本発明の蒸発源は、有機系蒸着材料を保持� ��せるための酸化ケイ素含有繊維から構成さ� ��る不織布からなる蒸発源であって、前記不� ��布の熱伝導率が0.01~1.0Wm ^-1 K ^-1 であり、0.01~0.8Wm ^-1 K ^-1 であると好ましい。
 本発明の蒸発源は、有機系蒸着材料を保持� ��せる材質として、有機系蒸着材料の熱伝導� ��と同程度の熱伝導率を有する酸化ケイ素含� ��繊維から構成される不織布で構成したもの� ��ある。このため、高い蓄熱効果を有し、蒸� ��材料の蒸発により熱を奪われた場合であっ� ��も、蒸発源自体の温度変化は抑制される。� ��の結果、容易な熱管理で安定して蒸着する� ��とができる。また、局所的加熱が生じにく� ��ため、沸点の異なる有機系蒸着材料が混在� ��ていても、蒸着材料に蒸着差が生じて形成� ��れる蒸着膜の厚さや蒸着材料の分散度にム� ��が生じることを抑制することができる。
 また、熱伝導率の低い不織布を用いたこと� ��より、本発明の蒸発源は、加熱初期の段階� ��急激な温度上昇が生じにくい。このため、� ��着時の加熱で固体の蒸着材料を加熱しても� ��蒸発材料の変質を抑制することができる。� ��えば、加熱初期に蒸着材料に急激な変化が� ��じないため、不測の反応や焦げ付きも生じ� ��くくなる。

 以上のような蒸発源における不織布の材質� ��ある酸化ケイ素含有繊維としては、熱伝導� ��が0.1~20Wm ^-1 K ^-1 のものが好ましく、特に0.3~10Wm ^-1 K ^-1 のものが好ましい。例えば、シリカ繊維(熱� �導率8Wm ^-1 K ^-1 )、ガラス繊維(熱伝導率1Wm ^-1 K ^-1 )、シリカ及び酸化アルミ混合繊維等が挙げ� �れ、シリカ繊維、ガラス繊維が好ましい。
 また、シリカやガラス繊維で構成された蒸� ��源は安価である。このため蒸発源に除去で� ��ない残渣が定着しても、気軽に廃棄して、� ��換することができるので、蒸着に係るコス� ��を削減することができる。
 また、酸化ケイ素含有繊維の径としては、� ��常0.1~200μmであり、1~20μmであると好ましい� �
 前記不織布の空隙率は、通常70~99%であり、8 0~96%であると好ましい。このように、本発明� ��蒸発源は、不織布の空隙率を高めることに� ��り、熱伝導率を低下させ、蓄熱効果を高め� ��ことができる。

 前記不織布の厚さとしては、通常100~2000μm� �あり、200~1200μmであると好ましい。
 本発明において、有機系蒸着材料を不織布� ��対して保持させるとは、含浸、吸着、塗布� ��被覆等の状態が挙げられ、中でも、前記不� ��布を構成する酸化ケイ素含有繊維の表面に� ��前記有機系蒸着材料が被膜を形成している� ��好ましい。蒸発源の繊維の表面に有機系蒸� ��材料が被膜を形成していると、蒸着成分は� ��蒸着末期まで継続して繊維の表面から蒸発� ��る。このため、蒸着の初期から末期にかけ� ��蒸着速度の変動が生じづらく、均質な成膜� ��実現することができる。

 本発明に用いる具体的な不織布としては、� ��珪酸ガラス繊維のみからなる濾紙であるGA-5 5、GA-100、GA-200、GB-100R、GB-140、GC-50、GD-120、GF -75等、硼珪酸ガラス繊維にバインダー樹脂を 加えて強度を高めた濾紙であるGS-25、GC-90、DP -70、PG-60等、シリカ繊維からなるQR-100、QR-200� ��(以上、全てアドバンテック東洋株式会社製 :商品名)、ファインフレックス(商品名)、SiO ₂ 系ファイバー、SiO ₂ +Al ₂ O ₃ 系ファイバー(以上、ニチアス(株)製)等が挙� �られる。

 本発明の蒸発源及び光学部材の製造方法に� ��いる有機系蒸着材料としては、特に限定さ� ��るものではないが、以下のようなものが挙� ��られる。
一般式(I)のフッ素置換アルキル基含有有機ケ イ素化合物

 一般式(I)において、Rf基は、式:-(C _k F _2k O)-(式中、kは1~6、好ましくは1~4の整数であり� ��該一般式中の(C _k F _2k O)の配列はランダムである。)で表わされる単 位を含み、分岐を有しない直鎖状のパーフル オロポリアルキレンエーテル構造を有する二 価の基である。なお、前記一般式(I)中のn及� �n’がいずれも0である場合、前記一般式(I)中 の酸素原子(O)に結合する前記Rf基の末端は、� ��素原子ではない。

 一般式(I)において、Xは加水分解性基又はハ ロゲン原子である。上記Xが加水分解性基で� �る場合としては、例えば、メトキシ基、エ� �キシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のア� �コキシ基;メトキシメトキシ基、メトキシエ� ��キシ基、エトキシエトキシ基等のアルコキ� ��アルコキシ基;アリロキシ基、イソプロペノ キシ等のアルケニルオキシ基;アセトキシ基� �プロピオニルオキシ基、ブチルカルボニル� �キシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシロキ� �基;ジメチルケトオキシム基、メチルエチル� ��トオキシム基、ジエチルケトオキシム基、� ��クロペンタノキシム基、シクロヘキサノキ� ��ム基等のケトオキシム基;N-メチルアミノ基� ��N-エチルアミノ基、N-プロピルアミノ基、N-� ��チルアミノ基、N,N-ジメチルアミノ基、N,N-� �エチルアミノ基、N-シクロヘキシルアミノ基 等のアミノ基;N-メチルアセトアミド基、N-エ� ��ルアセトアミド基、N-メチルベンズアミド� �等のアミド基;N,N-ジメチルアミノオキシ基、 N,N-ジエチルアミノオキシ基等のアミノオキ� �基等を挙げることができる。
 また、上記Xがハロゲン原子である場合とし ては、例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素 原子等が挙げられる。
 これらの中で、メトキシ基、エトキシ基、� ��ソプロペノキシ基及び塩素原子が好適であ� ��。

 一般式(I)において、Rは炭素原子数1~8の一 価炭化水素基であり、Rが複数存在する場合� �は、Rは互いに同一でも異なってもよい。Rの 具体例としては、例えば、メチル基、エチル 基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘ キシル基、ヘプチル基、オクチル基等のアル キル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル� �等のシクロアルキル基;フェニル基、トリル� ��、キシリル基等のアリール基;ベンジル基、 フェネチル基等のアラルキル基;ビニル基、� �リル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキ� �ニル基等のアルケニル基等が挙げられる。� �れらの中でも炭素原子数1~3の一価炭化水素� �が好ましく、特にメチル基が好適である。

 一般式(I)において、n及びn’はそれぞれ0~2� �整数であり、好ましくは1である。nとn’は� �いに同一であっても異なっていてもよい。� �た、m及びm’はそれぞれ1~5の整数であり、3� �あることが好ましい。mとm’は互いに同一で あっても異なっていてもよい。
 次に、a及びbは各々2又は3であり、加水分解 及び縮合反応性、及び被膜の密着性の観点か ら、3であることが好ましい。
 一般式(I)で表されるフッ素置換アルキル基� ��有有機ケイ素化合物の分子量は、特に制限� ��れないが、安定性、取扱い易さ等の点から� ��数平均分子量で500~20,000、好ましくは1000~10,0 00のものが適当である。

 一般式(I)で表されるフッ素置換アルキル基� ��有有機ケイ素化合物の具体例としては、例� ��ば、下記構造式で示されるものが挙げられ� ��。但し、下記例示に限定されるものではな� ��。
(CH ₃ O) ₃ SiCH ₂ CH ₂ CH ₂ OCH ₂ CF ₂ CF ₂ O(CF ₂ CF ₂ CF ₂ O) _l CF ₂ CF ₂ CH ₂ OCH ₂ CH ₂ CH ₂ Si(OCH ₃ ) ₃
(CH ₃ O) ₂ CH ₃ SiCH ₂ CH ₂ CH ₂ OCH ₂ CF ₂ CF ₂ O(CF ₂ CF ₂ CF ₂ O) _l CF ₂ CF ₂ CH ₂ OCH ₂ CH ₂ CH ₂ SiCH ₃ (OCH ₃ ) ₂
(CH ₃ O) ₃ SiCH ₂ CH ₂ CH ₂ OCH ₂ CF ₂ (OC ₂ F ₄ ) _p (OCF ₂ ) _q OCF ₂ CH ₂ OCH ₂ CH ₂ CH ₂ Si(OCH ₃ ) ₃
(CH ₃ O) ₂ CH ₃ SiCH ₂ CH ₂ CH ₂ OCH ₂ CF ₂ (OC ₂ F ₄ ) _p (OCF ₂ ) _q OCF ₂ CH ₂ OCH ₂ CH ₂ CH ₂ SiCH ₃ (OCH ₃ ) ₂
(CH ₃ O) ₃ SiCH ₂ CH ₂ CH ₂ OCH ₂ CH ₂ CF ₂ (OC ₂ F ₄ ) _p (OCF ₂ ) _q OCF ₂ CH ₂ CH ₂ OCH ₂ CH ₂ CH ₂ Si(OCH ₃ ) ₃
(C ₂ H ₅ O) ₃ SiCH ₂ CH ₂ CH ₂ OCH ₂ CF ₂ (OC ₂ F ₄ ) _p (OCF ₂ ) _q OCF ₂ CH ₂ OCH ₂ CH ₂ CH ₂ Si(OC ₂ H ₅ ) ₃
 一般式(I)の化合物は、1種単独でも2種以上� �組合せても使用することができる。また、� �合により、上記フッ素置換アルキル基含有� �機ケイ素化合物とその部分加水分解縮合物� �を組み合わせて使用することができる。

一般式(II)のシラン化合物
   R'-Si(OR’’) ₃ 及び/又はSi(OR’’) ₄     (II)
 一般式(II)において、R'は有機基であり、炭� ��数1~50(好ましくは1~10)のアルキル基(メチル� �、エチル基、プロピル基等)、エポキシエチ� ��基、グリシジル基、アミノ基等が挙げられ� ��これらは置換されていても良い。
 一般式(II)において、R’’は炭素数1~48のア� ��キル基(メチル基、エチル基、プロピル基等 )であり、メチル基又はエチル基が好ましい� �
 一般式(II)で表されるシラン化合物の具体例 としては、例えば、構造式、(C ₂ H ₅ O) ₃ SiC ₃ H ₆ NH ₂ 、(CH ₃ O) ₃ SiC ₃ H ₆ NH ₂ 、(C ₂ H ₅ O) ₄ Si、(C ₂ H ₅ O) ₃ Si-O-Si(OC ₂ H ₅ ) ₃ 、等が挙げられる。但し、上記例示に限定さ れるものではない。

 それらの中でも、具体的には、KY130、kp801 (以上、信越化学工業(株)製:商品名)、オプツ� ��ルDSX(ダイキン工業(株)製:商品名)、x24-9201M(� ��越化学工業(株)製:商品名)等が挙げられるが これに限定されるものではなく、酸化ケイ素 含有繊維に保持させることができる原料であ れば良い。

一般式(III)の含フッ素有機ケイ素化合物
     AαZ ¹ Q-Rf ¹ -(Q-Z ² -Q-Rf ¹ ) _x -QZ ¹ Aα       (III)
 一般式(III)において、Rf ¹ はパーフルオロオキシアルキレン基、Z ¹ は単結合又はケイ素原子1~15個を含む2~9価の� �機基、Z ² はケイ素原子2~100個を含む2価のポリオルガノ シロキシレン基、Qは酸素原子及び/又は窒素� ��子を含んでいてよい炭素数2~12の、2~9価の基 であり、互いに異なっていてもよく、αは1~8� ��整数、xは0~5の整数であり、Aは下記一般式(I V)で示される基である。
     -C _d H _2d SiR ¹ _3-c X ¹ _c      (IV)
 一般式(IV)において、R ¹ は炭素数1~4のアルキル基又はフェニル基であ る。X ¹ は加水分解性基であり、例えば、メトキシ基 、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基な どの炭素数1~10のアルコキシ基、メトキシメ� �キシ基、メトキシエトキシ基などの炭素数2~ 10のオキシアルコキシ基、アセトキシ基など� ��炭素数1~10のアシロキシ基、イソプロペノキ シ基などの炭素数2~10のアルケニルオキシ基� �クロル基、ブロモ基、ヨード基などのハロ� �ン基などが挙げられる。中でもメトキシ基� �エトキシ基、イソプロペノキシ基、クロル� �が好ましい。cは2又は3、dは0~6の整数である� ��

 一般式(IV)で表される含フッ素有機ケイ素化 合物としては、例えば、下記(1)及び(2)の構造 を有する化合物等が挙げられるがこれらに限 定されるものではない。

 前記有機系蒸着材料は、必要に応じ、ハイ� ��ロフルオロエーテル、溶媒やケイ素非含有� ��パーフルオロポリエ-テルを混合した溶液の 形態で用いられても良い。その場合、例えば 、ステンレス鋼(SUS)製のトレーに酸化ケイ素� ��有繊維を入れ、その溶液を含浸させてから� ��乾燥することにより、有機系蒸着材料を不� ��布に保持させる。
 本発明の光学部材の製造方法は、前述した� ��発明の蒸発源を加熱し、光学部材の表面に� ��機系蒸着材料を蒸着させる方法である。
 本発明の製造方法においては、加熱時間は� ��通常1~20分であり、4~15分であると好ましい� �1~20分であれば、光学部材の表面に蒸着ムラ� ��ない均質な蒸着膜を形成することができる� ��

 本発明の光学部材の製造方法は、前記蒸着� ��を、減圧下、加熱蒸着、(ハロゲンヒーター 、抵抗過熱、電子銃等を使用)によって光学� �材に有機系蒸着材料を蒸着する。さらに、� �ロゲンヒーター、ボート等により下方より� �熱することで、例えば、従来のSUS製フィル� �ーに注入した場合と比較して、温度上昇率� �穏やかであるため、成膜時の膜厚コントロ� �ル性に優れ、また、蒸着物質が分解するこ� �を防ぐことができる。その結果、膜厚精度� �良く、蒸着物質が本来持つ性能を有した薄� �を成製することができる。
 本発明において、蒸着する際の真空蒸着装� ��内の真空度は、特に限定されないが、均質� ��蒸着膜を得るために、通常1.33×10 ^-1 ~1.33×10 ^-6 Pa(10 ^-3 ~10 ^-8 Torr)であり、6.66×10 ^-1 ~8.00×10 ^-4 Pa(5.0×10 ^-3 ~6.0×10 ^-6 Torr)であると好ましい。

 本発明において、蒸着材料を加熱する際の� ��体的温度は、蒸着材料の種類、蒸着する真� ��条件により異なるが、所望の真空度におけ� ��蒸着材料の蒸着開始温度以上から分解温度� ��超えない範囲で行うことが好ましい。ここ� ��蒸着開始温度とは前記蒸着材料を含む溶液� ��蒸気圧が真空度と等しくなったときの温度� ��いい、また、前記蒸着材料の分解温度とは1 分間の間に、窒素雰囲気下、該化合物と反応 性のある物質が存在しない条件で、前記蒸着 材料の50質量%が分解する温度をいう。
 本発明の蒸発源は、前述のような熱伝導率� ��不織布を用いることで、ヒーター温度の上� ��による蒸発源の過熱現象が抑制されるため� ��蒸着材料を分解温度以下で成膜することが� ��能となる。

 本発明の蒸発源の効果を確認するため、� ��際にヒーターを加熱したときのチャンバー� ��の圧力を測定した。本実験では、有機系蒸� ��材料としてKY130を用い、本発明に係るシリ� �繊維の不織布に保持させた場合と、従来のSU S製フィルターを用いた場合のチャンバー内� �力を測定した。図1は、本実験結果を示すグ� ��フである。図1のグラフにおいて、横軸はヒ ーターの加熱時間を示しており、右側縦軸は ヒーターの温度を示しており、左側縦軸はチ ャンバー内の圧力(真空度)を示している。グ� ��フ中の黒塗りの菱形はヒーター加熱温度を� ��しており、時間に対するヒーター温度を示� ��ている。凡例の黒塗りの四角は、本実施例� ��係る不織布(シリカフィルター)を用いた時� �結果であり、ヒーターの加熱時間に対する� �ャンバー内の真空度を示している。凡例の� �塗りの三角は、従来のSUS製フィルターを用� �た時の結果であり、ヒーター加熱時間に対� �るチャンバー内の真空度を示している。な� �、本発明で用いる不織布と、SUS製フィルタ� �は、SUS製トレーに入れた状態で加熱した。

 図1に示すように、従来のSUS製フィルターで は、ヒーター加熱初期の段階で急激にチャン バー内圧力が上昇し、その後、急激に下降し ている。SUS製フィルターを用いると、ヒータ ー加熱が完了する前に急速に加熱され成膜さ れることがわかる。一方、本発明における不 織布では、なだらかにチャンバー内圧力が上 昇し、なだらかに下降する。本発明における 不織布は、温度がヒーター加熱に追随せずに なだらかに上昇、下降するからである。
 したがって、本発明の蒸発源によれば、温� ��が激しく変化することがないため、成膜中� ��蒸気圧が安定的に制御でき、ムラの無い、� ��一な成膜が可能となる。また、本発明の蒸� ��源を用いると、蒸着材料も分解せず基板面� ��付着するので、蒸着材料の特性を損なわな� ��。

 本発明における光学部材としては、例えば� ��眼鏡レンズ、カメラレンズ、ワードプロセ� ��サーのディスプレー等に付設する光学フィ� ��ター、自動車の窓ガラス等が挙げられ、特� ��プラスチックレンズ、中でも眼鏡用プラス� ��ックレンズに適している。
 本発明に用いる光学部材の材質としては、� ��チルメタクリレート単独重合体、メチルメ� ��クリレートと1種以上の他のモノマーとをモ ノマー成分とする共重合体、ジエチレングリ コールビスアリルカーボネート単独重合体、 ジエチレングリコールビスアリルカーボネー トと1種以上の他のモノマーとをモノマー成� �とする共重合体、イオウ含有共重合体、ハ� �ゲン含有共重合体、ポリカーボネート、ポ� �スチレン、ポリ塩化ビニル、不飽和ポリエ� �テル、ポリエチレンテレフタレート、ポリ� �レタンなどのプラスチック製光学基板、あ� �いは無機ガラス製光学基板などが挙げられ� �。なお、上記基板は基板上にハードコート� �を有するものであってもよい。ハードコー� �層としては、有機ケイ素化合物、アクリル� �合物等を含んだ硬化膜を例示できる。

 本発明においては、光学部材上に反射防止� ��が形成されており、該反射防止膜上に有機� ��蒸着材料を蒸着させても良い。
 反射防止膜とは、例えば、レンズ等の光学� ��板表面の反射を減少させるために設けられ� �� ZrO ₂ 、SiO ₂ 、TiO ₂ 、Ta ₂ O ₅ 、Y ₂ O ₃ 、MgF ₂ 、Al ₂ O ₃ などから形成される単層または多層膜(但し� �最外層にSiO ₂ 膜を有することが好ましい)またはCrO ₂ などの着色膜(但し、最外層にSiO ₂ 膜を有することが好ましい)を言う。本発明� �おいては、反射防止膜の最外層に二酸化ケ� �素を主成分とする層が用いられることが好� �しい。ここで二酸化ケイ素を主成分とする� �は、実質的に二酸化ケイ素からなる層、又� �二酸化ケイ素、酸化アルミニウム及び有機� �合物からなるハイブリッド層をいう。なお� �反射防止膜は真空蒸着法によって作成され� �ことが好ましい。
 また、本発明において、有機系蒸着材料を� ��着することにより形成される蒸着膜として� ��、特に限定されるものではないが、例えば� ��撥水膜、反射防止膜、防曇膜等が挙げられ� ��。