Die vorliegende Erfindung betrifft eine Gesichtsmaske für Nase und Mund. Durch die WO 2020/049419A1 ist eine Gesichtsmaske für Nase und Mund bekannt, die mit einer Filterstruktur zur Bildung einer Filterfunktion ausgerüstet ist, bei der eine Gürtelschnalle für die Filterstruktur am Körper eines Benutzers vorgesehen ist. Die Gürtelschnalle weist dabei eine mit dem Benutzerkörper verbundene Filterstruktur und Öffnungen auf beiden Seiten der Filterstruktur auf. Ferner ist ein Befestigungselement vorgesehen, das mit einer Seite an der Seitenwand der Öffnung angelenkt ist und den Gürtel ergreift. Der Gürtel ist dabei zwischen der Seitenfläche des Befestigungselements und einer Seitenwand der Öffnung derart eingefügt, dass zumindest ein Teil einer Außenfläche des Befestigungselements umgeben wird und sich gleitend in einer Richtung oder in beiden Richtungen in der Gürtelschnalle selektiv bewegt gemäß der Umgebungsform des Befestigungselements. Die Gesichtsmaske besteht aus mehreren zusammengeschweißten Bereichen, wie dem Masken-, Nasen-, Mund- und Kinnbereich, von denen einige verstärkt sind.

Diese bekannte Gesichtsmaske ist kompliziert aufgebaut und in der Herstellung teuer.

Die Aufgabe der Erfindung besteht darin, eine einfacher herstellbare Gesichtsmaske zu schaffen, die einen langdauernden und hochgradig bakteriellen Schutz bietet.

Diese Aufgabe wird mit den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst. Danach sind die Fasern der Maske mit einer Polymerbeschichtung, insbesondere mit/aus Polyethylenstyrol, mit integriertem Silber und/oder kovalent und/oder ionisch gebundenen Silberionen und /oder Silan-Ammoniumverbindungen versehen, und/oder die Maske ist zweilagig aus Baumwolle, bevorzugt (Bio-)-(Gizeh)-Baumwolle, ausgeführt.

Die antibakterielle Wirkung des Polymers kann auch durch Silberphosphatglas, Silbernitrat oder Silberchlorid auf Titandioxid erzeugt werden.

Das oben genannte Polymer kann auch als eigenständige Faser in das Gewebe der Maske eingewebt sein. Zweckmäßigerweise kann es vorgesehen sein, dass die Gesichtsmaske wiederverwendbar, insbesondere abwaschbar ist. Dies kann insbesondere dem verwendeten Material geschuldet sein.

Bevorzugt ist die Maske zweilagig ausgebildet, wobei eine äußere Lage in voranstehender Weise behandelt oder veredelt sein kann und eine innere Lage frei von Be- Schichtungen oder antibakteriellen Fasern vorliegen kann. Dies kann besonders bei der erfindungsgemäß bevorzugt verwendeten Baumwolle den hohen Tragekomfort unterstützen. Grundsätzlich kann auch auf einer solchen äußeren Beschichtung direkt eine Silberschicht aufgedampft sein.

Gemäß einer weiteren Ausbildung der Erfindung beträgt die Stärke der Baumwollfa- ser weniger als 3 Mikrometer.

Gemäß einer weiteren Ausbildung der Erfindung ist das Material eine dicht gewebte Leinwand mit einem Gewicht von 140 g/m ² .

Die Erfindung wird nun anhand eines in der Figur dargestellten Ausführungsbeispiels näher erläutert.

Die Figur zeigt eine Gesichtsmaske 1 in Draufsicht. Das Tuch der Maske ist zweilagig ausgeführt. Die beiden Lagen 2, 3 bestehen aus ägyptischer Bio-Gizeh- Baumwolle, der besten Baumwolle der Welt. Das Garn hat lange, sehr feine, aber dennoch haltbare Fasern mit einer Stärke von weniger als 3 Mikrometern. Das macht die Maske sehr angenehm für den Hautkontakt. Sie ermöglicht ein angenehmes Atmen auch während mehrerer Betriebsstunden. Das Material ist nicht reizend und geruchslos. Es ist nicht gesundheitsschädlich und entspricht der Norm STN 80 0055, 2004 sowie der Verordnung EP und dem RAT (EU) Nr.1907/2006 (REACH).

Ein zuverlässiger antibakterieller Schutz wird durch die Anwendung der Polymerbeschichtung gewährleistet. Die direkte Imprägnierung dieser Polymerverbindung mit gebundenen Silberionen in das Gewebe schafft eine sichere bakteriostatische Barriere gegen eine große Anzahl grampositiver und gramnegativer Bakterien, verschiede- ne Schimmelpilze und Hefen. Die Polymerbeschichtung wirkt auf die Bakterienzellmembran selbst, wodurch die Funktion des Mikroorganismus gehemmt wird. Gleichzeitig wird die Geruchsentwicklung durch Bakterien wirksam reduziert. Bei den Silberionen kann es sich vorzugsweise nach der Erfindung um komplexstabilisierte Ionen handeln. Diese Komplexe können bevorzugt anionisch ausgeprägt sein, beispiels- weise mindestens eine Ammoniumverbindung und/oder Phosphoniumverbindung (oder eine entsprechende funktionelle Gruppe) aufweisen. Durch Ihre Aufnahme als (komplexstabilisierte) Silberionen in einer Polymermatrix kann die antibakterielle/antivirale Beschichtung frei von (Nano-)partikeln zur Verfügung gestellt werden. Weiterhin beugt die Polymermatrix einem Abrieb von Partikeln von der Maske vor. Vorzugsweise ist die Polymermatrix fest mit dem Textil der Maske verbunden. Besonders bevorzugt ist der Silberionenkomplex mit der Polymermatrix dauerhaft (waschecht) verbunden.

Besonders bevorzugt ist es nach einer Weiterbildung der Erfindung, dass mindestens die einzelnen Fasern mindestens einer der Lagen mit einer hydrophoben Oberflächenbeschichtung der Gewebe- oder Vliesfasern gebildet sind, welche eine Plasmabeschichtung der Fasern ist.

Die Plasmabeschichtung kann auf den einzelnen Fasern lagern, also einer Gewebeschicht, aufgetragen sein und der Faseroberfläche eine hydrophobe Eigenschaft verleihen. Hierbei bleibt eine Porenstruktur der Lage erhalten.

Die hydrophobe Eigenschaft trägt trotz der Porenstruktur der Gewebelage zu einer Wasserundurchlässigkeit bei (min. 5 m Wassersäule bei 20°C), wobei eine Durchlässigkeit von Wasserdampf und auch von Luft von min 5 L/m ² *s ermöglicht ist. Dies kann insbesondere beim Niesen einer Verteilung von Tröpfchen in die Umgebungs- luft Vorbeugen und auch das Inhalieren von Aerosolen verringern oder verhindern.

Als Druck von 1 m Wassersäule wird derjenige Druck definiert, der dem hydrostatischen Druck in 1 m Wassertiefe entspricht.

Die bestimmte Luftdurchlässigkeit des hydrophob-beschichteten Vlieses beruht auf einer Differenzdruckmessung bei 20°C und einer relativen Luftfeuchtigkeit von 65 %.

Die Plasmabeschichtung kann insbesondere ein quervernetztes Plasmapolymer sein und nach dem PECVD-Verfahren (plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung) aufgetragen sein. Die Plasmabeschichtung kann den voranstehend ge- nannten Komplexbildner und/oder die Silberionen aufweisen. Der Komplexbildner und/oder die Silberionen können jedoch auch separat auf der Gewebelage aufgetragen sein.

Die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) ist ein Verfahren zum Beschichten von Oberflächen, bei dem die chemische Abscheidung eines Beschichtungssubstrats durch ein Plasma unterstützt wird.

Somit kann eine Oberflächenbeschichtung bereitgestellt werden, die eine stark vernetzte Polymerstruktur bereitstellt, aber die Poren des Gewebes nicht verschließt.

Das Material, aus welchem eine Plasmabeschichtung herstellbar ist, kann beispielsweise ein einfach oder mehrfach ungesättigter Ether, ein Alken, ein Alkin, ein Flu- oracrylat, ein Siloxan, ein Sulfonamid, Thioaldehyd, Acrylat, Sulfon, Thioketon oder eine Mischung der vorgenannten Substanzen sein. Je nach verwendetem Beschichtungsmaterial wird die Beschichtung des Vlieses dann hydrophobe (oleophile) oder hydrophile Eigenschaften aufweisen.

Die Schutzmaßnahmen gemäß der Erfindung sind für wiederholte Langzeitanwen- düng ohne Verlust der antibakteriellen Wirkung konzipiert. Das Material ist auch bei regelmäßiger Pflege beständig gegen Dehnung. Die Maske wird je nach Schleierart mit Gummibändern 4, 5 oder Baumwollschnüren am Gesicht befestigt.

Das Material ist umweltfreundlich, hat eine hohe Festigkeit, eine hohe Dehnungsbeständigkeit und ist waschbar bei Temperaturen zwischen 60 und 95°C (je nach Art des Abdecktuchs).

Die vorliegende Erfindung wird nachfolgend weiter anhand der Zeichnungen bevorzugter Ausführungsformen erläutert. In den Zeichnungen zeigen:

Figur 1 mehrere Ansichten einer einfach faltbaren Maske

Figur 2 mehrere Ansichten in einer mehrfach faltbaren Maske

Die Figuren 1a bis 1c zeigen eine Gesichtsmaske 10 mit einem Filterelement 11 und eine Halterung 12. Die Halterung 12 kann in Form einer bevorzugten elastischen Schlaufe, insbesondere in einem seitlichen Endbereich des Filterelements 11 , angeordnet sein. Die Halterung 12 kann mittels Vernähen, Verschweißen oder anderen bekannten Techniken zur Befestigung an dem Filterelement angeordnet sein. Das Filterelement ist bevorzugt aus einer Baumwolle, insbesondere Gizeh-Baumwolle, gebildet. Die Maske ist dabei bevorzugt spiegelsymmetrisch aufgebaut und kann dadurch in einfacher Weise durch Übereinanderlegen zweier identischer oder beinahe identischer geometrischer Formen gebildet werden, wobei jeweils eine Seite der spiegelsymmetrischen Formen eine Gesichtshälfte oder einen oberen beziehungsweise unteren Bereich des Gesichts zwischen vorzugsweise Kinn und Nase abdeckt. Die beiden Formen können durch eine entsprechende Naht (Nähnaht oder Schweißnaht) verbunden sein. Durch die spiegelsymmetrische Form kann bereits eine besonders gute Anpassung an Nasen- und Kinnbereich erfolgen, ohne eine besondere Formgebung in diesen Bereichen berücksichtigen zu müssen. Besonders bevorzugt weist eine solche Maskenhälfte eine trapezförmige Grundform auf. Das Trapez kann im Bereich der Grundlinie, also entlang der längsten Seite, und/oder im Bereich der Schenkel jeweils eine konvexe oder konkave Form aufweisen.

Besonders bevorzugt weist die Grundlinie 14 eine konvexe Grundform auf, ist also gegenüber der Seite der Maskenhälfte, an welcher die Halterung 12 befestigt ist, nach außen gewölbt, sodass die Grundlinie einen Teil einer Kreisform beschreibt, in deren Innerem bevorzugt die Halterung 12 oder ein Teil der Maske angeordnet sein kann. Die beiden Schenkel 15, 16 des Trapezes der Maskenhälfte können auch geometrisch unterschiedlich ausgebildet sein, wobei auch nur eine der beiden Schenkel eine konkave Form aufweisen kann.

Die Figuren 2a bis 2c zeigen eine weitere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, nach welcher die Gesichtsmaske durch eine Falttechnik bereitgestellt sein kann. Durch das Bereitstellen von einfachen Schichten 21 und beispielsweise durch Rückfalten erzeugten Überlagerungen 22 kann eine sich besonders flexibel an die Gesichtsform anpassende Maskengeometrie bereitgestellt werden, wobei die gefalteten Bereiche 22 ausgebildet sein können, sich an besonders hervorstehende Gesichtspartien, wie beispielsweise die Nase, durch Entfalten der überlagerten Bereiche anzupassen. Entlang der Längsachse der Faltungsrichtung können die Halteelemente 23 zur Befestigung beispielsweise hinter den Ohren angeordnet sein. Durch die Falttechnik nach Figur 2 kann eine besonders weitläufige Anpassung an viele unterschiedliche Gesichtsformen bereitgestellt sein.