次に、本発明について、実施例、比較例� ��用いて具体的に説明するが、本発明は、こ� ��ら実施例によって限定されるものではない� ��遮光性薄膜の成膜は以下の手順で実施した� ��

 図3に示した巻き取り式スパッタリング装置 を用いて、樹脂フィルム基材に炭化酸化チタ ン膜の成膜を行った。まず、冷却キャンロー ル8の表面の対向側にマグネトロンカソード10 が設置された装置のカソードに膜の原料とな る下記の炭化酸化チタンターゲット11を取り� ��けた。巻き出しロール5、冷却キャンロール 8、巻き取りロール9などで構成されるフィル� ��搬送部は、隔壁12でマグネトロンカソード10 と隔離されている。次に、ロール状の樹脂フ ィルム基材1を巻き出しロール5にセットした� ��
 樹脂フィルム基材は、スパッタリング前に� ��真空中にて70℃の温度に加熱したキャンロ� �ル表面に密着搬送することで、十分に乾燥� �た。
 次に、ターボ分子ポンプ等の真空ポンプ6で 真空槽7内を排気した後、冷却キャンロール8� ��カソード間で放電させて、樹脂フィルム基� ��1を冷却キャンロール表面に密着搬送しなが ら成膜を行った。このときの冷却キャンロー ルの設定温度は50℃とし、ターゲットと基板� ��の距離は50mmとした。成膜前の真空槽内の到 達真空度は2×10 ^-4 Pa以下であった。
 まず、炭化酸化チタン焼結体ターゲットを� ��ソードに設置し、このカソードから直流ス� ��ッタリング法で炭化酸化チタン膜を成膜し� ��。炭化酸化チタン膜は、スパッタリングガ� ��に純アルゴンガス(純度99.999%)を用いてスパ� ��タリングガス圧0.2Paにて成膜を行った。タ� �ゲットには1.2~3.0W/cm ² の直流電力密度(ターゲットのスパッタリン� �面における単位面積当たりの直流投入電力)� ��投入して成膜を実施した。成膜時のフィル� ��の搬送速度とターゲットへの投入電力を制� ��することで炭化酸化チタン膜の膜厚を制御� ��た。巻き出しロール5から搬出された樹脂フ ィルム基材1は、途中、冷却キャンロール8の� ��面を通って、巻き取りロール9で巻き取った 。
 炭化酸化チタン膜のスパッタリング時の、� ��ィルムの表面温度は、フィルム基材に貼り� ��けたサーモラベル(日油技研工業製)と赤外� �放射温度計で測定した。赤外放射温度計は� �巻き取り式スパッタリング装置の石英ガラ� �ののぞき窓から測定した。

 また、得られた耐熱遮光フィルムの評価は� ��下の方法で行った。
(膜厚測定)
 表面平滑性が非常に優れたPESフィルム(住友 ベークライト製、FST-U1340、厚み200μm)の小片(5 0mm×50mm)に油性マジックで印を付けておき、� �の小片を搬送成膜するロール状の樹脂フィ� �ムに耐熱粘着テープ(日東電工製 No.360UL)を� �いて貼り付けた。成膜した後に、マジック� �印部分をエタノールで溶かし、印上に成膜� �れた膜を除去した。このようにして形成さ� �た膜の段差を、段差・表面あらさ・微細形� �測定装置(KLA―Tencor Japan製、Alpha-Step IQ)を用 いて測定した。
(遮光膜の組成)
 得られた膜の組成(C/Ti原子数比、O/Ti原子数� ��)をXPS(VG Scientific社製ESCALAB220i-XL)で定量分析 した。なお定量分析の際には、膜の表面20~30n mをスパッタエッチングしてから、膜内部の� �成分析を実施した。
(遮光膜の結晶性)
 膜の結晶性は、CuKα線を利用したX線回折測� ��において評価した。

(膜の反射率と透過率)
 波長400~800nmにおける膜の反射率と透過率は� ��分光光度計(日本分光社製V-570)にて測定し、 透過率から光学濃度を算出した。
 遮光性の指標である光学濃度は、分光光度� ��で測定される透過率(T)を次式により換算し� ��。光学濃度は4以上、最大反射率は10%未満で あることが必要である。
        光学濃度=Log(1/T)

(表面粗さ)
 樹脂フィルム基材と、その基材上に得られ� ��遮光性薄膜の表面粗さ(算術平均高さ)は、� �面粗さ計((株)東京精密製、サーフコム570A)で 測定した。
(膜の表面抵抗)
 得られた遮光膜の表面抵抗は、抵抗率計(ダ イアインスツルメンツ製 Loresta―EP MCP-T360)� �用いて四探針法で測定した。表面抵抗が100k� �/□以下である場合は導電性が良好と判断し� ��。
(耐熱性)
 膜の耐熱性については、大気オーブンにて� ��270℃で1時間の条件で、加熱処理を行い、膜 の色味変化の有無をチェックした。
(密着性)
 膜のフィルム基材に対する密着性について� ��、JIS C0021(クロスカット試験)で評価し、膜� ��がれが生じたときは×、膜が剥がれなかっ� �ときは○とした。

(炭化酸化チタン焼結体ターゲット)
 C/Ti原子数比が0.44~1.21、O/Ti原子数比が0.10~0.6 1の組成の異なる炭化酸化チタン焼結体ター� �ット(6インチφ×5mmt、純度4N)を用いた。
 炭化酸化チタンターゲットは、酸化チタン� ��炭化チタンと金属チタンの粉末の混合体か� ��ホットプレス法で作製した。各原料の配合� ��合を変えることで種々のC/Ti原子数比、O/Ti� �子数比の炭化酸化チタンターゲットを作製� �ることができた。作製した焼結体の組成は� �焼結体破断面の表面をスパッタリング法で� �った後、XPS(VG Scientific社製ESCALAB220i-XL)にて� �量分析を行った。

(実施例1~5、比較例1~3)
 フィルム表面の表面粗さ(Ra)が0.05μmであり� �厚みが25μmであるポリイミド(PI)フィルムを� �いて、前記の成膜手順で、非加熱の基板に� �定の膜厚の膜を形成した。フィルムの両面� �同じ膜厚で、同じ組成の炭化酸化チタン膜� �同じ製法にて形成した。成膜中の基板表面� �温度は、フィルム基材に貼り付けたサーモ� �ベル(日油技研工業製)と放射温度計で測定し た。成膜中の基板表面温度は、いずれも80~85� ��であった。
 表1に、こうしてポリイミド(PI)フィルム基� �に炭化酸化チタン膜を形成してフィルム状� �光板を作製した結果を示す。表中には、膜� �作製に使用した焼結体ターゲットの組成と� �膜条件、得られた膜の組成、各面の膜厚の� �和、波長400~800nmにおける膜の正反射率の平� �値、波長400~800nmにおける光学濃度の平均値� �膜表面の粗さ(Ra)、表面抵抗値、大気加熱時� ��色味変化についてまとめた。

 表1の実施例1~5、比較例1~3を参照すると、膜 組成はターゲット組成がほぼ反映されている ことがわかる。
 実施例1~5の膜は、C/Ti原子数比が0.62~1.23で、 O/Ti原子数比が0.21~0.58の炭化酸化チタン膜で� �り、本発明の遮光性薄膜であることが確認� �れた。実施例1~5の結果から、本発明の遮光� �薄膜は、含有炭素量がC/Ti原子数比で0.6~1.21� �あり、含有酸素量がO/Ti原子数比で0.17~0.53で� ��る炭化酸化チタン焼結体ターゲットを用い� ��、スパッタリング法で製造できることがわ� ��る。
 膜の結晶性をX線回折で測定した結果、実施 例1~5、比較例1~3で作製された膜は、全て岩塩 型結晶構造の結晶性に優れた膜であることが 確認された。図5に実施例1の膜のX線回折パタ ーンを示した。岩塩型結晶構造に起因する111 回折ピークが35.8度付近に、200回折ピークが41 .0度付近に観察され、これら以外の回折ピー� ��はみられなかった。TiC(JCPDSカード32-1383)、Ti O(JCPDSカード08-0117)も岩塩型結晶構造であるこ とから、これらの固溶体である炭化酸化チタ ンも同じ岩塩型構造を有するのである。
 実施例1~5の表面抵抗値は、452ω/□以下であ� ��、高い導電性を示している。よって、静電� ��の帯電による粉塵吸着を抑制することがで� ��るため光学部材として有効である。
 一方、表1の比較例1~2で作製された膜は、膜 のO/Ti原子数比が本発明の組成範囲から逸脱� �ており、比較例3の膜は、膜のC/Ti原子数比が 本発明で規定した組成範囲から逸脱している 。
 比較例1、実施例1~3、比較例2の膜の平均反� �率に着目すると、膜のO/Ti原子数比が大きく� ��ると、平均反射率は減少する傾向を示した� ��比較例2の膜はO/Ti原子数比が0.72と多く含ま� ��るが、平均光学濃度が4.0未満であり、十分� ��遮光性を有していない。低反射性と十分な� ��光性を発揮するためには、実施例1~3のよう� ��、O/Ti原子数比が0.20~0.60である薄膜を使うこ とが重要である。
 また、比較例3のフィルム状遮光板は、膜の O/Ti原子数比が0.43であり上記の範囲内である� ��、膜のC/Ti原子数比が0.42であり、本発明で� �定したC/Ti原子数比の範囲から逸脱して少な� ��。このような膜は、平均光学濃度は4.0より� ��きくて十分な遮光性を有しているが、膜色� ��金色を呈していて反射率が非常に高い。膜� ��のC量が少なくなると、TiO膜に近い物性が現 れ、金色を呈するのである。よって、このよ うな反射率の高い膜は、光学部材の表面薄膜 として利用することができず、これを覆って 得たフィルム状遮光板は光学部材として有用 でない。
 実施例4~5も、膜の組成は本発明の範囲内で� ��るため、比較例1~3のフィルム状遮光板と比� ��て反射率が低く、また平均光学濃度も4.0を� ��えているため十分な遮光性を有している。� ��って、光学部材用のフィルム状遮光板とし� ��利用することができる。

(実施例6、比較例4)
 フィルム表面に形成した炭化酸化チタン膜� ��膜厚の総和を360nm(各面180nm)に変えるか(実施 例6)、240nm(各面120nm)に変えた(比較例4)以外は� ��実施例1と全く同様の方法でフィルム状遮光 板を作製した。この結果を表1に示す。
 表中の表面抵抗値が示すように、何れも、� ��電性を示している。よって、静電気の帯電� ��よる粉塵吸着の問題は発生しにくいといえ� ��。
 実施例6、比較例4の膜のX線回折測定から、� ��れも実施例1と同様に結晶性に優れた膜が得 られていることがわかった。
 総膜厚240nmの炭化酸化チタン膜を形成して� �製した比較例4のフィルム状遮光板は、波長4 00~800nmにおける平均光学濃度が4.0未満であり� ��十分な遮光性を獲ることができなかった。� ��れに対して、総膜厚を360nmに変えた実施例6� ��フィルム状遮光板は、平均光学濃度が4.0を� ��えているため、十分な遮光性を有している� ��いえる。

(実施例7、比較例5) 
 フィルム表面に形成した炭化酸化チタン膜� ��総膜厚を500nm(各面250nm)に変えるか(実施例7)� ��220nm(各面110nm)に変えた(比較例5)以外は、実� ��例3と全く同様の方法でフィルム状遮光板を 作製した。この結果を表1に示す。
 表中の表面抵抗値が示すように、何れも、� ��電性を示している。よって、静電気の帯電� ��よる粉塵吸着の問題は発生しにくいといえ� ��。
 実施例7、比較例5の膜のX線回折測定から、� ��れも実施例1と同様に結晶性に優れた膜が得 られていることがわかった。
 総膜厚220nmの炭化酸化チタン膜を形成して� �製した比較例5のフィルム状遮光板は、波長4 00~800nmにおける平均光学濃度が3.68であり、十 分な遮光性を獲ることができなかった。これ に対して、総膜厚を500nmに変えた実施例7のフ ィルム状遮光板は、平均光学濃度が4.0を超え ているため、十分な遮光性を有しているとい える。

(実施例8~12、比較例6~8)
 フィルム表面の表面粗さ(Ra)が0.35μmであり� �厚みが38μmであるポリイミドフィルムを用い た以外は、実施例1と同様にして炭化酸化チ� �ン膜を形成し、フィルム状遮光板を作製し� �。フィルムの表面粗さは、サンドブラスト� �よるマット処理において形成した。各面の� �厚は200nmと共通であり(総膜厚は400nm)、各面� �膜の製法も同じである。この結果を表2に示� ��。
 表2中のフィルム状遮光板は、表面抵抗値が 示すように、何れも導電性を示している。よ って、静電気の帯電による粉塵吸着の問題は 発生しにくいといえる。
 表2中のフィルム状遮光板は、その炭化酸化 チタン膜のX線回折測定から、何れも実施例1� ��同様に結晶性に優れた膜が得られているこ� ��がわかった。また、炭化酸化チタン膜の表� ��の表面粗さ(Ra)は何れも0.32μmであった。よ� �て、表2中のフィルム状遮光板の400~800nmにお� ��る正反射率の平均値は、表面粗さが小さか� ��た実施例1~11のフィルム状遮光板と比べて小 さい。しかし、表2中の実施例と比較例とを� �較すると正反射率でも相違がみられる。す� �わち、実施例8~12は、本発明の組成範囲の炭� ��酸化チタン膜を用いて作製した本発明のフ� ��ルム状遮光板であるが、O/Ti原子数比が本発 明の組成範囲を逸脱した炭化酸化チタン膜を 用いた比較例6のフィルム状遮光板と比べて� �波長400~800nmにおける平均反射率の平均が低� �。よって実施例8~12のフィルム状遮光板の方� ��光学部材として有用である。また、このフ� ��ルム状遮光板は、膜がフィルム基材に対し� ��強く付着している。よって、耐久性に優れ� ��ため、シャッターなどの光学部材に特に有� ��である。さらに実施例8~12のフィルム状遮光 板は、平均光学濃度も4.0以上であるため完全 な遮光性を有している。
 一方、比較例6は、膜のフィルム基材に対す る付着力が弱く、この面でも光学部材として 利用できない。比較例7は、O/Ti原子数比が、� ��発明の組成範囲より多く含まれる炭化酸化� ��タン膜を用いたフィルム状遮光板であるが� ��波長400~800nmにおける平均光学濃度が3.83であ るため、十分な遮光性を有していない。また 比較例8は、C/Ti原子数比が、本発明の組成範� ��より少ない炭化酸化チタン膜を用いたフィ� ��ム状遮光板である。波長400~800nmにおける平� ��反射率は、同じフィルム基材を用いて作製� ��た実施例8~12と比べて高く、270℃の加熱試験 における変色もみられた。よって、リフロー 工程で組み立てるような光学部材として利用 することはできない。

(実施例13~17、比較例9~11)
 フィルム表面の表面粗さ(Ra)が0.17μmであり� �厚みが50μmであるポリイミド(PI)フィルムを� �いた以外は、実施例1と同様にして炭化酸化� ��タン膜を形成し、フィルム状遮光板を作製� ��た。フィルムの表面粗さは、サンドブラス� ��によるマット処理において形成した。各面� ��膜厚は180nmと共通であり(総膜厚は360nm)、各� ��の膜の製法も同じである。結果を表3に示す 。
 表3中のフィルム状遮光板は、表面抵抗値が 示すように、何れも導電性を示している。よ って、静電気の帯電による粉塵吸着の問題は 発生しにくいといえる。
 表3中のフィルム状遮光板は、炭化酸化チタ ン膜のX線回折測定から、何れも実施例1と同� ��に結晶性に優れた膜が得られていることが� ��かった。また、表3中のフィルム状遮光板は 、炭化酸化チタン膜の表面の表面粗さ(Ra)が� �れも0.15μmであった。よって、表3中のフィル ム状遮光板において、400~800nmにおける正反射 率の平均値は、表面粗さが小さかった実施例 1~11のフィルム状遮光板と比べて小さい。し� �し、表3中の実施例と比較例とを比較すると� ��反射率でも相違がみられる。すなわち、実� ��例13~17は、本発明の組成範囲にある炭化酸� �チタン膜を用いた本発明のフィルム状遮光� �であるが、O/Ti原子数比が本発明の組成範囲� ��逸脱した比較例9のフィルム状遮光板と比べ て、波長400~800nmにおける平均反射率の平均が 低い。よって実施例13~17のフィルム状遮光板� ��方が、光学部材として有用である。このフ� ��ルム状遮光板は、膜がフィルム基材に対し� ��強く付着している。よって、耐久性に優れ� ��ため、シャッターなどの光学部材に特に有� ��である。実施例13~17のフィルム状遮光板は� �平均光学濃度も4.0以上であるため完全な遮� �性を有している。
 一方、比較例9は、膜のフィルム基材に対す る付着力が弱く、この面でも光学部材として 利用できない。比較例10は、O/Ti原子数比が、 本発明の組成範囲より多く含まれる炭化酸化 チタン膜を用いたフィルム状遮光板であるが 、波長400~800nmにおける平均光学濃度が3.71で� �るため、十分な遮光性を有していない。ま� �、比較例11は、C/Ti原子数比が、本発明の組� �範囲より少ない炭化酸化チタン膜を用いた� �ィルム状遮光板である。波長400~800nmにおけ� �平均反射率は、同じフィルム基材を用いて� �製した実施例13~17と比べて高く、金色を呈し ていた。よって、光学部材として利用するこ とができない。

(実施例18~22、比較例12~14)
 フィルム表面の表面粗さ(Ra)が0.72μmであり� �厚みが100μmであるポリエチレンナフタレー� �(PEN)フィルムを用いた以外は、実施例1と同� �にして炭化酸化チタン膜を形成してフィル� �状遮光板を作製した。フィルムの表面粗さ� �、サンドブラストによるマット処理におい� �形成した。各面の膜厚は180nmと共通であり(� �膜厚は360nm)、各面の膜の製法も同じである� �結果を表4に示す。
 表4中のフィルム状遮光板は、表面抵抗値が 示すように、何れも導電性を示している。よ って、静電気の帯電による粉塵吸着の問題は 発生しにくいといえる。
 表4中のフィルム状遮光板は、炭化酸化チタ ン膜のX線回折測定から、何れも実施例1と同� ��に結晶性に優れた膜が得られていることが� ��かった。また、表4中のフィルム状遮光板は 、炭化酸化チタン膜の表面の表面粗さ(Ra)が� �れも0.69μmであった。よって、表4中のフィル ム状遮光板の400~800nmにおける正反射率の平均 値は、表面粗さが小さかった実施例1~11のフ� �ルム状遮光板と比べて全体的に小さい。し� �し、表4中の実施例と比較例とを比較すると� ��反射率でも相違がみられる。すなわち、実� ��例18~22は、本発明の組成範囲にある炭化酸� �チタン膜を用いた本発明のフィルム状遮光� �であるが、O/Ti原子数比が本発明の組成範囲� ��逸脱した比較例12のフィルム状遮光板と比� �て、波長400~800nmにおける平均反射率が低い� �よって実施例18~22のフィルム状遮光板の方が 、光学部材として有用である。このフィルム 状遮光板は、膜がフィルム基材に対して強く 付着しており、耐久性に優れるため、シャッ ターなどの光学部材に特に有用である。実施 例18~22のフィルム状遮光板は、平均光学濃度� ��4.0以上であるため完全な遮光性を有してい� ��。
 一方、比較例12は、膜のフィルム基材に対� �る付着力が弱く、この面でも光学部材とし� �利用できない。比較例13は、O/Ti原子数比が� �本発明の組成範囲より多く含まれる炭化酸� �チタン膜を用いたフィルム状遮光板である� �、波長400~800nmにおける平均光学濃度が3.73で� ��るため、十分な遮光性を有していない。ま� ��、比較例14は、C/Ti原子数比が、本発明の組� ��範囲より少ない炭化酸化チタン膜を用いた� ��ィルム状遮光板である。波長400~800nmにおけ� ��平均反射率は、同じフィルム基材を用いて� ��製した実施例18~22と比べて高く、金色を呈� �ていた。よって、光学部材として利用する� �とができない。

(実施例23~25、比較例15)
 表5には、厚みが188μmであるポリエチレンテ レフタレート(PET)フィルム(厚み3μmのアクリ� �ハードコートがフィルムの両面に施されて� �る)を用いた以外は、実施例1と同様にして、 その片面のみに炭化酸化チタン膜を形成して フィルム状遮光板を作製した。成膜するフィ ルム面は、サンドブラストによるマット処理 において表面凹凸を形成し、その表面粗さ(Ra )を0.20μmとした。炭化酸化チタン膜は実施例1 と同じターゲットを使用し、酸素を0.05%ほど� ��合したアルゴンガスを成膜ガスとして用い� ��条件で成膜した。成膜ガスに酸素を混合せ� ��に成膜した実施例1の膜と比べて、酸素が多 めで炭素が少なめに含まれた膜が得られたが 、本発明の組成範囲内であった。膜厚は、400 nm(実施例23)、310nm(実施例24)、262nm(実施例25)、 245nm(比較例15)と変えたものを作製した。結果 を表5に示す。
 表5中のフィルム状遮光板は、膜表面の表面 抵抗値が示すように、何れも導電性を示して いる。よって、静電気の帯電による粉塵吸着 の問題は発生しにくいといえる。
 表5中のフィルム状遮光板の膜は、何れも弱 い回折ピークが観察され、実施例1~22の膜と� �べて結晶性に劣ってはいるが、何れも結晶� �であることを確認した。結晶膜であるため� �同様の条件で評価した膜の密着性について� �十分であった。また、表5中のフィルム状遮� ��板は、炭化酸化チタン膜の表面の表面粗さ( Ra)が何れも0.18μmであった。よって、表5中の� ��ィルム状遮光板において、400~800nmにおける� ��反射率の平均値は、表面粗さが小さかった� ��施例1~11のフィルム状遮光板と比べて全体的 に小さい。また、実施例23~25は、膜の総膜厚� ��本発明の範囲内であるが、波長400~800nmにお� ��る平均光学濃度は4.0以上であり、十分な遮� ��性を示した。
 これに対して、比較例15は、膜厚が本発明� �範囲よりも薄く、平均光学濃度は4.0未満で� �り、十分な遮光性を示さず、光学部材とし� �利用することができない。
 よって、片面に膜を形成する場合でも、260n m以上の膜厚が必要であるといえる。

(比較例16)
 実施例1において、ターゲットと基板間距離 を200mmと広げた以外は同じ条件で、同じ構造� ��フィルム状遮光フィルムを試作した。
 得られた膜は、組成がC/Ti原子数比が0.92、O/ Ti原子数比が0.57であり、実施例1の膜と比べ� �酸素の含有量が多く含まれることがわかっ� �が、本発明の組成範囲内であった。波長400~8 00nmにおける平均反射率は37.5%であり、平均光 学濃度も4.0を超えていた。270℃の大気加熱試 験における膜の色味変化もみられなかった。
 しかし、XRD測定による膜の結晶性評価では� ��図6に示すようなX線回折パターンとなり、� �は非晶質構造となっていることがわかった� �同様の条件で評価した膜の密着性について� �、膜剥がれが見られ、光学部材として利用� �きないことがわかった。

(比較例17)
 実施例24において、C/Ti原子数比が0.99でO/Ti� �子数比が0.05の炭化酸化チタン焼結体ターゲ� ��トを用いたことと、成膜時のスパッタリン� ��ガス中への酸素混合量を0.10%に変えた以外� �同じ製造条件で、膜厚・膜構成が実施例24と 同様のフィルム状遮光板を作製した。
 得られた310nmの膜の組成は、C/Ti原子数比が0 .81であり、O/Ti原子数比が0.58であり、本発明� ��規定した膜の組成範囲内であった。
 しかし、膜のX線回折測定では、回折ピーク は観察されず、得られた膜は非晶質構造であ ることがわかった。スパッタリングガス中に 導入した酸素量が多すぎため、プラズマ中に 発生した酸素イオンが、ターゲット基板間の 電界で加速されて膜を衝撃し、結晶膜の育成 を妨げたものと思われる。
 得られた膜の密着性を同様に評価したとこ� ��、膜剥がれがみられた。これは膜が非晶質� ��であったからである。このような遮光膜が� ��がれやすい製品は、光学部材として利用す� ��ことができない。

(比較例18)
 PETフィルムの内部に黒色微粒子を含浸させ� ��得た、従来からあるフィルム状遮光板(ソマ ール社製ソマブラック)を試料として用い、� �れに遮光性薄膜を形成することなく、その� �学濃度、表面抵抗値を評価した。
 その結果、厚み50μmでは、波長400~800nmにお� �る平均光学濃度は4.0以上であったが、厚み� �38μmとなると平均光学濃度は3.7であり、厚み が25nmとなると平均光学濃度は2.5であった。� �れにより、薄くなるほど遮光性はより不十� �になることがわかった。よって、フィルム� �内部に黒色微粒子を含浸させて得たフィル� �状遮光板では、本発明のフィルム状遮光板� �比べて、遮光性も38μm以下になると不十分で あり、シャッターや絞りなどの光学部材とし て利用できないことがわかった。
 また、何れも導電性はないため、静電気が� ��生しやすく、帯電して粉塵を吸着するなど� ��問題が生じやすい。

(実施例26)
 本発明のフィルム状遮光フィルムの重量を� ��定したところ、50μmの厚みを有する遮光板(� ��施例13~17)で70g/m ² 、25μmの厚みを有する遮光板(実施例1~7)で37g/m ² であった。これを同じ厚みのAl製の遮光板と� ��べると、本発明のフィルム状遮光フィルム� ��重量は45%程度であり、本発明の方が明らか� ��軽量であることを確認した。
 よって、本発明のフィルム状遮光フィルム� ��シャッター羽根に用いると、軽量化による� ��電力駆動に対応可能となり、駆動モーター� ��小型化にも貢献できる。このことから、本� ��明のフィルム状遮光フィルムは、高速シャ� ��ターのシャッター羽根材として有用といえ� ��。