以下、本発明のディスプレイパネル用ガラ� ��板について説明する。
 本発明のディスプレイパネル用ガラス板は� ��酸化物基準の質量%表示で、ガラス母組成と して、
 SiO ₂             50.0~73.0、
 Al ₂ O ₃              6.0~20.0、
 B ₂ O ₃                 0~2.0、
 MgO              4.2~9.0、
 CaO               0~6.0、
 SrO               0~2.0、
 BaO               0~2.0、
 MgO+CaO+SrO+BaO  6.5~11.3、
 Li ₂ O               0~2.0、
 Na ₂ O             2.0~18.0、
 K ₂ O                0~13.0、
 Li ₂ O+Na ₂ O+K ₂ O      8.0~18.0、
からなり、熱収縮率(C)が20ppm以下であること� ��特徴とする。

 初めにコンパクションについて説明する。
 コンパクションとは、加熱処理の際にガラ� ��構造の緩和によって発生するガラス熱収縮� ��である。
 本発明において熱収縮率(C)(コンパクション (C))とは、ガラス板を転移点温度Tg+50℃まで加 熱し、1分間保持し、50℃/分で室温まで冷却� �た後、ガラス板の表面に所定の間隔で圧痕� �2箇所打ち、その後、ガラス板を300℃まで加� ��し、1時間保持した後、100℃/時間で室温ま� �冷却した場合の、圧痕間隔距離の収縮率(ppm) を意味するものとする。

 コンパクション(C)について、より具体的に� ��明する。
 本発明においてコンパクション(C)とは、次� ��説明する方法で測定した値を意味するもの� ��する。
 初めに、対象となるガラス板を1600℃で溶融 した後、溶融ガラスを流し出し、板状に成形 後冷却する。得られたガラス板を研磨加工し て100mm×20mm×2mmの試料を得る。
 次に、得られたガラス板を転移点温度Tg+50� �まで加熱し、この温度で1分間保持した後、� ��温速度50℃/分で室温まで冷却する。その後� ��ガラス板の表面に圧痕を長辺方向に2箇所、 間隔A(A=90mm)で打つ。
 次にガラス板を300℃まで昇温速度100℃/時(=1 .6℃/分)で加熱し、300℃で1時間保持した後、� ��温速度100℃/時で室温まで冷却する。そして 、再度、圧痕間距離を測定し、その距離をB� �する。このようにして得たA、Bから下記式を 用いてコンパクション(C)を算出する。なお、 A、Bは光学顕微鏡を用いて測定する。

 C[ppm]=(A-B)/A×10 ⁶

 本発明のディスプレイパネル用ガラス板に� ��いて、上記組成に限定する理由は以下の通� ��である。
 SiO ₂ :ガラスの骨格を形成する成分で、50.0質量%(� �下単に%と記載する)未満ではガラスの耐熱性 および化学的耐久性が低下し、熱膨張係数が 増大するおそれがある。しかし、73.0%超では� ��ラスの高温粘度が上昇し、溶融性が悪化す� ��問題が生じるおそれがある。
 また、密度が2.46g/cm ³ 以下である第1態様とするためには、SiO ₂ の含有率は65.0~73.0%が好ましく、66.0~72.0%であ� ��ことがより好ましく、67.0~71.0%であることが さらに好ましい。
 また、50~350℃の平均熱膨張係数が83×10 ^-7 /℃以下である第2態様とするためには、SiO ₂ の含有率は50.0~65.0%が好ましく、54.0~64.0%であ� ��ことがより好ましく、57.0~64.0%であることが さらに好ましい。

 Al ₂ O ₃ :ガラス転移点を上げ、耐熱性及び化学的耐� �性を向上し、ヤング率を上げる。その含有� �が6.0%未満だとガラス転移点が低下するおそ� ��がある。しかし、20.0%超では、ガラスの高� �粘度が上昇し、溶融性が悪くなるおそれが� �る。また、失透温度が上昇し、成形性が悪� �なるおそれがある。
 また、密度が2.46g/cm ³ 以下である第1態様とするためには、Al ₂ O ₃ の含有率は6.0~15.0%が好ましく、7.0~12.0%である ことがより好ましく、8.0~10.0%であることがさ らに好ましい。
 また、50~350℃の平均熱膨張係数が83×10 ^-7 /℃以下である第2態様とするためには、Al ₂ O ₃ の含有率は15.0~20.0%が好ましく、16.0~20.0%であ� ��ことがより好ましく、17.0~19.0%であることが さらに好ましい。

 B ₂ O ₃ :本発明のディスプレイパネル用ガラス板は� �B ₂ O ₃ 含有率が2%以下と低い。そのためガラス板製� ��時にガラスを溶融する際の、溶解工程、清� ��工程および成形工程での、特に溶解工程お� ��び清澄工程での、B ₂ O ₃ の揮散量が少なく、製造されるガラス基板が 均質性および平坦性に優れる。その結果、高 度の平坦性が要求されるTFTパネル用のガラス 板として使用する場合に、従来のディスプレ イパネル用ガラス板に比べて、ガラス板の研 磨量を少なくすることができる。
 また、B ₂ O ₃ の揮散による環境負荷を考慮しても、B ₂ O ₃ の含有率はより低いことが好ましい。
 また、密度が2.46g/cm ³ 以下である第1態様とするためには、B ₂ O ₃ の含有率は0~1.0%が好ましく、0~0.5%であること がより好ましく、実質的に含有しないことが さらに好ましい。
 また、50~350℃の平均熱膨張係数が83×10 ^-7 /℃以下である第2態様とするためには、B ₂ O ₃ の含有率は0~1.0%が好ましく、0~0.5%であること がより好ましく、実質的に含有しないことが さらに好ましい。
 なお、本発明において「実質的に含有しな� ��」と言った場合、原料等から混入する不可� ��的不純物以外には含有しないこと、すなわ� ��、意図的に含有させないことを意味する。

 MgO:ガラスの溶解時の粘性を下げ、溶解を促 進する効果があるので含有させるが、4.2%未� �だとガラスの高温粘度が上昇し溶融性が悪� �するおそれがある。しかし、9.0%超では、熱� ��張係数およびコンパクション(C)が増大する� ��それがある。
 また、密度が2.46g/cm ³ 以下である第1態様とするためには、MgOの含� �率は5.0~9.0%が好ましく、5.0~8.0%であることが� ��り好ましく、6.0~8.0%であることがさらに好� �しい。
 また、50~350℃の平均熱膨張係数が83×10 ^-7 /℃以下である第2態様とするためには、MgOの� ��有率は4.2~8.0%が好ましく、4.2~7.0%であること がより好ましく、4.2~6.5%であることがさらに� ��ましい。

 CaO:ガラスの溶解時の粘性を下げ、溶解を促 進する効果があるので含有させることができ る。しかし、6.0%超ではガラスの熱膨張係数� �よびコンパクション(C)が増大するおそれが� �る。
 また、密度が2.46g/cm ³ 以下である第1態様とするためには、CaOの含� �率は0%以上2.0%未満が好ましく、0~1.0%である� �とがより好ましく、実質的に含有しないこ� �がさらに好ましい。
 また、50~350℃の平均熱膨張係数が83×10 ^-7 /℃以下である第2態様とするためには、CaOの� ��有率は2.0~6.0%が好ましく、3.0~5.0%であること がより好ましく、4.0~5.0%であることがさらに� ��ましい。

 SrO:ガラスの溶解時の粘性を下げ、溶解を促 進する効果があるので含有させることができ る。しかし、2%超含有するとガラス板の熱膨� ��係数およびコンパクション(C)が増大するお� ��れがある。
 また、密度が2.46g/cm ³ 以下である第1態様とするためには、SrOの含� �率は0~1.0%が好ましく、0~0.5%であることがよ� �好ましく、実質的に含有しないことがさら� �好ましい。
 また、50~350℃の平均熱膨張係数が83×10 ^-7 /℃以下である第2態様とするためには、SrOの� ��有率は0~1.0%が好ましく、0~0.5%であることが� ��り好ましく、実質的に含有しないことがさ� ��に好ましい。

 BaO:ガラスの溶解時の粘性を下げ、溶解を促 進する効果があるので含有させることができ る。しかし、2%超含有するとガラス板の熱膨� ��係数およびコンパクション(C)が大きくなる� ��それがある。
 また、密度が2.46g/cm ³ 以下である第1態様とするためには、BaOの含� �率は0~1.0%が好ましく、0~0.5%であることがよ� �好ましく、実質的に含有しないことがさら� �好ましい。
 また、50~350℃の平均熱膨張係数が83×10 ^-7 /℃以下である第2態様とするためには、BaOの� ��有率は0~1.0%が好ましく、0~0.5%であることが� ��り好ましく、実質的に含有しないことがさ� ��に好ましい。

 MgO、CaO、SrOおよびBaOは、ガラスの溶解温度� ��の粘性を下げ、溶解しやすくするため、合� ��で6.5%以上含有する。しかし、合量で11.3%超� ��はガラスの熱膨張係数およびコンパクショ� ��(C)が増大するおそれがある。
 また、密度が2.46g/cm ³ 以下である第1態様とするためには、MgO、CaO� �SrOおよびBaOの含有率の合計は6.5~10.0%が好ま� �く、6.5~9.0%であることがより好ましく、7.0~8. 0%であることがさらに好ましい。
 また、50~350℃の平均熱膨張係数が83×10 ^-7 /℃以下である第2態様とするためには、MgO、C aO、SrOおよびBaOの含有率の合計は6.5~11.0%が好� ��しく、7.0~11.0%であることがより好ましく、8 .0~10.0%であることがさらに好ましい。

 Li ₂ O:ガラス溶解温度での粘性を下げ、溶解しや� ��くするため含有させることができる。しか� ��、2%超含有するとガラス転移点の低下をも� �らすおそれがある。
 また、密度が2.46g/cm ³ 以下である第1態様とするためには、Li ₂ Oの含有率は0~1.0%が好ましく、0~0.5%であるこ� �がより好ましく、実質的に含有しないこと� �さらに好ましい。
 また、50~350℃の平均熱膨張係数が83×10 ^-7 /℃以下である第2態様とするためには、Li ₂ Oの含有率は0~1.0%が好ましく、0~0.5%であるこ� �がより好ましく、実質的に含有しないこと� �さらに好ましい。

 Na ₂ O:ガラス溶解温度での粘性を下げ、溶解しや� ��くする効果があるので2.0%以上含有させる。 しかし、18.0%超では、熱膨張係数が大きくな� ��おそれがある。
 また、密度が2.46g/cm ³ 以下である第1態様とするためには、Na ₂ Oの含有率は3.0~17.0%が好ましく、5.0~16.0%であ� �ことがより好ましく、5.0~15.5%であることが� �らに好ましい。
 また、50~350℃の平均熱膨張係数が83×10 ^-7 /℃以下である第2態様とするためには、Na ₂ Oの含有率は2.0~12.0%が好ましく、2.5~11.5%であ� �ことがより好ましく、2.5~5.0%であることがさ らに好ましい。

 K ₂ O:Na ₂ Oと同様の効果があるため、0~13.0%含有させる� ��しかし、13.0%超では熱膨張係数が大きくな� �おそれがある。
 また、密度が2.46g/cm ³ 以下である第1態様とするためには、K ₂ Oの含有率は0~12.0%が好ましく、0~8.0%であるこ� ��がより好ましく、0~3.0%であることがさらに� ��ましい。
 また、50~350℃の平均熱膨張係数が83×10 ^-7 /℃以下である第2態様とするためには、K ₂ Oの含有率は0~12.0%が好ましく、0~11.0%であるこ とがより好ましく、5~11.0%であることがさら� �好ましい。

 Li ₂ O、Na ₂ OおよびK ₂ O:ガラス溶解温度での粘性を十分に下げるた� ��に、Li ₂ O、Na ₂ OおよびK ₂ Oを合量で8.0%以上含有させる。しかし、合量� ��18.0%超では、熱膨張係数が大きくなるおそ� �がある。
 また、密度が2.46g/cm ³ 以下である第1態様とするためには、Li ₂ O、Na ₂ OおよびK ₂ Oの含有率の合計は10.0~18.0%が好ましく、10.0~17 .0%であることがより好ましく、13.0~17.0%であ� �ことがさらに好ましい。
 また、50~350℃の平均熱膨張係数が83×10 ^-7 /℃以下である第2態様とするためには、Li ₂ O、Na ₂ OおよびK ₂ Oの含有率の合計は8.0~17.0%が好ましく、8.0~15.0 %であることがより好ましく、10.0~15.0%である� ��とがさらに好ましい。

 本発明のディスプレイパネル用ガラス板は� ��上記母組成以外に、ガラス基板に悪影響を� ��ぼさない範囲で他の成分を含有してもよい� ��具体的には、ガラスの溶解性、清澄性を改� ��するため、ガラス中にSO ₃ 、F、Cl、SnO ₂ を合量で2%以下含有するように、これらの原� ��を母組成原料に添加してもよい。
 また、ガラスの化学的耐久性向上のため、� ��ラス中にZrO ₂ 、Y ₂ O ₃ 、La ₂ O ₃ 、TiO ₂ 、SnO ₂ を合量で5%以下含有させてもよい。これらの� ��ちY ₂ O ₃ 、La ₂ O ₃ 及びTiO ₂ は、ガラスのヤング率向上にも寄与する。
 また、ガラスの色調を調整するため、ガラ� ��中にFe ₂ O ₃ 、CeO ₂ 等の着色剤を含有してもよい。このような着 色剤の含有量は、合量で1質量%以下が好まし� ��。
 また、本発明のディスプレイパネル用ガラ� ��板は、環境負荷を考慮すると、As ₂ O ₃ 、Sb ₂ O ₃ を実質的に含有しないことが好ましい。また 、安定してフロート成形することを考慮する と、ZnOを実質的に含有しないことが好ましい 。

 本発明のディスプレイパネル用ガラス板は� ��ンパクション(C)が20ppm以下である。また、� �ましくは15ppm以下であり、より好ましくは10p pm以下である。
 また、B ₂ O ₃ 含有率が低いので、ガラス製造時におけるB ₂ O ₃ の揮散が少ないことから、ガラス板の均質性 に優れ、平坦性に優れており、成形後のガラ ス板表面の研磨が少なくてすみ、生産性に優 れている。
 また、アルカリ成分を含有しているため、� ��料を溶融しやすく製造が容易である。また� ��清澄剤にSO ₃ を用いるときは、清澄剤効果に優れ、泡品質 に優れる。
 また、TFTパネル用のガラス基板として好適� ��あるが、他のディスプレイ用基板、例えば� ��プラズマディスプレイパネル(PDP)、無機エ� �クトロ・ルミネッセンス・ディスプレイな� �に使用することができる。例えば、PDP用の� �ラス板として使用した場合、従来のPDP用の� �ラス板にくらべて熱膨張係数が小さいため� �熱処理工程におけるガラスの割れを抑制す� �ことができる。
 なお、ディスプレイパネル以外の用途にも� ��いることができる。例えば、太陽電池基板� ��ガラス板としても用いることもできる。

 本発明のディスプレイパネル用ガラス板は� ��度が低い。概ね2.51g/cm ³ 以下程度とすることができる。後述する本発 明の好ましい態様である第1態様とすること� �、2.46g/cm ³ 以下とすることもできる。

 本発明のディスプレイパネル用ガラス板は� ��50~350℃の平均熱膨張係数を概ね86×10 ^-7 /℃以下程度とすることができる。後述する� �発明の好ましい態様である第2態様とするこ� ��で、83×10 ^-7 /℃以下とすることもできる。

 本発明のディスプレイパネル用ガラス板� ��好ましい態様である第1態様および第2態様� �次の通りである。

<第1態様>
 酸化物基準の質量%表示で、ガラス母組成と して、
 SiO ₂             65.0~73.0、
 Al ₂ O ₃              6.0~15.0、
 B ₂ O ₃                 0~1.0、
 MgO              5.0~9.0、
 CaO             0以上2.0未満、
 SrO               0~1.0、
 BaO               0~1.0、
 MgO+CaO+SrO+BaO 6.5~10.0
 Li ₂ O               0~1.0、
 Na ₂ O             3.0~17.0、
 K ₂ O                0~12.0、
 Li ₂ O+Na ₂ O+K ₂ O     10.0~18.0、
からなり、熱収縮率(C)が20ppm以下であり、密� ��が2.46g/cm ³ 以下であるディスプレイパネル用ガラス板で ある。

 密度は2.44g/cm ³ 以下であることが好ましく、2.42g/cm ³ 以下であることがより好ましい。
 このようなガラス母組成を有する本発明の� ��ィスプレイパネル用ガラス板の第1態様は、 密度が2.46g/cm ³ 以下と低いため、特に軽量化や搬送時の割れ 低減の面で好ましい。

<第2態様>
 酸化物基準の質量%表示で、ガラス母組成と して、
 SiO ₂             50.0~65.0、
 Al ₂ O ₃             15.0~20.0、
 B ₂ O ₃                 0~1.0、
 MgO             4.2~8.0、
 CaO               2~6.0、
 SrO               0~1.0、
 BaO               0~1.0、
 MgO+CaO+SrO+BaO 6.5~11.0
 Li ₂ O               0~1.0、
 Na ₂ O             2.0~12.0、
 K ₂ O                0~12.0、
 Li ₂ O+Na ₂ O+K ₂ O      8.0~17.0、
からなり、熱収縮率(C)が20ppm以下であり、50~3 50℃の平均熱膨張係数が83×10 ^-7 /℃以下であるディスプレイパネル用ガラス� �である。

 この平均熱膨張係数は75×10 ^-7 /℃以下であることが好ましく、70×10 ^-7 /℃以下であることがより好ましく、60×10 ^-7 /℃以下であることがさらに好ましい。また� �50×10 ^-7 /℃以上であると好ましい。
 このようなガラス母組成を有する本発明の� ��ィスプレイパネル用ガラス板の第2態様は、 50~350℃の平均熱膨張係数が83×10 ^-7 /℃以下であるため、パネルの製造工程での� �法変化が少なく、パネル使用時の熱応力に� �る表示品質への影響が少ないことから、表� �品質面で好ましい。

 なお、TFTパネル製造時に実施される熱処� ��工程での基板寸法変化許容量は、TFTパネル� ��サイズによって異なるので、ディスプレイ� ��ネル用ガラス板の平均熱膨張係数は、TFTパ� ��ルのサイズ(例えば一辺が2m以上)に応じて適 宜選択することができる。

 本発明のディスプレイパネル用ガラス板の� ��造方法について説明する。
 本発明のディスプレイパネル用ガラス板を� ��造する場合、従来のディスプレイパネル用� ��ラス板を製造する際と同様に、溶解・清澄� ��程および成形工程を実施する。なお、本発� ��のディスプレイパネル用ガラス板は、アル� ��リ金属酸化物(Na ₂ O、K ₂ O)を含有するアルカリガラス基板であるため� ��清澄剤としてSO ₃ を効果的に用いることができ、成形方法とし てフロート法に適している。
 ディスプレイパネル用のガラス板の製造工� ��において、ガラスを板状に成形する方法と� ��ては、近年の液晶テレビなどの大型化に伴� ��、大面積のガラス板を容易に、安定して成� ��できるフロート法を用いることが好ましい� ��

 本発明のディスプレイパネル用ガラス板の� ��造方法の好ましい態様について説明する。
 初めに、原料を溶解して得た溶融ガラスを� ��状に成形する。例えば、得られるガラス板� ��組成となるように原料を調製し、前記原料� ��溶解炉に連続的に投入し、1450~1650℃程度に� ��熱して溶融ガラスを得る。そしてこの溶融� ��ラスを例えばフロート法を適用してリボン� ��のガラス板に成形する。
 次に、リボン状のガラス板をフロート成形� ��から引出した後に、冷却手段によって室温� ��態まで冷却し、切断後、ディスプレイパネ� ��用ガラス板を得る。ここで冷却手段は、前� ��フロート成形炉から引出されたリボン状の� ��ラス板の表面温度をT _H (℃)、室温をT _L (℃)とし、さらに前記リボン状ガラス板の表� ��温度がT _H からT _L に冷却されるまでの時間をt(分)とした場合に 、(T _H -T _L )/tで示される平均冷却速度を10~300℃/分とす� �冷却手段である。具体的な冷却手段は特に� �定されず、従来公知の冷却方法であってよ� �。例えば温度勾配を持った加熱炉を用いる� �法が挙げられる。
 T _H は、ガラス転移点温度Tg+20℃、具体的には540~ 730℃が好ましい。
 前記平均冷却速度は15~150℃/分であることが 好ましく、20~80℃/分であることがより好まし く、40~60℃/分であることがさらに好ましい。 上記のガラス板製造方法により、コンパクシ ョン(C)が20ppm以下のガラス板が容易に得られ� ��。

 次に、本発明のディスプレイパネル用ガラ� ��板の表面に、アレイ基板におけるゲート絶� ��膜を成膜する成膜工程を具備するTFTパネル� ��製造方法について説明する。
 本発明のTFTパネルの製造方法は、本発明の� ��ィスプレイパネル用ガラス板の表面の成膜� ��域を150~300℃の範囲内の温度(以下、成膜温� �という)まで昇温した後、前記成膜温度で5~60 分間保持して、前記成膜領域に前記アレイ基 板ゲート絶縁膜を成膜する成膜工程を具備す るものであれば特に限定されない。ここで成 膜温度は150~250℃であることが好ましく、150~2 30℃であることがより好ましく、150~200℃であ ることがさらに好ましい。また、この成膜温 度に保持する時間は5~30分間であることが好� �しく、5~20分間であることがより好ましく、5 ~15分間であることがさらに好ましい。
 ゲート絶縁膜の成膜は上記のような成膜温� ��および保持時間の範囲内で行われるので、� ��の間にガラス板が熱収縮する。なお、一度� ��ラス板が熱収縮した後は、その後の冷却条� ��(冷却速度等)によっては、上記の熱収縮の� �果に大きな影響を及ぼさない。本発明のデ� �スプレイパネル用ガラスはコンパクション(C )が小さいので、ガラス板の前記熱収縮が小� �く、成膜パターンのずれが生じ難い。

 成膜工程における成膜は、例えば従来公� ��のCVD法によって達成することができる。

 本発明のTFTパネルの製造方法では、公知の� ��法によってアレイ基板を得ることができる� ��そして、該アレイ基板を用いて以下のよう� ��公知の工程によりTFTパネルを製造すること� ��できる。
 すなわち、前記アレイ基板、カラーフィル� ��基板各々に配向膜を形成し、ラビングを行� ��配向処理工程、TFTアレイ基板とカラーフィ� ��タ基板を所定のギャップを保持して高精度� ��貼り合せる貼り合せ工程、基板よりセルを� ��定サイズに分断する分断工程、分断された� ��ルに液晶を注入する注入工程、セルに偏光� ��を貼り付ける偏光板貼り付け工程からなる� ��連の工程によりTFTパネルを製造することが� ��きる。