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Patent Searching and Data


Title:
GAS FIELD IONIZATION ION SOURCE AND METHOD FOR USING SAME, ION BEAM DEVICE, AND EMITTER CHIP AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2012/017789
Kind Code:
A1
Abstract:
Provided is a gas field ionization ion source having a high emission angle current density. At least the base body of an emitter chip constituting the gas field ionization ion source is a single crystal metal. The tip of the emitter chip has a pyramid shape or a cone shape having a single atom as the vertex thereof. In addition, an extraction voltage applied when helium gas is ionized by the single atom is set to 10 kV or more.

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Inventors:
KAWANAMI Yoshimi (HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION 882, Oaza Ichige, Hitachinaka-sh, Ibaraki 04, 〒3128504, JP)
川浪 義実 (〒04 茨城県ひたちなか市大字市毛882番地 株式会社日立ハイテクノロジーズ 那珂事業所内 Ibaraki, 〒3128504, JP)
MATSUBARA Shinichi (HITACHI LTD., 280, Higashikoigakubo 1-chome, Kokubunji-sh, Tokyo 01, 〒1858601, JP)
松原 信一 (〒01 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目280番地 株式会社日立製作所 中央研究所内 Tokyo, 〒1858601, JP)
MORITANI Hironori (HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION 882, Oaza Ichige, Hitachinaka-sh, Ibaraki 04, 〒3128504, JP)
守谷 宏範 (〒04 茨城県ひたちなか市大字市毛882番地 株式会社日立ハイテクノロジーズ 那珂事業所内 Ibaraki, 〒3128504, JP)
ARAI Noriaki (HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION 882, Oaza Ichige, Hitachinaka-sh, Ibaraki 04, 〒3128504, JP)
荒井 紀明 (〒04 茨城県ひたちなか市大字市毛882番地 株式会社日立ハイテクノロジーズ 那珂事業所内 Ibaraki, 〒3128504, JP)
SHICHI Hiroyasu (HITACHI LTD., 280, Higashikoigakubo 1-chome, Kokubunji-sh, Tokyo 01, 〒1858601, JP)
志知 広康 (〒01 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目280番地 株式会社日立製作所 中央研究所内 Tokyo, 〒1858601, JP)
Application Number:
JP2011/065977
Publication Date:
February 09, 2012
Filing Date:
July 13, 2011
Export Citation:
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Assignee:
HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION (24-14, Nishi Shimbashi 1-chome Minato-k, Tokyo 17, 〒1058717, JP)
株式会社日立ハイテクノロジーズ (〒17 東京都港区西新橋一丁目24番14号 Tokyo, 〒1058717, JP)
KAWANAMI Yoshimi (HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION 882, Oaza Ichige, Hitachinaka-sh, Ibaraki 04, 〒3128504, JP)
川浪 義実 (〒04 茨城県ひたちなか市大字市毛882番地 株式会社日立ハイテクノロジーズ 那珂事業所内 Ibaraki, 〒3128504, JP)
MATSUBARA Shinichi (HITACHI LTD., 280, Higashikoigakubo 1-chome, Kokubunji-sh, Tokyo 01, 〒1858601, JP)
松原 信一 (〒01 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目280番地 株式会社日立製作所 中央研究所内 Tokyo, 〒1858601, JP)
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守谷 宏範 (〒04 茨城県ひたちなか市大字市毛882番地 株式会社日立ハイテクノロジーズ 那珂事業所内 Ibaraki, 〒3128504, JP)
ARAI Noriaki (HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION 882, Oaza Ichige, Hitachinaka-sh, Ibaraki 04, 〒3128504, JP)
荒井 紀明 (〒04 茨城県ひたちなか市大字市毛882番地 株式会社日立ハイテクノロジーズ 那珂事業所内 Ibaraki, 〒3128504, JP)
SHICHI Hiroyasu (HITACHI LTD., 280, Higashikoigakubo 1-chome, Kokubunji-sh, Tokyo 01, 〒1858601, JP)
International Classes:
H01J27/26; H01J9/02; H01J37/08; H01J37/28
Attorney, Agent or Firm:
HIRAKI Yusuke et al. (Kamiya-cho MT Bldg. 19F, 3-20 Toranomon 4-chome, Minato-k, Tokyo 01, 〒1050001, JP)
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Claims: