本発明のグラフト共重合体とエンジニアリ� ��グプラスチックを配合してなる樹脂成分を� ��む樹脂組成物は、特定の単量体単位を含有� ��る主鎖および特定のポリオレフィン連鎖で� ��る側鎖を有するグラフト共重合体と特定の� ��ンジニアリングプラスチックを配合してな� ��樹脂成分を含む樹脂組成物である。上記グ� ��フト共重合体は、特定の反応性ポリオレフ� ��ンを用いてグラフト共重合反応を行うこと� ��得られる。
 後述するように、本発明で使用されるグラ� ��ト共重合体の中にはエンジニアリングプラ� ��チックと共有結合を形成するものがある。� ��たがって、「グラフト共重合体とエンジニ� ��リングプラスチックを配合してなる樹脂成� ��を含む樹脂組成物」とは、グラフト共重合� ��やエンジニアリングプラスチックを含む組� ��物を表すとともに、これらの反応生成物を� ��む組成物も表している。
 また、本明細書において「反応性ポリオレ� ��ィン」とは、ラジカル開始剤により効率よ� ��グラフト共重合体を生成させるポリオレフ� ��ンのことをいい、具体的には末端不飽和基� ��一分子あたり0.5個以上有するポリオレフィ� ��のことを指す。
 また、当該定義からわかるように、反応性� ��リオレフィン中に含まれる全ての分子が末� ��不飽和基を有し、反応性を有するとは限ら� ��い。このためグラフト共重合反応終了時に� ��反応のポリオレフィンが存在することがあ� ��が、末端不飽和基量の制御や精製過程によ� ��未反応のポリオレフィン量を低減化するこ� ��ができる。したがって、本明細書において� ��、グラフト共重合反応の生成物を「組成物� ��とは表現せず、「グラフト共重合体」と記� ��する。

[グラフト共重合体]
 グラフト共重合体の主鎖は、エンジニアリ� ��グプラスチックと相互作用する官能基(本明 細書において、「エンジニアリングプラスチ ックと相互作用する官能基」を「官能基I」� �省略することがある。)を有する単量体単位� ��含有する。上記相互作用としては、直接反� ��して結合を形成するものと、空間を通して� ��和的に作用するものが挙げられる。直接反� ��して結合を形成する場合の具体例は共有結� ��の形成が挙げられ、空間を通して親和的に� ��用する場合の具体例は水素結合、静電的相� ��作用、芳香環等のスタッキング相互作用が� ��げられる。また、本発明においてエンジニ� ��リングプラスチックは、カルボキシル基、� ��ミノ基、芳香環を有する基やアミド基を有� ��るものが使用される。したがって、グラフ� ��共重合体中の官能基Iとしては、エステル基 、カルボキシル基、カルボン酸無水物残基、 芳香環含有基、水酸基、エポキシ基、アミノ 基、およびイソシアナート基等が挙げられる 。本発明においては、これらの相互作用によ りグラフト共重合体のエンジニアリングプラ スチックに対する親和性を向上させることが できる。なお、これらの相互作用は一種を単 独で利用してもよく、また二種以上を併用し てもよい。

 上記の共有結合としては、グラフト共重� ��体の官能基Iとエンジニアリングプラスチッ ク中の官能基(本明細書において、「エンジ� �アリングプラスチック中の官能基」を「官� �基II」と省略することがある。)等との縮合� �応やエステル交換反応が挙げられる。なお� �官能基IIとしては、エンジニアリングプラス チック中の末端官能基や、変性処理をして得 られた官能基を利用することができる。官能 基IIが水酸基の場合には、官能基Iはカルボキ シル基、エポキシ基、イソシアナート基等が 好ましく、官能基IIがエポキシ基の場合には� ��官能基Iはアミノ基、水酸基等が好ましく、 官能基IIがアミノ基の場合には、官能基Iはカ ルボン酸無水物基、カルボキシル基が好まし く、官能基IIがイソシアナート基の場合には� ��官能基Iは活性水素を有する基が好ましく、 特に水酸基、フェノール性水酸基、カルボキ シル基が好ましい。

 上記の水素結合の具体例としては、水酸� ��間、カルボキシル基間、カルボニル基-水酸 基間、アミド基-水酸基間等で生じる相互作� �が挙げられる。静電的相互作用としては、� �ロゲン原子のような電気陰性度の高い原子� �カルボニル基の酸素原子等のδ-を有する原� �とカルボニル基の炭素原子等のδ+を有する� �子間の相互作用等が挙げられる。芳香環等� �スタッキング相互作用としては、フェニル� �間、フェニル基-フェニレン基間の相互作用� ��が挙げられる。

 グラフト共重合体中の官能基Iを有する単量 体単位量は、主鎖に対して1~100質量%である。 1質量%未満では、グラフト重合体のエンジニ� ��リングプラスチックに対する親和性を向上� ��せる効果が得られにくい。上記単量体単位� ��は好ましくは、相互作用が空間を通して親� ��的に作用する場合には50~100質量%であり、よ り好ましくは70~100質量%である。また、相互� �用が直接反応して結合を形成することで生� �る場合は、好ましくは2~80質量%であり、より 好ましくは3~70質量%である。
 なお、この単量体単位量は、側鎖である反� ��性オレフィン単位を除いた量を基準とした� ��合である。後述するように、グラフト共重� ��体の主鎖の単量体単位の種類や量は、グラ� ��ト共重合体の製造時に用いる単量体の種類� ��量を変えることで制御することができる。

 グラフト共重合体の側鎖は、炭素数3~28のα- オレフィンから選ばれる一種の単独重合鎖若 しくは二種以上の共重合鎖、またはエチレン 単位が50質量%以下である、炭素数3~28のα-オ� �フィン単位およびエチレン単位からなる共� �合鎖である。
 炭素数3~28のα-オレフィンとしては、プロピ レン、1-ブテン、1-ペンテン、4-メチルペンテ ン-1、1-ヘキセン、1-オクテン、1-デセン、1-� �ンデセン、1-ドデセン、1-トリデセン、1-テ� �ラデセン、1-ペンタデセン、1-ヘキサデセン� ��1-ヘプタデセン、1-オクタデセン、1-ノナデ� ��ン及び1-イコセンなどが挙げられる。

 グラフト共重合体の側鎖は、メソペンタッ� ��分率〔mmmm〕が30~80モル%の重合鎖である。上 記メソペンタッド分率〔mmmm〕は、好ましく� �30~75モル%、より好ましくは32~70モル%である� �
 メソペンタッド分率が30モル%を下回ると、� ��熱性、機械物性が低下し、80モル%を超える� ��、成形加工性、衝撃強度が低下する。なお� ��グラフト共重合体の側鎖のメソペンタッド� ��率は、その製造時に用いた反応性ポリオレ� ��ィンの立体規則性から知ることができる。� ��た、グラフト共重合体の反応性ポリオレフ� ��ンに由来するメチル基、メチン基、メチレ� ��基の立体規則性を後述するNMR解析により決� ��することができる。さらに、グラフト共重� ��体を窒素雰囲気下、熱分解した後、側鎖を� ��成していた断片を集めてNMRを測定すること� ��よっても調べることができる。

 グラフト共重合体のグラフト率は、1~150質� �%であり、好ましくは2~130質量%、より好まし� ��は5~100質量%である。グラフト率が1質量%未� �であると、エンジニアリングプラスチック� �の親和性が低下し、相溶化能が劣りやすく� �150質量%を越えると、ポリオレフィンとの親� ��性が低下し、相溶化能が劣りやすい。
 グラフト共重合体のグラフト率は、以下の� ��うにして測定する。
 溶媒によりグラフト共重合反応に関与しな� ��った主鎖を形成する単量体の重合物、可溶� ��の重合体成分を溶解除去した不溶のグラフ� ��共重合体成分の質量(W2)と原料として用いた 反応性ポリオレフィンの質量(W1)から以下の� �うにして算出する。
   グラフト率(質量%)=(W2-W1)/W1×100
 また、使用する溶媒は溶解条件下で、主鎖� ��形成する単量体からなる単独重合体または� ��重合体を溶解することが必要である。さら� ��使用する溶媒は反応性ポリオレフィンに対� ��ては前述と同じ溶解条件下で、溶解性を示� ��ないことが同時に必要である。溶解性を示� ��ないとは1質量%以下の溶解量を示すことを� �い、溶解するとは溶液の目視観察により不� �物が認められないことを言う。

 グラフト共重合体は、重量平均分子量が500~ 400000であり、好ましくは700~350000、より好ま� �くは1000~300000、最も好ましくは1500~250000であ� ��。重量平均分子量が500未満では、相溶化性� ��は示すものの組成物物性を低下させ、400000� ��超えると、組成物の溶融成形性が低下する� ��
 グラフト共重合体の分子量分布(Mw/Mn)は、1.5 ~4であり、好ましくは1.55~3、より好ましくは1 .6~2.5である。分子量分布が1.5を下回るグラフ ト共重合体の製造は困難であり、また4を越� �ると、グラフト共重合体にばらつきが生じ� �一定の相溶化性能が得られにくい。
 なお、グラフト共重合体の重量平均分子量� ��よび分子量分布を求める場合においては、� ��下のようにゲルパーミエイションクロマト� ��ラフィー(GPC)法を用いることができる。

 分子量分布(Mw/Mn)は、GPC法により、下記の装 置及び条件で、重量平均分子量(Mw)及び数平� �分子量(Mn)測定することにより求めることが� ��きる。
GPC測定装置
 検出器    :液体クロマトグラフィー用RI� �出器 ウオーターズ 150C
 カラム    :TOSO GMHHR-H(S)HT
測定条件
 溶媒     :1,2,4-トリクロロベンゼン
 測定温度   :145℃
 流速     :1.0ml/分
 試料濃度   :0.3質量%
 重量平均分子量(Mw)、数平均分子量(Mn)はポ� �スチレン換算分子量を対応するポリマーの� �子量に換算するため、Mark-Houwink-桜田の式の� ��数K及びαを用いてUniversal Calibration法により 求めた。
 具体的には、「サイズ排除クロマトグラフ� ��ー、森定雄著、P67~69、1992年、共立出版」に 記載の方法によって決定した。
 なお、K及びαは、「Polymer Handbook、John Wiley &Sons,Inc.」に記載されている。
 また、新たに算出する絶対分子量に対する� ��限粘度の関係から定法によって決定するこ� ��ができる。

 グラフト共重合体は、デカリン中、135℃に� ��いて測定した極限粘度〔η〕が0.01~2.5dl/gが� �ましく、より好ましくは0.02~2.2、さらに好ま しくは0.05~2.0である。
 極限粘度〔η〕が0.01dl/g以上であると、樹脂 相溶化などの機能が上昇し、2.5dl/g以下であ� �と樹脂への分散性が向上し好ましい。

 更に、グラフト共重合体は、ゲル成分を含� ��ないことが好ましい。ゲル成分の低減化は� ��端不飽和基量が高い反応性ポリオレフィン� ��あって、両末端に不飽和基を有する分子を� ��質上含まない反応性ポリオレフィンを使用� ��、効率よくグラフト重合反応を行うことで� ��成される。
(ゲル成分の測定方法)
 グラフト共重合体の主鎖成分、側鎖成分の� ��者を溶解する溶媒を用い、攪拌装置付きガ� ��ス製セパラブルフラスコのステンレス製400� ��ッシュ(目開き0.034mm)の網でできた籠に、グ� ��フト共重合体50mgを入れ、攪拌翼に固定する 。
 酸化防止剤(BHT)0.1質量%を含む溶媒を投入し� ��沸点下で4時間攪拌しながら溶解する。
 溶解後、回収した籠を十分真空乾燥し、秤� ��により不溶部を求める。
 不溶部として定義するゲル成分は以下の式� ��算出する。
   [メッシュ内残量(g)/仕込試料量(g)]×100(単 位:%)
 溶媒としては、パラキシレン、トルエンな� ��が挙げられる。
 通常、上記式において、0~1.5質量%の範囲を� ��ってゲル成分を含まないと規定する。

[グラフト共重合体の製造方法]
 グラフト共重合体は特定の反応性ポリオレ� ��ィンと主鎖を形成する単量体を重合させる� ��とで製造することができる。

(側鎖用反応性ポリオレフィン)
 本発明で使用する反応性ポリオレフィンは� ��炭素数3~28のα-オレフィンから選ばれる一種 の単独重合体若しくは二種以上の共重合体、 またはエチレンが50質量%以下である、炭素数 3~28のα-オレフィンから選ばれる一種以上の� �量体とエチレンの共重合体であって、メソ� �ンタッド分率〔mmmm〕が30~80モル%であり、一� ��子あたりの末端不飽和基量が0.5~1.0個である 反応性ポリオレフィンであることが好ましい 。上記条件をみたすことで、本発明で使用す るグラフト共重合体を製造することができる 。

 上記メソペンタッド分率〔mmmm〕は、好ま しくは30~75モル%、より好ましくは32~70モル%で ある。

 ポリプロピレンを主成分とする重合体の場� ��、以下のようにして立体規則性を決定する� ��
 上記メソペンタッド分率〔mmmm〕、後述する ラセミペンタッド分率〔rrrr〕及びラセミメ� �ラセミメソ分率〔rmrm〕は、エイ・ザンベリ( A.Zambelli)などにより「Macromolecules,6,925(1973)」� �提案された方法に準拠し、 ¹³ C-NMRスペクトルのメチル基のシグナルにより� ��定されるポリプロピレン分子鎖中のペンタ� ��ド単位でのメソ分率、ラセミ分率及びラセ� ��メソラセミメソ分率である。
 メソペンタッド分率〔mmmm〕が大きくなると 、立体規則性が高くなる。
 なお、 ¹³ C-NMRスペクトルの測定は、エイ・ザンベリ(A.Z ambelli)などにより「Macromolecules,8,687(1975)」で� �案されたピークの帰属に従い、下記の装置� �び条件にて行うことができる。
 また、後述するメソトリアッド分率〔mm〕� �ラセミトリアッド分率〔rr〕及びメソラセミ 分率[mr]も上記方法により算出した。

 装置:日本電子(株)製JNM-EX400型 ¹³ C-NMR装置
 方法:プロトン完全デカップリング法
 濃度:220mg/ml
 溶媒:1,2,4-トリクロロベンゼンと重ベンゼン の90:10(容量比)混合溶媒
 温度:130℃
 パルス幅:45°
 パルス繰り返し時間:4秒
 積算:10000回

<計算式>
M=(m/S)×100
R=(γ/S)×100
S=Pββ+Pαβ+Pαγ
S:全プロピレン単位の側鎖メチル炭素原子の� ��グナル強度
Pββ:19.8~22.5ppm
Pαβ:18.0~17.5ppm
Pαγ:17.5~17.1ppm
γ:ラセミペンタッド連鎖:20.7~20.3ppm
m:メソペンタッド連鎖 :21.7~22.5ppm

 ポリブテンを主成分とする重合体の場合、� ��下のようにして立体規則性を決定する。
 メソペンタッド分率(mmmm)及び異常挿入含有� ��(1,4挿入分率)は、朝倉らにより報告された� �Polymer Journal,16,717(1984)」、J.Randallらにより報 告された「Macromol.Chem.Phys.,C29,201(1989)」及びV.B usicoらにより報告された「Macromol.Chem.Phys.,198,1 257(1997)」で提案された方法に準拠して求めた 。
 すなわち、 ¹³ C核磁気共鳴スペクトルを用いてメチレン基� �メチン基のシグナルを測定し、ポリ(1-ブテ� �)分子中のメソペンタッド分率及び異常挿入� ��有量を求めた。
  ¹³ C核磁気共鳴スペクトルの測定は、前述の装� �及び条件にて行った。
 立体規則性指数{(mmmm)/(mmrr+rmmr)}は、上記方� �により、(mmmm)、(mmrr)及び(rmmr)を測定した値� �ら算出した。
 また、ラセミトリアッド分率(rr)も上記方法 により算出できる。
 1-ブテン単独及び共重合体は、立体規則性� �数{(mmmm)/(mmrr+rmmr)}が20以下であり、好ましく� ��18以下、より好ましくは15以下である。
 立体規則性指数が20を超えると、柔軟性の� �下が起こる。

 炭素数5以上のα-オレフィンを主成分とする 重合体の場合は、以下のようにして立体規則 性を決定する。
 この立体規則性指標値M ₂ は、T.Asakura,M.Demura,Y.Nishiyamaにより報告された 「Macromolecules,24,2334(1991)」で提案された方法� �準拠して求めた。
 すなわち、 ¹³ CNMRスペクトルで、高級α-オレフィンに由来� �る、側鎖α位のCH ₂ 炭素が立体規則性の違いを反映して分裂して 観測されることを利用してM ₂ を求めることができる。
 このM ₂ は本願発明においては、上記メソペンタッド 分率〔mmmm〕に置き換えることができる。
 この値が大きいほど、アイソタクティシテ� ��ーが高いことを示す。
 尚、 ¹³ C核磁気共鳴スペクトルの測定装置、条件は� �記と同じであり、以下のようにして立体規� �性指標値M ₂ を求める。
 混合溶媒に基づく大きな吸収ピークが、127~ 135ppmに6本見られる。このピークのうち、低� �場側から4本目のピーク値を131.1ppmとし、化� �シフトの基準とする。
 このとき側鎖α位のCH ₂ 炭素に基づく吸収ピークが34~37ppm付近に観測� ��れる。
 このとき、以下の式を用いてM ₂ (モル%)を求める。
 M ₂ =〔(36.2~35.3ppmの積分強度)/(36.2~34.5ppmの積分強� ��)〕×100

 上記反応性ポリオレフィンは、末端不飽和� ��を一分子当たり、0.5~1.0個、好ましくは0.6~1. 0個、より好ましくは0.7~1.0個、より好ましく� ��0.8~1.0個、より好ましくは0.82~1.0個、さらに� ��ましくは0.85~1.0個、最も好ましくは0.90~1.0個 有する。
 末端不飽和基が0.5個以上では不飽和基の濃� ��が高く、グラフト共重合体の生成効率が上� ��する。
 末端不飽和基としては、ビニリデン基が好� ��しく、末端不飽和基に占めるビニリデン基� ��、通常、50~100モル%、好ましくは60~100モル%� �より好ましくは70~100モル%、更に好ましくは8 0~100モル%である。
 本発明に用いる反応性ポリオレフィンは、� ��分子当たり2個以上の不飽和基を有する成分 、例えば両末端に不飽和基を含有するような 成分を実質的に含有しないものである。
 一分子当たり2個以上の不飽和基を有する成 分は、所謂架橋剤として作用するため、グラ フト重合時に架橋構造(H型)を形成し、ゲル成 分が副生するため好ましくない。
 従って、熱分解によって製造された不飽和� ��リプロピレンなどは使用することができな� ��。

 上記末端不飽和基の測定は、一般的には、� ��外線吸収スペクトル法、核磁気共鳴スペク� ��ル法、臭素化法などが用いられ、何れの方� ��によっても測定することができる。
 赤外線吸収スペクトル法は、「新版 高分� �分析ハンドブック、日本分析化学会、高分� �分析研究懇談会編」に記載された方法に準� �して行うことができる。
 それによれば、赤外線吸収スペクトル法に� ��る末端不飽和基の定量方法においては、ビ� ��ル基、ビニリデン基、トランス(ビニレン)� �などの不飽和基は、それぞれ、赤外線吸収� �ペクトルの910cm ^-1 、888cm ^-1 、963cm ^-1 の吸収から定量することができる。
 また、核磁気共鳴スペクトル法によるビニ� ��デン不飽和基の定量は、次のようにして行� ��。
 末端不飽和基がビニリデン基である場合の� ��数は、常法に従った ¹ H-NMRの測定により求められる。
  ¹ H-NMR測定から得られたδ4.8~4.6(2H)に出現するビ ニリデン基に基づいて、定法によりビニリデ ン基の含有量(C)(モル%)を算出する。
 更に、ゲルパーミエイションクロマトグラ� ��ィー(GPC)より求めた数平均分子量(Mn)とモノ� ��ー分子量(M)から、次式によって一分子当た� ��のビニリデン基の個数を算出する。
 一分子当たりの末端ビニリデン基(個)=(Mn/M)� �(C/100)
 また、核磁気共鳴スペクトル法による方法� ��例としては、末端基の定量に基づく方法が� ��る。具体的には ¹ H-NMRと ¹³ C-NMRで重合反応により、生じた末端基とその� ��在量を測定し、全末端基量に対する末端ビ� ��リデン基の存在割合から一分子当たりの末� ��ビニリデン基数を算出する方法である。
プロピレン重合体の場合を例示する。
( ¹ H-NMRによる不飽和末端量の分析)
 プロピレン重合体には〔2〕ビニリデン基の メチレン基(4.8~4.6ppm)、〔1〕ビニル基のメチ� �ン基(5.10~4.90ppm)が観測される。全プロピレン 重合体に対する割合は次式で計算できる。ま た、〔3〕はプロピレン連鎖(0.6~2.3ppm)のメチ� �、メチレン、メチル基に相当するピーク強� �に対応する。
末端ビニリデン基量(A)=(〔2〕/2)/[(〔3〕+4×〔1 〕/2+3×〔2〕/2)/6]×100   単位:mol%
末端ビニル基量(B)=(〔1〕/2)/[(〔3〕+4×〔1〕/2+ 3×〔2〕/2)/6]×100       単位:mol%
( ¹³ C-NMRによる末端分率の分析)
 本願プロピレン重合体は〔5〕n-プロピル末� ��の末端メチル基(14.5ppm付近)、〔6〕n-ブチル� ��端の末端メチル基(14.0ppm付近)、〔4〕iso-ブ� �ル末端のメチン基(25.9ppm付近)、〔7〕ビニリ� ��ン末端のメチレン基(111.7ppm付近)が観察され る。 ¹³ C-NMRでの末端ビニル基量のピーク強度は ¹ H-NMRスペクトルで求めた(A)(B)を用いて以下の� ��うにして算出した。
¹³ C-NMRの末端ビニル基量ピーク強度=(B)/(A)×〔7� �
ここで末端基の全濃度(T)は以下のように表わ される。
T=(B)/(A)×〔7〕+〔4〕+〔5〕+〔6〕+〔7〕
従って、各末端の割合は
(C)末端ビニリデン基=〔7〕/T ×100    単位:m ol%
(D)末端ビニル基=(B)/(A) ×〔7〕×100
(E)n-プロピル末端=〔5〕/T ×100
(F)n-ブチル末端=〔6〕/T ×100
(G)iso-ブチル末端=〔4〕/T ×100
となる。
一分子当たりの末端ビニリデン基の個数は2× (C) /100  単位: 個/分子
となる。

 上記反応性ポリオレフィンは、分子量分布( Mw/Mn)が、好ましくは4以下、より好ましくは3. 5以下、より好ましくは3以下、更に好ましく� ��2.5以下である。
 分子量分布は狭いほど好ましく、これは、� ��発明で使用するグラフト共重合体において� ��反応性ポリオレフィンが連鎖を形成するた� ��、側鎖長(連鎖長)にばらつきが少なく、構� �が制御されたグラフト共重合体が生成する� �らである。なお、分子量分布の測定は上述� �グラフト共重合体の製造で説明した方法を� �用することができる。

 上記反応性ポリオレフィンは、デカリン中� ��135℃において測定した極限粘度〔η〕が0.01~ 2.5dl/g、好ましくは0.05~2.5、より好ましくは0.0 5~2.0、更に好ましくは0.1~2.0、最も好ましく0.1 5~1.8dl/gである。
 極限粘度〔η〕が上記範囲内であると、グ� �フト共重合体のポリオレフィン側鎖長(連鎖� ��)が十分であり、相溶化などの機能を十分に 発揮する。また、グラフト重合の際、末端不 飽和基の濃度が高いためラジカル重合性が上 昇する。

 極限粘度[η]は、135℃のデカリン中、ウベロ ーデ型粘度計で還元粘度(η _SP /c)を測定し、下記一般式(ハギンスの式)を用� ��て算出する。
   η _SP /c=[η]+K[η] ² c
   η _SP /c(dl/g):還元粘度
   [η](dl/g):極限粘度
   c(g/dl):ポリマー濃度
   K=0.35(ハギンス定数)

 反応性ポリオレフィンは、下記の式を満た� ��ことが好ましい。
ラセミメソラセミメソ分率〔rmrm〕>2.5モル%
 上記反応性ポリオレフィンのラセミメソラ� ��ミメソ分率〔rmrm〕が2.5モル%を超えると、� �ンダム性が増加し、透明性が更に向上する� �

 反応性ポリオレフィンは、示差走査型熱量� ��(DSC)で観測される融点(Tm、単位:℃)と〔mmmm� �とが下記の関係を満たすことが好ましい。
   1.76〔mmmm〕-25.0≦Tm≦1.76〔mmmm〕+5.0
 示差走査型熱量計(DSC)で観測される融点(Tm� �単位:℃)と〔mmmm〕との上記関係式は、反応� �ポリオレフィンのメソペンタッド分率の均� �性を表すものである。
 反応性ポリオレフィンの立体規則性の均一� ��が高い場合、すなわち、立体規則性分布が� ��い場合は、グラフト共重合体の側鎖の均一� ��が高いことを示し、ポリプロピレン系樹脂� ��どとの相溶性が上昇する。メソペンタッド� ��率の高いものと低いものが混在した場合や� ��ロック結合した場合、すなわち、立体規則� ��分布が広い場合は、ポリプロピレン系樹脂� ��どへの相溶性が低下し、好ましくない。上� ��〔mmmm〕は、平均値として測定されるもので あり、立体規則性分布が広い場合と狭い場合 とでは明確に区別することはできないが、上 記のように融点(Tm)との関係を特定範囲に限� �することによって、好ましい均一性の高い� �応性のプロピレン系共重合体を規定するこ� �ができる。
 融点(Tm)が(1.76〔mmmm〕+5.0)を超える場合は、� ��分的に高い立体規則性部位と、立体規則性� ��持たない部位が存在することを示す。
 また、融点(Tm)が(1.76〔mmmm〕-25.0)に達しない 場合、耐熱性が十分ではないおそれがある。
 上記観点から、好ましくは
   1.76〔mmmm〕-20.0≦Tm≦1.76〔mmmm〕+3.0
 より好ましくは
   1.76〔mmmm〕-15.0≦Tm≦1.76〔mmmm〕+2.0
である。
 上記融点(Tm)は、DSC測定により求める。
 試料10mgを窒素雰囲気下、320℃/分で25℃から 220℃に昇温し、220℃で5分間保持した後、320� �/分で25℃まで降温し、25℃で50分間保持した� ��そして、10℃/分で25℃から220℃まで昇温し� �。この昇温過程で検出される融解熱吸収カ� �ブの最も高温側に観測される吸熱ピークの� �ークトップを融点(Tm)とした。

 反応性ポリオレフィンは、更に、下記の規� ��を満たすことが好ましい。
〔rrrr〕/(1-〔mmmm〕)≦0.1
 上記関係を満足すると、べたつきが抑制さ� ��る。
〔mm〕×〔rr]/〔mr〕 ² ≦2.0
 上記〔mm〕×〔rr〕/〔mr〕 ² の値が2.0以下であると、透明性の低下が抑制 され、柔軟性と弾性回復率のバランスが良好 となる。〔mm〕×〔rr]/〔mr〕 ² は、好ましくは1.8~0.5、より好ましくは1.5~0.5� ��範囲である。
20≦昇温クロマトグラフィーにおける25℃以� �で溶出する成分量(W25)≦100(質量%)
 上記昇温クロマトグラフィーにおける25℃� �下で溶出する反応性ポリオレフィンの成分� �(W25)は、好ましくは30~100質量%、より好まし� �は50~100質量%である。
 W25は、反応性ポリオレフィンが軟質である� ��否かを表す指標であり、この値が小さくな� ��と、弾性率の高い成分が多くなったり、メ� ��ペンタッド分率〔mmmm〕の不均一さが広がる 。
 上記反応性ポリオレフィンにおいては、W25� ��20質量%以上であると、柔軟性が保たれる。
 なお、W25とは、以下のような操作法、装置� ��成及び測定条件の昇温クロマトグラフィー� ��より測定して求めた溶出曲線におけるTREF(� �温溶出分別)のカラム温度25℃において充填� �に吸着されないで溶出する成分の量(質量%)� �ある。

(1)操作法
 試料溶液を温度135℃に調節したTREFカラムに 導入し、次いで降温速度5℃/時間にて徐々に0 ℃まで降温し、30分間ホールドし、試料を充� ��剤表面に結晶化させる。
 その後、昇温速度40℃/時間にてカラムを135� ��まで昇温し、溶出曲線を得る。
(2)装置構成
 TREFカラム :GLサイエンス社製 シリカゲル� �ラム(4.6φ×150mm)
 フローセル   :GLサイエンス社製 光路長1m m KBrセル
 送液ポンプ   :センシュウ科学社製 SSC-310 0ポンプ
 バルブオーブン :GLサイエンス社製 MODEL554� ��ーブン(高温型)
 TREFオーブン:GLサイエンス社製
 二系列温調器  :理学工業社製 REX-C100温調� ��
 検出器     :液体クロマトグラフィー用� �外検出器 FOXBORO社製 MIRAN 1A CVF
 10方バルブ  :バルコ社製 電動バルブ
 ループ     :バルコ社製 500μlループ
(3)測定条件
 溶媒      :o-ジクロロベンゼン
 試料濃度    :7.5g/L
 注入量     :500μl
 ポンプ流量   :2.0ml/分
 検出波数    :3.41μm
 カラム充填剤  :クロモソルブP(30~60メッシ� ��)
 カラム温度分布 :±0.2℃以内

 本発明の反応性ポリオレフィンは、メタロ� ��ン触媒により製造されるものが好ましい。
 メタロセン触媒としては、(A)シクロペンタ� ��エニル基、置換シクロペンタジエニル基、� ��ンデニル基、置換インデニル基などを有す� ��周期律表第3~10の金属元素からなる遷移金属 化合物と(B)遷移金属化合物と反応してイオン 性の錯体を形成しうる化合物を含む触媒であ って、末端不飽和基を生成することのできる 触媒が挙げられる。
 遷移金属化合物としては、ジルコノセンク� ��リド、ペンタメチルシクロペンタジエニル� ��ルコニウムジクロリドなどのビスシクロペ� ��タジエニル配位子からなる化合物、エチレ� ��ビスインデニルジルコニウムジクロリド、� ��メチルシリレン-ビス-[2-メチル-4-フェニル� �ンデニル]ジルコニウムジクロリド、ジメチ� ��シリレン-ビス-[2-メチル-4,5-ベンゾインデニ ル]ジルコニウムジクロリドなどの架橋イン� �ニル配位子からなる化合物、ペンタメチル� �クロペンタジエニルトリメトキシチタニウ� �、ペンタメチルシクロペンタジエニルトリ� �ロルチタニウムなどのモノシクロペンタジ� �ニル配位子からなる化合物、ジクロロ[ジメ� ��ルシリレン(シクロペンタジエニル)(2,4-ジメ チル-4H-1-アズレニル)]ハフニウム、ジクロロ[ ジメチルゲルミレン(シクロペンタジエニル)( 2,4-ジメチル-4H-1-アズレニル)]ハフニウム、ジ クロロ[ジメチルシリレン(2-メチル-1-インデ� �ル)(2,4-ジメチル-4H-1-アズレニル)]ハフニウム などのアズレニウム配位子からなる化合物が 挙げられる。

 更に、下記一般式(I)で表される二重架橋� ��移金属化合物が挙げられる。

 上記一般式(I)において、Mは周期律表第3~10� �の金属元素を示し、具体例としてはチタン,� ��ルコニウム,ハフニウム,イットリウム,バナ� ��ウム,クロム,マンガン,ニッケル,コバルト,� �ラジウム及びランタノイド系金属などが挙� �られる。
 これらの中ではオレフィン重合活性などの� ��からチタン,ジルコニウム及びハフニウムが 好適であり、末端ビニリデン基の収率及び触 媒活性の点から、ジルコニウムが最も好適で ある。
 E ¹ 及びE ² はそれぞれ、置換シクロペンタジエニル基,� �ンデニル基,置換インデニル基,ヘテロシクロ ペンタジエニル基,置換ヘテロシクロペンタ� �エニル基,アミド基(-N<),ホスフィン基(-P< ),炭化水素基〔>CR-,>C<〕及びケイ素含� �基〔>SiR-,>Si<〕(但し、Rは水素又は炭� �数1~20の炭化水素基あるいはヘテロ原子含有� ��である)の中から選ばれた配位子を示し、A ¹ 及びA ² を介して架橋構造を形成している。E ¹ 及びE ² は互いに同一でも異なっていてもよい。
 このE ¹ 及びE ² としては、シクロペンタジエニル基、置換シ クロペンタジエニル基,インデニル基及び置� �インデニル基が好ましく、E ¹ 及びE ² のうちの少なくとも一つは、シクロペンタジ エニル基、置換シクロペンタジエニル基、イ ンデニル基又は置換インデニル基である。
 Xはσ結合性の配位子を示し、Xが複数ある場 合、複数のXは同じでも異なっていてもよく� �他のX,E ¹ ,E ² 又はYと架橋していてもよい。
 このXの具体例としては、ハロゲン原子,炭� �数1~20の炭化水素基,炭素数1~20のアルコキシ� �,炭素数6~20のアリールオキシ基,炭素数1~20の� ��ミド基,炭素数1~20のケイ素含有基,炭素数1~20 のホスフィド基,炭素数1~20のスルフィド基,炭 素数1~20のアシル基などが挙げられる。
 ハロゲン原子としては、塩素原子、フッ素� ��子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
 炭素数1~20の炭化水素基として具体的には、 メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基 、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル 基などのアルキル基;ビニル基、プロペニル� �、シクロヘキセニル基などのアルケニル基;� ��ンジル基、フェニルエチル基、フェニルプ� ��ピル基などのアリールアルキル基;フェニル 基、トリル基、ジメチルフェニル基、トリメ チルフェニル基、エチルフェニル基、プロピ ルフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、 メチルナフチル基、アントラセニル基、フェ ナントニル基などのアリール基などが挙げら れる。
 なかでもメチル基、エチル基、プロピル基� ��どのアルキル基やフェニル基などのアリー� ��基が好ましい。

 炭素数1~20のアルコキシ基としては、メトキ シ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ 基などのアルコキシ基、フェニルメトキシ基 、フェニルエトキシ基などが挙げられる。
 炭素数6~20のアリールオキシ基としては、フ ェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチル フェノキシ基などが挙げられる。
 炭素数1~20のアミド基としては、ジメチルア ミド基、ジエチルアミド基、ジプロピルアミ ド基、ジブチルアミド基、ジシクロヘキシル アミド基、メチルエチルアミド基などのアル キルアミド基や、ジビニルアミド基、ジプロ ペニルアミド基、ジシクロヘキセニルアミド 基などのアルケニルアミド基;ジベンジルア� �ド基、フェニルエチルアミド基、フェニル� �ロピルアミド基などのアリールアルキルア� �ド基;ジフェニルアミド基、ジナフチルアミ� ��基などのアリールアミド基が挙げられる。
 炭素数1~20のケイ素含有基としては、メチル シリル基、フェニルシリル基などのモノ炭化 水素置換シリル基;ジメチルシリル基、ジフ� �ニルシリル基などのジ炭化水素置換シリル� �;トリメチルシリル基、トリエチルシリル基� ��トリプロピルシリル基、トリシクロヘキシ� ��シリル基、トリフェニルシリル基、ジメチ� ��フェニルシリル基、メチルジフェニルシリ� ��基、トリトリルシリル基、トリナフチルシ� ��ル基などのトリ炭化水素置換シリル基;トリ メチルシリルエーテル基などの炭化水素置換 シリルエーテル基;トリメチルシリルメチル� �などのケイ素置換アルキル基;トリメチルシ� ��ルフェニル基などのケイ素置換アリール基� ��どが挙げられる。
 なかでも、トリメチルシリルメチル基、フ� ��ニルジメチルシリルエチル基などが好まし� ��。

 炭素数1~20のホスフィド基としては、ジメ チルホスフィド基、ジエチルホスフィド基、 ジプロピルホスフィド基、ジブチルホスフィ ド基、ジヘキシルホスフィド基、ジシクロヘ キシルホスフィド基、ジオクチルホスフィド 基などのジアルキルホスフィド基;ジベンジ� �ホスフィド基、ジフェニルホスフィド基、� �ナフチルホスフィド基などのジアリールホ� �フィド基が挙げられる。

 炭素数1~20のスルフィド基としては、メチル スルフィド基、エチルスルフィド基、プロピ ルスルフィド基、ブチルスルフィド基、ヘキ シルスルフィド基、シクロヘキシルスルフィ ド基、オクチルスルフィド基などのアルキル スルフィド基;ビニルスルフィド基、プロペ� �ルスルフィド基、シクロヘキセニルスルフ� �ド基などのアルケニルスルフィド基;ベンジ� ��スルフィド基、フェニルエチルスルフィド� ��、フェニルプロピルスルフィド基などのア� ��ールアルキルスルフィド基;フェニルスルフ ィド基、トリルスルフィド基、ジメチルフェ ニルスルフィド基、トリメチルフェニルスル フィド基、エチルフェニルスルフィド基、プ ロピルフェニルスルフィド基、ビフェニルス ルフィド基、ナフチルスルフィド基、メチル ナフチルスルフィド基、アントラセニルスル フィド基、フェナントニルスルフィド基など のアリールスルフィド基が挙げられる。
 炭素数1~20のアシル基としては、ホルミル基 、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基 、バレリル基、パルミトイル基、テアロイル 基、オレオイル基などのアルキルアシル基、 ベンゾイル基、トルオイル基、サリチロイル 基、シンナモイル基、ナフトイル基、フタロ イル基などのアリールアシル基、シュウ酸、 マロン酸、コハク酸などのジカルボン酸から それぞれ誘導されるオキサリル基、マロニル 基、スクシニル基などが挙げられる。

 一方、Yはルイス塩基を示し、Yが複数ある� �合、複数のYは同じでも異なっていてもよく� ��他のYやE ¹ ,E ² 又はXと架橋していてもよい。
 このYのルイス塩基の具体例としては、アミ ン類,エーテル類,ホスフィン類,チオエーテル 類などを挙げることができる。
 アミン類としては、炭素数1~20のアミンが挙 げられ、具体的には、メチルアミン、エチル アミン、プロピルアミン、ブチルアミン、シ クロヘキシルアミン、メチルエチルアミン、 ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピ ルアミン、ジブチルアミン、ジシクロヘキシ ルアミン、メチルエチルアミンなどのアルキ ルアミン;ビニルアミン、プロペニルアミン� �シクロヘキセニルアミン、ジビニルアミン� �ジプロペニルアミン、ジシクロヘキセニル� �ミンなどのアルケニルアミン;フェニルアミ� ��、フェニルエチルアミン、フェニルプロピ� ��アミンなどのアリールアルキルアミン;ジフ ェニルアミン、ジナフチルアミンなどのアリ ールアミンが挙げられる。

 エーテル類としては、メチルエーテル、� ��チルエーテル、プロピルエーテル、イソプ� ��ピルエーテル、ブチルエーテル、イソブチ� ��エーテル、n-アミルエーテル、イソアミル� �ーテルなどの脂肪族単一エーテル化合物;メ� ��ルエチルエーテル、メチルプロピルエーテ� ��、メチルイソプロピルエーテル、メチル-n-� ��ミルエーテル、メチルイソアミルエーテル� ��エチルプロピルエーテル、エチルイソプロ� ��ルエーテル、エチルブチルエーテル、エチ� ��イソブチルエーテル、エチル-n-アミルエー� ��ル、エチルイソアミルエーテルなどの脂肪� ��混成エーテル化合物;ビニルエーテル、アリ ルエーテル、メチルビニルエーテル、メチル アリルエーテル、エチルビニルエーテル、エ チルアリルエーテルなどの脂肪族不飽和エー テル化合物;アニソール、フェネトール、フ� �ニルエーテル、ベンジルエーテル、フェニ� �ベンジルエーテル、α-ナフチルエーテル、β -ナフチルエーテルなどの芳香族エーテル化� �物、酸化エチレン、酸化プロピレン、酸化� �リメチレン、テトラヒドロフラン、テトラ� �ドロピラン、ジオキサンなどの環式エーテ� �化合物が挙げられる。

 ホスフィン類としては、炭素数1~20のホスフ ィンが挙げられる。
 具体的には、メチルホスフィン、エチルホ� ��フィン、プロピルホスフィン、ブチルホス� ��ィン、ヘキシルホスフィン、シクロヘキシ� ��ホスフィン、オクチルホスフィンなどのモ� ��炭化水素置換ホスフィン;ジメチルホスフィ ン、ジエチルホスフィン、ジプロピルホスフ ィン、ジブチルホスフィン、ジヘキシルホス フィン、ジシクロヘキシルホスフィン、ジオ クチルホスフィンなどのジ炭化水素置換ホス フィン;トリメチルホスフィン、トリエチル� �スフィン、トリプロピルホスフィン、トリ� �チルホスフィン、トリヘキシルホスフィン� �トリシクロヘキシルホスフィン、トリオク� �ルホスフィンなどのトリ炭化水素置換ホス� �ィンなどのアルキルホスフィンや、ビニル� �スフィン、プロペニルホスフィン、シクロ� �キセニルホスフィンなどのモノアルケニル� �スフィンやホスフィンの水素原子をアルケ� �ルが2個置換したジアルケニルホスフィン;ホ スフィンの水素原子をアルケニルが3個置換� �たトリアルケニルホスフィン;ベンジルホス� ��ィン、フェニルエチルホスフィン、フェニ� ��プロピルホスフィンなどのアリールアルキ� ��ホスフィン;ホスフィンの水素原子をアリー ル又はアルケニルが3個置換したジアリール� �ルキルホスフィン又はアリールジアルキル� �スフィン;フェニルホスフィン、トリルホス� ��ィン、ジメチルフェニルホスフィン、トリ� ��チルフェニルホスフィン、エチルフェニル� ��スフィン、プロピルフェニルホスフィン、� ��フェニルホスフィン、ナフチルホスフィン� ��メチルナフチルホスフィン、アントラセニ� ��ホスフィン、フェナントニルホスフィン;ホ スフィンの水素原子をアルキルアリールが2� �置換したジ(アルキルアリール)ホスフィン;� �スフィンの水素原子をアルキルアリールが3� ��置換したトリ(アルキルアリール)ホスフィ� �などのアリールホスフィンが挙げられる。� �オエーテル類としては、上記のスルフィド� �挙げられる。

 次に、A ¹ 及びA ² は二つの配位子を結合する二価の架橋基であ って、炭素数1~20の炭化水素基、炭素数1~20の� ��ロゲン含有炭化水素基、ケイ素含有基、ゲ� ��マニウム含有基、スズ含有基、-O-、-CO-、-S- 、-SO ₂ -、-Se-、-NR ¹ -、-PR ¹ -、-P(O)R ¹ -、-BR ¹ -又は-AlR ¹ -を示し、R ¹ は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~20の炭� �水素基又は炭素数1~20のハロゲン含有炭化水� ��基を示し、それらは互いに同一でも異なっ� ��いてもよい。qは1~5の整数で〔(Mの原子価)-2� ��を示し、rは0~3の整数を示す。
 このような架橋基のうち、少なくとも一つ� ��炭素数1以上の炭化水素基からなる架橋基で あることが好ましい。
 このような架橋基としては、例えば一般式( a)

(Dは周期律表第14族元素であり、例えば炭素,� ��イ素,ゲルマニウム及びスズが挙げられる。 R ² 及びR ³ はそれぞれ水素原子又は炭素数1~20の炭化水� �基で、それらは互いに同一でも異なってい� �もよく、また互いに結合して環構造を形成� �ていてもよい。eは1~4の整数を示す。)

で表されるものが挙げられ、その具体例とし ては、メチレン基,エチレン基,エチリデン基, プロピリデン基,イソプロピリデン基,シクロ� ��キシリデン基,1,2-シクロヘキシレン基,ビニ� ��デン基(CH ₂ =C=),ジメチルシリレン基,ジフェニルシリレン 基,メチルフェニルシリレン基,ジメチルゲル� ��レン基,ジメチルスタニレン基,テトラメチ� �ジシリレン基,ジフェニルジシリレン基など� ��挙げることができる。これらの中で、エチ� ��ン基,イソプロピリデン基及びジメチルシリ レン基が好適である。

 一般式(I)で表される二重架橋遷移金属化� ��物の具体例としては、(1,2'-ジメチルシリレ� ��)(2,1'-ジメチルシリレン)(3-メチルシクロペ� �タジエニル)(3'-メチルシクロペンタジエニル )ジルコニウムジクロリド,(1,2'-ジメチルシリ� ��ン)(2,1'-イソプロピリデン)(3-メチルシクロ� �ンタジエニル)(3'-メチルシクロペンタジエニ ル)ジルコニウムジクロリド,(1,2'-ジメチルシ� ��レン)(2,1'-エチレン)(3-メチルシクロペンタ� �エニル)(3'-メチルシクロペンタジエニル)ジ� �コニウムジクロリド,(1,2'-エチレン)(2,1'-メチ レン)(3-メチルシクロペンタジエニル)(3'-メチ ルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジク� �リド,(1,2'-エチレン)(2,1'-イソプロピリデン)(3 -メチルシクロペンタジエニル)(3'-メチルシク ロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,( 1,2'-メチレン)(2,1'-メチレン)(3-メチルシクロ� �ンタジエニル)(3'-メチルシクロペンタジエニ ル)ジルコニウムジクロリド,(1,2'-メチレン)(2, 1'-イソプロピリデン)(3-メチルシクロペンタ� �エニル)(3'-メチルシクロペンタジエニル)ジ� �コニウムジクロリド,(1,2'-イソプロピリデン) (2,1'-イソプロピリデン)(3-メチルシクロペン� �ジエニル)(3'-メチルシクロペンタジエニル)� �ルコニウムジクロリド,(1,2'-ジメチルシリレ� ��)(2,1'-ジメチルシリレン)(3,4-ジメチルシクロ ペンタジエニル)(3',4'-ジメチルシクロペンタ� ��エニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2'-ジメ� �ルシリレン)(2,1'-イソプロピリデン)(3,4-ジメ� ��ルシクロペンタジエニル)(3',4'-ジメチルシ� �ロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド, (1,2'-ジメチルシリレン)(2,1'-エチレン)(3,4-ジ� �チルシクロペンタジエニル)(3',4'-ジメチルシ クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリ� �,

(1,2'-エチレン)(2,1'-メチレン)(3,4-ジメチル� �クロペンタジエニル)(3',4'-ジメチルシクロペ ンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2'-� ��チレン)(2,1'-イソプロピリデン)(3,4-ジメチル シクロペンタジエニル)(3',4'-ジメチルシクロ� ��ンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2' -メチレン)(2,1'-メチレン)(3,4-ジメチルシクロ� ��ンタジエニル)(3',4'-ジメチルシクロペンタ� �エニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2'-メチレ ン)(2,1'-イソプロピリデン)(3,4-ジメチルシク� �ペンタジエニル)(3',4'-ジメチルシクロペンタ ジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2'-イソ� ��ロピリデン)(2,1'-イソプロピリデン)(3,4-ジメ チルシクロペンタジエニル)(3',4'-ジメチルシ� ��ロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド ,(1,2'-ジメチルシリレン)(2,1'-ジメチルシリレ� ��)(3-メチル-5-エチルシクロペンタジエニル)(3 '-メチル-5'-エチルシクロペンタジエニル)ジ� �コニウムジクロリド,(1,2'-ジメチルシリレン) (2,1'-ジメチルシリレン)(3-メチル-5-エチルシ� �ロペンタジエニル)(3'-メチル-5'-エチルシク� �ペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1, 2'-ジメチルシリレン)(2,1'-ジメチルシリレン)( 3-メチル-5-イソプロピルシクロペンタジエニ� ��)(3'-メチル-5'-イソプロピルシクロペンタジ� ��ニル)ジルコニウムジクロリド、(1,2'-ジメチ ルシリレン)(2,1'-ジメチルシリレン)(3-メチル- 5-n-ブチルシクロペンタジエニル)(3'-メチル-5' -n-ブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ� �ジクロリド,(1,2'-ジメチルシリレン)(2,1'-ジメ チルシリレン)(3-メチル-5-フェニルシクロペ� �ジエニル)(3'-メチル-5'-フェニルシクロペン� �ジエニル)ジルコニウムジクロリド,

(1,2'-ジメチルシリレン)(2,1'-イソプロピリ� �ン)(3-メチル-5-エチルシクロペンタジエニル) (3'-メチル-5'-エチルシクロペンタジエニル)ジ ルコニウムジクロリド,(1,2'-ジメチルシリレ� �)(2,1'-イソプロピリデン)(3-メチル-5-イソプロ ピルシクロペンタジエニル)(3'-メチル-5'-イソ プロピルシクロペンタジエニル)ジルコニウ� �ジクロリド,(1,2'-ジメチルシリレン)(2,1'-イソ プロピリデン)(3-メチル-5-n-ブチルシクロペン タジエニル)(3'-メチル-5'-n-ブチルシクロペン� ��ジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2'-ジ� �チルシリレン)(2,1'-イソプロピリデン)(3-メチ ル-5-フェニルシクロペンタジエニル)(3'-メチ� ��-5'-フェニルシクロペンジエニル)ジルコニ� �ムジクロリド,(1,2'-ジメチルシリレン)(2,1'-エ チレン)(3-メチル-5-エチルシクロペンタジエ� �ル)(3'-メチル-5'-エチルシクロペンタジエニ� �)ジルコニウムジクロリド,(1,2'-ジメチルシリ レン)(2,1'-エチレン)(3-メチル-5-イソプロピル� ��クロペンタジエニル)(3'-メチル-5'-イソプロ� ��ルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジク ロリド,(1,2'-ジメチルシリレン)(2,1'-エチレン) (3-メチル-5-n-ブチルシクロペンタジエニル)(3' -メチル-5'-n-ブチルシクロペンタジエニル)ジ� ��コニウムジクロリド,(1,2'-ジメチルシリレン )(2,1'-エチレン)(3-メチル-5-フェニルシクロペ� ��タジエニル)(3'-メチル-5'-フェニルシクロペ� ��タジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2'-� �メチルシリレン)(2,1'-メチレン)(3-メチル-5-エ チルシクロペンタジエニル)(3'-メチル-5'-エチ ルシクロペンジエニル)ジルコニウムジクロ� �ド,

(1,2'-ジメチルシリレン)(2,1'-メチレン)(3-メチ� ��-5-イソプロピルシクロペンタジエニル)(3'-� �チル-5'-イソプロピルシクロペンタジエニル) ジルコニウムジクロリド,(1,2'-ジメチルシリ� �ン)(2,1'-メチレン)(3-メチル-5-n-ブチルシクロ� ��ンタジエニル)(3'-メチル-5'-n-ブチルシクロ� �ンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2'- ジメチルシリレン)(2,1'-メチレン)(3-メチル-5-� ��ェニルシクロペンタジエニル)(3'-メチル-5'-� ��ェニルシクロペンタジエニル)ジルコニウム ジクロリド,(1,2'-エチレン)(2,1'-メチレン)(3-メ チル-5-イソプロピルシクロペンタジエニル)(3 '-メチル-5'-イソプロピルシクロペンタジエニ ル)ジルコニウムジクロリド,(1,2'-エチレン)(2, 1'-イソプロピリデン)(3-メチル-5-イソプロピ� �シクロペンタジエニル)(3'-メチル-5'-イソプ� �ピルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジ� ��ロリド,(1,2'-メチレン)(2,1'-メチレン)(3-メチ� ��-5-イソプロピルシクロペンタジエニル)(3'-� �チル-5'-イソプロピルシクロペンタジエニル) ジルコニウムジクロリド,(1,2'-メチレン)(2,1'-� ��ソプロピリデン)(3-メチル-5-イソプロピルシ クロペンタジエニル)(3'-メチル-5'-イソプロピ ルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジク� �リドなど及びこれらの化合物におけるジル� �ニウムをチタン又はハフニウムに置換した� �の、及び後述する一般式(II)で表される化合� ��を挙げることができる。
 また、他の族の金属元素の類似化合物であ� ��てもよい。
 好ましくは周期律表第4族の遷移金属化合物 であり、中でもジルコニウムの化合物が好ま しい。
 上記一般式(I)で表される遷移金属化合物の� ��では、一般式(II)で表される化合物が好まし い。

 上記一般式(II)において、Mは周期律表第3~10� ��の金属元素を示し、A ^1a 及びA ^2a は、それぞれ上記一般式(I)における一般式(a) で表される架橋基を示し、CH ₂ ,CH ₂ CH ₂ ,(CH ₃ ) ₂ C,(CH ₃ ) ₂ C(CH ₃ ) ₂ C,(CH ₃ ) ₂ Si及び(C ₆ H ₅ ) ₂ Siが好ましい。
 A ^1a 及びA ^2a は、互いに同一でも異なっていてもよい。
 R ⁴ ~R ¹³ はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数 1~20の炭化水素基、炭素数1~20のハロゲン含有� ��化水素基、ケイ素含有基又はヘテロ原子含� ��基を示す。
 ハロゲン原子、炭素数1~20の炭化水素基及び ケイ素含有基としては、上記一般式(I)におい て説明したものと同様のものが挙げられる。
 炭素数1~20のハロゲン含有炭化水素基として は、p-フルオロフェニル基、3,5-ジフルオロフ ェニル基、3,4,5-トリフルオロフェニル基、ペ ンタフルオロフェニル基、3,5-ビス(トリフル� ��ロ)フェニル基、フルオロブチル基などが挙 げられる。
 ヘテロ原子含有基としては、炭素数1~20のヘ テロ原子含有基が挙げられ、具体的には、ジ メチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェ ニルアミノ基などの窒素含有基;フェニルス� �フィド基、メチルスルフィド基などの硫黄� �有基;ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホ� ��フィノ基などの燐含有基;メトキシ基、エト キシ基、フェノキシ基などの酸素含有基など が挙げられる。
 なかでも、R ⁴ 及びR ⁵ としてはハロゲン、酸素、ケイ素などのヘテ ロ原子を含有する基が、重合活性が高く好ま しい。
 R ⁶ ~R ¹³ としては、水素原子又は炭素数1~20の炭化水� �基が好ましい。
 X及びYは一般式(I)と同じである。qは1~5の整� ��で〔(Mの原子価)-2〕を示し、rは0~3の整数を� ��す。

 上記一般式(II)で表される二重架橋遷移金 属化合物のうち、両方のインデニル基が同一 である場合、周期律表第4族の遷移金属化合� �としては、(1,2’-ジメチルシリレン)(2,1’-ジ メチルシリレン)ビス(インデニル)ジルコニウ ムジクロリド、(1,2’-ジメチルシリレン)(2,1� �-ジメチルシリレン)ビス(3-メチルインデニル )ジルコニウムジクロリド、(1,2’-ジメチルシ リレン)(2,1’-ジメチルシリレン)ビス(3-エチ� �インデニル)ジルコニウムジクロリド、(1,2’ -ジメチルシリレン)(2,1’-ジメチルシリレン)� ��ス(3-イソプロピルインデニル)ジルコニウム ジクロリド、(1,2’-ジメチルシリレン)(2,1’-� ��メチルシリレン)ビス(3-トリメチルシリルメ チルインデニル)ジルコニウムジクロリド、(1 ,2’-ジメチルシリレン)(2,1’-ジメチルシリレ ン)ビス(3-ブチルインデニル)ジルコニウムジ� ��ロリド、(1,2’-ジメチルシリレン)(2,1’-ジ� �チルシリレン)ビス(4-メチルインデニル)ジル コニウムジクロリド、(1,2’-ジメチルシリレ� ��)(2,1’-ジメチルシリレン)ビス(4,7-ジメチル� ��ンデニル)ジルコニウムジクロリド、(1,2’-� ��メチルシリレン)(2,1’-ジメチルシリレン)ビ ス(5,6-ジメチルインデニル)ジルコニウムジク ロリド、(1,2’-ジメチルシリレン)(2,1’-ジメ� ��ルシリレン)ビス(3-エトキシメチルインデニ ル)ジルコニウムジクロリド、(1,2’-ジメチル シリレン)(2,1’-ジメチルシリレン)ビス(3-エ� �キシエチルインデニル)ジルコニウムジクロ� ��ド、

(1,2’-ジメチルシリレン)(2,1’-ジメチルシ� ��レン)ビス(3-メトキシメチルインデニル)ジ� �コニウムジクロリド、(1,2’-ジメチルシリレ ン)(2,1’-ジメチルシリレン)ビス(3-メトキシ� �チルインデニル)ジルコニウムジクロリド、( 1,2’-フェニルメチルシリレン)(2,1’-フェニ� �メチルシリレン)ビス(インデニル)ジルコニ� �ムジクロリド、(1,2’-フェニルメチルシリレ ン)(2,1’-フェニルメチルシリレン)ビス(3-メ� �ルインデニル)ジルコニウムジクロリド、(1,2 ’-ジメチルシリレン)(2,1’-イソプロピリデ� �)ビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド� �(1,2’-ジメチルシリレン)(2,1’-イソプロピリ デン)ビス(3-メチルインデニル)ジルコニウム� ��クロリド、(1,2’-ジメチルシリレン)(2,1’-� �ソプロピリデン)ビス(3-イソプロピルインデ� ��ル)ジルコニウムジクロリド、(1,2’-ジメチ� ��シリレン)(2,1’-イソプロピリデン)ビス(3-n-� ��チルインデニル)ジルコニウムジクロリド、 (1,2’-ジメチルシリレン)(2,1’-イソプロピリ� ��ン)ビス(3-トリメチルシリルメチルインデニ ル)ジルコニウムジクロリド、(1,2’-ジメチル シリレン)(2,1’-イソプロピリデン)ビス(3-ト� �メチルシリルインデニル)ジルコニウムジク� ��リド、(1,2’-ジメチルシリレン)(2,1’-イソ� �ロピリデン)ビス(3-フェニルインデニル)ジル コニウムジクロリド、(1,2’-ジメチルシリレ� ��)(2,1’-メチレン)ビス(インデニル)ジルコニ� ��ムジクロリド、

 (1,2’-ジメチルシリレン)(2,1’-メチレン)ビ� ��(3-メチルインデニル)ジルコニウムジクロリ ド、(1,2’-ジメチルシリレン)(2,1’-メチレン) ビス(3-イソプロピルインデニル)ジルコニウ� �ジクロリド、(1,2’-ジメチルシリレン)(2,1’- メチレン)ビス(3-n-ブチルインデニル)ジルコ� �ウムジクロリド、(1,2’-ジメチルシリレン)(2 ,1’-メチレン)ビス(3-トリメチルシリルメチ� �インデニル)ジルコニウムジクロリド、(1,2’ -ジメチルシリレン)(2,1’-メチレン)ビス(3-ト� ��メチルシリルインデニル)ジルコニウムジク ロリド、(1,2’-ジフェニルシリレン)(2,1’-メ� ��レン)ビス(インデニル)ジルコニウムジクロ� ��ド、(1,2’-ジフェニルシリレン)(2,1’-メチ� �ン)ビス(3-メチルインデニル)ジルコニウムジ クロリド、(1,2’-ジフェニルシリレン)(2,1’-� ��チレン)ビス(3-n-ブチルインデニル)ジルコニ ウムジクロリド、(1,2’-ジフェニルシリレン) (2,1’-メチレン)ビス(3-トリメチルシリルメチ ルインデニル)ジルコニウムジクロリド、(1,2� ��-ジフェニルシリレン)(2,1’-メチレン)ビス(3 -トリメチルシリルインデニル)ジルコニウム� ��クロリドなど、及びこれらの化合物におけ� ��ジルコニウムをチタン又はハフニウムに置� ��したものを挙げることができるがこれらに� ��定されるものではない。
 また、第4族以外の他の族の金属元素の類似 化合物であってもよい。
 好ましくは周期律表第4族の遷移金属化合物 であり、中でもジルコニウムの化合物が好ま しい。

 一方、上記一般式(II)で表される二重架橋遷 移金属化合物のうち、R ⁵ が水素原子で、R ⁴ が水素原子でない場合、周期律表第4族の遷� �金属化合物としては、(1,2’-ジメチルシリレ ン)(2,1’-ジメチルシリレン)(インデニル)(3-ト リメチルシリルメチルインデニル)ジルコニ� �ムジクロリド、(1,2’-ジメチルシリレン)(2,1� ��-ジメチルシリレン)(インデニル)(3-メチルイ ンデニル)ジルコニウムジクロリド、(1,2’-ジ メチルシリレン)(2,1’-ジメチルシリレン)(イ� ��デニル)(3-トリメチルシリルインデニル)ジ� �コニウムジクロリド(1,2’-ジメチルシリレン )(2,1’-ジメチルシリレン)(インデニル)(3-フェ ニルインデニル)ジルコニウムジクロリド、(1 ,2’-ジメチルシリレン)(2,1’-ジメチルシリレ ン)(インデニル)(3-ベンジルインデニル)ジル� �ニウムジクロリド、(1,2’-ジメチルシリレン )(2,1’-ジメチルシリレン)(インデニル)(3-ネオ ペンチルインデニル)ジルコニウムジクロリ� �、(1,2’-ジメチルシリレン)(2,1’-ジメチルシ リレン)(インデニル)(3-フェネチルインデニル )ジルコニウムジクロリド、(1,2’-エチレン)(2 ,1’-エチレン)(インデニル)(3-トリメチルシリ ルメチルインデニル)ジルコニウムジクロリ� �、(1,2’-エチレン)(2,1’-エチレン)(インデニ� ��)(3-メチルインデニル)ジルコニウムジクロ� �ド、(1,2’-エチレン)(2,1’-エチレン)(インデ� ��ル)(3-トリメチルシリルインデニル)ジルコ� �ウムジクロリド、(1,2’-エチレン)(2,1’-エチ レン)(インデニル)(3-フェニルインデニル)ジ� �コニウムジクロリド、(1,2’-エチレン)(2,1’- エチレン)(インデニル)(3-ベンジルインデニル )ジルコニウムジクロリド、(1,2’-エチレン)(2 ,1’-エチレン)(インデニル)(3-ネオペンチルイ ンデニル)ジルコニウムジクロリド、(1,2’-エ チレン)(2,1’-エチレン)(インデニル)(3-フェネ チルインデニル)ジルコニウムジクロリドな� �、及びこれらの化合物におけるジルコニウ� �をチタン又はハフニウムに置換したものを� �げることができるがこれらに限定されるも� �ではない。
 また、第4族以外の他の族の金属元素の類似 化合物であってもよい。
 好ましくは周期律表第4族の遷移金属化合物 であり、中でもジルコニウムの化合物が好ま しい。

 本発明で用いる触媒を構成する(B)遷移金属� ��合物と反応してイオン性の錯体を形成しう� ��化合物としては、比較的低分子量の高純度� ��端不飽和オレフィン系重合体が得られる点� ��及び触媒高活性の点でボレート化合物が好� ��しい。
 ボレート化合物としては、テトラフェニル� ��ウ酸トリエチルアンモニウム,テトラフェニ ルホウ酸トリ-n-ブチルアンモニウム,テトラ� �ェニルホウ酸トリメチルアンモニウム,テト� ��フェニルホウ酸テトラエチルアンモニウム, テトラフェニルホウ酸メチル(トリ-n-ブチル)� ��ンモニウム,テトラフェニルホウ酸ベンジル (トリ-n-ブチル)アンモニウム,テトラフェニル ホウ酸ジメチルジフェニルアンモニウム,テ� �ラフェニルホウ酸トリフェニル(メチル)アン モニウム,テトラフェニルホウ酸トリメチル� �ニリニウム,テトラフェニルホウ酸メチルピ� ��ジニウム,テトラフェニルホウ酸ベンジルピ リジニウム,テトラフェニルホウ酸メチル(2-� �アノピリジニウム),テトラキス(ペンタフル� �ロフェニル)ホウ酸トリエチルアンモニウム, テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸� ��リ-n-ブチルアンモニウム,テトラキス(ペン� �フルオロフェニル)ホウ酸トリフェニルアン� ��ニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニ� �)ホウ酸テトラ-n-ブチルアンモニウム,テトラ キス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸テトラ� ��チルアンモニウム,テトラキス(ペンタフル� �ロフェニル)ホウ酸ベンジル(トリ-n-ブチル)� �ンモニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェ ニル)ホウ酸メチルジフェニルアンモニウム,� ��トラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸� �リフェニル(メチル)アンモニウム,テトラキ� �(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸メチルアニ リニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニ� ��)ホウ酸ジメチルアニリニウム,テトラキス(� ��ンタフルオロフェニル)ホウ酸トリメチルア ニリニウム,

 テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホ� �酸メチルピリジニウム,テトラキス(ペンタフ ルオロフェニル)ホウ酸ベンジルピリジニウ� �,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ� �メチル(2-シアノピリジニウム),テトラキス(� �ンタフルオロフェニル)ホウ酸ベンジル(2-シ� ��ノピリジニウム),テトラキス(ペンタフルオ� ��フェニル)ホウ酸メチル(4-シアノピリジニウ ム) ,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホ ウ酸トリフェニルホスホニウム,テトラキス[� ��ス(3,5-ジトリフルオロメチル)フェニル]ホウ 酸ジメチルアニリニウム,テトラフェニルホ� �酸フェロセニウム,テトラフェニルホウ酸銀, テトラフェニルホウ酸トリチル,テトラフェ� �ルホウ酸テトラフェニルポルフィリンマン� �ン,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホ� �酸トリフェニルカルベニウム,テトラキス(パ ーフルオロフェニル)ホウ酸メチルアニリニ� �ム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホ� �酸フェロセニウム,テトラキス(ペンタフルオ ロフェニル)ホウ酸(1,1'-ジメチルフェロセニ� �ム),テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホ� ��酸デカメチルフェロセニウム,テトラキス(� �ンタフルオロフェニル)ホウ酸銀、テトラキ� ��(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸トリチル,� ��トラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸� �チウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル )ホウ酸ナトリウム,テトラキス(ペンタフルオ ロフェニル)ホウ酸テトラフェニルポルフィ� �ンマンガン,テトラフルオロホウ酸銀などを� ��げることができる。これらは一種を単独で� ��は二種以上を組み合わせて用いることがで� ��る。後述する水素と遷移金属化合物とのモ� ��比(水素/遷移金属化合物)が0である場合、テ トラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸ジ� ��チルアニリニウム、テトラキス(ペンタフル オロフェニル)ホウ酸トリフェニルカルベニ� �ム及びテトラキス(パーフルオロフェニル)ホ ウ酸メチルアニリニウムなどが好ましい。

 本発明の製造方法で用いる触媒は、上記(A)� ��分と(B)成分との組み合わせでもよく、上記( A)成分及び(B)成分に加えて(C)成分として有機� ��ルミニウム化合物を用いてもよい。
 (C)成分の有機アルミニウム化合物としては� ��トリメチルアルミニウム、トリエチルアル� ��ニウム、トリイソプロピルアルミニウム、� ��リイソブチルアルミニウム、トリノルマル� ��キシルアルミニウム、トリノルマルオクチ� ��アルミニウム、ジメチルアルミニウムクロ� ��ド、ジエチルアルミニウムクロリド、メチ� ��アルミニウムジクロリド、エチルアルミニ� ��ムジクロリド、ジメチルアルミニウムフル� ��リド、ジイソブチルアルミニウムヒドリド� ��ジエチルアルミニウムヒドリド及びエチル� ��ルミニウムセスキクロリドなどが挙げられ� ��。
 これらの有機アルミニウム化合物は一種用� ��てもよく、二種以上を組み合わせて用いて� ��よい。
 これらのうち、本発明においては、トリメ� ��ルアルミニウム、トリエチルアルミニウム� ��トリイソプロピルアルミニウム、トリイソ� ��チルアルミニウム、トリノルマルへキシル� ��ルミニウム及びトリノルマルオクチルアル� ��ニウムなどのトリアルキルアルミニウムが� ��ましく、トリイソブチルアルミニウム、ト� ��ノルマルへキシルアルミニウム及びトリノ� ��マルオクチルアルミニウムがより好ましい� ��

 (A)成分の使用量は、通常0.1×10 ^-6 ~1.5×10 ^-5 モル/L、好ましくは0.15×10 ^-6 ~1.3×10 ^-5 モル/L、より好ましくは0.2×10 ^-6 ~1.2×10 ^-5 モル/L、特に好ましくは0.3×10 ^-6 ~1.0×10 ^-5 モル/Lである。
 (A)成分の使用量が0.1×10 ^-6 モル/L以上であると、触媒活性が十分に発現� ��れ、1.5×10 ^-5 モル/L以下であると、重合熱を容易に除去す� ��ことができる。
 (A)成分と(B)成分との使用割合(A)/(B)は、モル 比で好ましくは10/1~1/100、より好ましくは2/1~1 /10である。
 (A)/(B)が10/1~1/100の範囲にあると、触媒とし� �の効果が得られると共に、単位質量ポリマ� �当たりの触媒コストを抑えることができる� �
 また、目的とする反応性ポリオレフィン中� ��ホウ素が多量に存在するおそれがない。
 (A)成分と(C)成分との使用割合(A)/(C)は、モル 比で好ましくは1/1~1/10000、より好ましくは1/5~ 1/2000、さらに好ましくは1/10~1/1000である。
 (C)成分を用いることにより、遷移金属当た� ��の重合活性を向上させることができる。(A)/ (C)が1/1~1/10000の範囲にあると、(C)成分の添加� ��果と経済性のバランスが良好であり、また� ��目的とする反応性ポリオレフィン中にアル� ��ニウムが多量に存在するおそれがない。
 本発明の製造方法においては、上述した(A)� ��分及び(B)成分、あるいは(A)成分、(B)成分及� ��(C)成分を用いて予備接触を行うこともでき� ��。
 予備接触は、(A)成分に、例えば(B)成分を接� ��させることにより行うことができるが、そ� ��方法に特に制限はなく、公知の方法を用い� ��ことができる。
 このような予備接触により触媒活性の向上� ��、助触媒である(B)成分の使用割合の低減な� ��、触媒コストの低減に効果的である。

 本発明の反応性ポリオレフィンは、上記触� ��残渣が少ないものが好ましい。
 特に、遷移金属の含有量が5質量ppm以下、ア ルミニウムの含有量が300質量ppm以下、ホウ素 の含有量が5質量ppm以下のものである。
 遷移金属としては、チタン、ジルコニウム� ��びハフニウムなどが挙げられ、これらの合� ��量が5質量ppm以下である。
 アルミニウムの含有量は、好ましくは280質� ��ppm以下である。
 これらの金属成分は、ICP(高周波誘導結合プ ラズマ分光分析)測定装置により測定するこ� �ができる。
 触媒残渣が少ない反応性ポリオレフィンを� ��いると、得られるグラフト共重合体が高純� ��であり、好ましい。

(主鎖用単量体)
 本発明で使用するグラフト共重合体の主鎖� ��、エンジニアリングプラスチックと相互作� ��する官能基を有する単量体単位を1~100質量%� ��有する。当該主鎖は、上記官能基を含有す� ��単量体を用いて重合反応を行うことで形成� ��ることができる。

 一般に官能基を有する単量体は、その官� ��基の存在により反応性が大きく異なる。し� ��がって、本発明において所望の性質、長さ� ��有する主鎖のグラフト共重合体を製造する� ��めには適切な単量体または単量体の組み合� ��せを用いることが好ましく、例えばマレイ� ��酸等の二塩基酸化合物を単量体として使用� ��る場合は、以下のように特定の組み合わせ� ��使用することが好ましい。

 二塩基酸化合物を使用しない場合は式(III )

〔式中、R ¹ は、水素原子、ハロゲン原子、または炭素数 1~12の炭化水素基を示す。炭素数1~12の炭化水� ��基としては、アルキル基、アリール基、ア� ��ルキル基、アリールアルキル基が挙げられ� ��。R ² は、式(IV)~式(VII)

で表されるいずれかの基である。また、R ³ は水素原子、炭素数1~12の炭化水素基、また� �酸素原子、窒素原子および珪素原子のいず� �かの原子を含む炭素数1~12の基を示し、R ⁴ は水素原子または炭素数1~12の炭化水素基を� �し、R ⁵ は水素原子、炭素数1~12の炭化水素基、また� �エポキシ基、アミノ基、イソシアナート基� �水酸基およびカルボキシル基のいずれかの� �を有する炭素数1~12の基を示す。nは0~5の整数 である。〕
で表される単量体が好ましい。
 なお、これらの一種または二種以上を用い� ��重合することができる。

 特に、エンジニアリングプラスチックと� ��有結合を形成することができることから、� ��酸基、エポキシ基、アミノ基、イソシアナ� ��ト基およびカルボキシル基のいずれかの官� ��基を有する単量体が好ましい。

 単量体の具体例としては、以下の化合物[ I]~[IV]が挙げられる。

[I]アクリル酸及びその誘導体
(1)アクリル酸
(2)アクリル酸メチル,アクリル酸エチル,アク� ��ル酸ブチル,アクリル酸ノルマルオクチル、 アクリル酸2-エチルヘキシルなどのアクリル� ��エステル類;ポリエチレングリコールモノア クリレート、ポリエチレングリコールポリプ ロピレングリコールアクリレート、ポリ(エ� �レングリコール-n-テトラメチレングリコー� �)モノアクリレート、プロピレングリコール� ��リブチレングリコールモノアクリレート、� ��リプロピレングリコールモノアクリレート� ��どの分子量30000以下の長鎖ポリアルキレン� �グリコール類
(3)アクリル酸ナトリウム、アクリル酸カリウ ム、アクリル酸マグネシウム、アクリル酸カ ルシウムなどのアクリル酸と典型金属元素か らなるアクリル酸金属塩
(4)エステル残基に酸素、窒素、硫黄、珪素原 子を含むアクリル酸エステル類、例えば、ア クリル酸グリシジル、アクリル酸2-ヒドロキ� ��エチル、アクリル酸2-ヒドロキシプロピル� �2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルアクリレ ート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、ア� ��リロイルオキシエチルイソシアナート、メ� ��クリロイルオキシエチルイソシアナート、3 -アクリロキシプロピルトリメトキシシラン� �2-(2-メタクリロイルオキシエチルオキシ)エ� �ルイソシアネート、3-アクリロキシプロピル トリエトキシシランなどの官能基を有するア クリル酸エステル類;ポリエチレングリコー� �モノアクリレート、ポリエチレングリコー� �ポリプロピレングリコールアクリレート、� �リ(エチレングリコール-n-テトラメチレング� ��コール)モノアクリレート、プロピレングリ コールポリブチレングリコールモノアクリレ ート、ポリプロピレングリコールモノアクリ レートなどの水酸基を有する分子量30000以下� ��長鎖ポリアルキレングリコール類;水酸基を 含むアクリル酸エステルと多価イソシアネー ト化合物の混合物、たとえば、水酸基を含む アクリル酸エステルとしてアクリル酸2-ヒド� ��キシエチル、アクリル酸2-ヒドロキシプロ� �ル、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルアク リレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート� ��多価イソシアネート化合物として、フェニ� ��ンジイソシアネート、イソホロンジイソシ� ��ネート、4,4’-メチレンビスフェニルイソシ アネート、4,4’-メチレンビスシクロへキシ� �イソシアネート
(5)アクリルアミド
(6)置換基に酸素、窒素、硫黄、珪素原子を含 むN-置換アクリルアミド、例えば、N-メチル� �クリルアミド、N-エチルアクリルアミド、N-� ��ソプロピルアクリルアミド、N-シクロへキ� �ルアクリルアミド、N,N-ジメチルアクリルア� ��ド、N,N-ジエチルアクリルアミド、N,N-ジブ� �ルアクリルアミド、N,N-ジシクロへキシルア� ��リルアミド、N-(2-ヒドロキシエチル)-アクリ ルアミド、N-(2-ヒドロキシプロピル)-アクリ� �アミド、N,N-ジメチルアミノエチルアクリア� ��ド、N-メチロールアクリルアミドなどのN-置 換アクリルアミド
(7)アクリロニトリル

[II]メタアクリル酸及びアクリル酸のα-アル� �ル置換体(以下、これらを合わせて「メタア� ��リル酸類」と省略する場合がある。)、並び にそれらの誘導体
 上記[I]の単量体のα位にメチル基などのア� �キル基(好ましくは、炭素数6以下のアルキル 基)を有する単量体

[III]ビニルエステル及びその誘導体または� ��ルコキシビニルシラン、例えば、酢酸ビニ� ��、プロピオン酸ビニル、イソラク酸ビニル� ��ピバリン酸ビニル、ウンデカン酸ビニル、� ��ルミチン酸ビニルなどのビニルエステル及� ��その誘導体;トリメトキシビニルシランやト リエトキシビニルシランなどのアルコキシビ ニルシラン

[IV]スチレン、更には、α-メチルスチレン� �p-メチルスチレン、p-エチルスチレン、p-プ� �ピルスチレン、p-イソプロピルスチレン、p-� ��チルスチレン、p-tert-ブチルスチレン、p-フ� ��ニルスチレン、o-メチルスチレン、o-エチル スチレン、o-プロピルスチレン、o-イソプロ� �ルスチレン、m-メチルスチレン、m-エチルス� ��レン、m-イソプロピルスチレン、m-ブチルス チレン、メシチルスチレン、2,4-ジメチルス� �レン、2,5-ジメチルスチレン、3,5-ジメチルス チレンなどのアルキルスチレン類;p-メトキシ スチレン、o-メトキシスチレン、m-メトキシ� �チレンなどのアルコキシスチレン類;p-クロ� �スチレン、m-クロロスチレン、o-ブロモスチ� ��ン、p-フルオロスチレン、m-フルオロスチレ ン、o-フルオロスチレン、o-メチル-p-フルオ� �スチレンなどのハロゲン化スチレン類;トリ� ��チルシリルスチレン、ビニル安息香酸など� ��スチレン及びその誘導体

 上記化合物の中で、エンジニアリングプ� ��スチックと共有結合を形成することができ� ��ことから、水酸基、エポキシ基、アミノ基� ��イソシアナート基およびカルボキシル基の� ��ずれかの官能基を有する単量体が好ましい� ��

 好ましい単量体及び好ましい単量体の組合� ��としては以下のものが挙げられる。
 [I]アクリル酸及びその誘導体としては、上� ��の化合物が全て好ましく、特に、アクリル� ��金属塩を除く全ての化合物が好ましい。
 [II]メタアクリル酸類及びその誘導体のみで もグラフト重合は可能であるが、[I]アクリル 酸及びその誘導体/[II]メタアクリル酸類及び� ��の誘導体を組合せることにより、[II]メタア クリル酸類及びその誘導体のグラフト重合量 が上昇し好ましい。
 特に、アクリル酸、アクリル酸エステル類� ��メタアクリル酸、メタアクリル酸エステル� ��の組合せが好ましい。
 [I]アクリル酸及びその誘導体/[II]メタアク� �ル酸類及びその誘導体の好ましいモル比は� �[I]/[II](モル比)が0.1~2、好ましくは0.2~1.5、よ� ��好ましくは0.3~1.2、更に好ましくは0.5~1.0の� �囲の範囲である。
 [I]/[II](モル比)が0.1以上であると、[II]メタ� �クリル酸類及びその誘導体のグラフト重合� �が上昇し、2以下であるとグラフト重合に関� ��しない[I]アクリル酸及びその誘導体/[II]メ� �アクリル酸類及びその誘導体からなる共重� �体が副生しないため好ましい。
 また、スチレン及びその誘導体のみでもグ� ��フト重合は可能であるが、[I]アクリル酸及� ��その誘導体/[VI]スチレン及びその誘導体を� �合わせることにより、スチレン及びその誘� �体のグラフト重合量が上昇し好ましい。
 特に、アクリル酸、アクリル酸エステル類� ��スチレン及びその誘導体の組合せが好まし� ��。
 [I]アクリル酸及びその誘導体/[VI]スチレン� �びその誘導体の好ましいモル比は、[I]/[VI](� �ル比)が0.1~2、好ましくは0.2~1.5、より好まし� ��は0.3~1.2、更に好ましくは0.5~1.0の範囲の範� �である。
 [I]/[VI](モル比)が0.1以上であると[VI]スチレ� �及びその誘導体のグラフト重合量が上昇し� �2以下であるとグラフト重合に関与しない[I]� ��クリル酸誘導体及びその/[VI]スチレン及び� �の誘導体からなる共重合体が副生しないた� �好ましい。

 二塩基酸化合物を使用する場合は、下記A 群から選択される一種以上と下記B群から選� �される一種以上の単量体を併用することが� �ましい。

A群
[V]無水マレイン酸及びその置換体
[VI]マレイン酸及びそのエステル
[VII]マレイミド及びその置換体
B群
[I]アクリル酸及びその誘導体
[II]メタアクリル酸類及びその誘導体
[III]ビニルエステル及びその誘導体またはア� ��コキシビニルシラン
[IV]スチレン及びその誘導体
[VIII]α-オレフィン
 なお、[I]、[II]、[III]及び[IV]で示される化合 物は上記のとおりである。

 すなわち、
[V]無水マレイン酸、メチル無水マレイン酸、 ジメチル無水マレイン酸、フェニル無水マレ イン酸、ジフェニル無水マレイン酸などの無 水マレイン酸及びその置換体
[VI]マレイン酸、メチルマレイン酸、マレイ� �酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイ� �酸ジブチル、マレイン酸モノメチル、など� �レイン酸及びそのエステル
[VII]マレイミド、N-アルキル置換マレイミド� �N-メチルマレイミド、N-エチルマレイミド、N -フェニルマレイミドなどのマレイミド及び� �の置換体
[VIII]エチレン、プロピレン、1-ブテン、1-へ� �セン、1-ヘプテン、1-オクテン、1-デセン、1- ウンデセン、1-ドデセン、1-トリデセン、1-テ トラデセン、1-ペンタデセン、1-ヘキサデセ� �、1-ヘプタデセン、1-オクタデセン、1-ノナ� �セン、1-エイコセンなどの炭素数2~28のα-オ� �フィン
 上記A群の単量体は二重結合の電子密度が小 さいため、同種の単量体同士が重合しにくい 単量体である。したがって、本発明において はB群の単量体と併用して重合することで、A� ��の単量体の含有量を向上させる。また、本� ��明においては、A群の単量体を使用すること で、反応性ポリオレフィンの反応性を高める ことができるため、効率よくグラフト共重合 体を製造できるという効果も得られる。
 また、[VIII]炭素数2~28のα-オレフィンは、グ ラフト重合温度とその沸点の関係を考慮して 選択される。
 溶融グラフト重合では、温度が高いほど高� ��点のα-オレフィンを用いるほうが反応操作� ��、取り扱いが容易である。
 また、溶媒を用いるグラフト重合では、ガ� ��状から高沸点のα-オレフィンまで使用可能� ��ある。

 上記A群の単量体の中で、好ましいものは 無水マレイン酸である。上記B群の単量体の� �で好ましいものは、水酸基、エポキシ基、� �ミノ基、イソシアナート基およびカルボキ� �ル基のいずれかの官能基を有する単量体で� �り、エポキシ基、イソシアナート基および� �ルボキシル基のいずれかの官能基を有する� �量体がより好ましい。

 A群の化合物とB群の化合物の組合せは、A群� ��化合物/B群の化合物(モル比)は、通常、0.1~2� ��度、好ましくは0.5~1.5、より好ましくは0.8~1. 2、更に好ましくは0.9~1.1の範囲である。
 モル比が0.1以上であると、A群の化合物のグ ラフト重合量が上昇し、2以下であるとグラ� �ト重合に関与しないA群の化合物/B群の化合� �からなる共重合体が副生せず、好ましい。
 A群とB群の化合物の組合せは、A群の[V]無水� ��レイン酸及びその置換体とB群の化合物から なる組合せが好ましく、A群の[V]無水マレイ� �酸とB群の[I]アクリル酸及びその誘導体、[III ]ビニルエステル及びその誘導体またはアル� �キシビニルシラン、[VIII]α-オレフィンとの� �合せがより好ましい。

 本発明のグラフト共重合に用いられるラジ� ��ル開始剤としては、特に制限はなく、従来� ��知のラジカル開始剤、例えば、各種有機過� ��化物、アゾ系化合物などの中から適宜選択� ��て用いることができ、両化合物はともに好� ��なラジカル開始剤である。
 有機過酸化物としては、例えば、ジベンゾ� ��ルパーオキシド,ジ-8,5,5-トリメチルヘキサ� �イルパーオキシド,ジラウロイルパーオキシ� ��,ジデカノイルパーオキシド,ジ(2,4-ジクロロ ベンゾイル)パーオキシドなどのジアシルパ� �オキシド類、t-ブチルヒドロパーオキシド,� �ュメンヒドロパーオキシド,ジイソプロピル� ��ンゼンヒドロパーオキシド,2,5-ジメチルヘ� �サン-2,5-ジヒドロパーオキシドなどのヒドロ パーオキシド類、ジ-t-ブチルパーオキシド,� �クミルパーオキシド,2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブ� ��ルパーオキシ)ヘキサン,2,5-ジメチル-2,5-ジ(t -ブチルパーオキシ)ヘキシン-3、α,α’ビス(t- ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン� �どのジアルキルパーオキシド類、1,1-ビス-t-� ��チルパーオキシ-3,3,5-トリメチルシクロヘキ サン,2,2-ビス(t-ブチルパーオキシ)ブタンなど のパーオキシケタール類、t-ブチルパーオキ� ��オクトエート,t-ブチルパーオキシピバレー� ��,t-ブチルパーオキシネオデカノエート,t-ブ� ��ルパーオキシベンゾエートなどのアルキル� ��ーエステル類、ジ-2-エチルヘキシルパーオ� ��シジカーボネート,ジイソプロピルパーオキ シジカーボネート,ジ-sec-ブチルパーオキシジ カーボネート,t-ブチルパーオキシイソプロピ ルカーボネートなどのパーオキシカーボネー ト類などが挙げられ、これらの中で、ジアル キルパーオキシド類が好ましい。
 アゾ系化合物としては、アゾビスイソブチ� ��ニトリル、アゾビスイソバレロニトリルな� ��が挙げられる。
 ラジカル開始剤は、一種を単独で用いても� ��く、二種以上を組み合わせて用いてもよい� ��

 グラフト共重合反応におけるラジカル開始� ��の使用量としては、特に制限はなく、グラ� ��ト共重合体又は該共重合体を含む熱可塑性� ��脂組成物の所望物性に応じて適宜選定され� ��。
 ラジカル開始剤は、反応性ポリオレフィン1 00質量部に対し、0.001~10質量部、好ましくは0. 005~5質量部の範囲で用いられる。

 上記の主鎖を形成するための単量体の使� ��量は目的に合わせて適宜決定することがで� ��るが、反応性ポリオレフィン100質量部に対� ��て、0.2~300質量部の範囲で選定される。その 使用量は、好ましくは1~250質量部、より好ま� ��くは5~200質量部、更に好ましくは10~180質量� �の範囲である。使用量が0.2質量部以上であ� �と、グラフト重合体における共重合する単� �体量が上昇し、相溶化などの機能を発現し� �く、300質量以下であるとグラフト反応に関� �しない重合体が副生せず好ましい。

 グラフト重合方法としては、特に制限はな� ��が、例えば、反応性ポリオレフィン、上記� ��単量体及びラジカル開始剤とを、ロールミ� ��、バンバリーミキサー、押出機などを用い� ��溶融混練して反応させることにより、グラ� ��ト共重合体を製造することができる。反応� ��件としては、60~140℃の温度で、0.01~0.5時間� �挙げられる。
 また、ブタン、ペンタン、ヘキサン、シク� ��ヘキサン、トルエンなどの炭化水素系溶剤� ��クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリ� ��ロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素系� ��剤、液化α-オレフィンなどの適当な有機溶� ��中、あるいは無溶媒の条件で、グラフト共� ��合体を製造することもできる。反応条件と� ��ては、40~140℃、好ましくは50~140℃、より好� ��しくは50~100℃で、0.1~10時間が挙げられる。
 通常用いられる高温条件でグラフト重合を� ��った場合、反応性ポリオレフィンの分解に� ��る分子量や粘度の低下や、架橋反応などに� ��るゲルの発生が生じ易い。しかしながら、� ��記条件は、比較的低温であり、分子量や粘� ��の低下がなく、架橋反応などの副反応も抑� ��される。

 本発明のグラフト共重合はルイス酸存在下� ��行ってもよく、ルイス酸としては、下記の� ��合物が挙げられる。
(1)周期律表2族~4族元素のハロゲン化物(塩素� �臭素、フッ素、ヨウ素)、アルキル化物(炭素 数1~20の炭化水素基)、ハロゲン化アルキル物
(2)アルミニウム、硼素、亜鉛、スズ、マグネ シウム、カルシウム原子からなるルイス酸
 ルイス酸の具体例としては、塩化マグネシ� ��ム、塩化カルシゥム、塩化亜鉛、三塩化硼� ��、三塩化アルミニウム、三塩化ガリウム、� ��塩化珪素、四塩化珪素、及び塩素原子を臭� ��原子、フッ素原子に変換した化合物、ブチ� ��エチルマグネシウム、ジエチル亜鉛、トリ� ��チルアルミニウム、トリエチルアルミニウ� ��、トリイソブチルアルミニウム、トリノル� ��ルへキシルアルミニウム、トリメチル硼素� ��トリエチル硼素、トリエチルガリウム、ト� ��メチルガリウム、ジエチルアルミニウムモ� ��クロリド、エチルアルミニウムジクロリド� ��エチルアルミニウムセスキクロリドが挙げ� ��れ、中でも亜鉛化合物、アルミニウム化合� ��、硼素化合物が好ましい。

 グラフト重合反応におけるルイス酸の使用� ��としては、ルイス酸/単量体(モル/モル)が0.0 1~1、好ましくは0.05~1、より好ましくは0.1~0.5� �ある。ここで上記単量体とは、上記主鎖用� �量体として説明した、式(III)で表される化合 物または単量体[I]~[VIII]から選ばれる単量体� �意味する。
 ルイス酸/単量体(モル/モル)が0.01以上であ� �と、グラフト率が高く、1以下であると脱灰� ��よるルイス酸残渣の除去が不必要なため、� ��色がないなどの理由で好ましい。
 ルイス酸は、ラジカル開始剤を添加する前� ��添加し、グラフト重合反応を行うか、予め� ��量体[I]~[VIII]とルイス酸を接触させたものを 用いることによりグラフト重合反応を行う。

[エンジニアリングプラスチック]
 本発明で用いるエンジニアリングプラスチ� ��クとしては、上記官能基Iと相互作用する官 能基(官能基II)を有するものが使用される。� �能基IIとしては、エンジニアリングプラスチ ック中の末端官能基や、変性処理をして得ら れた官能基を利用することができる。

 エンジニアリングプラスチックとしては� ��ポリアミド、ポリアセタール、ポリカーボ� ��ート、ポリエステル、ポリフェニレンエー� ��ル、シンジオタクチックポリスチレン、ポ� ��フェニレンスルフィド等が挙げられる。以� ��において具体的に説明する。

(ポリアミド)
 ポリアミドは主鎖中にアミド結合を有する� ��合体であり、通常主鎖末端にアミノ基やカ� ��ボキシル基を有しており、これらが末端官� ��基として機能する。分子量調節剤またはモ� ��カルボン酸等の添加によりアミノ基やカル� ��キシル基の含有量が低下する場合があるが� ��これらの基を有する限りグラフト共重合体� ��反応し共有結合を形成することができる。� ��ミノ基又はカルボキシル基の濃度としては1 0ミリモル/kgであることが好ましく、より好� �しくは30ミリモル/kg以上である。アミノ基、 カルボキシル基の定量においては、「新版 � ��分子分析ハンドブック」日本化学会、高分� ��分析研究懇談会編集ページ704に記載の方法� ��利用することができる。

 ポリアミドの好ましい数平均分子量は5,00 0~100,000であり、より好ましくは10,000~30,000で� �る。また、メルトインデックスで表す分子� �の指標はASTM D1238Gによる230~275℃の決められ� ��温度で測定した値が0.5~200g/10minの範囲であ� �。

 ポリアミドの具体例としては、ポリアミ� ��6、ポリアミド66、ポリアミド46、ポリアミ� �11、ポリアミド12、ポリアミド610、ポリアミ� ��612、ポリアミド6/66、ポリアミド6/612、ポリ� ��ミドMXD6(MXD:m-キシリレンジアミン)、ポリア� ��ド6/MXD6、ポリアミド66/MXD6、ポリアミド6T、� ��リアミド6I、ポリアミド6/6T、ポリアミド6/6I 、ポリアミド66/6T、ポリアミド66/6I、ポリア� �ド6/6T/6I、ポリアミド66/6T/6I、ポリアミド6/12/ 6T、ポリアミド66/12/6T、ポリアミド6/12/6I、ポ� ��アミド66/12/6Iなどが挙げられる。

 ポリアミドと反応する官能基Iとしては、ポ リアミドの末端カルボキシル基または末端ア ミノ基と反応する官能基である、カルボキシ ル基、水酸基、無水マレイン酸残基、イソシ アナート基、エポキシ基が好ましく、末端ア ミノ基と反応する無水マレイン酸残基、イソ シアナート基、エポキシ基がより好ましい。
 また、ポリアミドのアミド基を利用して、� ��素結合や静電的相互作用により親和性を高� ��ることもできる。

(ポリアセタール)
 ポリアセタールは、ホルムアルデヒドの単� ��重合体やトリオキサンを主モノマーとして� ��エチレンオキシドや1,3-ジオキソラン等を共 重合モノマーとする共重合体であって、エー テル基を有する化合物である。通常、共重合 体はヒドロキシエチル末端を有しており、末 端官能基として機能する。一方、単独重合体 は末端水酸基がアセチル化により末端封止さ れているものがあるが、アセチル化されてい ないものが好適に使用できる。末端水酸基濃 度は、10ミリモル/kg以上であることが好まし� ��、より好ましくは30ミリモル/kg以上である� �水酸基の定量においては、Polym.Eng.Sci.,30,1056( 1990)に記載の方法を利用することができる。

 ポリアセタールは、メルトインデックス� ��0.1~1000g/l0min、好ましくは0.2~500g/l0min(ASTM D123 8G 190℃)である。

 ポリアセタールと反応する官能基Iとして は、ポリアセタールの末端水酸基と反応する 官能基である、イソシアナート基、エポキシ 基、無水マレイン酸残基、カルボキシル基が 好ましい。

(ポリカーボネート)
 ポリカーボネートは主鎖中に炭酸エステル� ��合を有する化合物であり、通常、主鎖末端� ��フェノール末端、クロロホーメイト末端、� ��ェニル基末端、t-ブチルフェノール末端で� �り、これらの中で、フェノール末端のもの� �好ましく使用できる。フェノール末端は一� �子あたり0.2から2個であることが好ましい。� ��ェノール末端はNMR法、電位差滴定法や紫外� ��吸収法により定量することができ、例えば� ��Makromol.Chem.,88,215(1965)J.Appl.Polym.Sci.,Appl.Polym.Sy mp.,34,103(1978)に記載の方法を利用できる。

 ポリカーボネートの好ましい分子量は、粘� ��平均分子量(Mv)で10000~100000である。10000未満� ��は好ましい物性が充分発現せず、100000を超� ��ると溶融流動性が低下し、好ましくない。� ��度平均分子量(Mv)は塩化メチレン溶媒中、20� ��で極限粘度[η]を測定し、次の関係式により 決定することができる。
 [η]=1.23×10 ^-5 Mv ^0.832
 通常ポリカーボネート単体では粘度平均分� ��量(Mv)が50000を超えると溶融流動性が低下す� ��が、ポリプロピレン等のポリオレフィンと� ��樹脂組成物は溶融流動性に優れ、かつ耐薬� ��性などの高い化学的安定性を示すため好ま� ��い。ポリカーボネートとポリプロピレンの� ��成物の場合、ポリカーボネート100質量部に� ��してポリプロピレン15質量部程度で溶融流� �性が改善され、20質量部~40質量部のポリプロ ピレンを添加すると、溶融流動性に加え、耐 薬品性が著しく向上する。

 ポリカーボネートと反応する官能基Iとして は、ポリカーボネートのフェノール末端と反 応する官能基である、エポキシ基、イソシア ナート基、無水マレイン酸残基、カルボキシ ル基が好ましく、特にエポキシ基、イソシア ナート基が好ましい。
 また、フェノール環や、カーボネート基等� ��利用して、水素結合、静電的相互作用、ス� ��ッキング相互作用により、親和性を高める� ��ともできる。

(ポリエステル)
 ポリエステルは、ジカルボン酸とジオール� ��縮重合反応で得られる重合体であり、通常� ��末端に水酸基やカルボキシル基を有してお� ��、これらが末端官能基として機能する。水� ��基又はカルボキシル基の濃度としては10ミ� �モル/kgであることが好ましく、より好まし� �は30ミリモル/kg以上である。カルボキシル基 はポリエステルを溶媒に溶解後、標準アルカ リ・ベンジルアルコール溶液で滴定により定 量可能であり、例えばAnal.Chem.,26,1614(1954)やAct a Polymer,30,598(1979)に記載の方法を利用するこ� ��ができる。また、水酸基はアセチル化末端� ��蛍光X線による定量などにより測定でき、例 えばAnal.Chem.,293,396(1978)に記載の方法を利用す ることができる。

 通常、分子量は10000~100000であり、この範囲� ��あれば使用することができる。分子量はポ� ��ブチレンテレフタレート分子量の関係式を� ��いて測定された値で規定することができる� ��測定方法はフェノール混合液を溶媒として� ��温度30℃で測定した極限粘度[η]と分子量(Mw) の関係から算出する。
        [η]=1.29×10 ^-4 ×Mw ^0.871
 または、溶融温度220~270℃の範囲で溶融する ものであれば使用することができる。

 ポリエステルとしては、以下のジカルボン� ��およびジオールの反応物が挙げられる。
 ジカルボン酸としては、テレフタル酸、イ� ��フタル酸、o-フタル酸、2,6-ナフタレンジカ� ��ボン酸、p-フェニレンジカルボン酸、1,4-シ� ��ロヘキサンジカルボン酸、コハク酸、アジ� ��ン酸、アゼライン酸、セバシン酸、スルホ� ��ソフタル酸ソーダ等が挙げられる。ジオー� ��としては、エチレングリコール、プロピレ� ��グリコール、1,4-ブタンジオール、1,6-へキ� �ンジオール、ネオペンチルグリコール、ジ� �チレングリコール、トリエチレングリコー� �、ポリエチレングリコール、ポリテトラメ� �レングリコール、1,4-シクロへキサンジメタ� ��ール、ビスフェノールA等が挙げられる。
 より具体的には、ポリエチレンテレフタレ� ��ト、ポリブチレンテレフタレートが挙げら� ��る。

 ポリエステルと反応する官能基Iとしては、 ポリエステルの末端水酸基またはカルボキシ ル基と反応する官能基である、イソシアナー ト基、エポキシ基、無水マレイン酸残基、カ ルボキシル基が好ましい。
 また、ポリエステルのエステル基を利用し� ��、水素結合や静電的相互作用により親和性� ��高めることもできる。

(ポリフェニレンエーテル)
 ポリフェニレンエーテルは、式(VIII)

で表される構造を有する重合体である。式(VI II)において、R ¹ 、R ⁴ は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン 原子、第一級もしくは第二級の低級アルキル 基、フェニル基、ハロアルキル基、アミノア ルキル基、炭化水素オキシ基、又はハロ炭化 水素オキシ基を表わし、R ² 、R ³ は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン 原子、第一級もしくは第二級の低級アルキル 基、フェニル基、ハロアルキル基、炭化水素 オキシ基、又はハロ炭化水素オキシ基を表わ す。

 ポリフェニレンエーテルは末端にフェノ� ��ル性水酸基を有するものが好ましく用いら� ��る。水酸基の濃度は10ミリモル/kg以上であ� �ことが好ましく、より好ましくは30ミリモル /kg以上である。水酸基の定量法はポリカーボ ネートに関して説明した方法が利用できる。

 ポリフェニレンエーテルは、還元粘度(0.5 g/dl、クロロホルム溶液、30℃測定)が、0.15~0.7 0の範囲であることが好ましく、さらに好ま� �くは0.20~0.60の範囲、より好ましくは0.40~0.55� �範囲である。

 ポリフェニレンエーテルの具体例として� ��、ポリ(2,6-ジメチル-1,4-フェニレンエーテル )、ポリ(2-メチル-6-エチル-1,4-フェニレンエー テル)、ポリ(2-メチル-6-フェニル-1,4-フェニレ ンエーテル)、ポリ(2,6-ジクロロ-1,4-フェニレ� ��エーテル)等、さらに2,6-ジメチルフェノー� �と他のフェノール類(例えば、2,3,6-トリメチ� ��フェノールや2-メチル-6-ブチルフェノール)� ��の共重合体が挙げられる。また、ポリフェ� ��レンエーテルと他の樹脂(例えばポリスチレ ンやポリアミドなど)とのアロイでも使用す� �ことができる。

 ポリフェニレンエーテルと反応する官能� ��Iとしては、ポリフェニレンエーテルのフェ ノール末端と反応する官能基である、エポキ シ基、イソシアナート基、無水マレイン酸残 基、カルボキシル基が好ましく、特にエポキ シ基、イソシアナート基が好ましい。

(シンジオタクチックポリスチレン)
 本発明で用いるシンジオタクチックポリス� ��レンは、スチレンモノマーの立体規則性重� ��で製造された、立体規則性指標[rrrr]が80モ� �%以上、好ましくは90以上で、最高融点が270� �の結晶性ポリスチレンである。スチレンの� �独重合体、スチレンとパラメチルスチレン� �ようなアルキル置換スチレンとの共重合体� �用いることができる。
 分子量は通常500000~800000の範囲であり、この 範囲にあるものであれば使用することができ る。この分子量は、GPC法により測定されるポ リスチレン換算の重量平均分子量を示してい る。
 通常、シンジオタクチックポリスチレンは� ��能基を有さないため、後述する変性シンジ� ��タクチックポリスチレンを用いることが好� ��しい。又は、グラフト共重合体の主鎖を形� ��するモノマーとしてスチレン、パラメチル� ��チレンを用いることで空間を通して親和的� ��作用する相互作用を用いることが好ましい� ��

(ポリフェニレンスルフィド)
 本発明で用いるポリフェニレンスルフィド� ��、前記一般式(VIII)で示した主鎖中の酸素原� ��をイオウ原子に置き換えた構造で表される� ��合体である。R ¹ 、R ² 、R ³ 、R ⁴ は、式(VIII)と同様である。
 製造方法は、p-ジクロルベンゼン(PDCB)とNaSH/ NaOHあるいは、Na ₂ SとをN-メチルピロリドン(NMP)中、高温加圧下� ��重縮合反応させる方法が一般的である。
 この重合体には架橋型と直鎖型があり、ど� ��らも用いることができる。直鎖型は線状の� ��分に高分子量化されたものであり、架橋型� ��直鎖型の加熱時架橋反応により分岐結合を� ��成させることで製造されるもの、または、� ��官能性モノマーを共重縮合させることによ� ��重縮合反応時に分岐構造を導入して製造さ� ��るものを示す。
 好ましい重合体はR ¹ 、R ² 、R ³ 、R ⁴ が水素原子のものである。
 分子量は通常2万~8万程度であり、この範囲� ��分子量のものであれば使用することができ� ��。ここで規定する分子量は以下の関係式
[η]=8.91×10 ^-5 ×Mw ^0.747
によって測定されるものであり、J.of Applied  Polymer Science,32,3959-3969(1986)に記載された方法� ��基づいて測定されたものである。
 末端基の成分は-Clあるいは-SNaのみでなく重 合溶媒のNMPが分解結合したとみられるN-アル� ��ルピリジン基あるいはピリジン基等の存在� ��判明している。また、塩酸水溶液でポリマ� ��を洗浄しポリマー末端の-SNaを-SHに変化させ ることも容易である。
 ポリフェニレンスルフィド類と反応する官� ��基Iとしては、-SNa基、-SH基と反応する官能� �であれば良いが好ましくは、ポリフェニレ� �スルフィドのチオフェノール末端(-SH)と反応 する官能基であり、エポキシ基、イソシアナ ート基、無水マレイン酸残基、カルボキシル 基が好ましく、特にエポキシ基、イソシアナ ート基が好ましい。

 その他のエンジニアリングプラスチックと� ��ては、以下のものが挙げられる。
非結晶ポリアリレート:2価フェノールと芳香� ��ジカルボン酸との全芳香族ポリエステルで� ��って、具体例としては、テレフタル酸とイ� ��フタル酸混合フタル酸とビスフェノールか� ��なる非結晶ポリアリレートなどが挙げられ� ��。
液晶ポリエステル:溶融状態で結晶性を示す� �ーモトロピックポリエステルであって、具� �例としては、p-ヒドロキシ安息香酸とポリエ チレンテレフタレートからなる液晶ポリエス テル、p-ヒドロキシ安息香酸とテレフタル酸� ��4,4’-ジヒドロキシビフェニルからなる液晶 ポリエステル、p-ヒドロキシ安息香酸と2,6-ヒ ドロキシナフトエ酸からなる液晶ポリエステ ルなどが挙げられる。
ポリエーテルケトン:エーテル結合とケトン� �合を有する芳香族ポリエーテルケトンであ� �て、具体例としては、ポリエーテルケトン(P EK)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリ エーテルケトンケトン(PEKK)、ポリエーテルエ ーテルケトンケトン(PEEKK)などが挙げられる� �
ポリイミド:イミド結合を繰り返し単位とし� �主鎖に持つポリマーであって、具体例とし� �は、熱可塑性ポリイミド(TPI)、ポリアミドイ ミド(PAI)、ポリエーテルイミド(PEI)などが挙� �られる。

 エンジニアリングプラスチックの末端官能� ��量が不足する場合や、より反応性に富む官� ��基が必要な場合は、エンジニアリングプラ� ��チックの変性物を用いることが出来る。
 好ましい官能基としては、カルボキシル基� ��無水マレイン酸残基、エポキシ基、水酸基� ��アミノ基、イソシアナート基などが挙げら� ��る。変性物の製造方法としては、上記官能� ��と炭素-炭素不飽和結合を有する変性剤とエ ンジニアリングプラスチックをラジカル開始 剤の存在下に反応させることで変性処理を行 う方法が挙げられ、溶融反応、溶液反応、溶 媒分散状態での反応を適用することができる 。

[グラフト共重合体とエンジニアリングプラ� �チックを配合してなる樹脂成分を含む樹脂� �成物]
 グラフト共重合体とエンジニアリングプラ� ��チックを配合してなる樹脂成分を含む樹脂� ��成物(以下、本発明の樹脂組成物と省略する 。)とは、グラフト共重合体とエンジニアリ� �グプラスチックを含有する組成物や、これ� �の他にグラフト共重合体とエンジニアリン� �プラスチックの反応生成物を含有する組成� �のことを指す。

 本発明の樹脂組成物は、目的によってそ� ��配合量を変化させることが好ましい。以下� ��おいて、成形体表面の改質、成形体の物性� ��良、マスターバッチの製造に分けて説明す� ��。

(成形体表面の改質)
 本発明の樹脂組成物を使用することで、成� ��体表面が改質され、金型離型性、塗装性、� ��着性が向上する。すなわち、射出成形時に� ��型との界面にグラフト共重合体が浸みだし� ��薄膜を形成する。この結果、成形品の金型� ��型性がよくなり、成形サイクルが短縮でき� ��。また金型汚染が減り、金型メンテナンス� ��容易になる。また、成形体表面に極性部位� ��存在させ表面の接着性及び塗装性を向上さ� ��る。
 成形体表面の改質を目的とする場合は、グ� ��フト共重合体とエンジニアリングプラスチ� ��クの配合比は、通常、グラフト共重合体1質 量部に対して、エンジニアリングプラスチッ ク10~5000質量部であり、好ましくは15~4000質量� ��、最も好ましくは20~3000質量部である。上記 範囲内では、エンジニアリングプラスチック が有する特性を大きく変えることなく、成形 体表面の改質効果を得ることができる。

(成形体の物性改良)
 本発明の樹脂組成物を使用することで、溶� ��流動性、耐衝撃性、高低温衝撃性(ヒートシ ョック)、吸湿性、耐加水分解性等を改良す� �ことができる。
 成形体の物性改良を目的とする場合は、グ� ��フト共重合体とエンジニアリングプラスチ� ��クの配合比は、通常、グラフト共重合体1質 量部に対して、エンジニアリングプラスチッ ク1~1000質量部であり、好ましくは2~500質量部� ��最も好ましくは2~100質量部である。上記範� �内では、目的とする物性改良効果を得るこ� �ができる。

(マスターバッチの製造)
 本発明の樹脂組成物をマスターバッチとし� ��利用することができる。
 マスターバッチとして利用する場合は、グ� ��フト共重合体とエンジニアリングプラスチ� ��クの配合比は、通常、グラフト共重合体1質 量部に対して、エンジニアリングプラスチッ ク1~20質量部の範囲であり、共有結合を形成� �る官能基のモル比が、グラフト共重合体中� �官能基1に対して、エンジニアリングプラス� ��ック中の官能基が0.5~2.0の範囲で用いること が好ましい。

 本発明の樹脂組成物の製造方法としては、� ��軸押出機、二軸押出機、ロール、ニーダー� ��ブラベンダープラストグラフ、バンバリー� ��キサー等による加熱溶融混練方法が挙げら� ��るが、中でも二軸押出機を用いた溶融混練� ��が最も好ましい。製造条件としては、通常� ��融点より10℃程度高い温度以上で組成物の� �融混練を実施する。したがって反応温度は� �エンジニアリングプラスチックがポリアミ� �の場合は180~350℃の範囲が好ましく、ポリア� ��タールの場合は180~250℃が好ましく、ポリカ ーボネートの場合は200~310℃が好ましく、ポ� �エステルの場合は230~300℃が好ましく、ポリ� ��ェニレンエーテルの場合は220~310℃が好まし い。反応時間は1分~60分の範囲で任意に選ぶ� �とができる。
 溶融混練以外の方法としては、溶媒中で溶� ��又は微分散状態で混合する方法が挙げられ� ��。この場合、温度は40~200℃が好ましく、時� ��は1分~5時間が好ましい。

 本発明の樹脂組成物は、グラフト共重合体� ��エンジニアリングプラスチックを配合して� ��る樹脂成分の他に、ポリオレフィンを含有� ��てもよい。ポリオレフィンを含有すること� ��、さらにエンジニアリングプラスチックの� ��性を改良することができる。
 ポリオレフィンとしては、エチレン、プロ� ��レン、ブテンの単独重合体、または、炭素� ��2~10のα-オレフィンから選択される一種以上 をコモノマーとするエチレン、プロピレン、 ブテン系共重合体等が挙げられる。
 より具体的には、以下のものが挙げられる� ��
ポリエチレン:高密度ポリエチレン、高圧法� �密度ポリエチレン
エチレン/α-オレフィン共重合体:エチレン/プ ロピレン共重合体、エチレン/ブテン共重合� �、エチレン/へキセン共重合体、エチレン/オ クテン共重合体などの直鎖状低密度ポリエチ レン(L-LDPE)
エチレン/プロピレン/ジエン共重合体などの� ��リオレフィン系ゴム(EPDM)
ポリプロピレン:アタクチックポリプロピレ� �、アイソタクチックポリプロピレン、シン� �オタクチックポリプロピレン、ブロックポ� �プロピレン
プロピレン共重合体:エチレン、ブテン、へ� �セン、オクテンなどを共重合成分とした共� �合ポリプロピレン
エチレン/極性モノマー共重合体:エチレン/酢 酸ビニル共重合体及びそのケン化物、エチレ ン/アクリル酸共重合体、エチレン/メチルメ� ��アクリレート共重合体、エチレン/グリシジ ルメタクリレート共重合体など
ポリブテン:アイソタクチックポリブテン、� �ソペンタッド分率〔mmmm〕が30~90モル%の低~中 アイソタクチックポリブテンなど
炭素数16~28のα-オレフィンから得られる高級� ��リα-オレフィン

 上記ポリオレフィンの中で、好ましくは� ��量平均分子量が、10000~500000であるポリプロ� ��レン系樹脂、より好ましくは低~高結晶性ポ リプロピレン、特にプロピレン連鎖の立体規 則性(メソペンタッド分率〔mmmm〕)が40~99モル% である、低~高アイソタクチック性ポリプロ� �レンが好ましい。具体的にはホモポリプロ� �レン、エチレン20重量%以下を含むランダム� �リプロピレン、ブロックポリプロピレンが� �げられる。

 ポリオレフィンを含有する樹脂組成物を製� ��する際の配合量は、通常、エンジニアリン� ��プラスチック100質量部に対して、ポリオレ� ��ィン2~50質量部、グラフト共重合体0.005~20質� ��部であり、好ましくは、エンジニアリング� ��ラスチック100質量部に対して、ポリオレフ� ��ン5~45質量部、グラフト共重合体0.01~15重量� �であり、より好ましくは、エンジニアリン� �プラスチック100質量部に対して、ポリオレ� �ィン10~40質量部、グラフト共重合体0.1~15質量 部であり、最も好ましくは、エンジニアリン グプラスチック100質量部に対して、ポリオレ フィン15~35質量部、グラフト共重合体0.5~10質� ��部である。
 ポリオレフィンが上記範囲内であれば、エ� ��ジニアリングプラスチックの耐熱性等の利� ��を損なうことなしに、物性を改良すること� ��できる。また、グラフト共重合体が上記範� ��内であれば、エンジニアリングプラスチッ� ��やポリオレフィンの分散性が向上し、分散� ��子径の増大や、組成物物性(剛性や伸び等)� �ガスバリアー性等の機能の低下を避けるこ� �ができる。

 ポリオレフィンを含む上記組成物の製造� ��法としては、グラフト共重合体とエンジニ� ��リングプラスチックを配合してなる樹脂成� ��をマスターバッチとして用い、ポリオレフ� ��ンと溶融混練する方法、グラフト共重合体� ��ポリオレフィンの組成物をマスターバッチ� ��して用い、エンジニアリングプラスチック� ��溶融混練する方法、グラフト共重合体とポ� ��オレフィン及びエンジニアリングプラスチ� ��クをドライブレンドして溶融混練する方法� ��が挙げられる。

 ポリオレフィンを含む上記組成物の製造条� ��としては、下記の条件が挙げられる。
 溶融方法はバッチ式、押出混練機による連� ��式が挙げられ、温度は耐熱性の高いエンジ� ��アリングプラスチックのガラス転移温度ま� ��は融点以上の温度を使用することができる� ��混練時間はグラフト共重合体とエンジニア� ��ングプラスチックの末端等との反応を伴う� ��合は長く設定することが好ましい。これら� ��溶融方法、温度、混練時間は具体的には、� ��記のグラフト共重合体とエンジニアリング� ��ラスチックを配合してなる樹脂成分を含む� ��脂組成物の製造方法として記載した条件を� ��げることができる。
 ポリオレフィンを含む上記組成物の製造に� ��いては、製品の安定性を損なわない範囲で� ��応を促進するために、触媒を使用すること� ��できる。触媒としてはエステル化、エステ� ��交換、エポキシ化、ウレタン化などの公知� ��触媒を使用できる。

 本発明の樹脂組成物は、目的に応じて添� ��剤を配合することができ、例えば、フィラ� ��、繊維、核剤、酸化防止剤、塩酸吸収剤、� ��熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、滑剤� ��帯電防止剤、難燃剤、顔料、染料、分散剤� ��銅害防止剤、中和剤、発泡剤、可塑剤、気� ��防止剤、架橋剤、過酸化物などの流れ性改� ��剤、ウェルド強度改良剤などが挙げられる� ��

 本発明の樹脂組成物は、射出成形法、押� ��成形法(フィルム、シート、繊維などに成形 する方法)、中空成形法、真空成形法、圧空� �形法、発泡成形法などの各種成形法により� �的とする各種用途の成形品の製造に供する� �とができる。

 本発明の樹脂組成物を使用した成形体の� ��としては、ドアミラーステー、ドアトリム� ��ホイルキャップ、ルーフレールなどの外装� ��材、コンソールボックス、ドア内装材、ル� ��フ材、床張り材などの内装部材などの自動� ��内外装部品、インテークマニホールド、コ� ��クター類などの自動車関連部材、パソコン� ��どの筐体、コネクター類、液晶パネル基材� ��どの家電・OA機器関連部品、歯車、プーリ� �、ロッドなどの機械部品、ビン、トレーな� �の容器、ラミネートフィルム、延伸フィル� �、蒸着フィルムなどのフィルム、シートな� �が挙げられる。