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Patent Searching and Data


Title:
GAS LOCK, AND COATING APPARATUS COMPRISING A GAS LOCK
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2012/055510
Kind Code:
A1
Abstract:
The invention relates to a gas lock for separating two gas chambers, said gas lock allowing gases to be separated using minimal space and without contacting the product/feedstock/transport system. The gas lock of the invention is characterized in that at least one flow manipulation means is provided in a duct of the gas lock. The invention also relates to a coating apparatus comprising a gas lock of the invention. Furthermore, possible uses of the disclosed gas lock are indicated.

Inventors:
POCZA DAVID (DE)
REBER STEFAN (DE)
ARNOLD MARTIN (DE)
SCHILLINGER NORBERT (DE)
Application Number:
PCT/EP2011/005289
Publication Date:
May 03, 2012
Filing Date:
October 20, 2011
Export Citation:
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Assignee:
FRAUNHOFER GES FORSCHUNG (DE)
POCZA DAVID (DE)
REBER STEFAN (DE)
ARNOLD MARTIN (DE)
SCHILLINGER NORBERT (DE)
International Classes:
C23C16/52; C23C16/455; C23C16/54
Foreign References:
US5919310A1999-07-06
US4438724A1984-03-27
DE4313284A11994-10-27
US4285668A1981-08-25
US5443860A1995-08-22
DE3050805C11985-03-14
Other References:
None
Attorney, Agent or Firm:
PFENNING, MEINIG & PARTNER (DE)
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Claims:
Patentansprüche

Gasschleuse (I) zur Trennung zweier Gasräume (Gl, G2), umfassend

a) mindestens einen Einströmkörper (K) , der mindestens einen Einlasskanal (H) für ein Gas aufweist, der in eine erste Seite des

Eins römkörpers (K) mündet,

b) eine beabstandet zur ersten Seite des mindestens einen Einströmkörpers (K) angeordnete Wandung (A) , wobei zwischen der Wandung (A) und dem mindestens einen Einströmkörper (K) ein Spalt (B) , der in fluidischer Verbindung mit dem Einlasskanal (H) steht, ausgebildet ist,

c) mindestens zwei Ausströmöffnungen (il, i2) für das Gas, die in fluidischer Verbindung mit dem Spalt (B) stehen,

d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t, dass in der den mindestens einen Einströmkörper (K) begrenzenden ersten Seite und/oder in der der ersten Seite des Einströmkörpers (K) zugewandten Seite der Wandung (A) mindestens ein Mittel zur Manipulation der Strömung im Spalt (B) vorhanden ist.

Gasschleuse (I) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die den mindestens einen Einströmkörper (K) begrenzende erste Seite und/oder die der ersten Seite des Einströmkörpers (K) zugewandte Seite der Wandung (A) mindestens eine, bevorzugt eine Mehrzahl von der ersten Seite des Einströmkörpers ausgehende und in diesen hineinragende bzw. von der der ersten Seite des Einströmkörpers ( ) zugewandten Seite der Wandung (A) ausgehende und in die Wandung (A) hineinragende Aussparungen (E) aufweist .

Gasschleuse (I) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die den mindestens einen Einströmkörper (K) begrenzende erste Seite und/oder die der ersten Seite des Einströmkörpers (K) zugewandte Seite der Wandung (A) mindestens eine, bevorzugt eine Mehrzahl von der ersten Seite des Einströmkörpers ausgehende und in den Spalt (B) hineinragende bzw. von der der ersten Seite des Einströmkörpers (K) zugewandten Seite der Wandung (A) ausgehende und in den Spalt (B) hineinragende Erhebungen (F) aufweist .

Gasschleuse (I) nach den beiden vorhergehenden Ansprüchen, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine Aussparung (E) und mindestens eine Erhebung (F) vorhanden sind.

Gasschleuse (I) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass sie bezüglich des mindestens einen Einlasskanals (H) spiegelsymmetrisch und/oder bezüglich einer parallel zur Gasschleuse verlaufenden Achse rotationssymmetrisch aufgebaut ist.

Gasschleuse (I) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Ausströmöffnungen (il, i2) so angeordnet sind, dass die Ausströmrichtung der ersten Ausström- Öffnung (il) der Ausströmrichtung der zweiten Ausströmöffnung entgegengesetzt ist.

Gasschleuse (I) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Spalt (B) im Wesentlichen lotrecht zum mindestens einen Einlasskanal (H) verläuft.

Gasschleuse (I) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine Möglichkeit zum Absaugen von Gas (AS) vorhanden ist.

Gasschleuse (I) nach vorhergehendem Anspruch, dadurch gekennzeichnet, dass der mindestens eine Einströmkörper (K) mindestens zwei Einlasskanäle

(Hl, H2, ... , Hn) für ein Gas aufweist und der Spalt (B) in fluidischer Verbindung mit den mindestens zwei Einlasskanälen (Hl, H2 , Hn) steht, wobei jeweils eine Möglichkeit zur Absaugung von Gas (AS) zwischen den Einlasskanälen

(Hl, H2, ... , Hn) angeordnet ist.

Gasschleuse (I) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass auf der dem Einströmkörper (K) abgewandten Seite der Wandung (A)

a) mindestens ein weiterer Einströmkörper (K' ) angeordnet ist, oder

b) eine Mehrzahl von abwechselnd angeordneten Einströmkörpern (K' , K' ' , ... , Kn) und Platten (A2, A3, An-1) angeordnet ist.

Beschichtungsvorrichtung oder Wärmebehandlungs- Vorrichtung, umfassend mindestens eine Gasschleuse nach einem der vorhergehenden Ansprüche . Verwendung einer Gasschleuse nach einem der Ansprüche 1 bis 11 zur Aufrechterhaltung eines be stehenden Konzentrationsgradienten eines und/oder mehrerer Gase und/oder zur Aufrechterhaltung einer Separierung verschiedener Gase in den zwei Gasräumen (Gl, G2 ) .

Description:
Gasschleuse sowie Beschichtungsvorrichtung mit einer

Gasschleuse

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Gasschleuse zur Trennung zweier Gasräume, die es ermöglicht, mit minimalem räumlichem Aufwand die Trennung von Gasen ohne Berührung mit dem Produkt/Edukt/Transport-System zu erreichen. Die erfindungsgemäße Gasschleuse zeichnet sich dadurch aus, dass in einem Strömungskanal der Gasschleuse mindestens ein Mittel zur Manipulation der Strömung vorhanden ist. Ebenso betrifft die vorliegende Erfindung eine Beschichtungsvorrichtung, die eine erfindungsgemäße Gasschleuse umfasst. Zudem werden Verwendungsmöglichkeiten der erfindungsgemäßen Gasschleuse angegeben.

Zur Kostenreduzierung werden Beschichtungsanlagen mit dem Bestreben konstruiert, kontinuierliche Edukt- und Produktströme zu erzeugen. Auf zahlreichen Gebieten stellt jedoch die Trennung der Prozessgase in der An- läge und die Trennung der Umgebung von den Prozessgasen ein Problem dar.

Bei kontinuierlichen Anlagen, welche auf herkömmliche Dichtungskonzepte verzichten müssen, treten im Wesentlichen folgende Schwierigkeiten auf: a) Ein Vermischen der Gase aus verschiedenen Prozessschritten muss ausgeschlossen werden, da dies das Produkt unbrauchbar machen würde (beispielsweise kann der Schichtaufbau signifikant beeinflusst und das Produkt zerstört werden) . b) Die meist toxischen und/oder explosiven Prozessgase müssen zuverlässig von der Umgebung getrennt werden, um Sicherheitsrisiken zu vermeiden (Vergiftungen, Explosionen) .

c) Die Trennung der Gase muss detektierbar sein, ohne den Druck in toxischen und/oder explosiven Gasen messen zu müssen. Ein Versagen des Dichtungskonzeptes kann so detektiert werden, bevor sich die Prozessgase vermischen oder aus der Anlage strömen (Prozessabbrüche zerstören das Produkt, Ex-geschützte Geräte stellen einen enormen Kostenfaktor im Anlagenbau dar und werden umgangen) .

d) Das Konzept muss räumlich kompakt gehalten werden, um die Anlagen wirtschaftlich zu gestalten.

e) Das Konzept darf keine Abnutzung generieren, um die Up-Time der Anlage so hoch wie möglich zu halten und die Produkte nicht zu beschädigen (kein mechanischer Kontakt zum Transportsystem oder dem Produkt) . Bisher wurden die oben genannten Problematiken durch konventionelles Abdichten der Gasräume durch gasdichte Kammern (mittels mechanischen Dichtungen) gelöst. Dies führt jedoch dazu, dass das Transportsystem nicht kontinuierlich funktionieren kann und die Gefahr der Abnutzung oder Beschädigung (siehe Punkt e) ) besteht .

Eine weitere Möglichkeit ist das Verwenden von Gasduschen. Hier besteht jedoch das Problem, dass diese in den derzeit üblichen Formen zu ungerichtet sind und keine, für hochreine Prozesse ausreichend tolerante und wirtschaftliche Gastrennung erzeugen. Dies führt zu den oben genannten Problemen a) , b) und c) und zu niedriger Up-Time der Anlage.

Ausgehend hiervon ist es daher Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Gasschleuse mit minimalem räumlichem Aufwand zu schaffen, mit der die Trennung von Gasen ohne Berührung mit dem Produkt/Edukt/Transport- System ermöglicht werden kann.

Diese Aufgabe wird bezüglich der Gasschleuse mit den Merkmalen des Patentanspruchs 1 gelöst. Mit Patentan- spruch 11 wird eine erfindungsgemäße Beschichtungs- vorrichtung bereitgestellt, die eine erfindungsgemäße Gasschleuse umfasst. Mit Patentanspruch 12 werden Verwendungszwecke der erfindungsgemäßen Gasschleuse angegeben. Die abhängigen Patentansprüche stellen da- bei vorteilhafte Weiterbildungen dar.

Erfindungsgemäß wird somit eine Gasschleuse zur Trennung zweier Gasräume bereitgestellt, die a) mindestens einen Einströmkörper, der mindestens einen Einlasskanal für ein Gas aufweist, der in eine erste Seite des Einströmkörpers mündet, b) eine beabstandet zur ersten Seite des Einströmkörpers angeordnete Wandung, wobei zwischen der Wandung und dem Einströmkörper ein Spalt, der in fluidischer Verbindung mit dem Einlasskanal steht, ausgebildet ist, c) mindestens zwei Ausströmöffnungen für das Gas, die in fluidischer Verbindung mit dem Spalt stehen, umfasst, wobei in der den Einströmkörper begrenzenden ersten Seite und/oder in der der ersten Seite des Einströmkörpers zugewandten Seite der Wandung mindestens ein Mittel zur Erzeugung einer turbulenten Strömung im Spalt (B) vorhanden ist.

Die Wandung kann dabei z.B. als Platte ausgebildet sein. Ebenso ist es möglich, dass die Wandung eine gewisse Krümmung aufweist, beispielsweise die Wandung eines Rohres ist. Der Einströmkörper ist dabei im zuletzt genannten Fall bevorzugt so ausgebildet, dass seine dem Spalt zugewandte Begrenzung ebenso gekrümmt ist, so dass der Spalt an jeder Stelle die gleiche Breite aufweist.

Die Wandung kann dabei ebenso bezüglich des Einströmkörpers beweglich ausgebildet sein, so dass z.B. der zwischen Einströmkörper und Wandung befindliche Spalt in seiner Dimension variiert, z.B. verbreitert oder verschmälert werden kann (vertikale Beweglichkeit) . Z.B. kann die Wandung in Form einer Platte beweglich gegenüber dem Einströmkörper ausgebildet sein; für den Fall, dass der Einströmkörper ringförmig um ein Rohr ausgebildet ist, wobei die äußere Rohrbegrenzung die Wandung darstellt, ist es auch denkbar, dass der Einströmkörper z.B. durch Stellglieder in seinem Umfang variiert werden kann, so dass dadurch die Breite des Spalts verändert werden kann.

Alternativ oder zusätzlich hierzu ist es ebenso möglich, wenn die Wandung bzw. die Platte in einer Richtung bezüglich des Einströmkörpers beweglich ausgebildet ist, bei der sich die Breite des Spaltes nicht verändert (horizontale Beweglichkeit) . Bei einer derartigen Ausgestaltung ist die Wandung in einer Richtung, die 90° zur oben beschriebenen vertikalen Bewegungsrichtung versetzt ist, beweglich ausgebildet.

Zudem ist es möglich, dass die Wandung kontinuierli ausgebildet ist, ebenso können jedoch auch Unterbre chungen der Wandung vorhanden sein.

Das Prinzip der Erfindung besteht somit darin, dass an den zu dichtenden Stellen z.B. Längsspalte geschaffen werden, durch die Inertgas (oder für den Prozess und die Umgebung unkritisches Gas) zugeführt wird, das dem Prozessgas bzw. dem Um- gebungsgas entgegenströmt. Die Strömungsgeschwindigkeit bzw. der Partialdruck des Inertoder unkritischen Gases ist dabei so hoch, dass eine Gegendiff sion des Prozessgases bzw. des Umgebungsgases über die Schleusenlänge inner- halb vorgegebener Grenzen unterbunden wird. Die

Gegendiffusion hat einen exponentieilen Verlauf, d.h. man kann sie nur unterdrücken/vermindern, aber streng genommen nicht „unterbinden" . De facto werden Verdünnungsver- hältnisse > 10 6 erreicht (auch werthöhere sind möglich) , die im technischen Sinn die Ausströ- mung „unterbinden" .

optional an den jeweiligen Endbereichen der Schleuse weitere Druckmessstellen integriert werden, mit denen der Ausströmdruck aus der Schleuse kontrolliert werden kann,

optional ist es möglich, die Gasschleuse doppelt oder mehrfach auszulegen und durch eine oder mehrere vorhandene Absaugvorrichtungen die Trennwirkung zu erhöhen.

Erfindungsgemäß ist nunmehr vorgesehen, dass innerhalb des zwischen dem Einströmkörper und der Wandung ausgebildeten Spaltes ein oder mehrere Mittel vorhanden sind, die geeignet sind, die bei Betrieb der Gasschleuse entstehende Strömung des Fluids innerhalb des Spaltes zu manipulieren, z.B. verwirbeln, d.h. geeignet sind, beispielsweise eine turbulente Strömung zu erzeugen. Vorzugsweise sind diese Mittel passiv ausgelegt, d.h. die im Spalt entstehende Strömung wird vorzugsweise nicht durch aktive Agitation des Mittels beeinflusst, sondern dadurch, dass der Querschnitt des Spaltes in Strömungsrichtung des Fluids variiert und dadurch lokal unterschiedliche Strömungsgeschwindigkeiten erzeugt werden, die letztendlich zur Verwirbelung des Fluids beitragen. Diese erzeugten Verwirbelungen haben eine Sperrwirkung für der Strömungsrichtung entgegenströmendes Fluid, so dass mit der erfindungsgemäßen Gasschleuse eine effiziente und dauerhafte Trennung zweier Gasräume bei Betrieb aufrechterhalten werden kann. Insbesondere können die Mittel zur Erzeugung der Turbulenzen z.B. als geeignete Einbauten ausgelegt sein, die einen z.B. turbulenten Bereich erzeugen, mit dem gezielt Druckstufen in der Schleuse etabliert werden können. Das mindestens eine Mittel kann dabei in der ersten Seiet des Einströmkörpers oder dieser Seiet des

Einströmkörpers zugewandten Seite der Wandung ange- ordnet sein. Ebenso ist es möglich, dass Mittel sowohl im Einströmkörper als auch der Wandung angeordnet sind.

Ein Überprüfen der Schleusenfunktion wird möglich, indem überprüft wird, ob der Ausströmdruck des

Inertgases oder unkritischen Gases höher ist als der an den Schleusenenden gemessene Druck.

Die erfindungsgemäße Gasschleuse löst bzw. beseitigt alle oben genannten Probleme a) bis e) . Sie stellt die Grundlage für Anlagen dar, deren TransportSystem kontinuierlich arbeitet und deren Gasräume voneinander getrennt sind. Die Erfindung ermöglicht eine Minimierung der räumlicher Ausdehnung der Gasschleuse. Dadurch ist eine optimale Prozess- und Sicherheitskontrolle gegeben. Ferner ist es mit der Erfindung möglich, eine Anlage welche kontinuierlich betrieben wird und/oder mit toxischen und/oder explosiven Gasen arbeitet, in einer normalen ArbeitsUmgebung zu installieren. Dabei können alle sicherheitsrelevanten Kriterien eingehalten werden und die Anlagenkosten reduziert werden.

Dabei ist es bevorzugt, dass die den Einströmkörper begrenzende erste Seite und/oder die der ersten Seite des Einströmkörpers zugewandte Seite der Wandung als Mittel zur Manipulation der Strömung mindestens eine, bevorzugt eine Mehrzahl von der ersten Seite des Einströmkörpers ausgehende und in diesen hineinragen- de bzw. von der der ersten Seite des Einströmkörpers zugewandten Seite der Wandung ausgehende und in die Wandung hineinragende Aussparungen aufweist. Die Aussparungen können beispielsweise als Vertiefungen des Einströmkörpers bzw. in der Wandung ausgebildet sein. Alternativ oder zusätzlich hierzu kann die den

Einströmkörper begrenzende erste Seite und/oder die der ersten Seite des Einströmkörpers zugewandte Seite der Wandung als Mittel zur Erzeugung einer turbulenten Strömung mindestens eine, bevorzugt eine Mehrzahl von der ersten Seite des Einströmkörpers ausgehende und in den Spalt hineinragende bzw. von der der ersten Seite des Einströmkörpers zugewandten Seite der Wandung ausgehende und in den Spalt hineinragende Erhebungen aufweisen. Diese Erhebungen können als Ge- genstück zu den oben angesprochenen Aussparungen ausgebildet sein.

Optional können somit innerhalb des Spaltes der

Schleuse Strömungsfallen (beispielsweise durch Nuten oder Aussparungen) oder Strömungsbrecher (beispielsweise Auswölbungen) geschaffen werden, welche strömungsmechanisch einen Gasrückzug (beispielsweise durch Jet-Effekte) unterbinden und dadurch die erforderliche Schleusenlänge reduzieren können. Diese beiden speziellen Ausgestaltungen ermöglichen es, innerhalb des Spaltes Verwirbel ngen beim Durchströmen des Inertgases zu erzeugen, so dass eine Effizienzsteigerung der Sperrwirkung der Gasschleuse und so eine Verkürzung der Baulänge erzielt werden kann.

Insbesondere ist es vorteilhaft, wenn mindestens eine Aussparung' und mindestens eine Erhebung in Kombination miteinander vorhanden sind.

Die Gasschleuse kann bezüglich des mindestens einen Einlasskanals spiegelsymmetrisch aufgebaut sein. Eine spiegelsymmetrische Ausbildung der Gasschleuse sieht beispielsweise vor, dass die Ausströmöffnungen so angeordnet sind, dass die AusStrömrichtung der ersten Ausströmöffnung der Ausströmrichtung der zweiten Ausströmöffnung entgegengesetzt ist.

In einer weiter bevorzugten Ausführungsform kann die Gasschleuse rotationssymmetrisch ausgebildet sein. In einer derartigen Ausführungsform ist die Gasschleuse ringförmig um einen zylindrischen Körper angeordnet. Dabei dient die Oberfläche des zylindrischen Körpers als Wandung. Der zylindrische Körper kann dabei beispielsweise ein Rohr sein, das im Inneren hohlförmig ist. Zwischen der Wandung und dem Einströmkörper ist dabei ein ringförmiger Spalt, der um den zylindrischen Körper verläuft, ausgebildet, durch den das Gas strömen kann.

Ebenso ist es möglich, dass die Gasschleuse beide Symmetrieformen aufweist, d.h. sowohl Spiegelsymmetrisch, beispielsweise bezüglich der Messkammer, als auch rotationssymmetrisch, d.h. beispielsweise auf einem Rohr, wobei die Rohroberfläche als Wandung dient, ausgebildet ist.

Bevorzugt ist außerdem, dass der Spalt im Wesentlichen lotrecht zum mindestens einen Einlasskanal verläuft. Ebenso sind jedoch gewinkelte Verläufe denkbar .

In einer speziellen Ausgestaltungsform der Gasschleuse ist vorgesehen, dass mindestens eine Möglichkeit zum Absaugen von Gas vorhanden ist. Diese kann beispielsweise zwischen zwei vorhandenen Einströmkanälen angeordnet sein. Eine bevorzugte Ausführungsform sieht vor, dass in der den Einströmkörper begrenzenden ersten Seite und/oder in der der ersten Seite des Einströmkörpers zugewandten Seite der Wandung mindestens eine bevor- zugt mindestens zwei Messkammern zur Messung mindestens einer physikalischen und/oder chemischen Eigenschaft des Gases (z.B. Druck und/oder Temperatur oder die chemische Zusammensetzung) vorhanden sein können. Ferner ist bevorzugt, dass auf der dem Einströmkörper abgewandten Seite der Wandung mindestens ein weiterer Einströmkörper angeordnet ist oder eine Mehrzahl von abwechselnd angeordneten Einströmkörpern und Wandungen angeordnet ist. Diese Ausführungsform sieht vor, dass auch in vertikaler Richtung eine Aufteilung der

Schleuse in mehrere Teilgasschleusen vorgenommen werden kan .

Erfindungsgemäß wird ebenso eine Beschichtungsvor- richtung oder eine WärmebehandlungsVorrichtung beansprucht, die mindestens eine zuvor beschriebene Gasschleuse umfasst. Die Beschichtungsvorrichtung um- fasst dabei zwei Gasräume, die von der erfindungsgemäßen Gasschleuse getrennt sind, d.h. die Gasschleuse ist zwischen den Gasräumen angeordnet.

Erfindungsgemäß werden ebenso Verwendungszwecke der erfindungsgemäßen Gasschleuse angegeben. Insbesondere eignet sich diese zur Aufrechterhaltung eines beste- henden Konzentrationsgradienten eines und/oder mehrerer Gase und/oder zur Aufrechterhaltung einer Separierung verschiedener Gase zwischen zwei Gasräumen.

Die vorliegende Erfindung wird anhand der nachfolgenden Figuren näher erläutert, ohne die Erfindung auf die dargestellten speziellen Ausgestaltungen zu be- schränken .

In Figur 1 ist eine aus dem Stand der Technik bekannte Gasschleuse dargestellt. Die Gasschleuse I dient dabei der Trennung zweier Gasräume Gl und G2 und ist insofern zwischen diesen Gasräumen angeordnet. Um- fasst ist ein Einströmkörper K, der einen mittig im Einströmkörper K angeordneten Einlasskanal H aufweist. Gegenüber dem Einströmkörper K ist eine als Platte A ausgebildete Wandung angeordnet, so dass zwischen der Platte A und dem Einströmkörper K ein Spalt B ausgebildet wird. Mit il und i2 werden die jeweiligen Ausströmöffnungen, die sich an den Ausgängen der Gasschleuse I zu den Gasräumen Gl und G2 befinden, bezeichnet. Das Inertgas/unkritische Gas il bzw. i2 strömt den Gasräumen Gl bzw. G2 entgegen. Mit PI und P2 sind die jeweiligen Gasdrücke in den jeweiligen Gasräumen Gl und G2 bezeichnet. P3 ist der Druck des Inertgases innerhalb der Zuleitungen des Schleusengases. Die Gasschleuse funktioniert umso effektiver, je höher P3 gegenüber PI bzw. P2 ist. Diese Gasschleuse wird, wie es auch schon in der Figur angedeutet ist, derart betrieben, dass der Druck des einströmenden Gases P3 größer sein muss als die in den jeweiligen Gasräumen Gl und G2 vorherrschenden Drücke PI und P2. Diese Schleuse lässt sich nur sehr ungenau betreiben, da eine sehr hohe Druckdifferenz zwischen P3 und PI und/oder P2 benötigt wird, um einen stofflichen Gradienten der Gaszusammensetzung in den Räumen Gl und G2 aufrechtzuerhalten.

Diese grundlegenden, zur Figur 1 gemachten Ausführungen (z.B. die Bezugszeichen) gelten uneingeschränkt auch für die nachfolgend dargestellten erfindungsgemäßen Ausführungsformen . Die Figuren 2 bis 16 stellen allesamt erfindungsgemäße Ausführungsformen einer Gasschleuse dar.

Eine erste erfindungsgemäße Ausführungsform einer Gasschleuse ist in Figur 2 dargestellt. Diese Ausführungsform unterscheidet sich von der in Figur 1 dargestellten Ausführungsform, dass zusätzlich eine oder mehrere (im vorliegenden Fall sechs) Aussparungen E in die Unterseite des Einströmkörpers K eingebracht sind, wobei diese den Einströmkanal H flankieren.

Diese Aussparungen E können beispielsweise in Form von Einkerbungen oder Vertiefungen in der Oberfläche des Einströmkörpers K ausgebildet sein. Im Falle einer spiegelsymmetrischen Ausbildung der Gasschleuse sind die Einkerbungen E parallel zueinander verlaufend, beispielsweise in Querrichtung zu den jeweiligen mit den Pfeilen angedeuteten Hauptströmungsrichtungen des

Inertgases ausgebildet. Die Aussparungen E können so- wohl vom Eins römkörper K als auch der Platte A

(nicht dargestellt) aus erfolgen. Diese fungieren als Strömungsfallen und unterbinden einen Gasrücktransport unter turbulenten oder kritischen Betriebsbedingungen. Zusätzlich kann durch eine solche Konstrukti- on die Schleusenlänge (Länge des Spaltes B in Richtung der jeweiligen Gasräume Gl und G2) minimiert werden .

In Figur 3 ist das umgekehrte Konzept zur Ausführung gemäß Figur 2 dargestellt. Anstelle der in Figur 2 dargestellten Aussparungen E weist die Ausführungsform gemäß Figur 3 von der Unterseite des

Einströmkörpers K ausgehende und in den Spalt B hinein ragende Erhebungen F auf. Dies kann sowohl vom Einströmkörper K als auch der Platte A aus erfolgen.

Diese funktionieren als Strömungsbrecher und verhin- dern einen Gasrücktransport unter turbulenten oder kritischen Betriebsbedingungen. Zusätzlich kann durch eine solche Konstruktion die Schleusenlänge minimiert werden .

Figur 4 betrifft eine Kombination der in den Figuren 2 und 3 dargestellten Maßnahmen. Die hier dargestellte Gasschleuse I weist einen Einströmkörper K auf, der sowohl Aussparungen E als auch Erhebungen F auf- weist. Ebenso ist die Möglichkeit gegeben, dass die

Aussparungen E und Erhebungen F in der Platte A ausgebildet sein können (nicht dargestellt).

In Figur 5 ist eine weitere Form einer Gasschleuse I ausgeführt, die aus zwei Teilgasschleusen GSl und GS2 gebildet ist. Diese beiden Teilgasschleusen GSl und GS2 sind dabei im Wesentlichen analog einer einzelnen Gasschleuse gemäß einer Ausführungsform der Figur 2 ausgebildet und werden aneinander gereiht, um die gesamte Gasschleuse I zu bilden. Diese Ausgestaltung der beiden Teilgasschleusen GSl und GS2 ist jedoch lediglich beispielhafter Natur, ebenso können diese beiden Teilgasschleusen GSl und/oder GS2 gemäß einer beliebigen, in den voranstehenden Figuren dargestellten Ausführungsform ausgebildet sein und somit auch die oben angesprochenen Strömungsbrecher, z.B. in Form von Erhebungen oder Aussparungen umfassen. Eine derartige Ausführungsform, die auf das in Fig. 3 vorgestellte Konzept zurückgreift, ist in Fig. 6 dargestellt, während Fig. 7 eine Gasschleuse I zeigt, die aus zwei Teilgasschleusen GSl und GS2 gebildet ist, wobei innerhalb des Spaltes B sowohl Erhebungen F als auch Vertiefungen E als Mittel zur Erzeugung turbulenter Strömungen vorhanden sind. Zwischen den beiden Teilgasschleusen GSl und GS2 der Ausführungsformen der Fig. 5 bis 7 ist eine Absaugmöglichkeit AS vorge- sehen, über die zugeführtes Gas abgesaugt werden kann. Die beiden Teilgasschleusen GS1 und GS2 verfügen dabei jeweils über separate GasZuführungen Hl (bei GS1) bzw. H2 (bei GS2 ) . Im Betrieb einer derar- tigen Gasschleuse I gilt für die Drücke, die in den jeweiligen Regionen der Gasschleuse bzw. den zwei Gasräumen Gl und G2 vorherrschen, P3>Pl, P3>P5, P4>P2 und P4>P5, wobei die Messstellen der Drücke in der Gasschleuse I mit den eingekreisten Bezugszeichen versehen sind.

Figur 8 stellt eine weitere Ausführungsform der Erfindung dar, wobei hier eine Gasschleuse I dargestellt ist, die eine n-fache Aneinanderreihung von Teilgasschleusen GS1, GS2, GSn umfasst. Zwischen jedem der vorhandenen Teilgasschleusen ist eine Absaugmöglichkeit AS für Gas vorgesehen. Die hier dargestellte Ausführungsform stellt die logische Erweiterung der in Figur 7 dargestellten Ausführungsformen um n weitere Teilgasschleusen dar.

In Figur 9 ist eine weitere Ausführungsform der erfindungsgemäßen Gasschleuse dargestellt, die im Gegensatz zu den voranstehenden Ausführungsformen der Gasschleuse anstelle eines einzelnen Einlasskörpers zwei Einlasskörper K und K' aufweist, wobei diese Einlasskörper durch eine Platte A voneinander getrennt sind. Die jeweiligen Einlasskanäle H bzw. H' münden dabei jeweils in Richtung auf die zwischen den beiden Einlasskörpern K und ' liegende Platte A. Insofern betrifft diese Ausführungsform der vorliegenden Erfindung eine um einen weiteren Einlasskörper erweiterte Ausführungsform gemäß Figur 4. Eine entsprechende Erweiterung, wie hier dargestellt, ist jedoch auch mit den in den Figuren 2 und 3 dargestellten Gasschleusen I möglich. Die beiden Einlasskörper K und ' müssen dabei nicht, wie in Figur 13 darge ¬ stellt, symmetrisch bezüglich der Platte A

beabstandet angeordnet sein, es ist auch eine asymmetrische Beabstandung der beiden Einlasskörper K von der Platte A möglich. Die sonstigen Bezugszeichen sind denen der Figur 4 entlehnt, wobei die in der zusätzlichen Gasschleuse, die durch den Einströmkörper K' und die Platte A gebildet wird, mit einem Strich versehen sind. Dabei kann die zwischen den beiden Einströmkörper K und K ' liegende Platte A beweglich ausgebildet sein. Diese kann, wie in der Figur rechts durch v angedeutet, beispielsweise horizontal beweglich führbar sein. Zusätzlich oder alternativ hierzu ist jedoch ebenso eine vertikale Beweglichkeit der Platte A denkbar, so dass beispielsweise die Breite eines der beiden Spalte B oder B' auf 0 reduziert und somit eine Gasschleuse verschlossen werden kann.

Durch diese in Figur 9 dargestellte Gasschleuse ist eine Abtrennung von insgesamt vier Gasräumen Gl bis G4 voneinander möglich. Die entsprechenden Druckverhältnisse, die bei Betrieb der Gasschleuse herrschen müssen, sind wie auch schon in den voranstehenden Figuren mit dem jeweiligen Referenzzeichen PI bis P6 angegeben, wobei die jeweiligen idealen Drücke in der Figur dargestellt sind.

Die Aus führungs form der Gasschleuse, bei der mehrere Einlasskörper K, K', Kn vorhanden sind, kann auf jedes der in Figur 1 bis 8 dargestellten Schleusen- Prinzipien übertragen werden. Lediglich als Beispiel hierfür zeigt Figur 10 eine weitere Ausgestaltung eine weitere Ausgestaltung einer erfindungsgemäßen Gasschleuse I, die einer Verdoppelung der in Figur 8 dargestellten Gasschleuse entspricht, wobei ein wei- terer Einströmkörper K' mit den entsprechenden Ausgestaltungen (d.h. auch hier sind beispielsweise Ab- Saugmöglichkeiten vorhanden etc.), ausgebildet ist. Zu den prinzipiellen abgebildeten Bestandteilen wird auch auf die Ausführungen zur Figur 8 verwiesen. Die zwischen den beiden Einströmkörpern K und K' angeord- nete Platte A kann gemäß den Ausführungs formen der

Figur 9 ausgebildet sein.

Das in Figur 9 angesprochene Konzept einer Gasschleuse, die mehr als einen Einströmkörper K aufweist, ist ebenso, wie in Figur 11 in einer speziellen Ausgestaltungsform näher erläutert, um eine vertikale Dimension beliebig erweiterbar. Hier ist eine Gasschleuse I dargestellt, die aus drei Teilgasschleusen L, M und N aufgebaut ist. Die Teilgasschleuse L mit einem Einströmkörper K ist dabei der in Figur 4 dargestellten Ausführungs form nachempfunden. Der Übersichtlichkeit halber wird in dieser Figur auf die näheren Bezugszeichen verzichtet; die Gasschleusen sind dabei allesamt wie in Figur 4 dargestellt ausgebil- det . Ebenso können bezüglich der Prinzipien der Mittel zur Erzeugung von Turbulenzen auch auf die in den Fig. 2 und 3 dargestellten Prinzipien zurückgegriffen werden. Die Teilgasschleuse L mit dem Einströmkörper K wird durch eine beweglich angeordnete Platte AI be- grenzt. An die Platte AI schließt sich die zweite

Teilgasschleuse M an, die zwischen den Teilgasschleusen L und N gelegen ist. Diese Teilgasschleuse wird auf der einen Seite durch die Platte AI, auf der anderen Seite durch die Platte A2 begrenzt. Auch die Platte A2 ist dabei beweglich ausgebildet, gemäß der

Darstellung in der Figur in horizontaler Richtung. Der Einströmkörper K' der Teilgasschleuse M ist dabei so ausgebildet, dass er Auslasskanäle auf beiden Seiten aufweist, d.h. Auslasskanäle in Richtung der Platte AI und der Platte A2. Die Teilgasschleuse N ist durch einen Einströmkörper K' ' gebildet, der spiegelsymmetrisch zur ersten Teilgasschleuse L ausgebildet ist.

Figur 12 zeigt schließlich die Erweiterung des in Fi- gur 11 vorgestellten Konzepts in Form einer multiparallelen Mehrfachschleuse für n bewegliche Platten AI... An. Anstelle einer einzelnen Teilgasschleuse M, die zwischen zwei terminierenden Teilgasschleusen L und N beinhaltet ist, wie dies in Figur 11 darge- stellt ist, weist die Ausführungsform gemäß Figur 16 n verschiedene Teilgasschleusen auf, die jeweils durch eine Platte A voneinander separiert sind. Die die Teilgasschleuse Μΐ.,.Μη bildenden Einströmkörper sind dabei dem Einströmkörper K ' der Teilgasschleuse gemäß Figur 11 nachempfunden. Diese Ausführungsform ermöglicht die Separierung von insgesamt bis zum G2n verschiedenen Gasräumen. Die weiteren Details einer derartigen mul iparallelen Mehrfachschleuse, insbesondere hinsichtlich der Beweglichkeit der Platten A ist bereits in Figur 11 ausführlich beschrieben.

Selbstverständlich ist ebenso die Möglichkeit gegeben, dass die in den Figuren 11 und 12 dargestellten Schleusen gemäß einer der in den Figuren 2 und 3 dar- gestellten Ausführungsformen gestaltet sind.

In Figur 13 ist eine Übertragung des zuvor in Figur 11 dargestellten Konzeptes auf die Ausführungsform gemäß Fig. 10 dargestellt. Mit anderen Worten wird die in Figur 10 beschriebene Gasschleuse I, die n Absaugmöglichkeiten AS aufweist, in vertikaler Richtung um eine weitere, dritte Teilgasgasschleuse N ergänzt. Bezüglich der weiteren Details sei auf die Ausführungen gemäß Fig. 10 und 11 verwiesen, die auch für Fig. 13 uneingeschränkt gelten. Das in Figur 12 dargestellte Konzept der vertikalen Erweiterung der Gasschleuse lässt sich ebenso mit der in Fig. 10 bzw. 13 vorgestellten Gasschleuse fortsetzen. Die hier in Fig. 14 dargestellte Gasschleuse weist nebeneinander angeordnete horizontale Teilgasschleusen mit jeweils dazwischenliegenden Absaugmöglichkeiten auf sowie n in vertikaler Richtung angeordnete Teilgasschleusen mit jeweils dazwischenliegenden Platten A. Schleusenanzahl n in horizontaler und n in vertikaler Richtung kann dabei gleich oder verschieden sein. Dies hat auch Gültigkeit für die Ausführung gemäß Fig. 11.

Bei allen zuvor gemachten Ausführungen kann die Plat- te A bezüglich des Einströmkörpers oder der Einströmkörper in fixiertem Abstand angeordnet, aber auch beweglich ausgebildet sein, so dass eine Variation der Spaltbreite und/oder eine Variation der horizontalen Position der Wandung relativ zum Einströmkörper mög- lieh ist.

Figur 15 zeigt eine rotationssymmetrische Ausbildung der Gasschleuse. Hierbei ist die Gasschleuse I durch einen rotationssymmetrisch ausgebildeten Einström- körper K, der um ein Rohr R angeordnet ist, gebildet.

Dabei dient die äußere Wandung A des Rohrs R als Wandung bzw. Begrenzung. Von der Oberfläche A des Rohrs R und der innen liegenden Seite des Einströmkörpers K wird dabei der Spalt B ausgebildet. Auch somit ist eine Trennung der hier dargestellten beiden Gasrohre

Gl und G2 möglich. Angedeutet ist die Möglichkeit mehrerer Gaseinlässe C sowie einer zentral angeordneten Messkammer C sowie diese flankierende Gaseinlässe Hl und H2. Insofern ist die Ausführungsform gemäß Fi- gur 15 sowohl rotationssymmetrisch (bezüglich des

Mittelpunktes des Rohres bzw. des Einströmkörpers K) als auch spiegelsymmetrisch bezüglich der Messkammer C. Diese Ausführungsform stellt jedoch lediglich ein Beispiel für eine rotationssymmetrische Ausbildung der GasSchleusenanordnung dar, für den Einströmkörper K kommen auch alle anderen in den Figuren 2 bis 15 dargestellten Varianten der Ausbildung eines

Einströmkörpers K in Frage.

In Figur 16 ist eine Ausführungsform dargestellt, in der das Rohr R ca. in der Mitte liegend des Einströmkörpers K unterbrochen ist. In der in Figur 16 dargestellten Ausführungsform liegt diese Unterbrechung auf Höhe der Messkammer C bzw. der Möglichkeit der Absaugung AS. Für diesen Fall liegt der Gasraum G2 im Inneren des Rohres R, wobei die Gasräume Gl und G2 voneinander getrennt angeordnet sein können. Dies kann beispielsweise durch einen Verschluss des Rohres bewerkstelligt werden.

In den beiden letzten Figuren sind aus Gründen der Übersichtlichkeit die in Spalt 3 angeordneten Mittel zur Manipulation der Strömungen nicht dargestellt.

Figur 17 zeigt eine Beschichtungsvorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung, in die mehrere erfindungsgemäße Gasschleusen integriert sind. Aus Gründen der Übersichtlichkeit sind die erfindungsgemäßen Ausführungsformen der Gasschleusen in diesem Fall nicht dargestellt .

In einer ersten Ausführungsform besitzt die Beschichtungsvorrichtung zwei Beschichtungskammern G5 und G6, welche jeweils eine Absaugung besitzen (durch den Pfeil angedeutet) . Diese Beschichtungskammern G5 und G6 können auf dem gleichen Druckniveau arbeiten, müssen dies jedoch nicht. Dargestellt ist ein Längs- schnitt durch die Beschichtungsvorrichtung von der Seite. Gl, G2, G3 und G4 können in diesem Fall die Umgebung darstellen, weshalb für die Drücke gilt:

P(G1) = P(G2) = P(G3) = P(G4) . P(G5) kann größer oder kleiner als P(G1), P(G2), P(G3) oder P(G4) sein.

Gleiches gilt für P(G6). Auf jeden Fall ist der Druck in allen vier Schleusen größer als P(G1), P(G2),

P(G3), P(G4), P(G5) und P(G6) . Damit ist der Gasraum G5 und der Gasraum G6 von der Umgebung getrennt.

Das Substrat kann nun kontinuierlich durch die Anlage bewegt werden (und zwar berührungsfrei ) , ohne die Gastrennung der Räume G5 und G6 zu verlieren (es muss aber nicht kontinuierlich bewegt werden) . In dem gezeigten Fall würde das Substrat oben und unten beschichtet (es könnte aber auch einseitig beschichtet werden, hierfür müsste die Anlage nur den Teil oberhalb des Substrates (Beschichtung oben) , bzw. unter- halb des Substrates (Beschichtung unten) aufweisen) .

In einer zweiten Ausführungsform ist es jedoch ebenso denkbar, dass ein zylinderförmiges Substrat, beispielsweise ein Rohr, durch die dargestellte Beschichtungsvorrichtung geführt wird. In diesem Fall sind die Gasräume Gl und G3, G2 und G4 sowie G5 und G6 miteinander verbunden; es liegen in diesem Fall nur zwei Gasschleusen, die zylinderförmig um das Rohr ausgebildet sind, vor.

In jedem Fall sind die Gasschleusen jedoch wie voranstehend beschrieben erfindungsgemäß ausgebildet.