以下、本発明の基板用ガラス組成物につい� ��さらに説明する。
 本発明の基板用ガラス組成物は、酸化物基� ��の質量%表示で、ガラス母組成として、
SiO ₂              55~75%
Al ₂ O ₃              5~15%
MgO             0~4%
CaO             5.5%超12%以下
SrO             5~18%
BaO             0~13%
ZrO ₂              0.5~6%
Na ₂ O             0~10%
K ₂ O              0~15%
Na ₂ O+K ₂ O          6~20%
MgO+CaO+SrO+BaO 17~25%
CaO+SrO         15~25%
からなる。

 本発明の基板用ガラス組成物において、上� ��組成に限定する理由は以下の通りである。
 以下において、特に断りのない限り質量%を 単に%で表す。
 SiO ₂ :ガラスの骨格を形成する成分で、55%未満で� �ガラス耐熱性が悪くなる。75%超では熱膨張� �数が低下し、ガラスの高温粘性が増加して� �解性が悪化するおそれがある。
 SiO ₂ の含有量は、55~65%であることが好ましい。よ り好ましくは55~60%、さらに好ましくは55~57%で ある。

 Al ₂ O ₃ :ガラス転移点を上げ、耐熱性を向上させる� �果があるが、5%未満ではこの効果が少ない。 他方、15%超ではガラスの高温粘性が増加し、 溶解性が低下する。
 Al ₂ O ₃ の含有量は、5~10%であることが好ましい。よ� ��好ましくは5~8%、さらに好ましくは5~7%であ� �。また、黄変を抑制することを考慮すると8~ 10%であることがより好ましい。

 MgO:0~4%であるとガラス溶解時の粘性を下げ� �溶解を促進する作用がある。この含有率が4% よりも高いと、得られる基板用ガラスの研磨 性が低下するおそれがある。
 MgOの含有量は、0~3.5%であることが好ましい� ��より好ましくは0~3%である。

 CaO:5.5超12%以下であると基板用ガラスの研磨 性を向上させる効果がある。また、ガラスの 転移点の向上と熱膨張係数の増大、およびガ ラスの高温粘性を下げ、比重を軽くする効果 がある。その含有量が5.5%以下ではガラスの� �膨張係数が小さくなりすぎる。また、研磨� �の向上が期待できない。他方、12%超では熱� �張係数が大きくなりすぎ、かつ失透温度が� �くなりすぎる。
 CaOの含有量は、6~10%であることが好ましい� �より好ましくは6~8%、さらに好ましくは6~7.5%� ��ある。黄変を抑制することを考慮すると5.8~ 10%であることが好ましい。より好ましくは5.8 ~8%、さらに好ましくは5.8~7.5%である。

 SrO:CaOと同様に、5~18%であると基板用ガラス� ��研磨性の向上、ガラスの転移点の向上と熱� ��張係数の増大、電気抵抗を増加させる効果� ��ある。その含有量が5%未満ではガラス転移� �が低くなりすぎる。また、研磨性の向上が� �待できない。他方、18%超ではガラスの熱膨� �係数が大きくなりすぎ、比重が大きくなり� �ぎる。
 SrOの含有量は、8~15%であることが好ましい� �より好ましくは8~13%、さらに好ましくは9~12%� ��ある。

 BaO:CaO、SrOと同様に、13%以下であると基板用 ガラスの研磨性の向上、ガラスの転移点の向 上と熱膨張係数の増大、およびガラスの高温 粘性を下げる効果があるため、含有させるこ とができる。しかしその含有量が13%超ではガ ラスの熱膨張係数が大きくなりすぎ、比重が 重くなりすぎるため13%以下である。
 BaOの含有量は、10%以下であることが好まし� ��。より好ましくは9%以下であり、さらに好� �しくは8%以下である。
 また、環境負荷を考慮すると、BaOは実質的� ��含有しないことが特に好ましい。

 MgO+CaO+SrO+BaO:これらが合量で17%未満ではガラ スの高温粘性が上昇しすぎ、ガラス転移点が 低くなりすぎる。他方、これらが合量で25%超 では比重が大きくなりすぎる。
 これらは合量で18~25%であることが好ましく� ��19~25%であることがより好ましい。

 CaO+SrO:CaO+SrO+BaOが合量で15%未満では基板用ガ ラスの研磨性の向上が図れない。また、ガラ スの高温粘性が上昇しすぎ、ガラス転移点が 低くなりすぎる。他方、これらが合量で25%超 では比重が大きくなりすぎる。
 この中でも、基板用ガラスの研磨性がより� ��上するので、CaO+SrOは15~25%である。15~23%であ ることが好ましく、15~20%であることがより好 ましい。

 Na ₂ O+K ₂ O:所定の熱膨張係数とするために、少なくと� ��一種は必須である。これらの合量が6%未満� �は熱膨張係数が小さくなりすぎる。他方合� �が20%超ではガラスの耐熱性が低下する。
 これらの合量が7~17%であることが好ましく� �より好ましくは7~15%である。黄変を抑制する ことを考慮すると7~14%であることが好ましく� ��さらに好ましくは7~13%である。
 この中でNa ₂ Oは0~10%であり、K ₂ Oは0~15%である。Na ₂ Oが2~10%であり、K ₂ Oが1~13%であると基板用ガラスの研磨性がより 向上するので好ましい。黄変を抑制すること を考慮するとNa ₂ Oが2~8%であり、K ₂ Oが1~10%であると好ましく、Na ₂ Oが3~8%であり、K ₂ Oが1.5~10%であるとより好ましい。

 一方、Li ₂ Oは、ガラスの耐熱性を下げるため、不可避� �純物以外実質的に含有しない。

ZrO ₂ :ガラスの耐熱性及び化学耐久性の向上のた� �に使用するが、0.5%未満ではその効果が少な� ��。他方、その含有量が6%超ではガラスの失� �温度が高くなりすぎ、熱膨張係数が低くな� �すぎる。
 ZrO ₂ の含有量は、1~5%であることが好ましい。よ� �好ましくは1~4%、さらに好ましくは1~3.5%であ� ��。

 以上から、本発明の基板用ガラス組成物は� ��酸化物基準の質量%表示で、ガラス母組成と して、
SiO ₂              55~65%
Al ₂ O ₃              5~10%
MgO             0~3.5%
CaO             5.8~10%
SrO             8~15%
BaO             0~10%
ZrO ₂              1~5%
Na ₂ O             2~10%
K ₂ O              1~13%
Na ₂ O+K ₂ O          7~17%
MgO+CaO+SrO+BaO 18~25%
CaO+SrO         15~23%
からなることが好ましい。
 黄変を抑制することを考慮すると、基板用� ��ラス組成物はガラス母組成として、
SiO ₂              55~65%
Al ₂ O ₃              8~10%
MgO             0~3.5%
CaO             5.8~10%
SrO             8~15%
BaO             0~10%
ZrO ₂              1~5%
Na ₂ O             2~8%
K ₂ O              1~10%
Na ₂ O+K ₂ O          7~14%
MgO+CaO+SrO+BaO 18~25%
CaO+SrO         15~23%

からなり、添加剤としてFe ₂ O ₃ 0.06~0.15%を含有することが好ましい。

 さらに、溶解性を向上するため、B ₂ O ₃ を含有してもよい。ただし、過度に含有する と、基板ガラスの熱膨張係数が低くなり過ぎ るので1.5%未満とすることが好ましい。また� �本発明の基板用ガラス組成物には、B ₂ O ₃ を実質的に含有しないことがより好ましい。

 また、本発明の基板用ガラス組成物の製造� ��、清澄剤としてSO ₃ を添加することが好ましい。SO ₃ 源として、硫酸カリウム(K ₂ SO ₄ )、硫酸ナトリウム(Na ₂ SO ₄ )、硫酸カルシウム(CaSO ₄ )等の硫酸塩をガラス原料に投入することが� �ましいが、製造後の基板用ガラス組成物に� �、清澄剤として添加したSO ₃ の一部が残存する場合がある。製造後の基板 用ガラス組成物における残存量が0.6%超とな� �ような量をガラス原料に投入した場合、製� �時にガラスが再沸するなどしてガラス中に� �泡が残存する傾向がある。
 なお、SO ₃ を清澄剤として使用する際、その添加量が、 SO ₃ として前記ガラス母組成原料100質量部に対し て10質量部超であると、溶解中にガラス融液� ��ら分離してしまい、溶け残ってしまう。ま� ��、0.5質量部未満であると清澄効果が乏しい� ��このため、0.5~10質量部添加するのが好まし� ��。0.5~8質量部がより好ましく、さらに好ま� �くは0.5~4質量部、特に好ましくは0.7~2質量部� ��ある(以下、「質量部」と記した場合、ガラ ス母組成原料100質量部に対する添加量を意味 するものとする。)。
 この場合、基板用ガラス組成物へのSO ₃ 換算の残存量(含有量)は質量%表示で0.001~0.6%� �好ましく、0.002~0.5%がより好ましく、0.005~0.4% がさらに好ましく、0.01~0.4%が特に好ましい。

 本発明の基板用ガラス組成物は、上記成分� ��外にガラスの溶解性、清澄性、成形性を改� ��するため、ガラス母組成原料に対して、SnO ₂ 、As ₂ O ₃ 、Sb ₂ O ₃ 、P ₂ O ₅ 、F、Clが合量で好ましくは2質量部以下、よ� �好ましくは1.5質量部以下となるようにする� �
 また、基板用ガラス組成物の耐久性向上の� ��め、ガラス母組成原料に対して、La ₂ O ₃ 、TiO ₂ 、SnO ₂ 、ZnOが合量で5質量部以下となるように添加� �を添加してもよい。
 さらに、基板用ガラス組成物の色調を調整� ��るため、Fe ₂ O ₃ 、CoO、NiO、Nd ₂ O ₃ 等の着色剤を添加してもよい。このような着 色剤は、ガラス母組成原料に対して、合量で 3質量部以下となるように添加してもよく、1� ��量部以下となるように添加することが好ま� ��い。
 また、溶解性向上の観点から添加剤としてF e ₂ O ₃ が0.06%以上含有されていると好ましい。また� ��ガラス黄変を抑制するためFe ₂ O ₃ が0.15%以下含有されていると好ましい。Fe ₂ O ₃ は好ましくは0.06~0.14%、よりこの好ましくは0. 07~0.13%、さらに好ましくは0.08~0.12%含有される 。
 本発明のガラス組成物のガラス基板は、ガ� ��ス基板表面に銀電極が形成される際に、銀� ��極が形成される側のガラス基板表面から深� ��10μmまでの表層におけるFe ²⁺ の平均含有量がFe ₂ O ₃ 換算で0.0725%以下であることが好ましい。

 本発明の基板用ガラス組成物は、高温粘度� ��従来のPDP基板用ガラスに比べて低くなって� ��ることが好ましい。具体的には、10 ² dPa・sの粘度に相当するガラス融液の温度T ₂ が1570℃以下であることが好ましい。
 粘度10 ² dPa・sは、ガラス融液の粘度が十分低くなっ� �いることを示す基準粘度である。したがっ� �、ガラス融液の粘度が10 ² dPa・sとなる温度T ₂ は、ガラス融液の基準温度である。
 本発明の基板用ガラス組成物は、その溶解� ��程を低温で実施することができる。この結� ��、ガラスの安定した生産が可能となる。ま� ��、溶解工程時の溶解槽の温度が低くなるの� ��溶解槽の寿命が延長する。溶解工程の際に� ��入する燃料の量が少なくなるため、ガラス� ��造コストが下がる。
 T ₂ は、1560℃以下であることが好ましく、より� �ましくは1550℃以下、さらには1540℃以下であ り、1500℃以下であることが特に好ましい。

 本発明の基板用ガラス組成物は、10 ⁴ dPa・sの粘度に相当するガラス融液の温度T ₄ が1200℃以下であることが好ましい。
 粘度が10 ⁴ dPa・sは、ガラスをフロート成形する際の基� �粘度である。したがって、ガラス融液の粘� �が10 ⁴ dPa・sとなる温度T ₄ は、フロート成形工程におけるガラス融液の 基準温度でもある。
 本発明の基板用ガラス組成物は、フロート� ��形工程を従来よりも低温で実施することが� ��きる。この結果、ガラスの安定した成形が� ��能となる。また、フロートバスの寿命が延� ��する。また、フロート槽を加熱するのに要� ��る燃料が少なくなるため、基板ガラスの製� ��コストが下がる。また、フロート槽から引� ��出されるガラスリボンの温度が低くなるの� ��、フロート成形につづいて実施される徐冷� ��程に要するエネルギーが削減される。

 本発明の基板用ガラス組成物は、50~350℃に� ��ける平均熱膨張係数が75×10 ^-7 ~90×10 ^-7 /℃の範囲にある。本発明の基板用ガラス組� �物をPDP基板に使用する場合、PDPを製造する� �に使用するフリット材料やペースト材料と� �て、ガラスの熱膨張係数に対応したものを� �用しなければならない。PDPを製造する際に� �施される焼成工程の温度領域(50~350℃)におい て、熱膨張係数が上記の範囲から逸脱してい るものを選定することは非常に困難である。
 本発明の基板用ガラス組成物は、熱膨張係� ��が80×10 ^-7 ~90×10 ^-7 /℃の範囲にあることがより好ましい。

 本発明の基板用ガラス組成物は、比重が2.9� ��下であることが好ましい。比重が2.9超であ� ��と基板用ガラス組成物が重くなるため、取� ��い上、特に輸送上好ましくない。基板用ガ� ��ス組成物の比重が2.9以下であることは、大� ��の基板において特に重要な特性である。
 本発明の基板用ガラス組成物は、比重が2.8� ��下であることが好ましく、2.75以下であるこ とがより好ましい。

 本発明の基板用ガラス組成物は、ガラス転� ��点Tgが600℃以上である。ガラス転移点が600� �未満であると、呼称40インチのような大型PDP を製造する場合に熱処理によるガラスの収縮 量が十分小さくならない。
 本発明の基板用ガラス組成物は、Tgが615℃� �上であることがより好ましく、さらに好ま� �くは630℃以上である。さらには640℃以上、� �に650℃以上が好ましい。

 本発明の基板用ガラス組成物は、150℃での� ��積抵抗率が10 ¹¹ ω・cm以上であることが好ましい。PDPを製造� �る際、基板ガラスの表面には銀電極が形成� �れる。銀電極に通電した際、通電した電流� �一部が銀電極周辺のガラスを流れるのを防� �するため、基板用ガラス組成物は絶縁性に� �れていることが好ましい。150℃での体積抵� �率が10 ¹¹ ω・cm以上であれば絶縁性に優れており、PDP� �大型化または高密度化した場合であっても� �基板ガラス上に形成した銀電極に通電した� �に通電した電流の一部が該銀電極周辺のガ� �スを流れるおそれがない。
 通常、高温粘度を下げることのみに着目し� ��基板用ガラス組成物の組成を選択した場合� ��150℃での体積抵抗率を10 ¹¹ ω・cm以上にすることが難しい。本発明の基� �用ガラス組成物の場合、150℃でのガラスの� �積抵抗率を10 ¹¹ ω・cm以上に保ちつつ、ガラスの高温粘度を� �げることができる。
 本発明の基板ガラスは、150℃でのガラスの� ��積抵抗率が2×10 ¹¹ ω・cm以上であることが好ましく、5×10 ¹¹ ω・cm以上であることがより好ましい。

 本発明の基板用ガラス組成物は、研磨性の� ��度の一つである磨耗度(FA)が98以上である。� ��って、ガラスの割れや欠け等の破損防止等� ��目的とした面取(端部の研磨)の作業性が高� �。よって生産性が向上し製造コストを低減� �せることができる。
 また、面取品質が向上し、破損率の低減に� ��る歩留まりの向上にも寄与する。また、ガ� ��ス表面への電極形成の際の銀発色防止等を� ��的としたガラス表面の研磨作業性が高い。� ��って、生産性が向上し、製造コストを低減� ��せることができる。
 本発明の基板ガラスは、磨耗度(FA)が100以上 であることが好ましく、105以上であることが より好ましく、105~150であるのが特に好まし� �。

 ここで磨耗度は、次のような測定した値を� ��味するものとする。
 予め質量を測定した測定面積が9cm ² の試料を、円盤状の鋳鉄製平面皿の表面であ って中心より80mmの位置に保持する。そして� �これを水平状態を維持しつつ60回/分で回転� �せた状態で、表面に水20mlに平均粒径20μmの� �ルミナ砥粒を添加して得たラップ液を5分間� ��様に供給する。次に、9.807Nの荷重をかけて� ��ップした後、質量を測定する。そして、ラ� ��プ前後の質量の差から磨耗質量mを求める。
 次に、同じ操作を、日本光学硝子工業会で� ��定された標準試料(BSC7)について行い、同様� ��磨耗質量m ₀ を求める。
 そして、次式より磨耗度(FA)を求める。

 FA=(m/d)/(m ₀ /d ₀ )×100
 式中、dは試料の比重、d ₀ は標準試料(BSC7)の比重を意味する。この比重 は純水を使用したアルキメデス法で測定した 値を意味するものとする。

 次に上記の破損防止等を目的とした面取(研 磨)について説明する。
 本発明において面取とは、基板ガラスを所� ��の大きさに切断した後等において端部に生� ��るエッジ部分を研磨して、例えば図1に示す ように角を落とすように面取断面12を円弧形� ��にすることである(円弧形状に限定されるわ けではなく、他の形状であってもよい。)。
 面取を行う方法は特に限定されない。例え� ��従来公知の方法のように、回転されるホイ� ��ル周面に砥粒部が設けられた砥粒付き回転� ��イールを用いて、板ガラス端部の面取を行� ��ことができる。

 次に上記の銀発色防止等を目的とした基板� ��ガラス表面の研磨について説明する。
 表面に還元層が存在する基板ガラス表面に� ��ペーストを焼成して銀電極を形成すると、� ��該表面が変色する場合があるため、前記還� ��層を研磨して除去する場合がある。
 研磨を行う方法は特に限定されない。例え� ��従来公知の方法のように研磨剤として酸化� ��リウム等を使用し、オスカー式研磨機を用� ��て、基板ガラス表面を研磨することができ� ��。
 一方、研磨と関連して、回転されるコア先� ��に砥粒部が設けられた砥粒付きコアドリル� ��用いて板ガラスを研削し、容易に孔を開け� ��こともできる。

 本発明の基板用ガラス組成物は、研磨性の� ��の尺度として、ビッカース圧子を200gの荷重 で押し込んだ際のクラックの深さが37μm以上� ��あることが好ましい。この場合も容易に面� ��や研磨や孔開を行うことができる。ただし� ��尺度として考えた場合、クラック深さより� ��上記磨耗度の方が研磨に則しているため好� ��しい。
 上記のクラックの深さは、ビッカース圧子� ��押し込んでできる圧痕を垂直に切断し、端� ��において垂直クラック深さを測定する。
 本発明の基板用ガラスは上記のクラックの� ��さが39~100μmであることがより好ましい。
 また、本発明の基板用ガラスは、黄変を抑� ��することを考慮すると、ガラス表面に銀ペ� ��ストを塗布し、焼成を行った後、該銀ペー� ��トを除去した後のガラス表面の黄色着色b ^* が4以下であることが好ましく、3.5以下であ� �ことがより好ましく、0~3であることが特に� �ましい。

 本発明の基板用ガラス組成物によって、� ��えば次のような方法で基板用ガラスを製造� ��きる。すなわち、通常使用される各成分の� ��料を目標成分になるように調合し、これを� ��解炉に連続式に投入し、1200~1400℃で加熱し� ��溶融し、1400~1700℃で清澄した後、この溶融� ��ラスをフロート法により所定の板厚に成形� ��、徐冷後切断することによって、透明なガ� ��ス基板を得る。