Um bei mit Edelgas gefullten Entladungsstrecken wie Funken- strecken oder Uberspannungsableitern das jeweils gewunschte Betriebsverhalten wie Zundspannung, Ansprechzeit, statische Ansprechspannung und dynamische Ansprechspannung, Loschspan- nung und Glimmbrennspannung zu gewahrleisten, mussen unter- schiedliche MaQnahmen wie konstruktive Gestaltung der Elek- troden, Art und Druck der Gasfullung und Auswahl der auf den aktiven Oberflachen der Elektroden angeordneten Aktivierungs- masse aufeinander abgestimmt werden. Zur Erzeugung definiti- ver Verhaltnisse ist es dabei weiterhin ublich, auf der In- nenwand des Glas-oder Keramik-Isolators einen oder mehrere Zundstriche anzuordnen und gegebenenfalls eine spezielle Io- nisationsquelle, beispielsweise eine punktfõrmige Ablagerung aus einem radioaktiven Material, vorzusehen. Um eine gasfor- mige Entladungsstrecke so auszubilden, da8 sie auch ohne Ver- wendung einer zusatzlichen Ionisationsquelle eine sehr gerin- ge Zundverzogerung im dunklen Raum aufweist, ist bereits die Verwendung einer aus mehreren Komponenten bestehenden Elek- trodenaktivierungsmasse bekannt, die außer der ublichen Ba-

siskomponente in Form eines oder mehrerer Alkali-oder Erdal- kali-Halogenide und/oder Natrium-und/oder Kaliumsilikat in einer Menge von 30 bis 60 Gew. t als weitere Komponenten eine Bariumverbindung und ein sogenanntes Ubergangsmetall in me- tallischer Form wie beispielsweise Titan in einer Menge von jeweils 5 bis 25 Gew. 8 und eine Oxydverbindung aus Cæsium und einem sogenannten Ubergangsmetall wie beispielsweise Wolfram, also Casium-Wolframat (Cs2WO4) in einer Menge von ebenfalls etwa 5 bis 25 Gew% enthalt. Bei Verwendung einer derartigen Elektrodenaktivierungsmasse hat sich gezeigt, daß die Zund- spannung der ersten Zundung nach 24-stundiger Dunkellagerung der Entladungsstrecke innerhalb der von den Benutzern derar- tiger Entladungsstrecken geforderten Bandbreite liegt (DE 197 01 816 A1).

Fur gasgefullte Entladungsstrecken wie Funkenstrecken oder Uberspannungsableiter werden ublicherweise Elektroden aus ei- ner Nickel-Eisen-oder einer Nickel-Eisen-Kobalt-Legierung oder aus Kupfer eingesetzt. Es ist ublich, die åuBere Ober- flache dieser Elektroden nach dem Verloten der Elektroden mit dem Isolator und noch vor der Durchfuhrung weiterer Arbeits- gange wie Anschweißen von Anschlu$dråhten und Durchfuhrung von Prufungen zum Schutz gegen Oxidation zu vernickeln. Hier- zu werden gleichzeitig eine Vielzahl von Entladungsstrecken nach dem Lötprozeß als Ganzes einer galvanischen Behandlung unterzogen (WO 90/90 03 677/EP 0 436 529 B1).

Ausgehend von einer gasgefullten Entladungsstrecke mit den Merkmalen des Oberbegriffes des Patentanspruches 1 liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, den Herstellungsprozeß von radioaktivfreien Entladungsstrecken mit geringer Zundverzoge-

rung im dunklen Raum zu vereinfachen und dabei den Anforde- rungen an hochste Anspruche bezuglich der Konstanz der elek- trischen Werte dieser Entladungsstrecken zu genugen.

Zur Lösung dieser Aufgabe ist gemma6 der Erfindung vorgesehen, daß die Elektroden der Entladungsstrecke sowohl auf ihre au- Serhalb des Entladungsraumes als auch auf ihrer innerhalb des Entladungsraumes liegenden Oberflache mit einer Nickelschicht versehen sind, deren Schichtdicke wenigstens 5 us betragt, und daß die Elektrodenaktivierungsmasse außer Titan zusatz- lich Nickel in metallischer Form enthalt.

Die Erfindung sieht also einerseits vor, fur die in Rede ste- henden Entladungsstrecken ganz vernickelte Elektroden zu ver- wenden. Diese Vernickelung kann erfolgen, bevor die einzelnen Elektroden fur den Zusammenbau zur Entladungsstrecke verein- zelt werden. Diese fruhzeitige Vernickelung der Elektroden ermoglicht es, die Entladungsstrecke als Ganzes in wenigen Arbeitsschritten, die zeitlich unmittelbar hintereinander ab- laufen konnen, herzustellen. Der fließende Herstellungspro- zens, bei dem Einzelteile in mehreren Herstellungsschritten einzeln behandelt werden (Aufbringen einer Aktivierungsmasse auf die Elektroden, Zusammenfugen von Isolator und Elektro- den, Entgasen, Loten, Bedrucken, Anschweißen von Anschluß- drahten, Durchfuhrung von Messungen) wird also nicht durch einen artfremden Herstellungsschritt unterbrochen. Dies wirkt sich günstig auf die Herstellungskosten aus.-Andererseits berucksichtigt die Erfindung, da6 die Ganzvernickelung der Elektroden nicht ohne Einfluß auf die elektrischen Eigen- schaften der Entladungsstrecke bleibt, weil im Gasraum der Entladungsstrecken die Oberflache der Elektroden nicht mehr

von einer Kupfer-oder Nickel-Eisen-Schicht, sondern von ei- ner Nickelschicht gebildet wird. Um diesen EinfluQ zu stabi- lisieren, ist vorgesehen, da6 die Nickelschicht eine Mindest- dicke aufweist, damit die Nickelschicht nicht bei Entladungs- vorgangen partiell vollstandig abgetragen wird und daS fur die Elektrodenaktivierungsmasse als Basismaterial ein Kalium- oder Natrium-Silikat ausgewahlt ist und die Elektrodenakti- vierungsmasse als Komponente des in metallischer Form vorlie- genden Ubergangsmetalles außer Titan auch Nickel enthalt, um die Fixierung der Elektrodenaktivierungsmasse auf den Elek- trodenoberflachen im Hinblick auf Wechselstrombelastungen mit 20 A, Stoßstrombelastungen von 20 kA und bezuglich der Le- bensdaueranforderungen zu gewahrleisten. Eine moglichst ge- ringe Nickelabtragung bei Entladungsvorgangen kann noch da- durch unterstutzt werden, daß fur die Gasfullung reines Argon oder ein Gemisch aus Argon und Neon verwendet wird. Weiterhin wirkt sich hierfür eine moglichst niedrige Brennspannung gun- stig aus. Eine Optimierung der Brennspannung und auch der Loscheigenschaften sowie der Bereitstellung von Ladungstra- gern laßt sich im ubrigen durch eine Zugabe eines Alkalihalo- genids oder eines Alkaliborates zu der Elektrodenaktivie- rungsmasse als weiterer Komponente in eine Menge von 5 bis 15 Gew. % erzielen.

Ein Ausfuhrungsbeispiel der neuen Entladungsstrecke in Form eines Uberspannungsableiters ist in der Figur dargestellt.

Der Uberspannungsableiter besteht aus den beiden napfformig gestalteten Elektroden 1 und 2 aus Kupfer, die stirnseitig in einen Keramikisolator 3 eingelotet sind. Vor dem Einloten sind die Elektroden 1 und 2 durch eine galvanische Behandlung

auf ihrer gesamten Oberflache mit einer Nickelschicht 11 ver- sehen worden, die eine Dicke von etwa 6 Zm aufweist.

Die aktiven Oberflachen der Elektroden 1 und 2 sind mit einer Aktivierungsmasse 4 beschichtet, die in oberflåchliche Ver- tiefungen der Elektroden eingebettet ist. Bei dieser Aktivie- rungsmasse handelt es sich um eine Masse auf der Basis von Alkali oder Erdalkali-Silikaten, beispielsweise einer Mi- schung von Natriumsilikat und Kaliumsilikat mit Anteilen von jeweils 20 Gew. %. Als weitere Komponenten sind eine Barium- verbindung wie Barium-Aluminium in einer Menge von 20 Gew. %, Titan und Nickel als Ubergangsmetall in metallischer Form in einer Menge von jeweils 10 Gew. %, eine Oxidverbindung aus Ca- sium und Wolfram in einer Menge von ebenfalls 10 Gew. % und ein Natriumtetraborat in einer Menge von ebenfalls 10 Gew. % vorgesehen.

Der Uberspannungsableiter ist im ubrigen mit einer Gasfullung 5 auf der Basis von Argon oder Argon und Neon versehen.

Auf die Innenwand des Isolators 3 sind noch Graphitzundstri- che 6 aufgebracht, bei denen es sich um sogenannte Mittel- zundstriche handelt, die an keine der beiden Elektroden ange- bunden sind. Anstelle von Mittelzundstrichen konnen auch an die eine oder abwechselnd an beide Elektroden angebundene Zunstriche eingesetzt werden.