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Patent Searching and Data


Title:
ELECTROLYZER AND ELECTROLYZATION METHOD
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2009/119186
Kind Code:
A1
Abstract:
An electrolyzation method is characterized by comprising an oxide coat formation step for forming an oxide coat on one surface of a band-like body and an electrolyzing step for applying a predetermined electrolyzation to the one surface of the band-like body having the other surface on which the oxide coat is formed in the oxide coat formation step. An electrolyzer comprises an oxide coat formation unit (11) for forming an oxide coat on the other surface of the band body and an electrolyzing unit (12) for applying the predetermined electrolyzation to the one surface of the band body having the other surface on which the oxide coat is formed by the oxide coat formation unit (11).

Inventors:
KASUYA YUICHI (JP)
KASHIWABARA YUTAKA (JP)
Application Number:
PCT/JP2009/052691
Publication Date:
October 01, 2009
Filing Date:
February 17, 2009
Export Citation:
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Assignee:
FUJIFILM CORP (JP)
KASUYA YUICHI (JP)
KASHIWABARA YUTAKA (JP)
International Classes:
C25F3/04; C25D11/00; C25F7/00
Foreign References:
JP2002069693A2002-03-08
JPH1183020A1999-03-26
JPH09234971A1997-09-09
Attorney, Agent or Firm:
NAKAJIMA, Jun et al. (JP)
Nakajima 淳 (JP)
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Claims:
 帯状体を所定の方向に搬送しつつ、電解液中で前記帯状体の一方の面に所定の電解処理を施す電解処理方法であって、
 前記帯状体の他方の面に酸化皮膜を形成する酸化皮膜形成工程と、
 前記酸化皮膜形成工程で他方の面に酸化皮膜を形成した帯状体の前記一方の面に前記所定の電解処理を施す電解処理工程と、
を有することを特徴とする電解処理方法。
 前記酸化皮膜形成工程においては、前記帯状体における他方の面の側縁部に酸化皮膜を形成する請求項1に記載の電解処理方法。
 前記酸化皮膜形成工程においては、前記帯状体における他方の面の全面に酸化皮膜を形成する請求項1に記載の電解処理方法。
 前記帯状体は、純アルミニウムまたはアルミニウム合金の帯状体である請求項1~3の何れか1項に記載の電解処理方法。
 前記酸化皮膜形成工程においては、陽極酸化によって酸化皮膜を形成する請求項4に記載の電解処理方法。
 前記酸化皮膜形成工程においては、5C/dm 2 以上100C/dm 2 未満の電気量で陽極酸化を行う請求項5に記載の電解処理方法。
 前記電解処理工程においては、前記帯状体の他方の面の近傍に絶縁板を配設して前記一方の面に前記所定の電解処理を施す請求項1~6の何れか1項に記載の電解処理方法。
 帯状体を所定の方向に搬送しつつ、前記帯状体の一方の面を電解液中において交流で電解処理する電解処理方法であって、
 前記一方の面を、交流で電解処理するに先立ってアノード反応させ、少なくとも他方の面に電解反応の起点を形成することを特徴とする電解処理方法。
 前記帯状体を交流で電解処理するのに使用される電解槽の入口部において、前記帯状体に正電圧を印加してアノード反応させる請求項8に記載の電解処理方法。
 0.5C/dm 2 以上100C/dm 2 未満の電気量でアノード反応させる請求項9に記載の電解処理方法。
 前記帯状体は、純アルミニウムまたはアルミニウム合金の帯状体である請求項8~10の何れか1項に記載の電解処理方法。
 前記帯状体の前記一方の面をアノード反応させる前に、前記帯状体の他方の面に酸化皮膜を形成する請求項8~11の何れか1項に記載の電解処理方法。
 前記アノード反応および前記電解処理を施すに際して前記帯状体の他方の面の近傍に絶縁板を配設する請求項8~12の何れか1項に記載の電解処理方法。
 所定の方向に搬送される帯状体の一方の面に、電解液中で所定の電解処理を施す電解処理装置であって、
 前記帯状体の他方の面に酸化皮膜を形成する酸化皮膜形成ユニットと、
 前記酸化皮膜形成ユニットで他方の面に酸化皮膜が形成された帯状体の一方の面に、前記所定の電解処理を施す電解処理ユニットと、
を備えることを特徴とする電解処理装置。
 前記酸化皮膜形成ユニットは、前記帯状体の他方の面に電気化学的に酸化皮膜を形成する請求項14に記載の電解処理装置。
 前記帯状体は、純アルミニウムまたはアルミニウム合金の帯状体であり、
 前記酸化皮膜形成ユニットは、陽極酸化により、前記帯状体の他方の面に酸化皮膜を形成する請求項15に記載の電解処理装置。
 前記電解処理ユニットは、前記帯状体が搬送される経路である搬送経路に沿って、前記帯状体の他方の面に相対するように配設された絶縁板を備える請求項14~16の何れか1項に記載の電解処理装置。
 帯状体を所定の方向に搬送しつつ、前記帯状体の一方の面を電解液中において交流で電解処理する電解処理装置であって、
 内部に前記電解液が貯留されるとともに、前記帯状体が内部を搬送される電解槽と、
 前記電解槽の内部に、前記帯状体の搬送経路に沿って配設されているとともに、交流電流が印加される電極と、
 前記電解槽の内部において、前記帯状体の搬送方向に対して前記電極の上流側に配設され、前記帯状体の一方の面を、交流で電解処理するに先立ってアノード反応させ、少なくとも他方の面に電解反応の起点を形成するアノード反応部と、
を備えることを特徴とする電解処理装置。
 前記アノード反応部においては、前記帯状体に正電圧を印加してアノード反応させる請求項18に記載の電解処理装置。
 前記アノード反応部においては、0.5C/dm 2 以上50C/dm 2 未満の電気量でアノード反応させる請求項19に記載の電解処理装置。
 前記帯状体は、純アルミニウムまたはアルミニウム合金の帯状体である請求項18~20の何れか1項に記載の電解処理装置。
 所定の方向に搬送される帯状体の一方の面に、電解液中で交流によって所定の電解処理を施す電解処理装置であって、
 前記帯状体の他方の面に酸化皮膜を形成する酸化皮膜形成ユニットと、
 前記酸化皮膜形成ユニットで他方の面に酸化皮膜が形成された帯状体の一方の面に、前記所定の電解処理を施す電解処理ユニットと、
を備え、
 前記電解処理ユニットは、
 内部に前記電解液が貯留されるとともに、前記帯状体が内部を搬送される電解槽と、
 前記電解槽の内部に、前記帯状体の搬送経路に沿って配設されているとともに、交流電流が印加される電極と、
 前記電解槽の内部において、前記帯状体の搬送方向に対して前記電極の上流側に配設され、前記帯状体の一方の面を、交流で電解処理するに先立ってアノード反応させ、少なくとも他方の面に電解反応の起点を形成するアノード反応部と、
を有することを特徴とする電解処理装置。
Description:
電解処理装置および電解処理方

 本発明は、電解処理装置および電解処理 法に関する。

 平版印刷版は、アルミニウムウェブの片 または両面を粗面化して支持体ウェブとし 得られた支持体ウェブの粗面化面に感光性 感熱性、または光重合性の製版層を形成し 平版印刷版ウェブとし、得られた平版印刷 ウェブを所定のサイズに裁断および切断し 製造される。

 アルミニウムウェブの表面を粗面化する 法としては、回転ブラシ等によって機械的 粗面化する機械的粗面化、および交流を印 して電気化学的に粗面化する電解粗面化が る。

 一方の面のみに製版層を有する平版印刷 を製造するには、アルミニウムウェブの前 一方の面のみを粗面化する必要がある。電 粗面化においてアルミニウムウェブの他方 面まで電解粗面化が及ぶ裏廻りが生じると 製品の外観上好ましくない。また、場合に っては、得られた支持体ウェブの裏廻りが じた部分を削除する必要が生じるから、材 の無駄が多くなるという問題もある。

 電解粗面化において、粗面化しようとす 面とは反対側の面まで粗面化される裏廻り 防止する方法としては、たとえば、電解液 を連続走行する帯状金属板の両面各側に夫 電極を配置した電解槽において、帯状金属 と他面側電極との間に電気絶縁板を配置し 両者の間に電流が流れるのを抑制する方法 ある(特開昭57-51289号公報)。

 また、帯状金属板を電解液中で連続走行 せ、該金属板とこの一表面上に対向する電 との間に電流を流すことにより該金属板を 解処理する方法において、該金属板の電解 理が行われる領域における該電極とは反対 の表面に電気絶縁板を近接・配置して該電 処理を行う方法がある(特開昭57-47894号公報) 。

 更に、電解液と、該電解液中に設けられ 電極および絶縁体を有し、電極と絶縁体と 間で絶縁体に近接させてアルミニウム等の 板を走行させて連続的に電解処理する電解 理装置において、該絶縁体と帯板との間に 環電解液の一部を供給する供給孔を設ける 法もある(特開平10-86547号公報)。

 しかしながら、電解槽中において、アル ニウムウェブなどの帯状体の電極に相対す 側とは反対側の面に電気絶縁板を配設して 流の回り込みを抑制するだけでは十分に裏 りを防止できないことがある。

 本発明は、上記問題を解決すべく成され ものであり、帯状体の裏面の広い範囲に亘 て裏廻りが発生するのを効果的に抑止でき 電解処理方法および電解処理装置を提供す ことを目的とする。

 請求項1に記載の発明は、帯状体を所定の 方向に搬送しつつ、電解液中で前記帯状体の 一方の面に所定の電解処理を施す電解処理方 法において、前記帯状体の他方の面に酸化皮 膜を形成する酸化皮膜形成工程と、前記酸化 皮膜形成工程で他方の面に酸化皮膜を形成し た帯状体の前記一方の面に前記所定の電解処 理を施す電解処理工程と、を有することを特 徴とする。

 請求項2に記載の発明は、請求項1に記載 電解処理方法において、前記酸化皮膜形成 程において、前記帯状体における他方の面 側縁部に酸化皮膜を形成することを特徴と る。

 請求項3に記載の発明は、請求項1に記載 電解処理方法において、前記酸化皮膜形成 程において、前記帯状体における他方の面 全面に酸化皮膜を形成することを特徴とす 。

 請求項4に記載の発明は、請求項1~3の何れ か1項に記載の電解処理方法において、前記 状体が、純アルミニウムまたはアルミニウ 合金の帯状体であることを特徴とする。

 請求項5に記載の発明は、請求項4に記載 電解処理方法において、前記酸化皮膜形成 程では陽極酸化によって酸化皮膜を形成す ことを特徴とする。

 請求項6に記載の発明は、請求項5に記載の 解処理方法において、前記酸化皮膜形成工 で5C/dm 2 以上100C/dm 2 未満の電気量で陽極酸化を行うことを特徴と する。

 請求項7に記載の発明は、請求項1~6の何れ か1項に記載の電解処理方法において、前記 解処理工程で、前記帯状体の他方の面の近 に絶縁板を配設して前記一方の面に前記所 の電解処理を施すことを特徴とする。

 請求項8に記載の発明は、帯状体を所定の 方向に搬送しつつ、前記帯状体の一方の面を 電解液中において交流で電解処理する電解処 理方法において、前記一方の面を、交流で電 解処理するに先立ってアノード反応させ、少 なくとも他方の面に電解反応の起点を形成す ることを特徴とする。

 請求項9に記載の発明は、請求項8に記載 電解処理方法において、前記帯状体を交流 電解処理するのに使用される電解槽の入口 で前記帯状体に正電圧を印加してアノード 応させることを特徴とする。

 請求項10に記載の発明は、請求項9に記載の 解処理方法において、0.5C/dm 2 以上100C/dm 2 未満の電気量でアノード反応させることを特 徴とする。

 請求項11に記載の発明は、請求項8~10の何 か1項に記載の電解処理方法において、前記 帯状体が、純アルミニウムまたはアルミニウ ム合金の帯状体であることを特徴とする。

 請求項12に記載の発明は、請求項8~11の何 か1項に記載の電解処理方法において、前記 帯状体の前記一方の面をアノード反応させる 前に、前記帯状体の他方の面に酸化皮膜を形 成することを特徴とする。

 請求項13に記載の発明は、請求項8~12の何 か1項に記載の電解処理方法において、前記 アノード反応および前記電解処理を施すに際 して前記帯状体の他方の面の近傍に絶縁板を 配設することを特徴とする。

 請求項14に記載の発明は、所定の方向に 送される帯状体の一方の面に、電解液中で 定の電解処理を施す電解処理装置において 前記帯状体の他方の面に酸化皮膜を形成す 酸化皮膜形成ユニットと、前記酸化皮膜形 ユニットで他方の面に酸化皮膜が形成され 帯状体の一方の面に、前記所定の電解処理 施す電解処理ユニットと、を備えることを 徴とする。

 請求項15に記載の発明は、請求項14に記載 の電解処理装置において、前記酸化皮膜形成 ユニットが、前記帯状体の他方の面に電気化 学的に酸化皮膜を形成することを特徴とする 。

 請求項16に記載の発明は、請求項15に記載 の電解処理装置において、前記帯状体が純ア ルミニウムまたはアルミニウム合金の帯状体 であり、前記酸化皮膜形成ユニットが陽極酸 化により、前記帯状体の他方の面に酸化皮膜 を形成することを特徴とする。

 請求項17に記載の発明は、請求項14~16の何 れか1項に記載の電解処理装置において、前 電解処理ユニットが、前記帯状体が搬送さ る経路である搬送経路に沿って、前記帯状 の他方の面に相対するように配設された絶 板を備えることを特徴とする。

 請求項18に記載の発明は、帯状体を所定 方向に搬送しつつ、前記帯状体の一方の面 電解液中において交流で電解処理する電解 理装置において、内部に前記電解液が貯留 れるとともに、前記帯状体が内部を搬送さ る電解槽と、前記電解槽の内部に、前記帯 体の搬送経路に沿って配設されているとと に、交流電流が印加される電極と、前記電 槽の内部において、前記帯状体の搬送方向 対して前記電極の上流側に配設され、前記 状体の一方の面を、交流で電解処理するに 立ってアノード反応させ、少なくとも他方 面に電解反応の起点を形成するアノード反 部と、を備えることを特徴とする。

 請求項19に記載の発明は、請求項18に記載 の電解処理装置において、前記アノード反応 部においては、前記帯状体に正電圧を印加し てアノード反応させることを特徴とする。

 請求項20に記載の発明は、請求項19に記載の 電解処理装置において、前記アノード反応部 で0.5C/dm 2 以上50C/dm 2 未満の電気量でアノード反応させることを特 徴とする。

 請求項21に記載の発明は、請求項18~20の何 れか1項に記載の電解処理装置において、前 帯状体が、純アルミニウムまたはアルミニ ム合金の帯状体であることを特徴とする。

 請求項22に記載の発明は、所定の方向に 送される帯状体の一方の面に、電解液中で 流によって所定の電解処理を施す電解処理 置において、前記帯状体の他方の面に酸化 膜を形成する酸化皮膜形成ユニットと、前 酸化皮膜形成ユニットで他方の面に酸化皮 が形成された帯状体の一方の面に、前記所 の電解処理を施す電解処理ユニットと、を え、前記電解処理ユニットは、内部に前記 解液が貯留されるとともに、前記帯状体が 部を搬送される電解槽と、前記電解槽の内 に、前記帯状体の搬送経路に沿って配設さ ているとともに、交流電流が印加される電 と、前記電解槽の内部において、前記帯状 の搬送方向に対して前記電極の上流側に配 され、前記帯状体の一方の面を、交流で電 処理するに先立ってアノード反応させ、少 くとも他方の面に電解反応の起点を形成す アノード反応部と、を有することを特徴と る。

 請求項1の発明によれば、酸化皮膜形成工 程で帯状体の他方の面に酸化皮膜を形成して から、電解処理工程で帯状体の一方の面に所 定の電解処理を施すから、電解処理工程にお いて、帯状体の他方の面に電流が回りこんで 裏廻りが生じることが効果的に抑止される。

 裏廻りは、特に帯状体の側縁部に顕著に 生するが、請求項2の発明によれば、酸化皮 膜形成工程で帯状体の他方の面の側縁部に酸 化皮膜を形成しているから、電解処理工程で の裏廻りの発生が効果的に抑止される。

 請求項3の発明によれば、酸化皮膜形成工 程で帯状体の他方の面の全面に酸化皮膜を形 成しているから、他方の面の硬度が高くなる 。したがって、前記他方の面の側縁部にのみ 酸化皮膜を形成する場合と比較して、電解処 理工程や後工程などにおいて帯状体の他方の 面が傷付くことが更に効果的に抑止される。

 請求項4の発明によれば、帯状体として純 アルミニウムまたはアルミニウム合金の帯状 体を用いているから、後述する陽極酸化によ って帯状体に容易に酸化皮膜を形成できる。

 請求項5の発明によれば、前記酸化皮膜形 成工程では陽極酸化によって帯状体の他方の 面に酸化皮膜を形成しているから、帯状体の 他の面には緻密で硬度の高い酸化皮膜が形成 される。

 請求項6の発明によれば、酸化皮膜形成工程 で5C/dm 2 以上100C/dm 2 未満の電気量で陽極酸化を実施しているから 、酸化皮膜形成工程において裏廻りを防止す るのに十分な厚みの酸化皮膜が形成される上 、電力コストが過大になることがない。

 請求項7の発明によれば、帯状体の他方の 面の近傍に絶縁板を配設して電解処理工程を 実施しているから、電解処理工程における裏 廻りの発生を、絶縁板を用いない場合と比較 して更に効果的に抑止できる。

 請求項8の発明によれば、アノード反応に よって帯状体の一方の面および他方の面に電 解反応の起点が形成されるが、カソード反応 から電解処理を開始した場合と比較して他方 の面に形成される起点は疎らである。したが って、アノード反応に引き続く交流による電 解処理においては、他方の面での電解処理領 域の広がりがカソード反応から電解処理を開 始した場合に比較して小さい。これにより、 交流による電解処理における裏廻りの発生が 抑止される。

 請求項9の発明によれば、電解槽の入口部 で前記帯状体に正電圧を印加してアノード反 応を行っているから、アノード反応を実施す るために電解槽に付加する設備費用が少なく て済む。

 請求項10の発明によれば、0.5C/dm 2 以上50C/dm 2 未満の電気量でアノード反応させることによ り、十分な裏廻り抑止効果が得られるととも に、アノード反応によって電解処理後の帯状 体の表面形態に悪影響が及ぼされることが防 止される。

 請求項11の発明によれば、帯状体として アルミニウムまたはアルミニウム合金の帯 体のウェブを用いているから、平版印刷版 の支持体ウェブにおいて裏廻りの発生幅の さなものが得られる。したがって、最終製 である平版印刷版における不良品の発生を えることができる。

 請求項12の発明によれば、前記帯状体の 方の面に酸化皮膜を形成してから一方の面 アノード反応させているから、酸化皮膜を 成しない場合と比較して更に効果的に裏廻 の発生を抑止できる。

 請求項13の発明によれば、前記帯状体の 方の面の近傍に絶縁板を配設した状態でア ード反応および電解処理を行っているから 絶縁板を配設しない場合と比較して帯状体 おける裏廻りの発生を更に効果的に抑止で る。

 請求項14の発明によれば、酸化皮膜形成 ニットを有しない電解処理装置を用いて帯 体を電解処理した場合と比較して帯状体に ける裏廻りの発生が抑止される。

 請求項15の発明によれば、前記酸化皮膜 成ユニットとして前記帯状体の他方の面に 気化学的に酸化皮膜を形成するものを用い いるから、酸化皮膜形成ユニットにおける 解液の組成や給電条件を制御することによ 、帯状体に形成される酸化皮膜の厚さを幅 く制御できる。

 請求項16の発明によれば、酸化皮膜形成 ニットにおいては、純アルミニウムまたは ルミニウム合金の帯状体の他の面に陽極酸 皮膜を形成しているから、帯状体の他の面 は緻密で硬度の高い酸化皮膜が形成される したがって、電解処理ユニットでの電解処 、および電解処理に引き続いて行われる後 理工程で帯状体の他方の面が損傷すること 効果的に抑止される。

 請求項17の発明によれば、電解処理ユニ トに、帯状体の他の面に相対するように配 された絶縁板によって帯状体の他の面への 流の回り込みが抑止されるから、電解処理 ニットに絶縁板を設けない場合に比較して 状体における裏廻りの発生を更に効果的に 止できる。

 請求項18の発明によれば、帯状体は、ア ード反応部でアノード反応されることによ て両方の面に電解反応の起点が形成される 、他方の面に形成される起点の密度はカソ ド反応から電解処理を開始した場合の密度 比較して遥かに疎らである。したがって、 求項8のところで説明したのと同様の理由に り、アノード反応部を有しない電解処理装 を用いた場合と比較して他方の面における 解処理領域の広がりが抑えられる。これに り、帯状体における裏廻りの発生が抑止さ る。

 請求項19の発明によれば、前記アノード 応部においては、記帯状体に正電圧を印加 てアノード反応させているから、前記電解 中において前記電極の上流側にアノード反 用電極を設けることにより、前記アノード 応を実施できる。したがって、アノード反 部を構成するための付加設備は極めて少な て済む。

 請求項20の発明によれば、アノード反応部 0.5C/dm 2 以上50C/dm 2 未満の電気量でアノード反応させることによ り、十分な裏廻り抑止効果が得られると同時 に、アノード反応が、電解処理後の帯状体の 表面状態に悪影響を及ぼすことがない。

 請求項21の発明によれば、帯状体として アルミニウムまたはアルミニウム合金の帯 体のウェブを用いているから、平版印刷版 の支持体ウェブにおいて裏廻りの発生幅を さなものが得られる。したがって、最終製 である平版印刷版における不良品の発生を えることができる。

 請求項22の発明によれば、酸化皮膜形成 ニットにおいて帯状体の他の面に酸化皮膜 形成され、ついで、電解処理ユニットにお て、アノード反応およびそれに引き続く交 での電解処理が行われる。

 したがって、酸化皮膜形成ユニットを有 ない電解処理装置に比較して帯状体におけ 裏廻りの発生を更に効果的に抑止できる。

図1は、実施形態1に係る電解粗面化処 装置の構成を示す概略図である。 図2は、実施形態2に係る電解粗面化処 装置の構成を示す概略図である。 図3Aは、実施形態1に係る電解粗面化処 理装置で電解粗面化したアルミニウムウェブ の電解粗面化面に、アノード処理で粗面化反 応の起点が生じ、引き続く電解粗面化では前 期起点を中心にして電解粗面化が進行するこ とを示す説明図である。 図3Bは、実施形態1に係る電解粗面化処 理装置で電解粗面化したアルミニウムウェブ の電解粗面化面に、アノード処理で粗面化反 応の起点が生じ、引き続く電解粗面化では前 期起点を中心にして電解粗面化が進行するこ とを示す説明図である。 図3Cは、実施形態1に係る電解粗面化処 理装置で電解粗面化したアルミニウムウェブ の電解粗面化面に、アノード処理で粗面化反 応の起点が生じ、引き続く電解粗面化では前 期起点を中心にして電解粗面化が進行するこ とを示す説明図である。 図4Aは、実施形態2に係る電解粗面化処 理装置でアルミニウムウェブを旋回粗面化す る際に、先ず、アルミニウムウェブの裏面に 酸化皮膜が形成され、次いで表面が電解粗面 化されることを示す概略図である。 図4Bは、実施形態2に係る電解粗面化処 理装置でアルミニウムウェブを旋回粗面化す る際に、先ず、アルミニウムウェブの裏面に 酸化皮膜が形成され、次いで表面が電解粗面 化されることを示す概略図である。 図4Cは、実施形態2に係る電解粗面化処 理装置でアルミニウムウェブを旋回粗面化す る際に、先ず、アルミニウムウェブの裏面に 酸化皮膜が形成され、次いで表面が電解粗面 化されることを示す概略図である。

1.実施形態1
 以下、本発明の電解処理装置の一例である 解粗面化処理装置について説明する。

[構成]
 実施形態1に係る電解粗面化処理装置10は、 謂ラジアル型の電解粗面化処理装置であっ 、本発明の帯状体の一例であるアルミニウ ウェブWの一方の面を電解粗面化するための 装置である。なお、電解粗面化は、本発明に おける電解処理の一種である。

 電解粗面化処理装置10は、図1に示すよう 、酸性電解液が貯留される電解槽12Aを備え 電解槽本体12と、電解槽12Aの内部に、水平 向に延びる軸線の回りに回転可能に配設さ 、本発明の帯状体の一例であるアルミニウ ウェブWを矢印aの方向、即ち図1における右 から左方に向かって送る送りローラ14とを備 えている。

 電解槽12Aの内壁面は、送りローラ14を囲 ように略円筒状に形成されている。電解槽12 Aの壁面上には、半円筒状の主電極16A、16Bが りローラ14を挟んで設けられている。

 主電極16A、16Bは、夫々円周方向に沿って 電極18A、18Bに分割され、各小電極18A、18Bの には夫々絶縁層20A,20Bが介装されている。小 電極18A、16Bはグラファイト焼結体やコークス 焼結体、各種金属焼結体によって形成でき、 絶縁層20A、20Bは、たとえば塩化ビニル樹脂な どにより形成できる。なお、絶縁層20A、20Bの 厚さは1~10mmの範囲が好ましい。

 小電極18Aと絶縁層20Aとは絶縁性の電極ホ ダ20Cに保持されて主電極16Aを形成し、小電 18Bと絶縁層20Bとは絶縁性の電極ホルダ20Dに 持されて主電極16Bを形成する。

 主電極16A、16Bにおいては、各小電極18A、1 8Bが交流電源ACに接続されているが、図1では 小電極18A、18Bを交流電源ACに接続する配線 省略されている。

 主電極16Aと主電極16Bとの間に絶縁体を介 して、電解槽12Aの内部においてアルミニウ ウェブWに交流が流れない長さが0.001~0.6秒の 休止期間が設けられるようにすると、アルミ ニウムウェブWの表面にハニカムピットが均 に形成されるから好ましい。

 交流電源ACは、誘導電圧調整器および変 器を用いて商用交流を電流、電圧調整する とにより正弦波を発生させる正弦波発生回 、商用交流を整流する等の手段によって得 れた直流から台形波電流または矩形波電流 発生させるサイリスタ回路などが挙げられ 。

 電解槽12Aの上部には、アルミニウムウェ Wが導入および導出される開口部12Bが形成さ れている。開口部12Bにおける主電極16Bの下流 側末端近傍には、電解槽12Aに酸性電解液を補 充する電解液補充流路22が設けられている。

 酸性電解液としては、硫酸、塩酸、硝酸 燐酸、クロム酸、重クロム酸、スルホン酸 および蓚酸などの無機および有機の酸から 択される1種または2種以上の酸性電解質の 液が挙げられる。アルミニウムウェブWの粗 化反応の酸性電解液としては、特に塩酸お び/または硝酸の溶液が一般的である。

 電解槽12Aの上方における開口部12B近傍に 、アルミニウムウェブWを電解槽12Aの内部に 案内する一群の上流側案内ローラ24Aと、電解 槽12Aから導出されたアルミニウムウェブWを 解槽12Aよりも下流側に案内する一群の下流 案内ローラ24Bとが配設されている。

 電解槽本体12における電解槽12Aの上流側 は溢流槽12Cが設けられている。溢流槽12Cは 電解槽12Aから溢流した酸性電解液を一時貯 し、電解槽12Aの液面高さを一定に保持する 能を有する。

 電解槽12A内部における主電極16Aの上流側に 直流電極26が設けられている。直流電極26は 、直流電源DC1の負極に接続され、電解槽12Aに 導入されたアルミニウムウェブWに正電圧を 加してアルミニウムウェブWの粗面化しよう する側の面であるA面をアノード反応させる 機能を有する。
 直流電極26は、アルミニウムウェブWのB面側 にも電解処理が廻り込むように設置する必要 がある。そのための方法としては、直流電極 26をアルミニウムウェブWよりも広い幅で設置 する方法、およびアルミニウムウェブWのB面 おける両側縁部が電解処理されるように、 ルミニウムウェブWの両側縁部に対向するよ うに直流電極26を配設する方法などがある。

 電解槽本体12における電解槽12Aよりも下 側には、補助電解槽28が設けられている。補 助電解槽28は、電解槽12Aよりも浅く、底面28A 平面状に形成されている。そして、底面28A には、円柱状の補助電極29が複数本設けら ている。補助電極29は、高耐食性の材料、た とえば白金やロジウム、インジウム、オスミ ウムなどの耐食性金属、またはフェライトや グラファイトなどの耐食性材料から形成され たものが好ましい。また、補助電極29として 、円柱状のもののほか、板状のものも使用 れる。

 補助電極29は、交流電源ACにおける主電極 16Aが接続される側に、中間にサイリスタTh1が 挿入されて主電極16Aに対して並列に接続され 、また、交流電源ACにおける主電極16Bが接続 れる側に、中間にサイリスタTh2が挿入され 主電極16Bに対して並列に接続されている。 イリスタTh1、Th2は、何れも点弧時に交流電 ACから補助電極29に電流が流れるように接続 されている。

 補助電極29は、更に直流電源DC1の正極に 接続されている。

 サイリスタTh1、Th2の何れを点弧した場合 、交流電源ACから補助電極29に向かって電流 が流れる。また、上述のように、補助電極29 、直流電源DC1の正極にも接続されている。 たがって、補助電極29にはアノード電流が れる。したがって、サイリスタTh1、Th2を位 制御することにより、補助電極29にアノード 電流の電流値を制御でき、これによってアル ミニウムウェブWがカソードのときに流れる 気量Qcとアノードのときに流れる電気量Qaと 比率Qc/Qaを制御できる。

 アルミニウムウェブWの搬送方向に対して 電解槽本体12の上流側には、陽極酸化槽11が 設されている。

 陽極酸化槽11の内部には、酸性電解液が 留されているとともに、アルミニウムウェ Wを案内する案内ローラ15と、案内ローラ15の 下方に案内ローラ15に相対するように位置す 陽極酸化電極13とが設けられている。陽極 化槽11の内部に貯留される酸性電解液として は、電解槽12Aのところで述べたものと同様の ものが使用される。

 陽極酸化槽11の上方には、アルミニウム ェブWを陽極酸化槽11内に導入する入口側案 ローラ17Aと、当局酸化槽11内を通過したアル ミニウムウェブWを電解槽12Aに向かって案内 る出口側案内ローラ17Bとを備える。

 入口側案内ローラ17Aは、アルミニウムウ ブWのA面、およびA面とは反対側の面であるB 面との上下を反転させて陽極酸化槽11に導入 る機能を有する。陽極酸化槽11に導入され アルミニウムウェブWは、B面が外側を向くよ うに案内ローラ15に巻き掛けられた状態で陽 酸化電極13の近傍を通過して出口側案内ロ ラ17Bによって陽極酸化槽11外に導出される。 したがって、アルミニウムウェブWは、B面が 極酸化電極13に相対するように陽極酸化槽11 内を搬送される。

 陽極酸化電極13は、直流電源DC2の負極に 続されている。入口側案内ローラ17Aおよび 口側案内ローラ17Bの少なくとも一方は金属 ローラであって直流電源DC2の正極に接続さ ている。図1の例では、出口側案内ローラ17B 金属製であって直流電源DC2の正極に接続さ ている。

 電解槽12Aにおいて、直流電極26の電流密度 1~50A/dm 2 が好ましく、電解粗面化処理装置10の構成を 略化する観点からは5~20A/dm 2 の範囲が好ましい。また電気量は0.5C/dm 2 以上100C/dm 2 未満が好ましい。直流電極26に印加する直流 電気量が0.5C/dm 2 以上あれば、明確に裏廻り防止効果が得られ 、前記電気量が100C/dm 2 未満であれば、アルミニウムウェブWの粗面 面に形成される砂目形状に影響が生じるこ は殆ど無いと考えられる。

 主電極16A、16Bに印加する交流の周波数は 40~120Hzが好ましく、更に40~80Hzが好ましく、 に50~60Hzが好ましいが、必要に応じて前記範 囲以外の周波数の交流を印加してもよい。

 また、Qc/Qaが0.9~1、好ましくは0.95~0.99にな るようにサイリスタTh1、Th2を位相制御するこ とが好ましい。Qc/Qaを上述の範囲になるよう 制御することにより、アルミニウムウェブW の表面に均一なハニカム状ピットを形成する ことができる。

 前記交流電流のduty比は、アルミニウムウ ェブWの表面に均一に沙目立て面を形成する 、および交流電源ACの構成の点からは、0.33~0 .66の範囲が好ましく、中でも0.4~0.6が好まし 、特に0.5が好ましい。ここで、duty比は、交 の周期をT、アルミニウムウェブWがアノー 反応する時間をtaとすると、ta/Tで表される

 交流における電流がゼロから正または負 ピークに達するまでの時間TPは、前記交流 台形波電流のときは0.5~6msecの範囲が好まし 、中でも0.6~5msecの範囲が好ましい。前記時 TPを上記範囲に設定することにより、アルミ ニウムウェブWの表面により均一なクレータ ピットを形成できる。

 電解粗面化開始時から終了時までにアルミ ウムウェブWに供給される電気量は、アルミ ニウムウェブWがアノードであるときの電気 の総和として10~1000C/dm 2 の範囲が好ましく、10~800C/dm 2 が特に好ましく、40~500C/dm 2 が最も好ましい。

 交流におけるアノードサイクル側のピーク の電流Iap、およびカソードサイクル側のピ ク時の電流Icpは、夫々10~1000A/dm 2 が好ましく、特に20~80A/dm 2 が好ましく、特に30~60A/dm 2 の範囲が好ましい。また、Icp/Iapは0.9~1.5の範 が好ましく、特に0.9~1.0の範囲が好ましい。

 一方、陽極酸化槽において陽極酸化電極13 印加する電気量は5C/dm 2 以上100C/dm 2 未満の範囲が好ましく、特に5~30C/dm 2 の範囲が好ましい。電気量が100C/dm 2 以上であると、得られるアルミニウムウェブ Wの品質に問題が生じることはないものの、 力コストが過大になるという問題がある。

[作用]
 以下、電解粗面化処理装置10の作用につい 説明する。

 図1における右方から案内されたアルミニ ウムウェブWは、先ず、陽極酸化槽11に導入さ れる。陽極酸化槽11においては、アルミニウ ウェブWは、入口側案内ローラ17AによってB が陽極酸化電極13に相対するように搬送され る。

 ここで、アルミニウムウェブWは、入口側 案内ローラ17Aだけでなく、出口側案内ローラ 17Bにも捲きかけられ、しかも、出口側案内ロ ーラ17Bは直流電源DC2の正極に接続されている 。一方、陽極酸化電極13は直流電源DC2の負極 接続されている。したがって、アルミニウ ウェブWは正に帯電するから、B面で陽極酸 反応が進行し、陽極酸化皮膜が形成される

 B面に陽極酸化皮膜が形成されたアルミニ ウムウェブは、出口側案内ローラ17Bおよび上 流側案内ローラ24Aによって電解槽12Aに導入さ れる。

 電解槽12Aに導入されたアルミニウムウェ Wは、最初に直流電極26の近傍を通過する。 ルミニウムウェブWが直流電極26の近傍を通 すると、アルミニウムウェブWに正電圧が印 加される。ここで、アルミニウムウェブWは A面が直流電極26に相対しているから、A面で ノード反応が起こり、図3の(B)に示すように 粗面化の起点が形成される。なお、A面の反 側の面であるB面にも粗面化の起点が形成さ るが、A面に比較して遥かに疎らである。

 直流電極26を通過したアルミニウムウェ Wは、主電極16Aに沿って搬送され、次いで主 極16Bに沿って搬送される。ここで、主電極1 6A、16Bには交流電源ACによって交流が印加さ ているから、アルミニウムウェブWの直流電 26に相対していた側の面、即ち主電極16A、16 Bに相対する側の面では、図3の(C)に示すよう 、前記アノード反応によって形成された起 を中心としてアノード反応およびカソード 応が生起し、全面にハニカムピットが形成 れる。

 電解槽12Aを通過したアルミニウムウェブW は下流側案内ローラ24Bによって補助電解槽28 導入される。

 このように、実施形態1に係る電解粗面化 処理装置10においては、アルミニウムウェブW のA面に直流電極26によって正電圧が印加され 、アノード反応が生起する。これによってA とB面とには粗面化反応の起点が形成される ら、前記アノード反応に引き続いて主電極1 6A,16Bで交流が印加されると、前記起点を中心 として粗面化反応が生起してハニカムピット が形成される。

 しかしながら、主電極16Aでアノード反応 ら開始した場合は、カソード反応から開始 た場合と比較して粗面化反応の起点が疎ら ため、B面におけるピットの数が減少する。

 更に、アルミにウムウェブWのB面には、 極酸化槽11において予め陽極酸化皮膜が形成 されている。

 このように、B面に形成される起点の数が 抑えられることと、B面には予め酸化皮膜が 成されていることとのために、B面に裏廻り 生じることが効果的に抑制される。

2.実施形態2
 以下、本発明の電解処理装置に包含される 解粗面化処理装置の別の例について説明す 。

[構成]
 実施形態2に係る電解粗面化処理装置30は、 謂フラット型の電解粗面化処理装置であっ 、本発明の帯状体の一例であるアルミニウ ウェブWの一方の面を電解粗面化するための 装置である。

 電解粗面化処理装置30は、図2に示すよう 、アルミニウムウェブWの搬送方向aに沿っ 延在する上面が開放された浅い箱状の電解 32と、搬送方向aに対して電解槽32の上流側に 位置するデスマット槽42と、搬送方向aに対し てデスマット槽42の上流側に位置するエッチ グ槽52とを備える。電解槽32は、本発明にお ける電解処理ユニットに、デスマット槽42は 酸化皮膜形成ユニットに相当する。

 電解槽32の内部には、酸性電解液が貯留 れ、電解槽32の底部には、アルミニウムウェ ブWの搬送経路に相対するように絶縁板35が配 設されている。

 アルミニウムウェブWの搬送経路を挟んで 絶縁板35の上方には、一群の主電極34Aと一群 主電極34Bとが搬送方向aに沿って配設されて いる。主電極34A、34Bは図2に示す例では夫々4 ずつ設けられているが、主電極34A、34Bの個 は4個には限定されない。主電極34Bは、搬送 方向aに沿って主電極34Aの下流側に設けられ いる。主電極34A、34Bは夫々交流電源ACに接続 されている。

 電解槽32の内部における主電極34Aの上流側 は直流電極36Aが、主電極34Bの下流側には直 電極36Bが配設されている。直流電極36Aは直 電源DC1の負極に、直流電極36Bは直流電源DC1 正極に接続されている。直流電極36A、36Bの 流密度は1~50A/dm 2 が好ましく、電解粗面化処理装置10の構成を 略化する観点からは5~20A/dm 2 の範囲が好ましい。また電気量は0.5C/dm 2 以上100C/dm 2 未満が好ましい。直流電極36A、36Bに印加する 直流の電気量が0.5C/dm 2 以上あれば、明確に裏廻り防止効果が得られ 、前記電気量が100C/dm 2 未満であれば、アルミニウムウェブWの粗面 面に形成される砂目形状に影響が生じるこ は殆ど無いと考えられる。

 一方、主電極34A、34Bにおける電気量は、ア ミニウムウェブWが陽極のときの電気量の総 和として150~800C/dm 2 の範囲が好ましく、中でも200~700C/dm 2 の範囲が好ましく、特に200~500C/dm 2 の範囲が好ましい。電気量が150C/dm 2 以上あれば、アルミニウムウェブWのA面にお て十分な表面粗さが得られ、粗面化後のア ミニウムウェブWから製造される平版印刷版 は、耐刷性に優れ、印刷時の水量の調整が容 易である。また、電気量が800C/dm 2 以下であれば、耐汚れ性に優れた平版印刷版 が得られる。また、アルミニウムウェブWが 写によって凹凸パターンを形成したもので る場合は、電気量は200~400C/dm 2 の範囲が好ましい。

 また、主電極34A、34Bにおける電流密度は、 流値のピークで30~300A/dm 2 の範囲が好ましく、中でも50~200A/dm 2 の範囲が好ましく、特に75~125A/dm 2 の範囲が好ましい。電流密度が30A/dm 2 以上であれば、高い生産性でアルミニウムウ ェブWの表面を電解粗面化でき、300A/dm 2 以下であれば、交流電源ACのコストを抑制で る。

 電流密度は、電解粗面化処理の最初から 後まで漸減するように設定することが好ま い。これにより、アルミニウムウェブWのA には均一なピットが生成する。具体的には たとえば(主電極における最後の電流密度/主 電極における最初の電流密度)の値が0.7~0.9に るように段階的に減少するように、交流電 ACおよび主電極34A、34Bを分割することによ て設定できる。

 主電極34A、34Bにおいて印加できる交流電 の波形は、正弦波、矩形波、台形波、三角 など各種あるが、中でも台形波および正弦 が好ましく、特に正弦波が好ましい。

 台形波電流を印加する場合は、電流が0か らピークに達するまでの時間、即ち電流立ち 上がり時間TPは、0.5~3.5msecCの範囲が好ましく 中でも0.8~2.5msecの範囲が好ましい。電流立 上がり時間TPが0.5msec以上であれば、交流電 ACのコストを節減でき、3.5msec以下であれば 均一なピットが形成されるから好ましい。

 また、正弦波を用いる場合は、商用交流 特に波形変換することなく使用できる。

 交流電流のduty比(アルミニウムウェブWが ノードとなっている時間/1周期の時間)は0.33 ~0.66の範囲が好ましく、中でも0.45~0.55の範囲 好ましく、特に0.5が好ましい。また、交流 流の周波数は10~200Hzの範囲が好ましく、中 も20~150Hzの範囲が好ましく、特に30~120Hzが好 しい。周波数が10Hz以上であれば、角張った 四角い形状のファセット状の大きなピットの 形成を抑止でき、耐汚れ性に優れた平版印刷 版が得られる。一方、周波数が200Hz以下であ ば、電解電流を流す回路におけるインダク ンス成分の影響を受けにくいから、大容量 交流電源ACの製作が容易になる。

 電解槽32における直流電極36Aの上流側、 よび直流電極36Bの下流側には夫々案内ロー 38A、38Bが設けられている。電解槽32に導入さ れたアルミニウムウェブWは、案内ローラ38A 38Bによって主電極34A、34Bと絶縁板35との間を 案内される。

 電解槽32の上方における入口側および出 側には、夫々アルミニウムウェブWを電解槽3 2に導入する導入ローラ40A、および電解槽32を 通過したアルミニウムウェブWを導出する導 ローラ40Bが設けられている。

 電解槽32における電解粗面化処理は、た えば特公昭48-28123号後方および英国特許第896 ,563合明細書に記載されている電気化学的グ イン法(電解グレイン法)に従って行うことが できる。

 電解槽32そのもの、および交流電源ACにつ いては種々提案されているが、具体的には米 国特許第4,203,637号明細書、特開昭56-123400号公 報、特開昭57-59770号公報、特開昭53-12738号公 、特開昭53-32821号公報、特開昭53-32822号公報 特開昭53-32823号公報、特開昭55-122896号公報 特開昭55-122894号公報、特開昭62-127500号公報 特開平01-52100号公報、特開平01-52098号公報、 開昭60-67700号公報、特開平01-230800号公報、 開平03-257199号公報に記載されているものを いることができる。

 また、特開昭52-58602号公報、特開昭52-15230 2号公報、特開昭53-12738号公報、特開昭53-12739 公報、特開昭53-32821号公報、特開昭53-32822号 公報、特開昭53-32833号公報、特開昭53-32824号 報、特開昭53-32825号公報、特開昭54-85802号公 、特開昭55-122896号公報、特開昭55-132884号公 、特公昭48-28123号公報、特公昭51-007081号公 、特開昭52-133838号公報、特開昭52-133840号公 、特開昭52-133844号公報、特開昭52-133845号公 、特開昭53-149135号公報、および特開昭54-14623 4号公報に記載されているものも使用できる

 交流電源ACとしては、具体的には、誘導 圧調整器および変圧器を用いて商用交流を 流、電圧調整することにより正弦波を発生 せる正弦波発生回路、商用交流を整流する の手段によって得られた直流から台形波電 または矩形波電流を発生させるインバータ 路などが使用される。インバータ回路はサ リスタを用いたものであってもよいが、IGBT 子を用いたものが、アルミニウムウェブWの 幅および厚さ、酸性電解液の各成分の濃度の 変動などに対して電圧を変動させて電流密度 が一定になるように制御する際の追従性に優 れる故に好ましい。

 電解槽32で使用される酸性電解液として 、実施形態1で述べたのと同様なものが挙げ れるが、特に好ましいものとして塩酸と硫 とを含有する混合水溶液が挙げられる。前 混合水溶液を用いることにより、アルミニ ムウェブWの表面に残存するプラトー部を少 なくすることができ、またピットが均一にな るので、粗面化処理後のアルミニウムウェブ Wから、耐刷性や耐汚れ性に優れた平版印刷 が得られる。

 前記混合水溶液における塩酸濃度は3~30g/ ットルの範囲が好ましく、中でも4~20g/リッ ルの範囲が好ましく、特に10~18g/リットルの 範囲が好ましい。また、硫酸濃度は、0.01~10g/ リットルの範囲が好ましく、中でも0.1~5g/リ トルの範囲が好ましく、特に1~4g/リットルの 範囲が好ましい。

 前記混合水溶液は、更に、硝酸アルミニ ム、硝酸ナトリウム、および硝酸アンモニ ムなどの硝酸塩や、塩化アルミニウム、安 ナトリウム、塩化アンモニウムなどの塩酸 を含んでいてもよい。また、銅と錯体を形 する化合物を配合すれば、アルミニウムウ ブWが銅を多く含有する場合においても均一 なピットを形成できる。銅と錯体を形成する 化合物としては、たとえばアンモニア、メチ ルアミンやエチルアミン、ジメチルアミン、 ジエチルアミン、トリメチルアミン、シクロ へキシルアミン、トリエタノールアミン、ト リイソプロパノールアミン、EDTAなどのアミ 類、炭酸ナトリウムや炭酸カリウムなどの 酸塩、硝酸アンモニウム、塩化アンモニウ 、硫酸アンモニウム、炭酸アンモニウムな のアンモニウム塩などが上げられる。

 更に、アルミニウムウェブWが鉄、導、マ ンガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、 珪素などを含有する場合は、前記混合水溶液 中にはこれらの金属が溶解していてもよい。 更に、次亜塩素酸や過酸化水素を1~100g/リッ ルの濃度で配合してもよい。

 前記混合水溶液におけるアルミニウムイ ン濃度は3~30g/リットルの範囲が好ましく、 でも3~20g/リットルの範囲が好ましく、特に 8~18g/リットルの範囲が好ましい。アルミニ ムイオン濃度が上記範囲内であれば、アル ニウムウェブWの表面に形成されるピットの 均一性が高くなるから好ましい。また、混合 水溶液を補充しつつ電解粗面化処理を行う場 合において、混合水溶液の補充量が過大にな らない点でも好ましい。

 前記混合水溶液の液温は、20℃以上が好 しく、中でも25℃以上が好ましく、特に30℃ 上が好ましい。但し、液温は60℃以下が好 しく、中でも50℃以下が好ましく、特に40℃ 下が好ましい。液温が20℃以上であれば冷 のための冷凍機運転コストを節減でき、ま 、冷却のための地下水の使用量の増大を抑 できる。また、液温が60℃以下であれば、設 備の耐食性を確保することが容易である。

 デスマット槽42の内部には、酸性電解液 うち、硫酸、塩酸、硝酸、燐酸、および蓚 から選択される酸性電解質の溶液であるデ マット液が貯留され、デスマット槽42の底部 近傍には、陽極酸化電極44が設けられ、陽極 化電極44の直上には、アルミニウムウェブW 陽極酸化電極44に相対するように支持する 持ローラ46が配設されている。陽極酸化電極 44は直流電源DC2の正極に接続されている。デ マット槽42の上方における入口側および出 側には夫々案内ローラ48A、48Bが配設されて る。なお、前記デスマット液は、前記酸性 解質を0.5~30質量%、アルミニウムイオンを0.5~ 10質量%含有することが好ましい。また、デス マット液の温度は25℃以上95以下が好ましい  

 陽極酸化電極44は、直流電源DC2の負極に 続されている。また、案内ローラ48A、48Bは れも金属製であって直流電源DC2の正極に接 されている。しかし、案内ローラ48A、48Bは ずしも両方が直流電源DC2の正極に接続され 金属製ローラである必要はなく、少なくと 一方が直流電源DC2の正極に接続された金属 ローラであればよい。

 陽極酸化電極44における電気量は5C/dm 2 以上100C/dm 2 未満の範囲が好ましく、特に5~30C/dm 2 の範囲が好ましい。

 エッチング槽52の内部には、エッチング としてアルカリ溶液が貯留され、底部近傍 はアルミニウムウェブWを支持する支持ロー 54が配設されている。

 エッチング槽52の上方の入口側および出 側には、夫々案内ローラ56、50が配設されて る。

 なお、エッチング槽52とデスマット槽42と の間に水洗槽を設けてもよい。また、デスマ ット槽42の内部に陽極酸化電極44を配設して 極酸化槽として機能させる代わりに、デス ット槽42と電解粗面化槽32との間に専用の陽 酸化槽を挿入してもよい。その場合、陽極 化槽においては、上述したデスマット液の か、硼酸塩や炭酸塩の溶液のように緻密な 極酸化皮膜が形成される電解液も使用でき 。

[作用]
 以下、実施形態2の電解粗面化処理装置30の 用について説明する。ここで、アルミニウ ウェブWの電解粗面化しようとする面をA面 A面とは反対側の面をB面とする。

 アルミニウムウェブWは、A面が上方を向 ように搬送方向aに沿って搬送され、最初に ッチング槽52に導入される。エッチング槽52 においては、表面の汚れや自然酸化皮膜がア ルカリ溶液で除去される。

 アルミニウムウェブWはエッチング槽52を 過した後、デスマット槽42に導入される。 スマット槽42では、先ず、内部に貯留された デスマット液によって、エッチング処理で表 面に析出したスマットが除去される。そして 、陽極酸化電極44の近傍を通過するときに、B 面で陽極酸化反応が生じ、図4の(B)に示すよ に酸化皮膜が形成される。

 デスマット槽42でB面に酸化皮膜が形成さ たアルミニウムウェブWは、最後に電解槽32 導入される。

 電解槽32では、先ず、直流電極36Aと絶縁 35との間を通過するときに、アルミニウムウ ェブWのA面にアノード反応が生起し、粗面化 応のための起点が形成される。そして、主 極34A、34Bと絶縁板35との間を通過するとき 、主電極34A、34Bに印加された交流電流によ て、A面において前記起点を中心にしてアノ ド反応およびカソード反応が交互に生起し A面が粗面化される。

 主電極34A、34BでA面が粗面化されたアルミ ニウムウェブWは、電解槽23の外部に導出され る。

 以上、ラジアル型またはフラット型の電解 を有するとともに、B面が陽極酸化電極に相 対するようにアルミニウムウェブWをローラ 捲き掛けた状態で陽極酸化処理をして酸化 膜を形成する例について説明してきた。
 しかし、本発明は上記の実施形態には限定 れない。したがって、電解槽は縦型であっ もよく、また、陽極酸化槽ではA面に近接し て絶縁材を配置した状態でB面を陽極酸化処 するようにしてもよい。また、B面に、スポ ジ、刷毛、その他適宜の手段で酸性電解液 塗布しつつ、陽極酸化処理をするようにし もよい。

 また、陽極酸化槽において電流密度を急 に上昇させて陽極酸化を行っている例につ て説明したが、陽極酸化槽においては、電 密度を直線的、二次曲線的、または段階的 上昇させるようにしてもよい。

[実施例]
1.実施例1~7、比較例1~3

 図2に示す形態の電解粗面化装置30を用い アルミニウムウェブを粗面化した。アルミ ウムウェブとしては、厚さ0.3mm、幅1000mmの アルミニウムウェブを用い、搬送速度50m/min 、主電極34A,34Bに50Hzの正弦波電流を印加し 粗面化面の表面粗さの目標値を0.5μmとして 解粗面化を行った。酸性電解液としては、30 ℃、濃度10質量%の塩酸水溶液を用いた。

 電解粗面化装置30においては、主電極34A 34B、直流電極36A、36Bの幅を1500mmとした。

 またデスマット槽42においては、50℃、濃 度30%の硫酸溶液を貯留して陽極酸化処理を行 った。

 実施例1~7および比較例2,3では、デスマッ 槽42の陽極酸化電極44の電気量、および電解 槽32における直流電極36Aの電気量を表1のよう に変化させてアルミニウムウェブWのB面に生 た裏廻りの幅、即ち裏廻り量を測定すると もに、A面に生じた砂目の形状をSEMで2000倍 観察した。

 裏廻り量については、デスマット槽42で 陽極酸化、および電解槽32でのアノード反応 の何れも行わなかった比較例1からの減少率 %で示すとともに、砂目形状については、比 例1と同等のときは「○」とし、比較例1に して明らかに変化が認められたときは「×」 とした。結果を表1に示す。

 表1から判るように、デスマット槽42におけ 陽極酸化処理および電解槽32でのアノード 応の少なくとも一方を行った実施例1~7およ 比較例2,3では明らかに裏廻り量の減少が認 られた。特に、デスマット槽42における陽極 酸化処理および電解槽32でのアノード反応を 方行った実施例7では、陽極酸化処理におけ る電気量が5C/dm 2 、アノード反応における電気量が0.5C/dm 2 と、何れの反応も少ない電気量で行ったにも 拘らず、裏廻り量の減少量は45%と、特に良好 な裏廻り防止効果が認められた。

 一方、比較例3ではアノード反応を100C/dm 2 と大きな電気量で行ったために、砂目形状に 明らかな変化が認められた。このことから、 アノード反応は100C/dm 2 より少ない電気量で行う必要があることが判 る。

 また、比較例2では、酸化膜形成反応を100C/d m 2 と大きな電気量で行い、アノード反応は実施 しなかった。その結果、比較例1と同様の良 な砂目形状が得られ、また、裏廻り量の減 量は35%と、良好な裏廻り防止効果が認めら た。しかしながら、電力コストが過大にな という問題があった。したがって、酸化膜 成反応は5~30C/dm 2 程度の電気量で行うのが好ましいと考えられ る。

 本発明の電解処理装置および電解処理方 を適用できる帯状体はアルミニウムウェブ は限定されず、普通鋼鈑やステンレス鋼鈑 チタニウム板など、各種金属の帯状体など 包含される。また、ポリエステル樹脂、ポ アミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリスルホ 樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、 チレンプロピレン共重合体、エチレン-ビニ ルアルコール共重合体などの各種のプラスチ ックのフィルムの表面に蒸着や鍍金などによ りアルミニウムや銀、銅などの金属層や酸化 錫などの導電性酸化物皮膜を形成した帯状体 も包含される。

 また、本発明の電解処理装置および電解 理方法を適用できる電解処理は、酸性電解 中における交流によるアルミニウムウェブ 電解粗面化には限定されず、たとえば直流 よるアルミニウムウェブ表面への陽極酸化 膜の形成や着色アルマイト処理、普通鋼鈑 ステンレス鋼鈑の帯状体への各種鍍金処理 も前記電解処理に包含される。

 更に、本発明の電解処理装置に包含され 電解粗面化処理装置は、実施形態1で述べた ラジアル型、および実施形態2で述べたフラ ト型には限定されず、アルミニウムウェブ 縦方向に搬送しつつ電解粗面化する縦型の 解粗面化処理装置も含まれる。

符号の説明

  10 電解粗面化処理装置
  11   陽極酸化槽
  12 電解槽本体
  12A 電解槽
  12B 開口部
  12C 溢流槽
  13   陽極酸化電極
  14 送りローラ
  15   案内ローラ
  16A 主電極
  16B 主電極
  17A  入口側案内ローラ
  17B  出口側案内ローラ
  18A 小電極
  18B 小電極
  20A 絶縁層
  20B 絶縁層
  20C 電極ホルダ
  20D 電極ホルダ
  22 電解液補充流路
  23 電解槽
  24A 上流側案内ローラ
  24B 下流側案内ローラ
  26 直流電極
  28 補助電解槽
  28A 底面
  29 補助電極
  30 電解粗面化処理装置
  32 電解槽
  34A 主電極
  34B 主電極
  35 絶縁板
  36A 直流電極
  36B 直流電極
  38A 案内ローラ
  38B 案内ローラ
  40A 導入ローラ
  40B 導出ローラ
  42 デスマット槽
  44 陽極酸化電極
  46 支持ローラ
  48A 案内ローラ
  52 エッチング槽
  54 支持ローラ
  56 案内ローラ