソード電解処� ��の場合、電流密度は好ましくは0.01A/dm ² ~10A/dm ² 、さらに好ましくは0.1~5A/dm ² 、電解時間は好ましくは10秒間~10分間、さら� ��好ましくは20秒間~5分間程度が適する。

 不働態皮膜にリチウムイオンを注入後、� ��働態皮膜の電気伝導性をさらに向上させる� ��は、大気中、または窒素ガスやArなどの不� �性ガス雰囲気中において熱処理することが� �ましい。好適な熱処理温度は100℃~300℃、さ� ��に好ましくは120~230℃であり、処理時間は好 ましくは1分間~30分間、さらに好ましくは5~20� ��間である。

第4の実施態様
 以下、本発明の第4の実施態様について説明 する。
 本発明のステンレス鋼製導電性部材は、例� ��ば、下記の工程を含むステンレス鋼製導電� ��部材の製造方法により製造することができ� ��。
(A)不働態皮膜中にフッ素を注入する工程、
(B)不働態皮膜中にリチウムを注入する工程、 及び
(C)不働態皮膜中の鉄を溶出する工程。
 不働態皮膜中にフッ素を注入するには、フ� ��化物イオンを含む水溶液中でステンレス鋼� ��浸漬処理(化学的処理)するか電解処理(電気� ��学的処理)すれば良い。
 不働態皮膜中にリチウムを注入するには、� ��チウムイオンを含む水溶液または非水溶液� ��でステンレス鋼を浸漬処理(化学的処理)す� �か電解処理(電気化学的処理)すれば良い。
 また、不働態皮膜中の鉄を優先的に溶出さ� ��るには、フッ化物イオンを含有する水溶液� ��で浸漬処理すれば良い。この処理の前に、� ��気中、または窒素ガス、Arガスなどの不活� �ガス雰囲気中で加熱処理することが効果的� �ある。これは、加熱処理によって、不働態� �膜の最表面層に濃縮したFeが、その後のフッ 化物イオンを含有した水溶液中での浸漬処理 により、容易にフッ化物イオンと錯体を形成 して、不働態皮膜から溶出するためであると 考えられる。不働態皮膜から優先的にFeを溶� ��させることによって、皮膜はCr酸化物水酸� �物主体の組成に改質される。

 上記のように、不働態皮膜中に電子のキャ� ��アとなるLi、Fを注入することによって、不� ��態皮膜の電気伝導性が向上し、従来生成し� ��いる不働態皮膜の接触電気抵抗を著しく改� ��することができる。
 さらに、不働態皮膜をCr酸化物水酸化物主� �の組成に改質することによって耐食性が向� �し、長時間の大気中放置によっても皮膜が� �質せず、表面接触電気抵抗の時系列劣化を� �止ないし抑制することができる。

(A)不働態皮膜中にフッ素を注入する工程
 フッ素注入に使用するフッ化物イオン源と� ��ては、フッ化水素酸や、水に溶解してフッ� ��物イオンを生成するフッ素化合物であれば� ��意の化合物が使用できる。例えば、アルカ� ��金属フッ化物(例えば、フッ化ナトリウム、 フッ化カリウム等)、フッ化アンモニウム、� �フッ化アンチモン、フッ化銅、二フッ化水� �ナトリウム、二フッ化水素カリウム、等が� �げられる。このうち、アルカリ金属フッ化� �、とくにフッ化ナトリウム、フッ化カリウ� �が好ましい。

 電気化学的にフッ化物を注入するには、フ� ��化水素水溶液中、あるいは上記フッ化物イ� ��ン源に硝酸、硫酸、リン酸などを加えた酸� ��水溶液中でステンレス鋼をアノード電解す� ��。処理液のpHは好ましくは0~3、さらに好ま� �くは0~2である。フッ化物濃度は、好ましく� �0.001kmol・m ^-3 で飽和濃度までの広範囲で適する。水溶液は 、加温する必要はなく、例えば、10~30℃、好� ��しくは室温で使用できる。電解条件は、好� ��しくは0.01~50A/dm ² 、さらに好ましくは0.5~10A/dm ² であり、電解時間は好ましくは5~600秒、さら� ��好ましくは10~60秒が適する。電流密度が高� �程、短時間処理が可能であるが、フッ化物� �オン濃度が高くなると、高電流密度でステ� �レス鋼が過不働態溶解して、元来の外観を� �なう恐れがあるので、好ましくは0.5~5A/dm ² で、10~120秒、好ましくは60秒程度が適する。

 化学的にフッ素を注入するには、フッ化水� ��酸または上記フッ化物イオン源に酸化剤を� ��えた溶液中において浸漬処理する。フッ化� ��濃度は、好ましくは0.001kmol・m ^-3 以上で飽和濃度の広範囲まで適する。
 酸化剤としては、硝酸、過マンガン酸カリ� ��ム、過酸化水素等が挙げられる。濃度は好� ��しくは0.1~10kmol・m ^-3 、さらに好ましくは、1~5 kmol・m ^-3 が望ましい。水溶液温度は、好ましくは20~80� ��、さらに好ましくは30~60℃である。浸漬時� �は、好ましくは10秒間~10分間、さらに好まし くは1~10分間が適する。

(B)不働態皮膜中にリチウムを注入する工程
 リチウム注入におけるリチウムイオン源と� ��ては、水や非水溶媒に溶解してリチウムイ� ��ンを生成するリチウム化合物であれば任意� ��化合物が使用できる。例えば、酸素化合物� ��しては、水酸化リチウム、酸化リチウムな� ��、ハロゲン化物としては、塩化リチウム、� ��化リチウム、ヨウ化リチウムなど、酸素酸� ��としては、硝酸リチウム、硫酸リチウム、� ��が挙げられる。非水溶媒としては、エタノ� ��ル、メタノール、ジメチルエーテル、ジエ� ��ルエーテル、メチルエチルエーテル等が挙� ��られる。水と水混和性非水溶媒の混合液も� ��用できる。

 リチウムイオン源を含む水溶液または非水� ��液中のリチウム化合物の濃度は、好ましく� ��0.1kmol・m ^-3 以上であり、飽和溶液まで適する。溶液は加 温する必要は無く、好ましくは10~30℃、例え� ��、室温でよい。浸漬処理の場合、処理時間� ��好ましくは10秒間~10分間、さらに好ましく� �30秒間~5分間程度が適する。カソード電解処� ��の場合、電流密度は好ましくは0.01A/dm ² ~10A/dm ² 、さらに好ましくは0.1~5A/dm ² 、電解時間は好ましくは10秒間~10分間、さら� ��好ましくは20秒間~5分間程度が適する。

 不働態皮膜中へのフッ化物イオンおよび� ��チウムイオンの効果的な注入方法は、上記� ��工程(A)と工程(B)を繰り返し行なうことであ� ��。工程(A)と工程(B)の順序はいずれが先でも� ��いが、工程(A)をまず実施し、次いで工程(B)� ��実施することが好ましい。

(C)不働態皮膜中の鉄を溶出する工程
 不働態皮膜中の鉄を溶出させるには、フッ� ��物イオンを含有する水溶液中にステンレス� ��を浸漬処理すれば良い。水溶液は、フッ化� ��素酸、あるいは上記フッ化物イオン源に酸� ��加え、酸性とした水溶液が適する。pHは好� �しくは0~3、さらに好ましくは0~2である。フ� �化物濃度は、好ましくは0.001kmol・m ^-3 以上であり、飽和濃度の広範囲まで適する。 pH調整用の酸としては、硝酸、硫酸、リン酸� ��等が挙げられる。濃度は好ましくは0.01~10kmo l・m ^-3 であり、さらに好ましくは、0.1~5 kmol・m ^-3 が望ましい。水溶液の温度は、好ましくは10~ 80℃、さらに好ましくは20~60℃である。浸漬� �間は、好ましくは5秒間~20分間、さらに好ま� ��くは5秒間~10分間が適する。

 さらに、効率的に不働態皮膜中の鉄を溶� ��させるには、工程(C)のフッ化物イオンを含� ��する水溶液中での浸漬処理以前に、大気中� ��または窒素、Arなどの不活性ガス雰囲気中� �おいて熱処理することが望ましい。好適な� �処理温度は好ましくは100℃~600℃、さらに好� ��しくは140~500℃であり、処理時間は好ましく は1秒~30分間、さらに好ましくは10秒~20分間で ある。

 この加熱処理によって、不働態皮膜の最表� ��層に鉄濃縮層が形成され、その後のフッ化� ��イオンを含有した水溶液中での浸漬処理に� ��って、容易にFeとフッ化物イオンとが錯体� �形成して、溶液中へ溶出する。
 この処理によって、不働態皮膜はCr主体の� �成になるため、耐食性が向上して、長時間� �大気中放置によっても皮膜の変質がなく、� �面接触電気抵抗の時系列劣化が小さくなる� �のと考えられる。

第5の実施態様
 以下、本発明の第5の実施態様について説明 する。
 本発明に使用されるAl含有フェライト系ス� �ンレス鋼としては、製鋼工程においてAl脱酸 して製造されたフェライト系ステンレス鋼や 、強制的にAlを添加し、機械的特性を改善し� ��フェライト系ステンレス鋼であって、成分� ��してAlを含有するものが挙げられる。その� �体例として、SUS430、SUS430J1L、SUS434、SUS444等� �挙げられる。また、表面仕上げ状態は、光� �焼鈍仕上げ(BA)、酸洗仕上げ(2D)、酸洗後軽圧 延仕上げ(2B)、調質圧延仕上げ等が挙げられ� �。

 本発明のAl含有フェライト系ステンレス鋼� �導電性部材は、例えば、下記の工程(A)と、� �程(B)及び/又は工程(C)とを含む方法により製� ��することができる。
 本発明は好ましくはさらに、(D)不働態皮膜� ��の鉄を溶出する工程を含む。
 不働態皮膜中からAlを除去するには、アル� �ナバフ研磨など機械的方法によってステン� �ス鋼表面に生成している不働態皮膜自体を� �去すれば良い。または、硝酸中やアルカリ� �属のリン酸塩水溶液中でステンレス鋼をア� �ード電解処理又は交番電解処理すれば良い� �
 不働態皮膜にフッ素を注入するには、フッ� ��物イオンを含む水溶液中でステンレス鋼を� ��漬処理(化学的処理)するか、電解処理(電気� ��学的処理)すれば良い。
 不働態皮膜中にリチウムを注入するにはリ� ��ウムイオンを含む水溶液または非水溶液中� ��ステンレス鋼を浸漬処理(化学的処理)する� �電解処理(電気化学的処理)すれば良い。
 また、不働態皮膜中の鉄を優先溶出させる� ��は、硝酸溶液、フッ化物イオンを含有する� ��溶液、チオグリコール酸塩、クエン酸三ア� ��モニウム溶液中で浸漬処理すれば良い。こ� ��処理の前に、大気中、または窒素ガス、Ar� �スなどの不活性ガス雰囲気中で加熱処理す� �ことが効果的である。これは、加熱処理に� �って、不働態皮膜の最表面層にFeが濃縮し、 その後の上記溶液中での浸漬処理により、容 易にFeと錯イオンを形成して、不働態皮膜か� ��溶出するためである。不働態皮膜から優先� ��にFeを溶出させることによって、皮膜はCr酸 化物、水酸化物主体の組成に改質される。

 上記のように、不働態皮膜内に電子のキャ� ��アとなるLi、Fを注入することによって、不� ��態皮膜の電子伝導性が向上し、従来生成し� ��いる不働態皮膜の接触電気抵抗を著しく改� ��することができる。
 さらに、不働態皮膜をCr酸化物、水酸化物� �体の組成に改質することによって耐食性が� �上し、長時間の大気中放置によっても皮膜� �変質せず、表面接触電気抵抗の時系列劣化� �防止ないし抑制することができる。

(A)不働態皮膜中からAlを除去する工程
 不働態皮膜中からAlを除去する方法として� �、アルミナバフ研磨など機械的方法がある� �その後の大気中放置などで不働態皮膜を自� �に生成させても、硝酸溶液中に浸漬処理(不� ��態化処理)して、強制的に不働態皮膜を生成 させても良い。

 また、硝酸水溶液中でのアノード電解処理� ��交番電解などの方法がある。硝酸濃度は、� ��ましくは0.01kmol・m ^-3 以上であり、飽和濃度まで適する。水溶液温 度は、好ましくは、室温~90℃、さらに好まし くは、30℃~70℃が望ましい。電解電流密度は� ��好ましくは0.01~50A/dm ² 、さらに好ましくは、0.5~10A/dm ² 、電解時間は好ましくは、5~600秒、さらに好� ��しくは10~300秒が適する。
 交番電解の場合は、上記電流密度および水� ��液温度の範囲で、1サイクルのアノード電解 とカソード電解のそれぞれの電解時間は、好 ましくは、10ms~120s、さらに好ましくは100ms~60s が適する。総電解時間は、好ましくは、5~600� ��、さらに好ましくは10~300秒が適する。
 アノード電解処理や交番電解などでは、電� ��密度が高い程、短時間処理が可能であるが� ��硝酸濃度が高くなると、高電流密度域でス� ��ンレス鋼が過不働態溶解して、元来の外観� ��損なう恐れがあるので、好ましくは0.1~10A/dm ² で、10~120秒、さらに好ましくは60秒程度が適� ��る。

 さらに、トリポリりん酸ナトリウム水溶液� ��ど、ポリりん酸イオン、メタりん酸イオン� ��生成するアルカリ金属のりん酸塩水溶液中� ��のアノード電解や交番電解などの方法があ� ��。濃度は、好ましくは0.001kmol・m ^-3 以上であり飽和濃度まで適する。水溶液温度 は、好ましくは、室温~90℃、さらに好ましく は、30℃~70℃が望ましい。電解電流密度は、� ��ましくは0.01~50A/dm ² 、さらに好ましくは、0.1~10A/dm ² 、電解時間は好ましくは、5~600秒、さらに好� ��しくは10~300秒が適する。
 交番電解の場合は、上記電流密度および水� ��液温度の範囲で、1サイクルのアノード電解 とカソード電解のそれぞれの電解時間は好ま しくは、10ms~120s、さらに好ましくは100ms~60sが 適する。総電解時間は、好ましくは、5~600秒� ��さらに好ましくは10~300秒が適する。
 アノード電解や交番電解などでは、電流密� ��が高い程、短時間処理が可能であるが、ア� ��カリ金属のりん酸塩濃度が高くなると、高� ��流密度域でステンレス鋼が過不働態溶解し� ��、元来の外観を損なう恐れがあるので、好� ��しくは0.1~10A/dm ² で、10~120秒、さらに好ましくは60秒程度が適� ��る

(B)不働態皮膜にフッ素を注入する工程
 フッ化物注入におけるフッ化物イオン源と� ��ては、フッ化水素酸や、水に溶解してフッ� ��物イオンを生成するフッ素化合物であれば� ��意の化合物が使用できる。例えば、アルカ� ��金属フッ化物(例えば、フッ化ナトリウム、 フッ化カリウム等)、フッ化アンモニウム、� �フッ化アンチモン、フッ化銅、二フッ化水� �ナトリウム、二フッ化水素カリウム、等が� �げられる。このうち、アルカリ金属フッ化� �、とくにフッ化ナトリウム、フッ化カリウ� �が好ましい。

 電気化学的にフッ化物を注入するには、フ� ��化水素水溶液中、あるいは上記フッ化物イ� ��ン源に、硝酸、硫酸、りん酸などを加えた� ��性水溶液中でステンレス鋼をアノード電解� ��る。処理液のpHは好ましくは0~3、さらに好� �しくは0~2である。フッ化物濃度は、好まし� �は0.001kmol・m ^-3 で飽和濃度まで適する。水溶液は、加温する 必要性はなく、例えば10~30℃、好ましくは、� ��温で使用できる。電解電流密度は好ましく� ��、0.01~50A/dm ² 、さらに好ましくは、0.5~10A/dm ² であり、電解時間は好ましくは、5~600秒、さ� ��に好ましくは、10~60秒が適する。電流密度� �高い程、短時間処理が可能であるが、フッ� �物イオン濃度が高くなると、高電流密度域� �ステンレス鋼が過不働態溶解して、元来の� �観を損なう恐れがあるので、好ましくは0.1~1 0A/dm ² で、10~120秒、好ましくは60秒程度が適する。

 化学的にフッ化物を注入するには、フッ化� ��素酸および上記フッ化物イオン源に酸化剤� ��加えた溶液中において浸漬処理する。フッ� ��物濃度は、好ましくは0.001kmol・m ^-3 以上で飽和濃度まで適する。
 酸化剤としては、硝酸、過マンガン酸カリ� ��ム、過酸化水素酸、等が挙げられる。濃度� ��好ましくは0.1~10kmol・m ^-3 、さらに好ましくは1~5 kmol・m ^-3 が望ましい。水溶液温度は、好ましくは20~80� ��、さらに好ましくは30~60℃である。浸漬時� �は、好ましくは10秒間~10分間、さらに好まし くは1~10分間が適する。

(C)不働態皮膜にリチウムを注入する工程
 リチウム注入におけるリチウムイオン源と� ��ては、水や非水溶媒に溶解してリチウムイ� ��ンを生成するリチウム化合物であれば任意� ��化合物が使用できる。例えば、酸素化合物� ��しては、水酸化リチウム、酸化リチウムな� ��、ハロゲン化物としては、塩化リチウム、� ��化リチウム、ヨウ化リチウムなど、酸素酸� ��としては、硝酸リチウム、硫酸リチウム、� ��が挙げられる。非水溶媒としては、エタノ� ��ル、メタノール、ジメチルエーテル、ジエ� ��ルエーテル、メチルエチルエーテル等が挙� ��られる。水と非水溶媒との混合液も使用で� ��る。

 リチウムイオン源を含む水溶液または非水� ��液のリチウム化合物の濃度は、好ましくは0 .01kmol・m ^-3 以上であり、飽和溶液まで適する。溶液は加 温する必要はなく、好ましくは、10~30℃、例� ��ば室温でよい。浸漬処理の場合、処理時間� ��好ましくは10秒間~10分間、さらに好ましく� �、30秒間~5分間が適する。カソード電解の場� ��、電流密度は好ましくは0.01A/dm ² ~10A/dm ² 、さらに好ましくは、0.1~5A/dm ² 、電解時間は好ましくは10秒間~10分間、さら� ��好ましくは20秒間~5分間程度が適する。

 不働態皮膜内へのフッ化物イオンおよび� ��チウムイオンの効果的な注入方法は、上記� ��程(B)と工程(C)を繰り返し行うことである。� ��程(B)と工程(C)の順序はいずれが先でも良い� ��、工程(B)をまず実施し、次いで工程(C)を実� ��することが好ましい。

(D)不働態皮膜中の鉄を溶出する工程
 不働態皮膜中の鉄を優先溶出させるには、� ��酸水溶液、チオグリコール酸塩やクエン酸� ��アンモニウム溶液またはフッ化物イオンを� ��有した水溶液中で浸漬処理すれば良い。
 硝酸水溶液を使用する場合には、濃度は、� ��ましくは1kmol・m ^-3 以上であり、飽和溶液まで適する。水溶液温 度は、好ましくは、室温~90℃、さらに好まし くは、30℃~70℃が望ましい。浸漬時間は、好� ��しくは10秒間~120分間、さらに好ましくは、3 0秒~60分間が望ましい。
 チオグリコール酸塩としては、チオグリコ� ��ル酸では、質量%として好ましくは0.1%~90%、� ��らに好ましくは1~50%が適する。溶液温度は� �温する必要はなく、例えば10~50℃、好ましく は、室温で使用できる。浸漬時間は、好まし くは5秒間~120分間、さらに好ましくは10秒間~3 0分間が適する。チオグリコール酸アンモニ� �ムおよびチオグリコール酸モノエタノール� �ミンとしては、質量%として好ましくは、0.1% ~50%、さらに好ましくは1%~30%が適する。溶液� �度は、例えば10~50℃、好ましくは、室温で使 用できる。
 クエン酸三アンモニウムの濃度は、好まし� ��は0.1kmol・m ^-3 以上で、飽和濃度まで適する。水溶液温度は 、好ましくは、室温~50℃、さらに好ましくは 、30℃~40℃が望ましい。浸漬時間は、好まし� ��は10秒間~120分間、さらに好ましくは30秒間~3 0分間が適する。
 フッ化物イオンを含有した水溶液を使用す� ��場合には、フッ化水素酸、あるいは上記フ� ��化物イオン源に酸を加え、酸性とした水溶� ��が適する。pHは好ましくは0~3、さらに好ま� �くは0~2である。フッ化物濃度は、好ましく� �0.001kmol・m ^-3 以上であり、飽和濃度まで適する。pH調整用� ��酸としては、硝酸、硫酸、リン酸、等が挙� ��られる。濃度は好ましくは0.01~10kmol・m ^-3 が望ましく、さらに好ましくは、0.1~5 kmol・m ^-3 が望ましい。水溶液温度は、好ましくは10~80� ��、さらに好ましくは20~60℃である。浸漬時� �は、好ましくは5秒間~20分間、さらに好まし� ��は5秒間~10分間が適する。

 さらに、効率的に不働態皮膜中の鉄を優� ��溶出させるには、工程(D)の硝酸、チオグリ� ��ール酸塩、フッ化物イオンを含有した水溶� ��中での浸漬処理以前に、大気中、または窒� ��、あるいはArなどの不活性ガス雰囲気中に� �いて熱処理することが望ましい。好適な熱� �理温度は好ましくは100℃~600℃、さらに好ま� ��くは、140℃~500℃であり、処理時間は好まし くは1秒間~30分間、さらに好ましくは10秒~20分 間である。

 この加熱処理によって、不働態皮膜の最表� ��層に鉄濃縮層が形成され、その後の工程(D)� ��おいて容易にFeと錯イオンを形成して、溶� �中へ溶出する。
 この処理によって、不働態皮膜はCr主体の� �成になるため、耐食性が向上して、長時間� �大気中放置によっても皮膜の変質がなく、� �面接触電気抵抗の時系列劣化が小さくなる� �のと考えられる。

第6の実施態様
 以下、本発明の第6の実施態様について説明 する。
 本発明に使用されるステンレス鋼は、成分� ��してSiが含有されているフェライト系ステ� �レス鋼である。このSiはステンレス鋼の原料 に含まれており、また、製鋼工程の脱酸剤と しても使用されるため、フェライト系ステン レス鋼に成分として含有される。その具体例 として、SUS430、SUS430J1L、SUS434、SUS444等が挙げ られる。また、表面仕上げ状態は、光輝焼鈍 仕上げ(BA)、酸洗仕上げ(2D)、酸洗後軽圧延仕� ��げ(2B)、調質圧延仕上げ等が挙げられる。

 本発明のSi含有フェライト系ステンレス鋼� �導電性部材は、例えば、下記の工程(A)と、� �程(B)及び/又は工程(C)とを含む方法により製� ��することができる。
(A)不働態皮膜中からSiを除去する工程
(B)不働態皮膜にフッ素を注入する工程
(C)不働態皮膜にリチウムを注入する工程。
 本発明は好ましくはさらに、(D)不働態皮膜� ��の鉄を溶出する工程を含む。
 不働態皮膜中からSiを除去するには、水に� �解してアルカリ性を示すアルカリ金属化合� �の水溶液中において、アノード電解または� �番電解すれば良い。アルカリ金属化合物と� �ては、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム� �リン酸三ナトリウム、水酸化カリウムなど� �アルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、リン酸� �等であって、水に溶解してアルカリ性を示� �アルカリ金属化合物であればすべて使用で� �る。
 不働態皮膜にフッ素を注入するには、フッ� ��物イオンを含む水溶液中でステンレス鋼を� ��漬処理(化学的処理)するか、電解処理(電気� ��学的処理)すれば良い。
 不働態皮膜中にリチウムを注入するにはリ� ��ウムイオンを含む水溶液または非水溶液中� ��ステンレス鋼を浸漬処理(化学的処理)する� �電解処理(電気化学的処理)すれば良い。
 また、不働態皮膜中の鉄を優先溶出させる� ��は、硝酸溶液、フッ化物イオンを含有する� ��溶液中や、チオグリコール酸塩、クエン酸� ��アンモニウム溶液中で浸漬処理すれば良い� ��
 この処理の前に、大気中、または窒素ガス� ��Arガスなどの不活性ガス雰囲気中で加熱処� �することが効果的である。これは、加熱処� �によって、不働態皮膜の最表面層にFeが濃縮 し、その後の上記溶液中での浸漬処理により 、容易にFeと錯イオンを形成して、不働態皮� ��から溶出するためである。不働態皮膜から� ��先的にFeを溶出させることによって、皮膜� �Cr酸化物、水酸化物主体の組成に改質される 。

 上記のように、不働態皮膜内に電子のキャ� ��アとなるLi、Fを注入することによって、不� ��態皮膜の電子伝導性が向上し、従来生成し� ��いる不働態皮膜の接触電気抵抗を著しく改� ��することができる。
 さらに、不働態皮膜をCr酸化物、水酸化物� �体の組成に改質することによって耐食性が� �上し、長時間の大気中放置によっても皮膜� �変質せず、表面接触電気抵抗の時系列劣化� �防止ないし抑制することができる。

(A)不働態皮膜中からSiを除去する工程
 不働態皮膜中からSiを除去するには、水に� �解してアルカリ性を示すアルカリ金属化合� �の水溶液中において、アノード電解または� �番電解する方法が好適である。水溶液は、� �酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、リン酸� �ナトリウム、水酸化カリウムなど、アルカ� �金属の水酸化物、炭酸塩、リン酸塩であっ� �、水に溶解してアルカリ性を示すアルカリ� �属化合物であればすべて使用できる。また� �れらの化合物は単独、または混合物でもか� �わない。これらのアルカリ金属化合物の濃� �は、好ましくは0.001kmol・m ^-3 以上であり飽和濃度まで適する。水溶液温度 は、好ましくは、室温~90℃、さらに好ましく は、30℃~70℃が望ましい。電解電流密度は、� ��ましくは0.01~50A/dm ² 、さらに好ましくは、0.1~10A/dm ² 、電解時間は好ましくは、5~600秒、さらに好� ��しくは10~300秒が適する。
 交番電解の場合は、上記電流密度および水� ��液温度の範囲で、1サイクルのアノード電解 とカソード電解のそれぞれの電解時間は好ま しくは、10ms~120s、さらに好ましくは100ms~60sが 適する。総電解時間は、好ましくは、5~600秒� ��さらに好ましくは10~300秒が適する。
 アノード電解処理や交番電解などでは、電� ��密度が高い程、短時間処理が可能であるが� ��アルカリ金属化合物の濃度が高くなると、� ��電流密度域でステンレス鋼が過不働態溶解� ��て、元来の外観を損なう恐れがあるので、� ��ましくは0.1~10A/dm ² で、10~120秒、さらに好ましくは60秒程度が適� ��る
 これらの電解処理によって、不働態皮膜中� ��Si酸化物は、メタケイ酸イオン、オルトケ� �酸イオンとなって、不働態皮膜から排出さ� �る。

(B)不働態皮膜にフッ素を注入する工程
 フッ化物注入におけるフッ化物イオン源と� ��ては、フッ化水素酸や、水に溶解してフッ� ��物イオンを生成するフッ素化合物であれば� ��意の化合物が使用できる。例えば、アルカ� ��金属フッ化物(例えば、フッ化ナトリウム、 フッ化カリウム等)、フッ化アンモニウム、� �フッ化アンチモン、フッ化銅、二フッ化水� �ナトリウム、二フッ化水素カリウム、等が� �げられる。このうち、アルカリ金属フッ化� �、とくにフッ化ナトリウム、フッ化カリウ� �が好ましい。

 電気化学的にフッ化物を注入するには、フ� ��化水素水溶液中、あるいは上記フッ化物イ� ��ン源に、硝酸、硫酸、りん酸などを加えた� ��性水溶液中でステンレス鋼をアノード電解� ��る。処理液のpHは好ましくは0~3、さらに好� �しくは0~2である。フッ化物濃度は、好まし� �は0.001kmol・m ^-3 以上で飽和濃度まで適する。水溶液は、加温 する必要性はなく、例えば10~30℃、好ましく� ��、室温で使用できる。電解電流密度は好ま� ��くは、0.01~50A/dm ² 、さらに好ましくは、0.5~10A/dm ² であり、電解時間は好ましくは、5~600秒、さ� ��に好ましくは、10~60秒が適する。電流密度� �高い程、短時間処理が可能であるが、フッ� �物イオン濃度が高くなると、高電流密度域� �ステンレス鋼が過不働態溶解して、元来の� �観を損なう恐れがあるので、好ましくは0.1~1 0A/dm ² で、10~120秒、好ましくは60秒程度が適する。

 化学的にフッ化物を注入するには、フッ化� ��素酸および上記フッ化物イオン源に酸化剤� ��加えた溶液中において浸漬処理する。フッ� ��物濃度は、好ましくは0.001kmol・m ^-3 以上で飽和濃度まで適する。
 酸化剤としては、硝酸、過マンガン酸カリ� ��ム、過酸化水素酸、等が挙げられる。濃度� ��好ましくは0.1~10kmol・m ^-3 、さらに好ましくは1~5 kmol・m ^-3 が望ましい。水溶液温度は、好ましくは20~80� ��、さらに好ましくは30~60℃である。浸漬時� �は、好ましくは10秒間~10分間、さらに好まし くは1~10分間が適する。

(C)不働態皮膜にリチウムを注入する工程
 リチウム注入におけるリチウムイオン源と� ��ては、水や非水溶媒に溶解してリチウムイ� ��ンを生成するリチウム化合物であれば任意� ��化合物が使用できる。例えば、酸素化合物� ��しては、水酸化リチウム、酸化リチウムな� ��、ハロゲン化物としては、塩化リチウム、� ��化リチウム、ヨウ化リチウムなど、酸素酸� ��としては、硝酸リチウム、硫酸リチウム、� ��が挙げられる。非水溶媒としては、エタノ� ��ル、メタノール、ジメチルエーテル、ジエ� ��ルエーテル、メチルエチルエーテル等が挙� ��られる。水と水混和性非水溶媒の混合液も� ��用できる。

 リチウムイオン源を含む水溶液または非水� ��液のリチウム化合物の濃度は、好ましくは0 .01kmol・m ^-3 以上であり、飽和溶液まで適する。溶液は加 温する必要はなく、好ましくは、10~30℃、例� ��ば室温でよい。浸漬処理の場合、処理時間� ��好ましくは10秒間~10分間、さらに好ましく� �、30秒間~5分間が適する。カソード電解処理� ��場合、電流密度は好ましくは0.01A/dm ² ~10A/dm ² 、さらに好ましくは、0.1~5A/dm ² 、電解時間は好ましくは10秒間~10分間、さら� ��好ましくは20秒間~5分間程度が適する。

 不働態皮膜内へのフッ化物イオンおよび� ��チウムイオンの効果的な注入方法は、上記� ��程(B)と工程(C)を繰り返し行うことである。� ��程(B)と工程(C)の順序はいずれが先でも良い� ��、工程(B)をまず実施し、次いで工程(C)を実� ��することが好ましい。

(D)不働態皮膜中の鉄を溶出する工程
 不働態皮膜中の鉄を優先溶出させるには、� ��酸溶液、チオグリコール酸塩、クエン酸三� ��ンモニウム溶液またはフッ化物イオンを含� ��した水溶液中で浸漬処理すれば良い。
 硝酸溶液を使用する場合には、濃度は、好� ��しくは1kmol・m ^-3 以上であり、飽和溶液まで適する。水溶液温 度は、好ましくは、室温~90℃、さらに好まし くは、30℃~70℃が望ましい。浸漬時間は、好� ��しくは10秒間~120分間、さらに好ましくは、3 0秒~60分間が望ましい。
 チオグリコール酸塩としては、チオグリコ� ��ル酸では、質量%として好ましくは0.1%~90%、� ��らに好ましくは1~50%が適する。溶液温度は� �温する必要はなく、例えば10~50℃、好ましく は、室温で使用できる。浸漬時間は、好まし くは5秒間~120分間、さらに好ましくは10秒間~3 0分間が適する。チオグリコール酸アンモニ� �ムおよびチオグリコール酸モノエタノール� �ミンとしては、質量%として好ましくは、0.1% ~50%、さらに好ましくは1%~30%が適する。溶液� �度は、例えば10~50℃、好ましくは、室温で使 用できる。

 クエン酸三アンモニウムの濃度は、好まし� ��は0.1kmol・m ^-3 以上で、飽和濃度まで適する。水溶液温度は 、好ましくは、室温~50℃、さらに好ましくは 、30℃~40℃が望ましい。浸漬時間は、好まし� ��は10秒間~120分間、さらに好ましくは30秒間~3 0分間が適する。
 フッ化物イオンを含有した水溶液を使用す� ��場合には、フッ化水素酸、あるいは上記フ� ��化物イオン源に酸を加え、酸性とした水溶� ��が適する。pHは好ましくは0~3、さらに好ま� �くは0~2である。フッ化物濃度は、好ましく� �0.001kmol・m ^-3 以上であり、飽和濃度まで適する。pH調整用� ��酸としては、硝酸、硫酸、リン酸、等が挙� ��られる。濃度は好ましくは0.01~10kmol・m ^-3 が望ましく、さらに好ましくは、0.1~5 kmol・m ^-3 が望ましい。水溶液温度は、好ましくは10~80� ��、さらに好ましくは20~60℃である。浸漬時� �は、好ましくは5秒間~20分間、さらに好まし� ��は5秒間~10分間が適する。

 さらに、効率的に不働態皮膜中の鉄を優� ��溶出させるには、工程(D)の硝酸、チオグリ� ��ール酸塩、フッ化物イオンを含有した水溶� ��中での浸漬処理以前に、大気中、または窒� ��、あるいはArなどの不活性ガス雰囲気中に� �いて熱処理することが望ましい。好適な熱� �理温度は好ましくは100℃~600℃、さらに好ま� ��くは、140℃~500℃であり、処理時間は好まし くは1秒間~30分間、さらに好ましくは10秒~20分 間である。

 この加熱処理によって、不働態皮膜の最表� ��層に鉄濃縮層が形成され、その後の工程(D)� ��おいて容易にFeと錯イオンを形成して、溶� �中へ溶出する。
 この処理によって、不働態皮膜はCr主体の� �成になるため、耐食性が向上して、長時間� �大気中放置によっても皮膜の変質がなく、� �面接触電気抵抗の時系列劣化が小さくなる� �のと考えられる。

 以下実施例を示し、本発明を具体的に説明� ��る。
接触電気抵抗の測定方法
 接触電気抵抗は、株式会社 山崎精機研究� �製、電気接点シミュレーター(CRS-113-金型)を� ��用して測定した。測定プローブには、PU-05� �線接触子、0.5mmφを用いた。印加定電流を10mA とした。また、接触子の最大接触荷重を100gf� ��移動距離を1mmとして測定を行い、接触荷重- 接触電気抵抗分布曲線を求めた。

第1の実施態様
実施例A1
供試材
 供試材には板厚が0.2mmのSUS304BA(BA:光輝焼鈍� �)を使用した。これを15mm×50mmに切断して試験 片とした。
実験方法
 試験片をアセトン中に浸漬して超音波洗浄� ��施した後、硝酸水溶液、リン酸水溶液、そ� ��ぞれ10%濃度(質量)、25℃において、対極にSUS 304鋼を用いてカソード電解を施した。電流密 度は5A/dm ² で電解時間を30秒とした。電解後に蒸留水洗� ��、冷風(25℃)乾燥を行い、接触電気抵抗を測 定した。
結果
 素材(SUS304BA:光輝焼鈍仕上げ)の接触荷重-接� ��電気抵抗分布曲線を図1に示す。

 素材、SUS304BAでは、瞬間的に接触電気抵抗� �低下する挙動は認められるものの、接触荷� �が100gfまで、接触電気抵抗は高い状態(300mω� �上)を保持したままである。
 図2に10%硝酸および10%リン酸水溶液中でカソ ード電解処理した試験片の接触電気抵抗測定 結果を示す。硝酸処理材、リン酸処理材とも 、接触荷重が約10gfで接触電気抵抗が300mω以� �となり、接触荷重の増加とともに接触電気� �抗が低下した。このように、素材(SUS304BA)の� ��触電気抵抗は、硝酸カソード電解、リン酸� ��ソード電解によって低下する。

実施例A2
供試材
 実施例A1に使用したものと同じ。
実験方法
 試験片をアセトン中に浸漬して超音波洗浄� ��施した後、10%硫酸水溶液、または10%硫酸+5mg /L三酸化二砒素水溶液、25℃において、対極� �SUS304鋼を使用して、カソード電解を施した� �電流密度は5A/dm ² で電解時間を30秒とした。電解後に蒸留水洗� ��~冷風乾燥を行い、実施例A1と同様に接触電� ��抵抗を測定した。また比較例として、SUS304B Aに半光沢Niめっきした試験片の接触電気抵抗 を測定した。

 図3に10%硫酸水溶液中でカソード電解処理し た試験片の接触電気抵抗に及ぼす三酸化二砒 素添加の効果を示す。水素過電圧を上昇させ る三酸化二砒素を5mg/L添加することによって� ��硫酸カソード電解処理の効果が向上し、約7 gfの接触荷重で急激に接触電気抵抗が低下す� ��ことがわかった。このように、三酸化二砒� ��を添加することによってカソード電解処理� ��のプロトン進入効果が上昇することがわか� ��。
 図4には比較例として半光沢Niめっき材の接� ��荷重-接触電気抵抗分布曲線を示す。上記、 10%硫酸+5mg/L三酸化二砒素水溶液中でカソード 電解した試験片は、半光沢Niめっき材とほぼ� ��等の接触電気抵抗を示した。

実施例A3
供試材
 供試材には板厚が0.2mmのSUS304 2D、SUS304 2B、 SUS304 3/4H、SUS430BAを使用した。これらを15mm×5 0mmに切断して試験片とした。
実験方法
 試験片をアセトン中に浸漬して超音波洗浄� ��施した後、10%硫酸+5mg/L三酸化二砒素水溶液� ��25℃において、対極にSUS304鋼を使用して、� �ソード電解を施した。電流密度は5A/dm ² で電解時間を30秒とした。電解後に蒸留水洗� ��~冷風乾燥を行い、実施例A1と同様に接触電� ��抵抗を測定した。
 図5にはSUS304 2D材の、図6にはSUS304 2B材の、 図7にはSUS304 3/4H材の、図8にはSUS430BAの処理� �および素材の接触荷重-接触電気抵抗分布曲� ��をそれぞれ示す。このように、SUS304鋼の素� ��表面状態が異なっても、あるいはフェライ� ��系ステンレス鋼であるSUS430鋼であっても、� ��触電気抵抗は低下する。

実施例A4
供試材
 実施例A1に使用したものと同じ。
実験方法
 10%硝酸水溶液、25℃において、5A/dm ² で30秒間のカソード電解処理を行い、蒸留水� ��浄~冷風乾燥した試験片を作製した。このカ ソード電解処理した試験片表面と素材(SUS304BA )の試験片表面とを表面X線光電子分光法(XPS)� �分析し比較した。
 図9に示すように、金属-O(酸化物)の結合エ� �ルギーを表わす530.1eVと金属-OH(水酸基)のそ� �を表わす531.3eVにおいてX線強度を比較した結 果、素材(SUS304BA)の金属-OH/金属-O比が0.8であ� �たのに対して、カソード処理後では0.9に上� �していた。種々検討した結果、素材表面の� �上げ状態に関わらず、金属-OH/金属-OのX線強� ��比が0.85以上において、接触電気抵抗が低下 することがわかった。

第2の実施態様
実施例B1
供試材
 供試材には板厚が0.2mmのSUS304BA(BA:光輝焼鈍� �)を使用した。これを15mm×50mmに切断して試験 片とした。
実験方法
 試験片をアセトン中に浸漬して超音波洗浄� ��施した後、5質量%HF、30℃において、電気化� ��的処理として1A/dm ² で1分間のアノード電解、また化学的処理と� �て1分間の浸漬処理を施した。処理後に蒸留� ��洗浄~冷風(25℃)乾燥を行い、接触電気抵抗� �測定した。

結果
 素材(SUS304BA:光輝焼鈍仕上げ)の接触荷重-接� ��電気抵抗分布曲線を図1に示す。
 素材では、瞬間的に接触電気抵抗が低下す� ��挙動は認められるものの、接触荷重が100gf� �で、接触電気抵抗は300mω以上を保持したま� �である。
 一方、図10に示すように、5%HF中での浸漬処� ��では接触荷重が約10gfで接触電気抵抗が300mω 以下となり、接触荷重の増加とともに接触電 気抵抗が低下した。
 また、5%HF中でのアノード電解処理では、接 触電気抵抗値が300mω以下に低下する接触荷重 が化学的処理に比べてさらに低く(約8gf)、ア� ��ード電解によってFの進入が促進されること がわかる。このように、素材(SUS304BA)の接触� �気抵抗は、フッ化水素酸中でのアノード電� �処理および浸漬処理で急激に低下した。

実施例B2
供試材
 実施例B1に使用したものと同じ。
実験方法
 フッ化物イオン源に酸化剤を加えた溶液中� ��の化学的(浸漬)処理の適応例を示す。試験� �をアセトン中に浸漬して超音波洗浄を施し� �後、0.05kmol・m ^-3 NaF+1.5kmol・m ^-3 HNO ₃ 中、30℃で5分間浸漬処理した。処理後に蒸留 水洗浄~冷風乾燥を行い、接触電気抵抗を測� �した。また比較例として、SUS304BAに半光沢Ni� ��っきした試験片の接触電気抵抗を測定した� ��
 接触電気抵抗の測定結果を図11に示す。接� �荷重が約5gfで接触電気抵抗が300mω以下とな� �、接触荷重の増加とともに接触電気抵抗が� �下して、図4に示す半光沢Niめっき材とほぼ� �等になることがわかった。

実施例B3
供試材
 供試材には板厚が0.2mmのSUS304 2B、SUS304 3/4H� ��SUS430BAを使用した。これらを15mm×50mmに切断� ��て試験片とした。
実験方法
 試験片をアセトン中に浸漬して超音波洗浄� ��施した後、0.05kmol・m ^-3 NaF+1.5kmol・m ^-3 HNO ₃ 中、30℃で5分間浸漬処理した。処理後に蒸留 水洗浄~冷風乾燥を行い、実施例B1と同様に接 触電気抵抗を測定した。
 図12にはSUS304 2B材の、図13にはSUS304 3/4H材� �、図14にはSUS430BA材の処理後および素材の接� ��荷重-接触電気抵抗分布曲線を示す。このよ うに、SUS304鋼の素材の表面状態が異なっても 、あるいはフェライト系ステンレス鋼である SUS430鋼であっても、本発明の処理により接触 電気抵抗は低下する。

実施例B4
供試材
 実施例B1に使用したものと同じ。
 試験片(SUS304BA)をアセトン中に浸漬して超音 波洗浄を施した後、 5質量%HF、30℃溶液中に� ��いて、1分間の化学的(浸漬)処理を施した。� ��理後に蒸留水洗浄~冷風乾燥を行い、飛行時 間型二次イオン質量分析(ToF-SIMS)を行なった� �皮膜の深さ方向のF濃度の分布は、皮膜をス� ��ッタリングしながら、深さ方向の二次イオ� ��強度から求めた。
 図15に示すように、皮膜厚さが約3nmの不働� �皮膜中にFが進入しており、表層深さ約0.5nm� �二次イオン強度のピークが認められた。
 さらに、同試験片を表面X線光電子分光分析 (XPS)したところ、1.2原子%濃度のFが検出され� �。種々検討した結果、0.1原子%以上のF濃度で 接触電気抵抗が低下することがわかった。

第3の実施態様
実施例C1
供試材
 供試材には板厚が0.2mmのSUS304BA(BA:光輝焼鈍� �)を使用した。これを15mm×50mmに切断して試験 片とした。

実験方法
 試験片をアセトン中に浸漬して超音波洗浄� ��施した後、1kmol・m ^-3 LiOH水溶液中で1A/dm ² で1分間のカソード電解を行い、蒸留水洗浄~� ��風(25℃)乾燥を行なった後、100℃および200℃ で10分間の大気加熱を行なった。また比較例� ��して、SUS304BAに半光沢Niめっきした試験片の 接触電気抵抗を測定した。
結果
 図1に素材(SUS304BA:光輝焼鈍仕上げ)の接触荷� ��-接触電気抵抗分布曲線を示す。素材では、 瞬間的に接触電気抵抗が低下する挙動は認め られるものの、接触荷重が100gfまで、接触電� ��抵抗は300mω以上を保持したままである。
 図16に、LiOH水溶液中でカソード電解後、大� ��加熱処理した試験片の接触荷重-接触電気抵 抗分布曲線を示す。素材の接触電気抵抗はLi� ��入および、その後の100℃大気加熱によって� ��下し、さらに200℃での大気加熱を行なうこ� ��によって急激に低下した。また、200℃で大� ��加熱処理した試験片の接触電気抵抗は、図4 に示す半光沢Niめっき材とほぼ同等になるこ� ��がわかった。

 素材BA皮膜、リチウム電解注入後、および20 0℃で大気加熱処理した皮膜の組成解析を飛� �時間型二次イオン質量分析(ToF-SIMS)で行なっ� ��。皮膜の深さ方向の濃度分布は、皮膜をス� ��ッタリングしながら、二次イオン強度の測� ��から求めた。測定結果を図17に示す。
 素材(図17(a))をカソード電解するとBA皮膜内� ��Liの存在が認められた(図17(b))。さらに、200� ��大気加熱処理後では、不働態皮膜の外層にL i、Feが存在し、内層にCrが存在することがわ� ��った(図17(c))。

 このようにして得られる本発明のステン� ��ス鋼製導電性部材は、飛行時間型二次イオ� ��質量分析(ToF-SIMS)で分析すると不働態被膜中 に0.01原子%以上、好ましくは0.02原子%以上のLi を含んでおり、また下記の接触電気抵抗測定 方法により測定した接触電気抵抗は、接触荷 重50gfにおいて、好ましくは150mω以下、さら� �好ましくは100mω以下である。

実施例C2
供試材
 実施例C1に使用したものと同じ。
実験方法
 接触電気抵抗に及ぼすリチウムイオンの最� ��濃度および最適温度の影響を調べるため、L iOH濃度を0.5~2kmol・m ^-3 、水溶液温度を30、50、70℃として、1A/dm ² で10分間のカソード電解処理を行なった。そ� ��後、蒸留水洗浄~冷風乾燥し、200℃で10分間� ��大気加熱を施した。この試験片の接触荷重- 接触電気抵抗分布曲線を測定して、接触電気 抵抗が300mω以下に低下する接触荷重(低下荷� �:gf)を求めた。測定回数、n=3で測定し、その� ��均値を表C1に表わす。LiOH濃度が高くなるほ� ��、低下荷重が小さくなる傾向が認められた� ��、水溶液温度の影響はなかった。

実施例C3
供試材
 実施例C1に使用したものと同じ。
実験方法
 接触電気抵抗に及ぼすカソード電流密度と� ��カソード電解後の加熱時間の影響を調べた� ��LiOH濃度を2kmol・m ^-3 、水溶液温度を30℃、カソード電流密度を0.5~ 5A/dm ² として、1分間のカソード電解後、200℃の大� �中で5、10、30分間加熱した。測定回数、n=3で 測定し、その平均値を求めた。表C2に示すよ� ��に、低下荷重に及ぼすカソード電流密度の� ��響は認められなかったが、最適大気加熱時� ��が10分間であることがわかった。また、LiOH� ��溶液中への浸漬処理のみでも接触電気抵抗� ��低下させる効果があることがわかった。

実施例C4
供試材
 実施例C1に使用したものと同じ。
実験方法
 接触電気抵抗に及ぼすカソード電解時間の� ��響を調べる目的で、LiOH濃度を2kmol・m ^-3 、水溶液温度を30℃、カソード電流密度を1A/d m ² として、電解時間を10秒間~5分間と変化させ� �。また、大気加熱処理は200℃で5、10、30分間 とした。測定回数、n=3で測定し、その平均値 を求めた。表C3に示すように、低下荷重に及� ��すカソード電解時間の影響は認められなか� ��たが、実施例C3と同様に大気加熱時間は10分 間が適していた。

実施例C5
供試材
 実施例C1に使用したものと同じ。
実験方法
 接触電気抵抗に及ぼす大気加熱温度の影響� ��調べるため、LiOH濃度を2kmol・m ^-3 、水溶液温度を30℃、カソード電解条件を1A/d m ² で1分間とした。大気加熱温度を160℃~240℃ま� ��変化させ、加熱時間は10分間とした。測定� �数、n=3で測定し、その平均値を求めた。表C4 に示すように、200℃での大気加熱によって低 下荷重が小さくなることがわかった。

実施例C6
供試材
 実施例C1に使用したものと同じ。
実験方法
 エタノールにLiNO ₃ を溶解して、濃度を1kmol・m ^-3 とした。この非水溶液中において、30℃、10V� ��1分間のカソード電解を施し、その後、蒸留 水洗浄~冷風乾燥を行なった後、大気中で200� �×10分間の熱処理を行なった。接触荷重-接触 電気抵抗分布曲線を図18に示す。
 このように接触電気抵抗が低下することか� ��、非水溶液からでもLiが不働態皮膜に注入� �きることがわかる。

実施例C7
供試材
 供試材には板厚が0.2mmのSUS304 3/4Hを使用し� �。これを15mm×50mmに切断して試験片とした。

実験方法
 試験片をアセトン中に浸漬して超音波洗浄� ��施した後、1kmol・m ^-3 LiOH水溶液中で1A/dm ² で1分間のカソード電解を行い、蒸留水洗浄~� ��風乾燥を行なった後、200℃で10分間の大気� �熱を行なった。
結果
 図19に素材(SUS304 3/4H)と処理材の接触荷重-� �触電気抵抗分布曲線を示す。このように、� �ね材であるSUS304 3/4Hでも接触電気抵抗の急� �な低下が認められた。

第4の実施態様
実施例D1
供試材
 供試材には板厚が0.2mmのSUS304BA(BA:光輝焼鈍� �)を使用した。これを15mm×50mmに切断して試験 片とした。
実験方法
 試験片をアセトン中に浸漬して超音波洗浄� ��施した後、200℃で10分間の大気加熱を行な� �た。その後、5質量%HF水溶液、30℃で10秒間の 浸漬処理を施した後、蒸留水洗浄~冷風(25℃)� ��燥を行い、接触電気抵抗を測定した。試験� ��の接触荷重-接触電気抵抗分布曲線を図20に� ��す。

 素材(SUS304BA)では、瞬間的に接触電気抵抗 が低下する挙動は認められるものの、接触荷 重が100gfまで、接触電気抵抗は300mω以上を保� ��したままである。一方、大気加熱後にHF水� �液中へ浸漬処理した試験片では荷重が約20gf� ��接触電気抵抗が300mω以下となり、接触荷重� ��増加とともに接触電気抵抗が低下して、接� ��荷重が100gfでは10mω程度になった。

実施例D2
供試材
 実施例D1に使用したものと同じ。
実験方法
 素材(SUS304BA材)を200℃で10分間の大気加熱処� ��後に5質量%HF水溶液中において、10秒間の浸� ��処理を施した。その後、1kmol・m ^-3 LiOH水溶液中において、1A/dm ² で1分間のカソード電解処理した試験片と、� �ソード電解後に、再度HF水溶液中において10� ��間の浸漬処理を施した試験片それぞれの接� ��電気抵抗を測定した。なお、各電解処理、� ��漬処理後には蒸留水洗浄と冷風乾燥工程が� ��まれる。図21に接触荷重-接触電気抵抗分布� ��線を示す。図4には比較例としてSUS304BAに半� ��沢Niめっきした試験片の接触電気抵抗測定� �果を示す。
 図20と図21の比較から、200℃大気加熱~HF浸漬 処理した試験片の接触電気抵抗は、LiOH水溶� �中でのカソード電解処理によって低下し、� �度 HF水溶液への浸漬処理によってさらに低� ��することがわかった。この接触電気抵抗は� ��図4に示す半光沢Niめっき材に匹敵する。

実施例D3
供試材
 実施例D1に使用したものと同じ。
 試験片をアセトン中に浸漬して超音波洗浄� ��施した後、200℃で10分間の大気加熱処理を� �した。大気加熱処理後に5%HF水溶液、30℃溶� �において、10秒間の浸漬処理を施し、1kmol・m ^-3 LiOH水溶液中で1A/dm ² で1分間のカソード電解処理の後、再度5%HF水� ��液、30℃での10秒間の浸漬処理を施した。な お、各電解処理、浸漬処理後には蒸留水洗浄 と冷風乾燥工程が含まれる。各処理工程の詳 細を図22に示す。
 上記試験片(図22に示す工程5)を大気中(室内) に25℃で放置し、一定時間毎に接触荷重-接触 電気抵抗分布曲線を測定して、接触電気抵抗 が300mω以下に低下する接触荷重(低下荷重)を� ��めた。

 図23に示すように、大気放置98日後におい ても低下荷重は10gf前後であり、処理直後か� �上昇傾向は認められず、時系列劣化がない� �とがわかる。

 各工程(図22)後の不働態皮膜の組成を、飛行 時間型二次イオン質量分析(ToF-SIMS)で解析し� �結果を図24に示す。
 素材(工程1)の不働態皮膜の厚さは、工程2の 大気加熱処理によって、約7nmまで増加し、さ らにFeが皮膜表層部へ拡散濃化した。酸化物( O)の増加が認められることから、皮膜中のFe� �、酸化物主体の組成に変化したことがわか� �。
 工程3のHF浸漬処理によってFの進入が認めら れた。また、不働態皮膜の厚さが減少した。 これは、工程2で形成されたFe濃縮層が、フッ 化物イオンと錯体を形成してHF水溶液中へ溶� ��したためと考えられる。
 工程4のLiOH水溶液中でのカソード電解で、� �働態皮膜中へのLiの進入、Fの濃度低下が認� �られた。
 工程5のHF浸漬処理によって、皮膜内のFe濃� �は著しく低下して、Cr濃度の上昇およびF濃� �の上昇が認められた。
 各工程の不働態皮膜組成を、X線光電子分光 分析法(XPS)によって解析し、その結果から求� ��たCr/Fe比(原子%)を表D1に示す。

 表D1に示すように、不働態皮膜中のCr/Fe比が 素材(SUS304BA)では0.58、工程5では7.57となる。� �のように皮膜中のCr/Fe比が増加することから 、皮膜の耐食性が向上したものと考えられる 。そこで、窒素脱気した30℃の1kmol・m ^-3 NaCl水溶液中において、素材(SUS304BA)と実施例D 3の工程5まで処理した試験片のアノード分極� ��線を求め、耐孔食性を調べた。
 図25に示すように素材のSUS304BA材は、約1000mV で孔食が発生したが、工程5まで処理した試� �片は酸素発生電位(約1200mV)よりさらに貴な130 0mVまで分極しても孔食は発生せず、耐孔食性 が優れていた。

実施例D4
供試材
 供試材には板厚が0.2mmのSUS304 2D、SUS304 2B、 SUS304 3/4H、SUS430BAを使用した。これらを15mm×5 0mmに切断して試験片とした。
実験方法
 試験片をアセトン中に浸漬して超音波洗浄� ��施した後、図22(実施例D3)に示す工程5まで処 理した。図26にはSUS304 2Dの、図27にはSUS304 2B の、図28にはSUS304 3/4Hの、図29にはSUS430BAの処 理後および素材の接触荷重-接触電気抵抗分� �曲線を示す。
 このように、SUS304鋼の素材の表面状態が異� ��っても、あるいはフェライト系ステンレス� ��であるSUS430鋼であっても、接触電気抵抗は� ��下する。

第5の実施態様
実施例E1
供試材
 供試材には板厚が0.2mmのAl含有SUS430BA(BA:光輝 焼鈍材)を使用した。これを15mm×50mmに切断し� ��試験片とした。
実験方法
 試験片をアセトン中に浸漬して超音波洗浄� ��施した後、表面にアルミナバフ研磨を施し� ��後、30質量%の硝酸、55℃に30分間浸漬して不 働態化処理を行った。その後、1kmol・m ^-3 LiOH水溶液中において、1A/dm ² で1分間のカソード電解処理を施し、接触電� �抵抗を測定した。なお、各電解処理、浸漬� �理後には蒸留水洗浄と冷風乾燥工程が含ま� �る。素材と処理後の試験片の接触圧力-接触� ��気抵抗分布曲線を図30に示す。

 素材(SUS430BA)では、瞬間的に接触電気抵抗 が低下する挙動は認められるものの、接触荷 重が100gfまで、接触電気抵抗は300mω以上を保� ��したままである。一方、上記処理を施した� ��験片では接触荷重の増加とともに接触電気� ��抗が低下することがわかる。このように電� ��のキャリアとしてLiのみでも接触電気抵抗� �低下した。

実施例E2
供試材
 実施例E1に使用したものと同じ。
実験方法
 試験片をアセトン中に浸漬して超音波洗浄� ��施した後、30質量%の硝酸、55℃において、1A /dm ² の電流密度でカソード電解を10秒間、アノー� ��電解を10秒間施し、さらに連続してカソー� �電解を10秒間、アノードを10秒間施した。そ� ��後、2.5質量%のHF水溶液中(25℃)において30秒� ��の浸漬処理を施した。処理後の試験片の接� ��電気抵抗を測定した。なお、各電解処理、� ��漬処理後には蒸留水洗浄と冷風乾燥工程が� ��まれる。図31に接触圧力-接触電気抵抗分布� ��線を示す。

 上記処理を施した試験片では接触荷重の� ��加とともに接触電気抵抗が低下することが� ��かる。このように電子のキャリアとしてFの みでも接触電気抵抗は低下した。

実施例E3
供試材
 実施例E1に使用したものと同じ。
実験方法
 試験片をアセトン中に浸漬して超音波洗浄� ��施した後、30質量%の硝酸、55℃において、1A /dm ² の電流密度でカソード電解を10秒間、アノー� ��電解を10秒間施し、さらに連続してカソー� �電解を10秒間、アノードを10秒間施した。そ� ��後、1kmol・m ^-3 LiOH水溶液中において、1A/dm ² で1分間のカソード電解処理を施し、さらに2. 5質量%のHF水溶液中(25℃)において10秒間の浸� �処理を施した。処理後の試験片の接触電気� �抗を測定した。なお、各電解処理、浸漬処� �後には蒸留水洗浄と冷風乾燥工程が含まれ� �。図32に接触圧力-接触電気抵抗分布曲線を� �す。

 試験片の接触電気抵抗は、接触荷重が約2 0gf(低下荷重)から低下し始め、接触荷重が100g fにおいては、約30mωまで低下した。このよう に、不働態皮膜中のAl酸化物を硝酸中での交� ��電解で取り除き、さらに皮膜中に電子のキ� ��リアとなるLi、Fを注入することによって接� ��電気抵抗は低下することがわかった。

実施例E4
供試材
 実施例E1に使用したものと同じ。
実験方法
 試験片をアセトン中に浸漬して超音波洗浄� ��施した後、0.1kmol・m ^-3 濃度のトリポリりん酸ナトリウム水溶液(25℃ )で、1A/dm ² の電流密度でアノード電解を1分間施した。� �の後、大気中において300℃で1分間の大気加� ��を施した。冷却後、10質量%チオグリコール� ��水溶液中で2分間の浸漬処理を施した。その 後、30質量%硝酸水溶液、60℃で、60分間の浸� �処理(不働態化処理)を行った。つぎに、2.5質 量%のHF水溶液中(25℃)において1分間の浸漬処� ��を施し、さらに1kmol・m ^-3 LiOH水溶液中(25℃)において、1A/dm ² で1分間のカソード電解処理、および30質量%� �酸水溶液、60℃で、5分間の浸漬処理を行っ� �。なお、各電解処理、浸漬処理後には蒸留� �洗浄と冷風乾燥工程が含まれる。図33に接触 圧力-接触電気抵抗分布曲線を示す。

 試験片の接触電気抵抗は、接触荷重が約5gf( 低下荷重)から急激に低下した。この挙動は� �図4に示す一般的に電気接点部品として使用� ��れている半光沢Ni めっき皮膜の接触圧力-� �触電気抵抗分布曲線に匹敵する。
 X線光電子分光分析法(XPS)によって試験片の� ��働態皮膜を解析した結果、トリポリりん酸� ��トリウム水溶液でのアノード電解で不働態� ��膜中から電気抵抗が高いAl酸化物を完全に� �去できることがわかり、また、大気加熱に� �って不働態皮膜の最表面層に形成された鉄� �縮層をチオグリコール酸水溶液中および硝� �溶液中での浸漬処理によって除去できるこ� �がわかった。この処理で、表面X線光電子分� ��法(XPS)で分析した不働態皮膜中のAl含有量は 、検出限界(0.1原子%)以下となった。なお、素 材(SUS430)不働態皮膜中のAl濃度は,0.9原子%であ った。また、不働態皮膜内のFe濃度は著しく� ��下して、Cr濃度が上昇し、素材のCr/Fe比(原� �%)は0.50に対して、処理後には4.5に上昇して� �ることがわかった。このようにCr/Fe比が上昇 して、皮膜の耐食性が向上したため、95%RH、6 0℃の恒温恒湿環境、30日間の試験においても 接触電気抵抗の経時劣化が認められなかった ものと考えられる。
 また、HF浸漬処理、LiOH中でのカソード電解� ��理で、不働態皮膜内にLi、Fの存在を飛行時� ��型二次イオン質量分析(ToF-SIMS)で確認でき、 さらにX線光電子分光分析法(XPS)によってF濃� �を求めた結果、1.2原子%であった。種々検討� ��た結果、0.1原子%以上のF濃度で接触電気抵� �が低下することがわかった。またLiに関して は、飛行時間型二次イオン質量分析(ToF-SIMS)� �処理後の試験片を分析すると、0.5原子%であ� ��た。種々検討した結果、不働態皮膜中に0.01 原子%以上含まれていると、接触電気抵抗が� �下する挙動が認められた。

実施例E5
供試材
 供試材には、Alが含有されているSUS430(2B)、S US434(BA)、SUS430J1L(BA)、SUS444(BA)を使用した。こ� ��を15mm×50mmに切断して試験片とした。試験片 をアセトン中に浸漬して超音波洗浄を施した 後、実施例E4に示した方法によって処理した� ��素材および処理後の試験片の接触圧力-接触 電気抵抗分布曲線から、接触電気抵抗が300mω 以下に低下する接触荷重(低下荷重)を求めた� ��表E1に素材(処理前)および処理後の接触抵抗 (低下荷重を示す)。

 このように、SUS430鋼の素材の表面状態が� ��なっても、あるいは他鋼種である、SUS434、S US430J1L、SUS444であっても、接触電気抵抗は低� ��する。

第6の実施態様
実施例F1
供試材
 供試材には板厚が0.2mmのSUS430BA(BA:光輝焼鈍� �)を使用した。これを15mm×50mmに切断して試験 片とした。
実験方法
 試験片をアセトン中に浸漬して超音波洗浄� ��施した後、20g/LのNaOH水溶液(30℃)において1A/ dm ² で1分間のアノード電解処理を施した後、1kmol ・m ^-3 LiOH水溶液中(25℃)において、1A/dm ² で1分間のカソード電解処理を施し、接触電� �抵抗を測定した。なお、各電解処理、浸漬� �理後には蒸留水洗浄と冷風乾燥工程が含ま� �る。素材と処理後の試験片の接触圧力-接触� ��気抵抗分布曲線を図34に示す。

 素材(SUS430BA)では、瞬間的に接触電気抵抗 が低下する挙動は認められるものの、接触荷 重が100gfまで、接触電気抵抗は300mω以上を保� ��したままである。一方、上記処理を施した� ��験片の接触電気抵抗は、接触荷重が約45gf(� �下荷重)から低下し始め、接触荷重が100gfに� �いては、約80mωまで低下した。このように、 電子のキャリアとしてLiのみでも接触電気抵� ��が低下することがわかった。

実施例F2
供試材
 実施例F1に使用したものと同じ。
実験方法
 試験片をアセトン中に浸漬して超音波洗浄� ��施した後、20g/LのNaOH水溶液(30℃)において1A/ dm ² で1分間のアノード電解処理を施した後、2.5� �量%のHF水溶液中(25℃)において1分間の浸漬処 理を施し、接触電気抵抗を測定した。なお、 各電解処理、浸漬処理後には蒸留水洗浄と冷 風乾燥工程が含まれる。処理後の試験片の接 触圧力-接触電気抵抗分布曲線を図35に示す。

 上記処理を施した試験片の接触電気抵抗� ��、接触荷重が約20gf(低下荷重)から低下し始� ��、接触荷重が100gfにおいては、約60mωまで低 下した。

実施例F3
供試材
 実施例F1に使用したものと同じ。
実験方法
 試験片をアセトン中に浸漬して超音波洗浄� ��施した後、20g/LのNaOH、30g/LのNa ₃ PO ₄ ・12H ₂ Oの混合溶液(30℃)において1A/dm ² で1分間のアノード電解処理を施した後、300� �で1分間の大気加熱を行った。その後2.5質量% のHF水溶液中(25℃)において1分間の浸漬処理� �1kmol・m ^-3 LiOH水溶液中(25℃)において、1A/dm ² で1分間のカソード電解処理を施し、接触電� �抵抗を測定した。なお、各電解処理、浸漬� �理後には蒸留水洗浄と冷風乾燥工程が含ま� �る。処理後の試験片の接触圧力-接触電気抵� ��分布曲線を図36に示す。

 上記処理を施した試験片の接触電気抵抗� ��、接触荷重が約5gf(低下荷重)から低下し始� �、接触荷重が100gfにおいては、約30mωまで低� ��した。

実施例F4
供試材
 実施例F1に使用したものと同じ。
実験方法
 試験片をアセトン中に浸漬して超音波洗浄� ��施した後、20g/LのNaOH、 40g/LのNa ₂ CO ₃ の混合溶液(25℃)において1A/dm ² で1分間のアノード電解処理を施した後、300� �で5分間の大気加熱を行った。その後、1.5kmol ・m ^-3 HNO ₃ と5×10 ^-3 kmol・m ^-3 NaFの混合溶液中(25℃)において、10分間の浸漬 処理を行った。さらに、2.5質量%のHF水溶液中 (25℃)において10秒間の浸漬処理、1kmol・m ^-3 LiOH水溶液中において、1A/dm ² で1分間のカソード電解処理、および30質量%HN O ₃ 、60℃で10分間の浸漬処理を行った。処理後� �試験片の接触電気抵抗を測定した。なお、� �電解処理、浸漬処理後には蒸留水洗浄と冷� �乾燥工程が含まれる。図37に接触圧力-接触� �気抵抗分布曲線を示す。

 試験片の接触電気抵抗は、接触荷重(低下 荷重)が約7gfから低下し始め、接触荷重が100gf においては、約20mωまで低下した。このよう� ��、不働態皮膜中のSi酸化物を取り除き、さ� �に皮膜中の鉄濃度を低下させ電子のキャリ� �となるLi、Fを注入することによって接触電� �抵抗は非常に低下することがわかった。

実施例F5
供試材
 実施例F1に使用したものと同じ。
実験方法
 試験片をアセトン中に浸漬して超音波洗浄� ��施した後、20g/LのNaOH、30g/LのNa ₃ PO ₄ ・12H ₂ O、40g/LのNa ₂ CO ₃ の混合溶液(25℃)において1A/dm ² で1分間のアノード電解処理を施した後、300� �で5分間の大気加熱を行った。その後、10質� �%チオグリコール酸水溶液中、25℃で5分間の� ��漬処理、30質量%HNO ₃ 水溶液、60℃で、10分間の浸漬処理を行った� �つぎに、2.5質量%のHF水溶液中(25℃)において1 分間の浸漬処理と1kmol・m ^-3 LiOH水溶液中において、1A/dm ² で1分間のカソード電解処理、さらに30質量%HN O ₃ 水溶液、60℃で5分間の浸漬処理を行った。な お、各電解処理、浸漬処理後には蒸留水洗浄 と冷風乾燥工程が含まれる。図38に接触圧力- 接触電気抵抗分布曲線を示す。

 試験片の接触電気抵抗は、接触荷重が約5gf( 低下荷重)から急激に低下した。この挙動は� �図4に示す一般的に電気接点部品として使用� ��れている半光沢Ni めっき皮膜の接触圧力-� �触電気抵抗分布曲線に匹敵する。
 X線光電子分光分析法(XPS)によって試験片の� ��働態皮膜を解析した結果、NaOH、Na ₃ PO ₄ 、Na ₂ CO ₃ の混合水溶液でのアノード電解で不働態皮膜 中から電気抵抗が高いSi酸化物を完全に除去� ��きることがわかり、また、大気加熱によっ� ��不働態皮膜の最表面層に形成された鉄濃縮� ��をチオグリコール酸水溶液中および硝酸溶� ��中での浸漬処理によって除去できることが� ��かった。この処理で、表面X線光電子分光法 (XPS)で分析した不働態皮膜中のSi含有量は、� �出限界(0.1原子%)以下となった。なお、素材(S US430)不働態皮膜中のSi濃度は,2.5原子%であっ� �。また、不働態皮膜内のFe濃度は著しく低下 して、Cr濃度が上昇し、素材のCr/Fe比(原子%)� �0.5に対して、処理後には5.5に上昇している� �とがわかった。このようにCr/Fe比が上昇して 、皮膜の耐食性が向上したため、95%RH、60℃� �恒温恒湿環境、50日間の試験においても接触 電気抵抗の経時劣化が認められなかったもの と考えられる。
 また、HF浸漬処理、LiOH中でのカソード電解� ��理で、不働態皮膜内にLi、Fの存在を飛行時� ��型二次イオン質量分析(ToF-SIMS)で確認でき、 さらにX線光電子分光分析法(XPS)によってF濃� �を求めた結果、1.2原子%であった。種々検討� ��た結果、0.1原子%以上のF濃度で接触電気抵� �が低下することがわかった。またLiに関して は、飛行時間型二次イオン質量分析(ToF-SIMS)� �処理後の試験片を分析すると、0.5原子%であ� ��た。種々検討した結果、不働態皮膜中に0.01 原子%以上含まれていると、接触電気抵抗が� �下する挙動が認められた。

実施例F6
供試材
 供試材には、SUS430(2B)、SUS434(BA)、SUS430J1L(BA)� ��SUS444(BA)を使用した。これを15mm×50mmに切断� �て試験片とした。試験片をアセトン中に浸� �して超音波洗浄を施した後、実施例F5に示し た方法によって処理した。素材および処理後 の試験片の接触圧力-接触電気抵抗分布曲線� �ら、接触電気抵抗が300mω以下に低下する接� �荷重(低下荷重)を求めた。表F1に素材(処理前 )および処理後の接触抵抗(低下荷重を示す)。

 このように、SUS430鋼の素材の表面状態が� ��なっても、あるいは他鋼種である、SUS434、S US430J1L、SUS444であっても、接触電気抵抗は低� ��する。