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Title:
HERBICIDE CONTAINING BENZOYLPYRAZOLE COMPOUND
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2008/078811
Kind Code:
A1
Abstract:
It is intended to provide a novel herbicide which has a wide range of applications to arable and non-arable lands and the like, and various methods for application to soil treatment, stem and leaf treatment and the like, and exhibits an excellent herbicidal effect. The herbicide containing a benzoylpyrazole compound represented by the formula (I): (wherein R1 is alkyl or cycloakyl; R2 is a hydrogen atom or alkyl; R3 is hydroxy; R4 is alkyl, haloalkyl or the like; R5 is halogen, cyano, cyanoalkyl or the like; R6 is haloalkyl, halogen or the like) or a salt thereof as an active ingredient.

Inventors:
SHIMOHARADA, Hiroshi (Ltd. Chuo Kenkyusho 3-1, Nishi-shibukawa 2-chome, Kusatsu-sh, Shiga 25, 5250025, JP)
下原田 洋 (〒25 滋賀県草津市西渋川二丁目3番1号 石原産業株式会社 中央研究所内 Shiga, 5250025, JP)
TSUKAMOTO, Masamitsu (Ltd. Chuo Kenkyusho 3-1, Nishi-shibukawa 2-chome, Kusatsu-sh, Shiga 25, 5250025, JP)
塚本 正満 (〒25 滋賀県草津市西渋川二丁目3番1号 石原産業株式会社 中央研究所内 Shiga, 5250025, JP)
IKEGUCHI, Masahiko (3-15, Edobori 1-chome, Nishi-ku, Osaka-sh, Osaka 02, 5500002, JP)
池口 雅彦 (〒02 大阪府大阪市西区江戸堀一丁目3番15号 石原産業株式会社内 Osaka, 5500002, JP)
KIKUGAWA, Hiroshi (Ltd. Chuo Kenkyusho 3-1, Nishi-shibukawa 2-chome, Kusatsu-sh, Shiga 25, 5250025, JP)
菊川 弘司 (〒25 滋賀県草津市西渋川二丁目3番1号 石原産業株式会社 中央研究所内 Shiga, 5250025, JP)
NAGAYAMA, Souichiro (Ltd. Chuo Kenkyusho 3-1, Nishi-shibukawa 2-chome, Kusatsu-sh, Shiga 25, 5250025, JP)
Application Number:
JP2007/075151
Publication Date:
July 03, 2008
Filing Date:
December 27, 2007
Export Citation:
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Assignee:
ISHIHARA SANGYO KAISHA, LTD. (3-15, Edobori 1-chome Nishi-ku, Osaka-sh, Osaka 02, 5500002, JP)
石原産業株式会社 (〒02 大阪府大阪市西区江戸堀一丁目3番15号 Osaka, 5500002, JP)
SHIMOHARADA, Hiroshi (Ltd. Chuo Kenkyusho 3-1, Nishi-shibukawa 2-chome, Kusatsu-sh, Shiga 25, 5250025, JP)
下原田 洋 (〒25 滋賀県草津市西渋川二丁目3番1号 石原産業株式会社 中央研究所内 Shiga, 5250025, JP)
TSUKAMOTO, Masamitsu (Ltd. Chuo Kenkyusho 3-1, Nishi-shibukawa 2-chome, Kusatsu-sh, Shiga 25, 5250025, JP)
塚本 正満 (〒25 滋賀県草津市西渋川二丁目3番1号 石原産業株式会社 中央研究所内 Shiga, 5250025, JP)
IKEGUCHI, Masahiko (3-15, Edobori 1-chome, Nishi-ku, Osaka-sh, Osaka 02, 5500002, JP)
池口 雅彦 (〒02 大阪府大阪市西区江戸堀一丁目3番15号 石原産業株式会社内 Osaka, 5500002, JP)
KIKUGAWA, Hiroshi (Ltd. Chuo Kenkyusho 3-1, Nishi-shibukawa 2-chome, Kusatsu-sh, Shiga 25, 5250025, JP)
菊川 弘司 (〒25 滋賀県草津市西渋川二丁目3番1号 石原産業株式会社 中央研究所内 Shiga, 5250025, JP)
International Classes:
A01N43/56; A01N47/02; A01P13/02; C07C315/00; C07C315/04; C07C317/14; C07C317/22; C07C317/44; C07D231/20
Domestic Patent References:
WO1998056766A11998-12-17
Foreign References:
JPH02288866A1990-11-28
JPS63170365A1988-07-14
JPS6263503A1987-03-20
JP2004534028A2004-11-11
JP2004505076A2004-02-19
JP2001512726A2001-08-28
JPH02173A1990-01-05
JP2000510166A2000-08-08
JPH02131470A1990-05-21
Other References:
See also references of EP 2103215A4
Attorney, Agent or Firm:
SENMYO, Kenji et al. (4th Floor, SIA Kanda Square 17, Kanda-konyacho, Chiyoda-k, Tokyo 35, 1010035, JP)
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Claims:
式(I):
(式中、R 1 はアルキル又はシクロアルキルであり、R 2 は水素原子又はアルキルであり、R 3 はヒドロキシであり、R 4 はアルキル;ハロアルキル;アルコキシ;ハロゲン;ニトロ;シアノ;アルキルチオ;アルキルスルフィニル;又はアルキルスルホニルであり、R 5 はハロゲン;シアノ;シアノアルキル;ハロアルコキシアルキル;アルキル、シアノ、シアノアルキル、(アルキルチオ)カルボニルアルキル、アルキル(チオカルボニル)アルキル、-C(O)OR 7 及び-C(O)SR 7 からなる群から選ばれる少なくとも1つの置換基で置換されてもよいアミノ(チオカルボニル)アルキル;チオシアナトアルキル;ハロアルコキシ;アルコキシアルコキシ;2以上のハロアルコキシで置換されたアルコキシ;アルコキシハロアルコキシ;ハロアルコキシハロアルコキシ;2以上のアルコキシで置換されたアルコキシアルキル;2以上のアルコキシで置換されたアルキルチオ;2以上のハロアルコキシで置換されたアルキルチオ;アルコキシハロアルキルチオ;ハロアルコキシハロアルキルチオ;アルキルチオアルキルチオ;ハロアルキルチオアルキルチオ;アルキルチオハロアルキルチオ;ハロアルキルチオハロアルキルチオ;アルキルチオアルコキシ;アルキルスルホニル;アルキルスルホニルアルキル;アルコキシカルボニルアルキル;アルコキシカルボニルアルコキシ;ヘテロシクリルアルキル;2以上のヘテロシクリルで置換されたアルコキシ;2以上のヘテロシクリルアルコキシで置換されたアルキル;-OC(O)SR 7 ;又はアルキル、シアノ、シアノアルキル、(アルキルチオ)カルボニルアルキル、アルキル(チオカルボニル)アルキル、-C(O)OR 7 及び-C(O)SR 7 からなる群から選ばれる少なくとも1つの置換基で置換されてもよいアミノアルキルであり、R 6 はハロアルキル;ハロゲン;ニトロ;シアノ;アルキルチオ;アルキルスルフィニル;又はアルキルスルホニルであり、R 7 はアルキル;ハロアルキル;アルコキシアルキル;アルケニル;ハロアルケニル;アルキニル;又はR 8 で置換されてもよいアリールアルキルであり、R 8 はハロゲン;アルキル;又はアルコキシであり、但し、R 4 がハロゲンのとき、R 5 はシアノアルキル;1つのハロアルコキシで置換されたアルキル;又は1つのアルコキシで置換されたアルコキシでない)で表されるベンゾイルピラゾール系化合物又はその塩を有効成分として含有する除草剤。
 R 4 がアルキルであり、R 5 がシアノ;シアノアルキル;ハロアルコキシアルキル;アルキル、シアノ、シアノアルキル、(アルキルチオ)カルボニルアルキル、アルキル(チオカルボニル)アルキル、-C(O)OR 7 及び-C(O)SR 7 からなる群から選ばれる少なくとも1つの置換基で置換されてもよいアミノ(チオカルボニル)アルキル;チオシアナトアルキル;ハロアルコキシ;アルコキシアルコキシ;アルキルスルホニル;アルキルスルホニルアルキル;アルコキシカルボニルアルキル;アルコキシカルボニルアルコキシ;ヘテロシクリルアルキル;又はアルキル、シアノ、シアノアルキル、(アルキルチオ)カルボニルアルキル、アルキル(チオカルボニル)アルキル、-C(O)OR 7 及び-C(O)SR 7 からなる群から選ばれる少なくとも1つの置換基で置換されてもよいアミノアルキルである、請求項1に記載のベンゾイルピラゾール系化合物又はその塩を有効成分として含有する除草剤。
 請求項1に記載のベンゾイルピラゾール系化合物又はその塩及び農業用補助剤を含有する除草性組成物。
 請求項1に記載のベンゾイルピラゾール系化合物又はその塩の除草有効量を、望ましくない植物又はそれが生育する場所に施用し、望ましくない植物を防除又はその生育を抑制する方法。
 トウモロコシ圃場において有害植物を防除する、請求項4に記載の方法。
 トウモロコシが形質転換されたものである、請求項5に記載の方法。
式(I-a):
(式中、R 1 はアルキル又はシクロアルキルであり、R 2 は水素原子又はアルキルであり、R 3 はヒドロキシであり、R 4 はアルキル;ハロアルキル;アルコキシ;ハロゲン;ニトロ;シアノ;アルキルチオ;アルキルスルフィニル;又はアルキルスルホニルであり、R 5-a-1 はアルコキシ;ハロアルコキシ;アルコキシアルコキシ;ハロアルコキシアルコキシ;アルコキシハロアルコキシ;ハロアルコキシハロアルコキシ;ヘテロシクリルオキシ;ヘテロシクリルアルコキシ;シクロアルキルオキシ;-OC(O)SR 7 ;-OC(O)OR 7 ;アルキルチオアルコキシ;アルコキシカルボニルアルコキシ;アルケニルオキシ;又はアルキニルオキシであり、R 6 はハロアルキル;ハロゲン;ニトロ;シアノ;アルキルチオ;アルキルスルフィニル;又はアルキルスルホニルであり、R 7 はアルキル;ハロアルキル;アルコキシアルキル;アルケニル;ハロアルケニル;アルキニル;又はR 8 で置換されてもよいアリールアルキルであり、R 8 はハロゲン;アルキル;又はアルコキシである)で表される化合物を製造する方法であって、
式(I-b):
(式中、R 1 、R 2 、R 3 、R 4 及びR 6 は前記の通りであり、Halはハロゲンである)で表される化合物と、式(VIII):
(式中、R α はアルキル;ハロアルキル;アルコキシアルキル;ハロアルコキシアルキル;アルコキシハロアルキル;ハロアルコキシハロアルキル;ヘテロシクリル;ヘテロシクリルアルキル;シクロアルキル;-C(O)SR 7 ;-C(O)OR 7 ;アルキルチオアルキル;アルコキシカルボニルアルキル;アルケニル;又はアルキニルであり、R 7 は前記の通りである)で表される化合物と、塩基とを反応させるか或いは、前記式(I-b)で表される化合物と前記式(VIII)で表される化合物の金属塩とを反応させ、式(I-a)で表される化合物を製造する方法。
式(I-a-Hal-3):
(式中、R 1 はアルキル又はシクロアルキルであり、R 2 は水素原子又はアルキルであり、R 3 はヒドロキシであり、R 4 はアルキル;ハロアルキル;アルコキシ;ハロゲン;ニトロ;シアノ;アルキルチオ;アルキルスルフィニル;又はアルキルスルホニルであり、R 6-a-3 はアルキルスルホニルであり、Hal-1はハロゲンである)で表される化合物を製造する方法であって、
式(XXXIII):
(式中、R 6-a-3 は前記の通りであり、Hal-1及びHalはハロゲンであり、お互いに同一であっても異なってもよい。)で表される化合物と、
式(III):
(式中、R 1 及びR 2 は前記の通りである。)で表される化合物又はその塩と、一酸化炭素又はその等価体とを、触媒及び塩基の存在下に反応させ、式(I-a-Hal-3)で表される化合物を製造する方法。
式(XXXIII):
(式中、R 4 はアルキル;ハロアルキル;アルコキシ;ハロゲン;ニトロ;シアノ;アルキルチオ;アルキルスルフィニル;又はアルキルスルホニルであり、R 6-a-3 はアルキルスルホニルであり、Hal-1及びHalはハロゲンであり、Hal-1とHalとはお互いに同一であっても異なってもよい)で表される化合物を製造する方法であって、
式(XXXIV):
(式中、R 4 、Hal-1及びHalは前記の通りである)で表される化合物と、式:
(式中、R 6-a-3 は前記の通りであり、Hal-3はハロゲンであり、Hal-1、Hal及びHal-3とはお互いに同一であっても異なってもよい)で表される化合物とを酸の存在下に反応させ、式(XXXIII)で表される化合物を製造する方法。
式(V-a-1-3):
(式中、R 4 はアルキル;ハロアルキル;アルコキシ;ハロゲン;ニトロ;シアノ;アルキルチオ;アルキルスルフィニル;又はアルキルスルホニルであり、R 5-a-1 はアルコキシ;ハロアルコキシ;アルコキシアルコキシ;ハロアルコキシアルコキシ;アルコキシハロアルコキシ;ハロアルコキシハロアルコキシ;ヘテロシクリルオキシ;ヘテロシクリルアルコキシ;シクロアルキルオキシ;-OC(O)SR 7 ;-OC(O)OR 7 ;アルキルチオアルコキシ;アルコキシカルボニルアルコキシ;アルケニルオキシ;又はアルキニルオキシであり、R 6-a-3 はアルキルスルホニルであり、R 7 はアルキル;ハロアルキル;アルコキシアルキル;アルケニル;ハロアルケニル;アルキニル;又はR 8 で置換されてもよいアリールアルキルであり、R 8 はハロゲン;アルキル;又はアルコキシである)で表される化合物を製造する方法であって、
式(XXXII):
(式中、R 4 、R 5-a-1 、R 6-a-3 は前記の通りであり、Halはハロゲンである)で表される化合物と、一酸化炭素又はその等価体と、H 2 Oとを、触媒及び塩基の存在下に反応させ、式(V-a-1-3)で表される化合物を製造する方法。
式(XXXII):
(式中、R 4 はアルキル;ハロアルキル;アルコキシ;ハロゲン;ニトロ;シアノ;アルキルチオ;アルキルスルフィニル;又はアルキルスルホニルであり、R 5-a-1 はアルコキシ;ハロアルコキシ;アルコキシアルコキシ;ハロアルコキシアルコキシ;アルコキシハロアルコキシ;ハロアルコキシハロアルコキシ;ヘテロシクリルオキシ;ヘテロシクリルアルコキシ;シクロアルキルオキシ;-OC(O)SR 7 ;-OC(O)OR 7 ;アルキルチオアルコキシ;アルコキシカルボニルアルコキシ;アルケニルオキシ;又はアルキニルオキシであり、R 6-a-3 はアルキルスルホニルであり、Halはハロゲンである)で表される化合物を製造する方法であって、
式(XXXIII):
(式中、R 4 及びR 6-a-3 は、前記の通りであり、Hal-1及びHalはハロゲンであり、Hal-1及びHalとはお互いに同一であっても異なってもよい)で表される化合物と、式(VIII):
(式中、R α はアルキル;ハロアルキル;アルコキシアルキル;ハロアルコキシアルキル;アルコキシハロアルキル;ハロアルコキシハロアルキル;ヘテロシクリル;ヘテロシクリルアルキル;シクロアルキル;-C(O)SR 7 ;-C(O)OR 7 ;アルキルチオアルキル;アルコキシカルボニルアルキル;アルケニル;又はアルキニルであり、R 7 はアルキル;ハロアルキル;アルコキシアルキル;アルケニル;ハロアルケニル;アルキニル;又はR 8 で置換されてもよいアリールアルキルであり、R 8 はハロゲン;アルキル;又はアルコキシである)で表される化合物とを塩基の存在下に反応させるか或いは、前記式(XXXIII)で表される化合物と前記式(VIII)で表される化合物の金属塩とを反応させ、式(XXXII)で表される化合物を製造する方法。
式(XXXII-a):
(式中、R 4-a はアルキルであり、R 5-a-1 はアルコキシ;ハロアルコキシ;アルコキシアルコキシ;ハロアルコキシアルコキシ;アルコキシハロアルコキシ;ハロアルコキシハロアルコキシ;ヘテロシクリルオキシ;ヘテロシクリルアルコキシ;シクロアルキルオキシ;-OC(O)SR 7 ;-OC(O)OR 7 ;アルキルチオアルコキシ;アルコキシカルボニルアルコキシ;アルケニルオキシ;又はアルキニルオキシであり、R 6-a-3 はアルキルスルホニルであり、Halはハロゲンである)で表される化合物。
Description:
ベンゾイルピラゾール系化合物 含有する除草剤

 本発明は、ベンゾイルピラゾール系化合 を有効成分として含有する新規な除草剤に する。

 特許文献1には、種々のベンゾイルピラゾ ール系化合物が開示されている。しかし、そ こには下記式(I)で表されるベンゾイルピラゾ ール系化合物を有効成分として含有する除草 剤は開示されていない。

欧州特許出願公開公報第0352543号

 従来から、雑草を防除する作業の省力化 農園芸用作物の生産性向上を図る為、雑草 対して優れた除草性能を有し、且つ栽培作 に対する安全性を有する除草剤が所望され いる。しかし、そのような目的に適した除 剤の探索は試行錯誤に頼っている。

 本願発明者等は、上記のような課題を解 するようなより優れた除草剤を見出すべく ンゾイルピラゾール系化合物につき、種々 討した結果、本発明を完成した。即ち本発 は、式(I):

(式中、R 1 はアルキル又はシクロアルキルであり、R 2 は水素原子又はアルキルであり、R 3 はヒドロキシであり、R 4 はアルキル;ハロアルキル;アルコキシ;ハロゲ ン;ニトロ;シアノ;アルキルチオ;アルキルス フィニル;又はアルキルスルホニルであり、R 5 はハロゲン;シアノ;シアノアルキル;ハロアル コキシアルキル;アルキル、シアノ、シアノ ルキル、(アルキルチオ)カルボニルアルキル 、アルキル(チオカルボニル)アルキル、-C(O)OR 7 及び-C(O)SR 7 からなる群から選ばれる少なくとも1つの置 基で置換されてもよいアミノ(チオカルボニ )アルキル;チオシアナトアルキル;ハロアル キシ;アルコキシアルコキシ;2以上のハロア コキシで置換されたアルコキシ;アルコキシ ハロアルコキシ;ハロアルコキシハロアルコ シ;2以上のアルコキシで置換されたアルコキ シアルキル;2以上のアルコキシで置換された ルキルチオ;2以上のハロアルコキシで置換 れたアルキルチオ;アルコキシハロアルキル オ;ハロアルコキシハロアルキルチオ;アル ルチオアルキルチオ;ハロアルキルチオアル ルチオ;アルキルチオハロアルキルチオ;ハ アルキルチオハロアルキルチオ;アルキルチ アルコキシ;アルキルスルホニル;アルキル ルホニルアルキル;アルコキシカルボニルア キル;アルコキシカルボニルアルコキシ;ヘ ロシクリルアルキル;2以上のヘテロシクリル で置換されたアルコキシ;2以上のヘテロシク ルアルコキシで置換されたアルキル;-OC(O)SR 7 ;又はアルキル、シアノ、シアノアルキル、( ルキルチオ)カルボニルアルキル、アルキル (チオカルボニル)アルキル、-C(O)OR 7 及び-C(O)SR 7 からからなる群から選ばれる少なくとも1つ 置換基で置換されてもよいアミノアルキル あり、R 6 はハロアルキル;ハロゲン;ニトロ;シアノ;ア キルチオ;アルキルスルフィニル;又はアルキ ルスルホニルであり、R 7 はアルキル;ハロアルキル;アルコキシアルキ ;アルケニル;ハロアルケニル;アルキニル;又 はR 8 で置換されてもよいアリールアルキルであり 、R 8 はハロゲン;アルキル;又はアルコキシであり 但し、R 4 がハロゲンのとき、R 5 はシアノアルキル;1つのハロアルコキシで置 されたアルキル;又は1つのアルコキシで置 されたアルコキシでない)で表されるベンゾ ルピラゾール系化合物又はその塩を有効成 として含有する除草剤に関する。また本発 は、前記ベンゾイルピラゾール系化合物又 その塩及び農業用補助剤を含有する除草性 成物に関する。また本発明は、前記ベンゾ ルピラゾール系化合物又はその塩の除草有 量を、望ましくない植物又はそれが生育す 場所に施用し、望ましくない植物を防除又 その生育を抑制する方法に関する。

 上記式(I)で表される化合物を含有する除 剤は、優れた除草効果を発揮する。

 上記式(I)中、アルキル又はアルキル部分は 直鎖又は分枝状のいずれでもよく、その具 例としては、メチル、エチル、n-プロピル iso-プロピル、n-ブチル、iso-ブチル、sec-ブチ ル、tert-ブチル、n-ペンチル、iso-ペンチル、 オペンチル、tert-ペンチル、n-ヘキシル、iso -ヘキシル、n-ヘプチル、n-オクチル、n-ノニ のようなC 1-9 のものが挙げられる。

 上記式(I)中、シクロアルキルとしては、例 ば、シクロプロピル、シクロブチル、シク ペンチル、シクロヘキシルのようなC 3-6 のものが挙げられる。
 上記式(I)中、アルケニル又はアルケニル部 は、直鎖又は分枝状のいずれでもよく、そ 具体例としては、ビニル、1-プロペニル、2- プロペニル、iso-プロペニル、アリル、1-ブテ ニル、2-ブテニル、3-ブテニル、1,3-ブタジエ ル、2-ペンテニル、4-ペンテニル、2-ヘキセ ル、4-ヘキセニル、2-ヘプテニル、4-ヘプテ ル、2-オクテニル、6-オクテニル、2-ノネニ のようなC 2-9 のものが挙げられる。

 上記式(I)中、アルキニルは、直鎖又は分枝 のいずれでもよく、その具体例としては、 チニル、プロパルギル、1-プロピニル、1-ペ ンチニル、3-ペンチニル、1-ヘプチニル、1-ノ ニニルのようなC 2-9 のものが挙げられる。
 上記式(I)中、ハロゲン又は置換基としての ロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素又は ウ素の各原子が挙げられる。置換基として ハロゲンの置換数は、1又は2以上であって く、2以上の場合、それらは同一でも相異な てもよい。又、ハロゲンの置換位置はいず の位置でもよい。

 上記式(I)中、R 7 における置換基としてのアリール又はアリー ル部分としては、フェニル、ナフチルなどが 挙げられる。アリール又はアリール部分の置 換数は、1又は2以上であってよく、2以上の場 合、それらは同一でも相異なってもよい。又 、それらの置換位置はいずれの位置でもよい 。

 上記式(I)中、R 7 のアリールアルキルを置換するR 8 の置換数は1又は2以上であってよく、2以上の 場合、それらは同一でも相異なってもよい。 又、各置換基の置換位置はいずれの位置でも よい。

 上記式(I)中、R 5 の2以上のハロアルコキシで置換されたアル キシは、アルコキシ基に対して同一又は異 る2以上のハロアルコキシが結合しているこ を意味する。ハロアルコキシの置換位置は ずれの位置でもよい。

 上記式(I)中、R 5 のアルコキシハロアルコキシは、ハロアルコ キシ基に対して同一又は異なるアルコキシが 結合していることを意味する。アルコキシの 置換数は1又は2以上であってよく、また、そ らの置換位置はいずれの位置でもよい。こ ことはアルキルチオアルキルチオなどにつ ても同様である。

 上記式(I)中、R 5 におけるヘテロシクリル部分としては、例え ば、O、S又はNから任意に選ばれる1種又は2種 上のヘテロ原子を1~4個含む5員環又は6員環 ものであって、飽和のものでも不飽和のも でもよく、具体的には、オキソラニル、1,3- オキソラニル、テトラヒドロフラニル、テ ラヒドロ-2H-ピラニルなどが挙げられる。ま た、ヘテロシクリル部分の置換数は、1又は2 上であってよく、2以上の場合、それらは同 一でも相異なってもよい。ヘテロシクリル部 分の置換位置はいずれの位置でもよい。

 上記式(I)で表されるベンゾイルピラゾー 系化合物の塩としては、農業上許容される のであればあらゆるものが含まれるが、例 ば、ナトリウム塩、カリウム塩のようなア カリ金属塩;マグネシウム塩、カルシウム塩 のようなアルカリ土類金属塩;ジメチルアミ 塩、トリエチルアミン塩のようなアミン塩; 酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、硝酸塩のよう 無機酸塩;酢酸塩、メタンスルホン酸塩のよ うな有機酸塩などが挙げられる。

 上記式(I)で表されるベンゾイルピラゾー 系化合物を包含する式(I-a)で表される化合 又はその塩は、以下の反応[A]及び通常の塩 製造方法に従って製造することができる。

(式中、R 1 、R 2 、R 3 、R 4 及びR 6 は前述の通りであり、R 5-a は水素原子;アルキル;アルケニル;アルキニル ;ハロゲン;シアノ;シアノアルキル;シアノア ケニル;ハロアルキル;アルコキシアルキル; ロアルコキシアルキル;アルキル、シアノ、 アノアルキル、(アルキルチオ)カルボニル ルキル、アルキル(チオカルボニル)アルキル 、-C(O)OR 7 及び-C(O)SR 7 からなる群から選ばれる少なくとも1つの置 基で置換されてもよいアミノ(チオカルボニ )アルキル;チオシアナトアルキル;アルコキ ;アルケニルオキシ;アルキニルオキシ;ハロ ルコキシ;アルコキシアルコキシ;ハロアル キシアルコキシ;アルコキシハロアルコキシ; ハロアルコキシハロアルコキシ;アルコキシ ルコキシアルキル;アルキルチオ;アルコキシ アルキルチオ;ハロアルコキシアルキルチオ; ルコキシハロアルキルチオ;ハロアルコキシ ハロアルキルチオ;アルキルチオアルキルチ ;ハロアルキルチオアルキルチオ;アルキルチ オハロアルキルチオ;ハロアルキルチオハロ ルキルチオ;アルキルチオアルコキシ;アルキ ルスルホニル;アルキルスルホニルアルキル; ルコキシカルボニルアルキル;アルコキシカ ルボニルアルコキシ;ヘテロシクリルアルキ ;ヘテロシクリルオキシ;ヘテロシクリルアル コキシ;ヘテロシクリルアルコキシアルキル; テロシクリルオキシアルキル;シクロアルキ ルオキシ;-OC(O)SR 7 ;-OC(O)OR 7 ;-C(O)OR 7 ;-C(O)SR 7 ;-C(S)OR 7 ;-C(S)SR 7 ;アルキル、シアノ、シアノアルキル、(アル ルチオ)カルボニルアルキル、アルキル(チ カルボニル)アルキル、-C(O)OR 7 及び-C(O)SR 7 からなる群から選ばれる少なくとも1つの置 基で置換されてもよいアミノアルキル;又は ルキル、ハロゲン又はアルコキシで置換さ てもよい4,5-ジヒドロイソキサゾール-3-イル である。)

 上記反応は、必要に応じて溶媒の存在下 行なうことができる。溶媒としては反応に 活性な溶媒であればいずれのものでもよく 例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジ ロロエタン、トリクロロエタンのようなハ ゲン化炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キ シレン、ニトロベンゼン、クロロベンゼンの ような芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸 チル、酢酸プロピルのようなエステル類;ア トニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド(DMF) ジメチルスルホキシド(DMSO)、ジメチルアセ アミド(DMA)、ヘキサメチルリン酸トリアミ (HMPA)、スルホランのような非プロトン性極 溶媒;ジエチルエーテル、1,4-ジオキサン、テ トラヒドロフラン(THF)、1,2-ジメトキシエタン のようなエーテル類などが挙げられる。溶媒 としては、これらの1種又は2種以上を適宜選 することができる。

 上記反応は、必要に応じて塩基の存在下 行なうことができる。塩基としては、有機 基でも無機塩基でもいずれでもよい。有機 基としては、例えば、トリエチルアミン、 イソプロピルエチルアミンのような第三級 ミン類;ピリジン;4-(ジメチルアミノ)ピリジ ;2,6-ルチジンなどが挙げられる。無機塩基 しては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カ ウム、炭酸セシウムのようなアルカリ金属 酸塩;炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ のようなアルカリ金属炭酸水素塩;炭酸カル シウム、炭酸バリウムのようなアルカリ土類 金属炭酸塩;水酸化リチウム、水酸化ナトリ ム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属 酸化物;水酸化カルシウム、水酸化バリウム ようなアルカリ土類金属水酸化物などが挙 られる。塩基類としては、これらの1種又は 2種以上を適宜選択、混合して使用すること できる。

 また上記反応では、必要に応じて触媒を添 することができる。触媒としては、アセト シアノヒドリンを式(II)の化合物に対して0.0 1~10当量用いることが出来る。
 上記反応の反応温度は、通常0 ℃~150 ℃、 応時間は、通常1分~48時間で行なうことがで きる。
 上記式(II)で表される化合物は、下記反応[B] に従って製造することができる。

(式中、R 1 、R 2 、R 4 、R 5-a 及びR 6 は前述の通りであり、Halはハロゲン原子であ る。)
 式(III)で表される化合物の塩としては、例 ば、塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩などが挙げら る。

 上記反応は、必要に応じて溶媒の存在下に なうことができる。溶媒としては反応に不 性な溶媒であればいずれのものでもよく、 記反応[A]で例示したものなどが挙げられる 溶媒としては、これらの1種又は2種以上を 宜選択することができる。
 上記反応は、必要に応じて塩基の存在下に なうことができる。塩基としては、無機塩 又は有機塩基のいずれでもよく、上記反応[ A]で例示したものなどが挙げられる。塩基類 、これらの1種又は2種以上を適宜選択、混 して使用することができる。

 上記反応の反応温度は、通常0 ℃~150 ℃、 応時間は、通常1分~48時間で行なうことがで きる。
 上記式(IV)で表される化合物は、下記反応[C] に従って製造することができる。

(式中、R 4 、R 5-a 、R 6 及びHalは前述の通りである。)
 上記反応におけるハロゲン化剤としては、 えばチオニルクロライド或いはオキザリル ロライドなどが挙げられる。ハロゲン化剤 、式(V)で表される化合物に対して1~100当量 応させることが出来る。

 上記反応は、必要に応じて溶媒の存在下 行なうことができる。溶媒としては、反応 不活性な溶媒であればいずれのものでもよ 、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、 クロロエタン、トリクロロエタンのような ロゲン化炭化水素類;ベンゼン、トルエン、 キシレン、ニトロベンゼン、クロロベンゼン のような芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢 エチル、酢酸プロピルのようなエステル類; エチルエーテル、1,4-ジオキサン、テトラヒ ドロフラン(THF)、1,2-ジメトキシエタンのよう なエーテル類などが挙げられる。溶媒として は、これらの1種又は2種以上を適宜選択する とができる。

 上記反応は、必要に応じて触媒を用いる とができる。触媒としてはDMFなどが挙げら る。

 上記反応の反応温度は、通常0 ℃~150 ℃、 応時間は、通常1分~48時間で行なうことがで きる。
 上記方法の他、式(II)で表される化合物は、 下記反応[D]に従って製造することができる。

(式中、R 1 、R 2 、R 4 、R 5-a 及びR 6 は前述の通りである。)
 式(III)で表される化合物の塩としては、例 ば、塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩などが挙げら る。

 上記反応で用いる脱水剤としては、例え 、DCC(ジシクロヘキシルカルボジイミド)や1- エチル3-(3-ジメチルアミノプロピル)-カルボ イミド塩酸塩などが挙げられる。

 上記反応は、必要に応じて溶媒の存在下 行なうことができる。溶媒としては反応に 活性な溶媒であればいずれのものでもよく 上記反応[A]で例示したものなどが挙げられ 。溶媒としては、これらの1種又は2種以上 適宜選択することができる。

 上記反応は、必要に応じて塩基の存在下 行なうことができる。塩基としては、トリ チルアミン、ジイソプロピルエチルアミン ような第三級アミン類;ピリジン;4-(ジメチ アミノ)ピリジン;2,6-ルチジンなどが挙げら る。塩基類は、これらの1種又は2種以上を適 宜選択、混合して使用することができる。

 上記反応の反応温度は、通常0 ℃~150 ℃、 応時間は、通常1分~48時間で行なうことがで きる。
 上記式(V)で表される化合物は、下記反応[E] 従って製造することができる。

(式中、R 4 、R 5-a 及びR 6 は前述の通りであり、Lはアルキルなどの保 基である。)
 上記反応は、水の存在下に行なうことがで る。

 上記反応は必要に応じて溶媒の存在下に うことができる。例えば、ベンゼン、トル ン、キシレン、ニトロベンゼン、クロロベ ゼンのような芳香族炭化水素類;アセトニト リル、DMF、DMSO、DMA、HMPA、スルホランのよう 非プロトン性極性溶媒;ジエチルエーテル、 1,4-ジオキサン、THF、1,2-ジメトキシエタンの うなエーテル類;メタノール、エタノール、 プロパノールのようなアルコール類;水など 挙げられる。溶媒としては、これらの1種又 2種以上を適宜選択することができる。

 上記反応は、必要に応じて塩基または酸 存在下で行うことができる。塩基としては 無機塩基又は有機塩基のいずれでもよい。 機塩基としては、水酸化リチウム、水酸化 トリウム、水酸化カリウムのようなアルカ 金属水酸化物;水酸化カルシウム、水酸化バ リウムなどのアルカリ土類金属水酸化物;炭 ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム ようなアルカリ金属炭酸塩;炭酸水素ナトリ ム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金 炭酸水素塩;炭酸カルシウム、炭酸バリウム のようなアルカリ土類金属炭酸塩などが挙げ られる。有機塩基としては、例えば、トリエ チルアミン、ジイソプロピルエチルアミンの ような第三級アミン類などが挙げられる。酸 としては、例えば、塩酸、硫酸、過塩素酸な どが挙げられる。塩基類又は酸類は、各々こ れらの1種又は2種以上を適宜選択、混合して 用することができる。

 上記反応の反応温度は、通常0 ℃~150 ℃、 応時間は、通常1分~48時間で行なうことがで きる。
 上記式(VI)で表される化合物のうち、R 5-a がR 5-a-1 である化合物は、下記反応[F]に従って製造す ることができる。

(式中、R 4 、R 6 及びLは前述の通りであり、R 5-a-1 はアルコキシ、ハロアルコキシ、アルコキシ アルコキシ、ハロアルコキシアルコキシ、ア ルコキシハロアルコキシ、ハロアルコキシハ ロアルコキシ、ヘテロシクリルオキシ、ヘテ ロシクリルアルコキシ、シクロアルキルオキ シ、-OC(O)SR 7 、-OC(O)OR 7 、アルキルチオアルコキシ、アルコキシカル ボニルアルコキシ、アルケニルオキシ又はア ルキニルオキシであり、R α はアルキル、ハロアルキル、アルコキシアル キル、ハロアルコキシアルキル、アルコキシ ハロアルキル、ハロアルコキシハロアルキル 、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル 、シクロアルキル、-C(O)SR 7 、-C(O)OR 7 、アルキルチオアルキル、アルコキシカルボ ニルアルキル、アルケニル又はアルキニルで ある。)

 上記反応で用いる脱水剤としては、例え 、DCC(ジシクロヘキシルカルボジイミド)や1- エチル3-(3-ジメチルアミノプロピル)-カルボ イミド塩酸塩などが挙げられる。又、ジエ ルアゾジカルボキシレートをトリフェニル スフィン、トリブチルホスフィンなどと共 使用することもできる。

 上記反応は、必要に応じて溶媒の存在下 行なうことができる。溶媒としては反応に 活性な溶媒であればいずれのものでもよく 上記反応[A]で例示したものなどが挙げられ 。溶媒としては、これらの1種又は2種以上 適宜選択することができる。

 上記反応は、必要に応じて塩基の存在下に なうことができる。塩基としては、例えば トリエチルアミン、ジイソプロピルエチル ミンのような第三級アミン類;ピリジン、4-( ジメチルアミノ)ピリジン、2,6-ルチジンなど 挙げられる。塩基類は、これらの1種又は2 以上を適宜選択、混合して使用することが きる。
 上記反応の反応温度は、通常0 ℃~150 ℃、 応時間は、通常1分~48時間で行なうことがで きる。

 上記方法の他、式(VI-a-1)で表される化合 は、下記反応[G]に従って製造することもで る。

(式中、R 4 、R 5-a-1 、R 6 、R α 及びLは前述の通りである。Xはハロゲン又は タンスルホニルオキシ基などの脱離基を表 。)
 上記反応で使用する塩基としては、無機塩 又は有機塩基のいずれでもよい。無機塩基 しては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カ ウム、炭酸セシウムのようなアルカリ金属 酸塩;炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ ムのようなアルカリ金属炭酸水素塩;炭酸カ シウム、炭酸バリウムのようなアルカリ土 金属炭酸塩;水酸化リチウム、水酸化ナトリ ム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属 酸化物;水酸化カルシウム、水酸化バリウム などのアルカリ土類金属水酸化物;水素化ナ リウム、水素化カリウムのようなアルカリ 属水素化物などが挙げられる。有機塩基と ては、例えば、トリエチルアミン、ジイソ ロピルエチルアミン、ピリジン、4-(ジメチ アミノ)ピリジン、2,6-ルチジンなどが挙げら れる。塩基類は、これらの1種又は2種以上を 宜選択、混合して使用することができる。

 上記反応は、必要に応じて、溶媒の存在下 行なうことができる。溶媒としては反応に 活性な溶媒であればいずれのものでもよく 上記反応[A]で例示したものなどが挙げられ 。溶媒としては、これらの1種又は2種以上 適宜選択することができる。
 上記反応は、必要に応じて、触媒の存在下 行なうことができる。触媒としては、例え 、ヨウ化カリウム、ヨウ化テトラノルマル チルアンモニウム、ヨウ化銅、酸化銅など 挙げられる。
 上記反応の反応温度は、通常0 ℃~200 ℃、 応時間は、通常1分~48時間で行なうことがで きる。
 上記反応は、必要に応じ不活性ガスの下に うことができる。当該不活性ガスとしては 例えば、窒素ガス、アルゴンガスなどが挙 られる。

 上記式(VII)で表される化合物は、下記反 [H]に従って製造することができる。

(式中、R 4 、R 6 及びLは前述の通りである。)
 上記反応において使用するルイス酸として 、三臭化ホウ素、塩化アルミニウム、臭化 などが挙げられる。

 上記反応は、必要に応じて、溶媒の存在 に行なうことができる。溶媒としては、反 に不活性な溶媒であればいずれのものでも く、例えば、塩化メチレン、クロロホルム ジクロロエタン、トリクロロエタンのよう ハロゲン化炭化水素類;ベンゼン、トルエン 、キシレン、ニトロベンゼン、クロロベンゼ ンのような芳香族炭化水素類;二硫化炭素;ニ ロメタンなどが挙げられる。溶媒としては これらの1種又は2種以上を適宜選択するこ ができる。

 上記反応の反応温度は、通常0 ℃~150 ℃、 応時間は、通常1分~48時間で行なうことがで きる。
 上記式(X)で表される化合物は、下記反応[I] 従って製造することができる。

(式中、R 4 、R 6 及びLは前述の通りである。)
 上記反応において、式L-OHは、過剰量用いる ことにより溶媒を兼ねることができる。また 上記反応は、必要に応じて別の溶媒の存在下 に行うことができる。溶媒としては、反応に 不活性な溶媒であればいずれのものでもよく 、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、 ニトロベンゼン、クロロベンゼンのような芳 香族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、 酸プロピルのようなエステル類;塩化メチレ 、クロロホルム、ジクロロエタン、トリク ロエタンのようなハロゲン化炭化水素類;ア セトニトリル、DMF、DMSO、DMA、HMPA、スルホラ のような非プロトン性極性溶媒などが挙げ れる。溶媒としては、これらの1種又は2種 上を適宜選択することができる。

 上記反応は、必要に応じて、酸の存在下 行うことができる。上記反応に使用できる としては、塩酸、硫酸などが挙げられる。

 上記反応の反応温度は、通常0 ℃~150 ℃、 応時間は、通常1分~48時間で行なうことがで きる。
 上記式(VI)で表される化合物のうち、R 5-a がR 5-a-2 である化合物は下記反応[J]に従って製造する ことができる。

(式中、R 4 、R 6 及びLは前述の通りであり、R 5-a-2 はアルキルスルホニルで置換されたアルキル であり、R 5-a-3 はアルキルチオアルキルである。)
 上記反応で使用する酸化剤としては、例え 、過酸化水素、過酢酸、メタクロロ過安息 酸などが挙げられる。

 上記反応で使用する溶媒としては、反応 不活性な溶媒であればいずれのものでもよ 、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、 クロロエタン、トリクロロエタンのような ロゲン化炭化水素類;アセトン、ジメチルエ チルケトンのようなケトン類;ジエチルエー ル、1,4-ジオキサン、THF、1,2-ジメトキシエタ ンのようなエーテル類;ベンゼン、トルエン キシレン、ニトロベンゼン、クロロベンゼ のような芳香族炭化水素類;酢酸、プロピオ 酸などの有機酸が挙げられる。溶媒として 、これらの1種又は2種以上を適宜選択する とができる。

 上記反応は、必要に応じて、触媒の存在下 行うことができる。上記反応に使用できる 媒としては、例えばタングステン酸ナトリ ムなどが挙げられる。
 上記反応の反応温度は、通常0 ℃~150 ℃、 応時間は、通常1分~48時間で行なうことがで きる。
 上記式(XII)で表される化合物は、下記反応[K ]に従って製造することができる。

(式中、R 4 、R 5-a-3 、R 6 及びLは前述の通りであり、R 5-a-4 はブロモアルキルである。)
 アルキルチオールの金属塩としては、例え 、ナトリウム塩、カリウム塩などのアルカ 金属塩などが挙げられる。
 上記反応で使用する溶媒としては、反応に 活性な溶媒であればいずれのものでもよく 例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジ ロロエタン、トリクロロエタンのようなハ ゲン化炭化水素類;アセトン、メチルエチル ケトンのようなケトン類;ジエチルエーテル 1,4-ジオキサン、THF、1,2-ジメトキシエタンの ようなエーテル類;水;DMF、DMSO、DMA、HMPA、ス ホランのような非プロトン性極性溶媒など 挙げられる。溶媒としては、これらの1種又 2種以上を適宜選択することができる。

 上記反応においては、必要に応じて、塩 の存在下に反応を行うことができる。塩基 しては無機塩基又は有機塩基のいずれでも い。無機塩基としては、炭酸ナトリウム、 酸カリウム、炭酸セシウムのようなアルカ 金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウム、炭酸水素 カリウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩; 酸カルシウム、炭酸マグネシウムのような ルカリ土類金属炭酸塩;水酸化リチウム、水 化ナトリウム、水酸化カリウムのようなア カリ金属水酸化物;水酸化カルシウム、水酸 化バリウムのようなアルカリ土類金属水酸化 物;水素化ナトリウム、水素化カリウムなど アルカリ金属水素化物などが挙げられる。 機塩基としては、例えば、トリエチルアミ 、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン 4-(ジメチルアミノ)ピリジン、2,6-ルチジンな どが挙げられる。塩基としては、これらの1 又は2種以上を適宜選択、混合して使用する とができる。

 上記反応の反応温度は、通常0 ℃~150 ℃、 応時間は、通常1分~48時間で行なうことがで きる。
 上記式(VI)で表される化合物のうち、R 5-a がR 5-a-5 である化合物は、下記反応[L]に従って製造す ることができる。

(式中、R 4 、R 5-a-4 、R 6 及びLは前述の通りであり、R 5-a-5 はアルコキシアルコキシアルキル又はヘテロ シクリルオキシアルキルである。)
 即ち、式(VI-a-5)で表される化合物で表され 化合物は、アルキル部分がアルコキシで置 されたアルコール、アルキル部分がヘテロ クリルで置換されたアルコール又はそれら 金属塩と式(XIII)で表される化合物とを反応 せることにより製造することができる。

 上記反応で使用できるアルキル部分がアル キシで置換されたアルコール又はアルキル 分がヘテロシクリルで置換されたアルコー の金属塩としては、例えば、ナトリウム塩 カリウム塩などのアルカリ金属塩などが挙 られる。
 上記反応は、必要に応じて溶媒の存在下に なうことができる。溶媒としては、反応に 活性な溶媒であればいずれのものでもよく 例えば、メタノール、エタノール、プロパ ールのようなアルコール類;酢酸メチル、酢 酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類 ;ジエチルエーテル、1,4-ジオキサン、THF、1,2- ジメトキシエタンのようなエーテル類;アセ ニトリル、DMF、DMSO、DMA、HMPA、スルホランの ような非プロトン性極性溶媒などが挙げられ る。溶媒としては、これらの1種又は2種以上 適宜選択することができる。

 上記反応は、必要に応じて塩基の存在下に なうことができる。塩基としては、水素化 トリウム、水素化カリウムのようなアルカ 金属水素化物;ナトリウムアミドなどが挙げ られる。
 上記反応の反応温度は、通常0 ℃~150 ℃、 応時間は、通常1分~48時間で行なうことがで きる。
 上記式(VI)で表される化合物のうち、R 5-a がR 5-a-6 である化合物は、下記反応[M]に従って製造す ることができる。

(式中、R 4 、R 6 及びLは前述の通りであり、R 5-a-6 はアルキルチオ、アルコキシアルキルチオ、 ハロアルコキシアルキルチオ、アルコキシハ ロアルキルチオ、ハロアルコキシハロアルキ ルチオ、アルキルチオアルキルチオ、ハロア ルキルチオアルキルチオ、アルキルチオハロ アルキルチオ又はハロアルキルチオハロアル キルチオであり、R 5-a-7 はハロゲンである。)

 上記反応に使用できるチオールの金属塩と ては、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩 どのアルカリ金属塩が挙げられる。
 上記反応は、必要に応じて溶媒の存在下に なうことができる。溶媒としては、反応に 活性な溶媒であればいずれのものでもよく 例えば、メタノール、エタノール、プロパ ールのようなアルコール類;ジエチルエーテ ル、1,4-ジオキサン、THF、1,2-ジメトキシエタ のようなエーテル類;アセトニトリル、DMF、 DMSO、DMA、HMPA、スルホランのような非プロト 性極性溶媒;水などが挙げられる。溶媒とし ては、これらの1種又は2種以上を適宜選択す ことができる。

 上記反応は、必要に応じて塩基の存在下に なうことができる。塩基としては、水素化 トリウム、水素化カリウムなどのアルカリ 属水素化物;水酸化リチウム、水酸化ナトリ ウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属 水酸化物;水酸化カルシウム、水酸化バリウ などのアルカリ土類金属水酸化物などが挙 られる。塩基としては、これらの1種又は2種 以上を適宜選択、混合して使用することがで きる。
 上記反応の反応温度は、通常0 ℃~250 ℃、 応時間は、通常1分~48時間で行なうことがで きる。
 上記式(I-a)で表される化合物のうち、R 5-a がR 5-a-8 である式(I-a-8)で表される化合物は、下記反 [N]に従って製造することができる。

(式中、R 1 、R 2 、R 3 、R 4 、R 5-a-4 及びR 6 は前述の通りであり、R 5-a-8 はチオシアナトアルキルである。)

 上記反応は、必要に応じて溶媒の存在下 行なうことができる。溶媒としては、反応 不活性な溶媒であればいずれのものでもよ 、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、 クロロエタン、トリクロロエタンのような ロゲン化炭化水素類;ベンゼン、トルエン、 キシレン、ニトロベンゼン、クロロベンゼン のような芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢 エチル、酢酸プロピルのようなエステル類; セトニトリル、DMF、DMSO、DMA、HMPA、スルホ ンのような非プロトン性極性溶媒;ジエチル ーテル、1,4-ジオキサン、THF、1,2-ジメトキ エタンのようなエーテル類;メタノール、エ ノール、プロパノールのようなアルコール などが挙げられる。溶媒としては、これら 1種又は2種以上を適宜選択することができ 。

 上記反応の反応温度は、通常0 ℃~150 ℃、 応時間は、通常1分~48時間で行なうことがで きる。
 上記式(VI)で表される化合物のうち、R 5-a がR 5-a-9 である化合物は、下記反応[O]に従って製造す ることができる。

(式中、R 4 、R 6 及びLは前述の通りであり、R 5-a-9 はアミノ(チオカルボニル)アルキルであり、R 5-a-11 はシアノアルキルである。)
 上記反応に使用する溶媒としては、反応に 活性な溶媒であればいずれのものでもよく 上記反応[N]で例示したものなどが挙げられ 。溶媒としては、これらの1種又は2種以上 適宜選択することができる。
 上記反応の反応温度は、通常0 ℃~250 ℃、 応時間は、通常1分~48時間で行なうことがで きる。
 上記式(VI)で表される化合物のうち、R 5-a がR 5-a-10 である化合物は、下記反応[P]に従って製造す ることができる。

(式中、R 4 、R 6 、R 5-a-9 、L及びHalは前述の通りであり、R 5-a-10 はアルキル、シアノ、シアノアルキル、(ア キルチオ)カルボニルアルキル、アルキル(チ オカルボニル)アルキル、-C(O)OR 7 及び-C(O)SR 7 からなる群から選ばれる少なくとも1つの置 基で置換されたアミノ(チオカルボニル)アル キルであり、Zはアルキル、シアノ、シアノ ルキル、(アルキルチオ)カルボニルアルキル 、アルキル(チオカルボニル)アルキル、-C(O)OR 7 又は-C(O)SR 7 であり、R 7 は前述の通りである。)

 上記反応は、必要に応じて溶媒の存在下 行なうことができる。上記反応に使用する 媒としては、反応に不活性な溶媒であれば ずれのものでもよく、上記反応[N]で例示し ものなどが挙げられる。溶媒としては、こ らの1種又は2種以上を適宜選択することが きる。

 上記反応は、必要に応じて塩基の存在下 行うことができる。塩基としては、無機塩 又は有機塩基のいずれでもよい。無機塩基 しては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、 酸セシウムのようなアルカリ金属炭酸塩;炭 酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのよう なアルカリ金属炭酸水素塩;炭酸カルシウム 炭酸マグネシウムのようなアルカリ土類金 炭酸塩などが挙げられる。有機塩基として 、トリエチルアミン、N,N-ジメチルアミノピ ジン、ジイソプロピルアミノピリジン、DBU( ジアザビシクロウンデセン)のようなアミン などが挙げられる。

 上記反応の反応温度は、通常0℃~150℃、反 時間は、通常1分~48時間で行なうことができ 。
 上記式(VI-a-11)で表される化合物は、下記反 [Q]に従って製造することができる。

(式中、R 4 、R 5-a-11 、R 6 及びLは前述の通りである。)
 上記反応は、必要に応じて溶媒の存在下に なうことができる。溶媒としては、反応に 活性な溶媒であればいずれのものでもよく 例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジ ロロエタン、トリクロロエタンのようなハ ゲン化炭化水素類;アセトン、メチルエチル ケトンのようなケトン類;ジエチルエーテル 1,4-ジオキサン、THF、1,2-ジメトキシエタンの ようなエーテル類;ベンゼン、トルエン、キ レン、ニトロベンゼン、クロロベンゼンの うな芳香族炭化水素類;ピリジンなどが挙げ れる。溶媒としては、これらの1種又は2種 上を適宜選択することができる。

 上記反応は、必要に応じて塩基の存在下 行なうことができる。塩基としては、例え 、トリエチルアミン、N,N-ジメチルアミノピ リジン、ジイソプロピルアミノピリジンなど が挙げられる。塩基としては、これらの1種 は2種以上を適宜選択、混合して使用するこ ができる。

 上記反応の反応温度は、通常0 ℃~150 ℃、 応時間は、通常1分~48時間で行なうことがで きる。
 上記式(XVI)で表される化合物は、下記反応[R ]に従って製造することができる。

(式中、R 4 、R 6 及びLは前述の通りである。)
 上記反応に使用する溶媒としては、反応に 活性な溶媒であればいずれのものでもよく 例えば、メタノール、エタノール、プロパ ールのようなアルコール類;塩化メチレン、 クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロ エタンのようなハロゲン化炭化水素類;アセ ン、メチルエチルケトンのようなケトン類; エチルエーテル、1,4-ジオキサン、THF、1,2- メトキシエタンのようなエーテル類などが げられる。溶媒としては、これらの1種又は2 種以上を適宜選択することができる。

 上記反応は、必要に応じて酸又は塩基の存 下に行なうことができる。酸としては例え 、パラトルエンスルホン酸などが挙げられ 。塩基としては例えば、酢酸ナトリウムな が挙げられる。
 上記反応の反応温度は、通常0 ℃~150 ℃、 応時間は、通常1分~48時間で行なうことがで きる。
 上記式(XVII)で表される化合物は、下記反応[ S]に従って製造することができる。

(式中、R 4 、R 6 及びLは前述の通りであり、Aはアルキルであ 。)
 上記反応に使用する酸としては、例えば、 酸などが挙げられる。

 上記反応は、必要に応じて溶媒の存在下に なうことができる。溶媒としては、反応に 活性な溶媒であればいずれのものでもよく 例えば、水;メタノール、エタノール、プロ パノールのようなアルコール類;ジエチルエ テル、1,4-ジオキサン、THF、1,2-ジメトキシエ タンのようなエーテル類などが挙げられる。 溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適 選択することができる。
 上記反応の反応温度は、通常0 ℃~150 ℃、 応時間は、通常1分~48時間で行なうことがで きる。

 上記式(XVIII)で表される化合物は、下記反 応[T]に従って製造することができる。

(式中、R 4 、R 6 、L及びAは前述の通りである。)
 上記反応で使用する酸としては、例えば、 酸やトルエンスルホン酸などが挙げられる

 上記反応において、式A-OHは、過剰量用いる ことにより溶媒を兼ねることができる。また 上記反応は、必要に応じて別の溶媒の存在下 に行うことができる。溶媒としては、反応に 不活性な溶媒であればいずれのものでもよく 、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジ クロロエタン、トリクロロエタンのようなハ ロゲン化炭化水素類;ベンゼン、トルエン、 シレン、ニトロベンゼン、クロロベンゼン ような芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸 チル、酢酸プロピルのようなエステル類;ア セトニトリル、DMF、DMSO、DMA、HMPA、スルホラ のような非プロトン性極性溶媒;ジエチルエ ーテル、1,4-ジオキサン、THF、1,2-ジメトキシ タンのようなエーテル類;アセトン、メチル エチルケトンのようなケトン類などが挙げら れる。溶媒としては、これらの1種又は2種以 を適宜選択することができる。
 上記反応の反応温度は、通常0℃~150℃、反 時間は、通常1分~48時間で行なうことができ 。
 上記式(XIX)で表される化合物は、下記反応[U ]に従って製造することができる。

(式中、R 4 、R 6 及びLは前述の通りであり、Tはハロゲンであ 。Phはフェニルを、Meはメチルを各々表す。 )
 上記反応で使用する溶媒としては、反応に 活性な溶媒であればいずれのものでもよく 例えば、ジエチルエーテル、1,4-ジオキサン 、THF、1,2-ジメトキシエタンのようなエーテ 類;ベンゼン、トルエン、キシレン、ニトロ ンゼン、クロロベンゼンのような芳香族炭 水素類;アセトニトリル、DMF、DMSO、DMA、HMPA スルホランのような非プロトン性極性溶媒 どが挙げられる。

 上記反応は、必要に応じて塩基の存在下で うことができる。塩基としては、水素化ナ リウム(NaH);ノルマルブチルリチウムのよう アルカリリチウム試薬;ナトリウムアミド(Na NH 2 )のような金属アミドなどが挙げられる。
 上記反応の反応温度は、通常-80℃~150℃、反 応時間は、通常1分~48時間で行なうことがで る。
 上記式(XX)で表される化合物は、下記反応[V] に従って製造することができる。

(式中、R 4 、R 5-a-4 、R 6 及びLは前述の通りである。)
 上記反応で用いる酸化剤としては、例えば N-メチルモルホリンオキシドのような有機 化剤;ニ酸化マンガンのような無機酸化剤な が挙げられる。

 上記反応で用いる溶媒としては、反応に不 性な溶媒であればいずれのものでもよく、 えば、アセトニトリル、DMF、DMSO、DMA、HMPA スルホランのような非プロトン性極性溶媒; エチルエーテル、1,4-ジオキサン、THF、1,2- メトキシエタンのようなエーテル類などが げられる。溶媒としては、これらの1種又は2 種以上を適宜選択することができる。
 上記反応の反応温度は、通常0 ℃~150 ℃、 応時間は、通常1分~48時間で行なうことがで きる。
 上記式(VI)で表される化合物のうち、R 5-a がR 5-a-12 である化合物は、下記反応[W]に従って製造す ることができる。

(式中、R 4 、R 5-a-4 、R 6 及びLは前述の通りであり、R 5-a-12 はアルキル、シアノ、シアノアルキル、(ア キルチオ)カルボニルアルキル、アルキル(チ オカルボニル)アルキル、-C(O)OR 7 及び-C(O)SR 7 からなる群から選ばれる少なくとも1つの置 基で置換されてもよいアミノアルキルであ 、Y 1 及びY 2 は各々水素原子、アルキル、シアノ、シアノ アルキル、(アルキルチオ)カルボニルアルキ 、アルキル(チオカルボニル)アルキル、-C(O) OR 7 又は-C(O)SR 7 であり、R 7 は前述の通りである。)

 上記反応は、必要に応じて溶媒の存在下 行なうことができる。溶媒としては、反応 不活性な溶媒であればいずれのものでもよ 、上記反応[A]で例示したものなどが挙げら る。溶媒としては、これらの1種又は2種以 を適宜選択することができる。

 上記反応は、必要に応じて塩基の存在下で うことができる。塩基としては、無機塩基 は有機塩基のいずれでもよい。無機塩基と ては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭 セシウムのようなアルカリ金属炭酸塩;炭酸 水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのような アルカリ金属炭酸水素塩;炭酸カルシウム、 酸マグネシウムのようなアルカリ土類金属 酸塩;水素化ナトリウム(NaH);ノルマルブチル チウムなどのアルキルリチウム試薬;ナトリ ウムアミド(NaNH 2 )のような金属アミドなどが挙げられる。有 塩基としては、トリエチルアミン、N,N-ジメ ルアミノピリジン、ジイソプロピルアミノ リジン、DBU(ジアザビシクロウンデセン)の うなアミン類などが挙げられる。

 上記反応は、必要に応じて触媒の存在下に うことができる。触媒としては、例えば、T BAI(ヨウ化ターシャリーブチルアンモニウム) どが挙げられる。
 上記反応の反応温度は、通常0℃~150℃、反 時間は、通常1分~48時間で行なうことができ 。
 上記式(VI)で表される化合物のうち、R 5-a がR 5-a-13 である化合物は、下記反応[X]に従って製造す ることができる。

(式中、R 4 、R 6 及びLは前述の通りであり、R 5-a-13 はアルキル又はシアノアルキルで置換された アミノアルキルであり、R 5-a-16 はアミノアルキルである。)
 上記反応は、必要に応じて溶媒の存在下で うことができる。溶媒としては、反応に不 性な溶媒であればいずれのものでもよく、 えば、上記反応[N]で例示したものなどが挙 られる。溶媒としては、これらの1種又は2 以上を適宜選択することができる。

 上記反応は、必要に応じて塩基の存在下 行うことができる。塩基としては、無機塩 又は有機塩基のいずれでもよい。無機塩基 しては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、 酸セシウムのようなアルカリ金属炭酸塩;炭 酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのよう なアルカリ金属炭酸水素塩;炭酸カルシウム 炭酸マグネシウムのようなアルカリ土類金 炭酸塩などが挙げられる。有機塩基として 、トリエチルアミン、N,N-ジメチルアミノピ ジン、ジイソプロピルアミノピリジン、DBU( ジアザビシクロウンデセン)のようなアミン などが挙げられる。

 上記反応の反応温度は、通常0℃~150℃、反 時間は、通常1分~48時間で行なうことができ 。
 上記式(VI)で表される化合物のうち、R 5-a がR 5-a-14 である化合物は以下の反応[Y]に従って製造す ることができる。

(式中、R 4 、R 6 、L及びHalは前述の通りであり、R 5-a-14 はアルキルチオカルボニルである。)

 上記反応で用いるアルキルチオールの金属 としては、例えば、ナトリウム塩、カリウ 塩などのアルカリ金属塩が挙げられる。
 上記反応は、必要に応じて溶媒の存在下に うことができる。溶媒としては、反応に不 性な溶媒であればいずれのものでもよく、 えば、ジエチルエーテル、1,4-ジオキサン、 THF、1,2-ジメトキシエタンのようなエーテル ;ベンゼン、トルエン、キシレン、ニトロベ ゼン、クロロベンゼンのような芳香族炭化 素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピ ルのようなエステル類;塩化メチレン、クロ ホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタ のようなハロゲン化炭化水素類;アセトニト ル、DMF、DMSO、DMA、HMPA、スルホランのよう 非プロトン性極性溶媒などが挙げられる。 媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜 選択することができる。

 上記反応は、必要に応じて塩基の存在下 行うことができる。塩基としては、無機塩 又は有機塩基のいずれでもよい。有機塩基 しては、例えば、トリエチルアミン、ジイ プロピルエチルアミン、ピリジン、4-(ジメ ルアミノ)ピリジン、2,6-ルチジンなどが挙 られる。無機塩基としては、例えば、炭酸 トリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムの うなアルカリ金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウ 、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属 酸水素塩;炭酸カルシウム、炭酸マグネシウ ムのようなアルカリ土類金属炭酸塩;水酸化 トリウム、水酸化カリウムのようなアルカ 金属水酸化物;水素化ナトリウム、水素化カ ウムのようなアルカリ金属水素化物などが げられる。塩基としては、これらの1種又は 2種以上を適宜選択、混合して使用すること できる。

 上記式(XXI)で表される化合物は、下記反 [Z]に従って製造することができる。

(式中、Hal、R 4 、R 6 及びLは前述の通りである。)
 この反応は、前述の反応[C]と同様に行うこ ができる。

 上記式(XXII)で表される化合物は、下記反 [AA]に従って製造することができる。

(式中、R 4 、R 6 及びLは前述の通りである。)
 上記反応における酸化剤としては、例えば 過マンガン酸カリウム、三酸化クロムなど 挙げられる。

 上記反応は、必要に応じて溶媒の存在下 行なうことができる。溶媒としては、反応 不活性な溶媒であればいずれのものでもよ 、例えば、アセトン、メチルエチルケトン ようなケトン類;酢酸メチル、酢酸エチル、 酢酸プロピルのようなエステル類;ジエチル ーテル、1,4-ジオキサン、THF、1,2-メトキシエ タンのようなエーテル類などが挙げられる。 溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適 選択することができる。

 上記反応の反応温度は、通常0℃~150℃、反 時間は、通常1分~48時間で行なうことができ 。
 上記式(VI)で表される化合物のうち、R 5-a がR 5-a-15 である化合物は、下記反応[AB]に従って製造 ることができる。

(式中、R 4 、R 6 及びLは前述の通りであり、R 5-a-15 はシアノである。)
 この反応は、前述の反応[Q]と同様に行うこ ができる。

 上記式(XXIII)で表される化合物は、下記反 応[AC]に従って製造することができる。

(式中、R 4 、R 6 及びLは前述の通りである。)
 この反応は、前述の反応[R]と同様に行うこ ができる。

 上記式(VI)で表される化合物のうち、R 5-a がR 5-a-17 であり、R 6 がR 6-a-1 である化合物は、下記反応[AD]に従って製造 ることができる。

(式中、R 4 及びLは前述の通りであり、R 5-a-17 はアルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニ ルオキシ、ハロアルコキシ、アルコキシアル コキシ、ハロアルコキシアルコキシ、アルコ キシハロアルコキシ、ハロアルコキシハロア ルコキシ、アルコキシカルボニルアルコキシ 、ヘテロシクリルオキシ、ヘテロシクリルア ルコキシ、シクロアルキルオキシ又は-OC(O)R 7 であり、R 6-a-1 はアルキルスルフィニル又はアルキルスルホ ニルであり、R 6-a-2 はアルキルチオである。)
 この反応は、前述の反応[J]と同様に行なう とができる。
 上記式(VI-a-17-2)で表される化合物は、下記 応[AE]に従って製造することができる。

(式中、R 4 、R 5-a-17 、R 6-a-2 及びLは前述の通りである。)
 上記反応で使用するアルカリ金属のチオア コキシドとしては、例えば、ナトリウムチ メトキシドやナトリウムチオエトキシドな が挙げられる。

 上記反応は、必要に応じて溶媒の存在下に うことができる。例えば、アセトニトリル DMF、DMSO、DMA、HMPA、スルホラン、ジオキサ 、ジメトキシエタンのような非プロトン性 性溶媒などが挙げられる。
 上記反応の反応温度は、通常0℃~150℃、反 時間は、通常1分~48時間で行なうことができ 。
 上記式(VI-a-17-3)で表される化合物は、下記 応[AF]に従って製造することができる。

(式中、L、X、R 4 及びR 5-a-17 は前述の通りであり、R β はアルキル、アルケニル、アルキニル、ハロ アルキル、アルコキシアルキル、ハロアルコ キシアルキル、アルコキシハロアルキル、ハ ロアルコキシハロアルキル、アルコキシカル ボニルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシ クリルアルキル、シクロアルキル又は-C(O)R 7 (R 7 は前述の通り)である。)
 上記反応は、必要に応じて、溶媒の存在下 行なうことができる。溶媒としては、上記 応[A]において例示したものを使用すること できる。又、これらの1種又は2種以上を適 選択することができる。
 上記反応で使用できる塩基としては、無機 基又は有機塩基のいずれでもよい。有機塩 としては、例えば、トリエチルアミン、ジ ソプロピルエチルアミン、ピリジン、4-(ジ チルアミノ)ピリジン、2,6-ルチジンなどが げられる。無機塩基としては、例えば、炭 ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム ようなアルカリ金属炭酸塩;水酸化ナトリウ 、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水 化物;水素化ナトリウム、水素化カリウムな どのアルカリ金属水素化物などが挙げられる 。これら塩基類は、式(XXV)の化合物に対して0 .5~100当量にて、これらの1種又は2種以上を適 選択、混合して使用することができる。
 上記反応は、必要に応じて、触媒の存在下 行なうことができる。触媒としては、例え 、ヨウ化カリウム、ヨウ化テトラノルマル チルアンモニウムなどが挙げられる。
 上記反応の反応温度は、通常0℃~150℃、反 時間は、通常1分~48時間で行なうことができ 。

 上記式(V)で表される化合物のうち、R 5-a がR 5-a-1 である化合物は、下記反応[AG]に従って製造 ることができる。

(式中、R 4 、R 5-a-1 、R 6 、R α 及びHalは前述の通りである。)
 上記反応で使用する塩基としては、前述の 応[G]と同様のものを使用することができる
 上記反応で用いる式(VIII)で表される化合物 金属塩としては、例えば、ナトリウム塩、 リウム塩などのアルカリ金属塩が挙げられ 。
 上記反応は、必要に応じて、溶媒の存在下 行なうことができる。溶媒としては反応に 活性な溶媒であればいずれのものでもよく 上記反応[A]で例示したものなどが挙げられ 。溶媒としては、これらの1種又は2種以上 適宜選択することができる。
 上記反応は、必要に応じて、触媒の存在下 行なうことができる。触媒としては、前述 反応[G]と同様のものを使用することができ 。
 上記反応の反応温度は、通常0℃~200℃、反 時間は、通常1分~48時間で行なうことができ 。
 上記反応は、必要に応じ不活性ガスの下に うことができる。当該不活性ガスとしては 例えば、窒素ガス、アルゴンガスなどが挙 られる。
 なお、反応に使用できる溶媒としては、上 反応[A]で挙げられたものの他、式(VIII)で表 れるアルコール類を過剰量用いることによ 、溶媒を兼ねることもできる。

 上記式(I)で表される化合物のうち、R 5 がR 5-a-1 である化合物は、下記反応[AH]に従って製造 ることができる。

(式中、R 1 、R 2 、R 3 、R 4 、R 5-a-1 、R 6 、R α 及びHalは前述の通りである。)
 上記反応で使用する塩基としては、前述の 応[G]と同様のものを使用することができる
 上記反応で用いる式(VIII)で表される化合物 金属塩としては、例えば、ナトリウム塩、 リウム塩などのアルカリ金属塩が挙げられ 。
 上記反応は、必要に応じて、溶媒の存在下 行なうことができる。溶媒としては反応に 活性な溶媒であればいずれのものでもよく 上記反応[A]で例示したものなどが挙げられ 。溶媒としては、これらの1種又は2種以上 適宜選択することができる。
 上記反応は、必要に応じて、触媒の存在下 行なうことができる。触媒としては、前述 反応[G]と同様のものを使用することができ 。
 上記反応の反応温度は、通常0℃~200℃、反 時間は、通常1分~48時間で行なうことができ 。
 上記反応は、必要に応じ不活性ガスの下に うことができる。当該不活性ガスとしては 例えば、窒素ガス、アルゴンガスなどが挙 られる。
 なお、反応に使用できる溶媒としては、上 反応[A]で挙げられたものの他、式(VIII)で表 れるアルコール類を過剰量用いることによ 、溶媒を兼ねることもできる。

 上記式(V-b)で表される化合物のうち、R 6 がR 6-a-1 である化合物は、下記反応[AI]に従って製造 ることができる。

(式中、Hal、R 4 、R 6-a-1 及びR 6-a-2 は前述の通りである。)
 この反応は、前述の反応[J]と同様に行なう とができる。

 上記式(V-b-a-2)で表される化合物は、下記 応[AJ]に従って製造することができる。

(式中、R 4 及びR 6-a-2 は前述の通りであり、Hal及びHal-2はハロゲン ある。Hal及びHal-2はお互いに同一であって 異なってもよい。)
 上記反応で使用する溶媒としては、反応に 活性な溶媒であればいずれのものでもよく 例えばジエチルエーテル、THF、1,2-ジメトキ シエタン、1,4-ジオキサンのようなエーテル ;ベンゼン、トルエン、キシレン、ニトロベ ゼン、クロロベンゼンのような芳香族炭化 素類などが挙げられる。溶媒としては、こ らの1種類又は2種類以上を適宜選択するこ ができる。上記反応で使用するCO 2 としては、例えばCO 2 ガス、ドライアイスなどが挙げられる。
 上記反応の反応温度は、通常-20℃~150℃、反 応時間は通常1分~48時間で行うことができる

 上記式(XXVI)で表される化合物は、下記反 [AK]に従って製造することができる。

(式中、R 4 、R 6-a-2 、Hal及びHal-2は前述の通りである。)
 上記反応で使用する溶媒は、反応に不活性 溶媒であればいずれのものでもよく、例え 、ジエチルエーテル、THF、1,2-ジメトキシエ タン、1,4-ジオキサンのようなエーテル類な が挙げられる。溶媒としてはこれら1種又は2 種以上を適宜選択することができる。
 上記反応に用いるマグネシウム金属は式(XXV II)で表される化合物に対して1~5当量の範囲で 用いることができる。上記反応に用いるグリ ニヤール試薬としては、イソプロピルマグネ シウムクロライドなどが挙げられ、式(XXVII) 表される化合物に対して必要に応じて1当量~ 10当量の範囲で用いることができる。
 上記反応は、必要に応じて触媒の存在下に うことができる。触媒としては、例えばヨ 素、あるいはヨウ化メチル又は臭化イソプ ピルのようなハロゲン化アルキルが挙げら る。
 上記反応の反応温度は、通常0℃~150℃、反 時間は通常10分~48時間で行うことができる。
 上記反応は必要に応じ不活性ガスの下に行 ことができる。不活性ガスとしては、例え 、窒素ガス、アルゴンガスなどが挙げられ 。

 上記式(XXVII)で表される化合物は、下記反 応[AL]に従って製造することができる。

(式中、R 4 、R 6-a-2 、Hal及びHal-2は前述の通りであり、Y - はCl - 、Br - 、I - 、BF 4 - 、HSO 3 - 、NO 3 - 、ClO 4 - 又はOH - である。)
 上記反応で用いるハロゲン化剤としては、 えば、塩化銅、臭化銅、ヨウ化銅などの銅 ロゲン化物;塩化水素、臭化水素、ヨウ化水 素などのハロゲン化水素若しくはその水溶液 ;ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、臭化 リウムなどのアルカリ金属塩;塩素、臭素、 ウ素などのハロゲン単体;ブロモホルムのよ うなポリハロゲン化物などが挙げられる。
 上記反応は、必要に応じて上記ハロゲン化 とトリフェニルホスフィン、トリアルキル スフィンなどのホスフィン類;又はジメチル スルフィドなどのスルフィド類とを共存ある いは系中でホスフィン類又はスルフィド類を 発生させることで行うことができる。
 上記反応は、必要に応じて溶媒の存在下に うことができる。溶媒としては反応に不活 な溶媒であればいずれのものでもよく、例 ば、メタノール、エタノールなどのアルコ ル;クロロホルム、ブロモホルムなどのハロ ゲン化炭化水素類;アセトニトリル;水;DMSOな の極性溶媒が挙げられる。溶媒としてはこ ら1種又は2種以上を適宜選択することができ る。
 上記反応の反応温度は、通常-10℃~150℃、反 応時間は通常1分~48時間で行うことができる

 上記式(XXVIII)で表される化合物は、下記 応[AM]に従って製造することができる。

(式中、R 4 、R 6-a-2 、Y - 及びHalは前述の通りである。)
 上記反応で用いるジアゾ化剤としては、亜 酸ナトリウム、亜硝酸カリウムなどのアル リ金属亜硝酸塩;亜硝酸カルシウム、亜硝酸 バリウムなどのアルカリ土類金属亜硝酸塩; 硝酸メチル、亜硝酸エチル、亜硝酸イソプ ピル、亜硝酸ブチルなどの亜硝酸エステル 挙げられる。
 上記反応は必要に応じて酸の存在下で行う とができる。酸としては、塩化水素、臭化 素、ヨウ化水素などのハロゲン化水素類若 くはその水溶液;硫酸、硝酸、過塩素酸など の酸類若しくはその水溶液が挙げられる。
 上記反応は必要に応じて溶媒の存在下に行 ことができる。上記反応で使用する溶媒は 反応に不活性な溶媒であればいずれのもの もよく、上記反応[AL]で例示したものなどが 挙げられる。溶媒としてはこれら1種又は2種 上を適宜選択することができる。
 上記反応の反応温度は、通常-20℃~150℃、反 応時間は、通常1分~48時間で行うことができ 。

 上記式(XXIX)で表される化合物は、下記反 [AN]に従って製造することができる。

(式中、R 4 、R 6-a-2 及びHalは前述の通りである。)
 上記反応は必要に応じて溶媒の存在下に行 ことができる。溶媒としては、反応に不活 な溶媒であればいずれのものでもよく、水 は上記反応[A]において例示したものなどが げられる。溶媒としては、これらの1種又は 2種以上を適宜選択することができる。
 上記反応で使用するアルキル化剤としては よう化メチル、よう化エチル、よう化イソ ロピル、よう化ノルマルプロピル、臭化メ ル、臭化エチル、臭化イソプロピル、臭化 ルマルプロピルなどのハロゲン化アルキル; ジメチル硫酸などが挙げられる。
 上記反応で使用する塩基としては、硫化ナ リウム、硫化カリウムなどの硫化アルカリ 属塩若しくはその水和物又は前述の反応[G] 同様のものを使用することができる。
 上記反応は必要に応じて、触媒の存在下に うことができる。触媒としては上記反応[AF] において例示したものなどを使用することが できる。
 上記反応の反応温度は、通常-10℃~200℃、反 応時間は、通常1分~48時間で行うことができ

 上記式(XXX)で表される化合物は、下記反 [AO]に従って合成することができる。

(式中、R 4 及びHalは前述の通りである。)
 上記反応は、水の存在下に行なうことがで る。
 上記反応は必要に応じて溶媒の存在下に行 ことができる。溶媒としては、反応に不活 なものであればいずれのものでもよく、上 反応[E]で例示したものなどが挙げられる。 媒としては、これら1種又は2種以上を適宜 択することができる。
 上記反応は必要に応じて塩基の存在下に行 ことができる。塩基としては、無機塩基又 有機塩基のいずれでもよい。有機塩基とし は、例えば、トリエチルアミン、ジイソブ ルエチルアミン、ピリジン、4-(ジメチルア ノ)ピリジン、2,6-ルチジンなどが挙げられ 。無機塩基としては、例えば、炭酸ナトリ ム、炭酸カリウム、炭酸セシウムのような ルカリ金属炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸 カリウムなどのアルカリ金属水酸化物;硫化 ナトリウム、硫化カリウムなどのアルカリ金 属硫化物;それらの水和物などが挙げられる これら塩基は式(XXXI)の化合物に対して0.1~100 量にて、これらの1種又は2種以上を適宜選 、混合して使用することができる。
 上記反応の反応温度は、通常0℃~150℃、反 時間は、通常1分~48時間で行うことができる

 上記式(V)で表される化合物のうち、R 6 がR 6-a-3 である、式(V-a-1-3)で表される化合物は、下記 反応[AP]に従って製造することができる。

(式中、R 4 、R 5-a-1 及びHalは前述の通りであり、R 6-a-3 はアルキルスルホニルである。)
 即ち、式(V-a-1-3)で表される化合物は、触媒 び塩基の存在下に、式(XXXII)で表される化合 物と、一酸化炭素又はその等価体と、H 2 Oとを反応させることにより製造することが きる。
 上記反応で用いる塩基としては、無機塩基 は有機塩基のいずれでもよい。有機塩基と ては、例えば、トリエチルアミン、トリブ ルアミン、ジイソブチルエチルアミン、ピ ジン、4-(ジメチルアミノ)ピリジン、2,6-ル ジンなどが挙げられる。無機塩基としては 例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、 酸セシウムのようなアルカリ金属炭酸塩;水 化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアル リ金属水酸化物;水酸化カルシウム、水酸化 バリウムなどのアルカリ土類金属水酸化物; 酸ナトリウム、酢酸カリウムなどのアルカ 金属酢酸塩が挙げられる。これら塩基は、 (XXXII)で表される化合物に対して0.1~100当量に て、これらの1種又は2種以上を適宜選択、混 して使用することができる。
 上記反応で用いる触媒としては、例えば、 化パラジウム、酢酸パラジウム、テトラキ (トリフェニルホスフィン)パラジウム、ジ ロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウ ム、トランス-ジ(μ-アセテート)ビス[o-(ジ-o- リルホスフィノ)ベンジル]ジパラジウム、パ ラジウム炭素などのパラジウム触媒;トリル ニウムドデカカルボニルなどのルテニウム 媒;クロロビス(シクロオクテン)ロジウム(I) どのロジウム触媒といった金属系触媒が挙 られる。これら触媒は、式(XXXII)で表される 合物に対して10 -10 ~1当量にて、これら1種又は2種以上を適宜選 、混合して使用することができる。
 上記反応で用いることができる一酸化炭素 等価体としては、例えば、ヘキサカルボニ モリブデン、ギ酸、クロロホルムなどが挙 られる。一酸化炭素又はその等価体は式(XXX II)で表される化合物に対して、1~1000等量にて 、必要に応じて加圧下で反応することができ る。圧力は1~100MPaの範囲で適宜選択すること できる。

 上記反応は、必要に応じて溶媒の存在下に うことができる。溶媒としては、反応に不 性な溶媒であればいずれのものでもよく、 又は上記反応[A]において例示したものなど 挙げられる。溶媒としては、これらの1種又 は2種以上を適宜選択することができる。
 上記反応は、必要に応じて配位子の存在下 行うことができる。配位子としては、トリt -ブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホ フィン、トリフェニルホスフィン、トリ(o- リル)ホスフィン,4-ビス(ジフェニルホスフィ ノ)ブタン、1,3-ビス(ジフェニルホスフィノ) ンタン、1,1’-ビス(ジフェニルホスフィノ) ェロセンなどが挙げられる。これら配位子 、式(XXXII)で表される化合物に対して10 -10 ~1当量にて、これら1種又は2種以上を適宜選 、混合して用いることができる。
 上記反応は、必要に応じて助触媒の存在下 行うことができる。助触媒としては、塩化 トリウム、塩化カリウム、臭化ナトリウム 臭化カリウムなどのアルカリ金属ハロゲン 物;テトラ(n-ブチル)アンモニウムブロマイ などの4級アンモニウム塩が挙げられる。こ ら助触媒は、式(XXXII)で表される化合物に対 して0.001~1当量にて、これら1種又は2種以上を 適宜選択、混合して用いることができる。
 上記反応は、必要に応じ不活性ガスの下に うことができる。不活性ガスとしては、例 ば、窒素ガス、アルゴンガスなどが挙げら る。
 上記反応の反応温度は、通常0℃~300℃、反 時間は通常1分~72時間で行うことができる。

 上記式(XXXII)で表される化合物は、下記反 応[AQ]に従って製造することができる。

(式中、R α 、R 4 、R 5-a-1 、R 6-a-3 、Hal-1及びHalは前述の通りである。)
 上記反応は、必要に応じて塩基の存在下で うことができる。塩基としては、炭酸ナト ウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムのよう アルカリ金属炭酸塩;炭酸カルシウム、炭酸 バリウムのようなアルカリ土類金属炭酸塩; 酸化リチウム、水酸化ナトリウム又は水酸 カリウムのようなアルカリ金属水酸化物;水 化カルシウム、水酸化バリウムなどのアル リ土類金属水酸化物;水素化リチウム、水素 化ナトリウム又は水素化カリウムのようなア ルカリ金属水素化物;ノルマルブチルリチウ のようなアルカリリチウム試薬;ナトリウム ミド(NaNH 2 );メチルマグネシウムブロマイド、イソプロ ルマグネシウムクロライドなどのグリニヤ ル試薬が挙げられる。
 上記反応で用いることができる式(VIII)で表 れる化合物の金属塩としては、前述の反応[ AH]と同様のものを挙げることができる。
 上記反応は、必要に応じて溶媒の存在下に うことができる。溶媒としては反応に不活 の溶媒であればいずれのものでもよく、例 ばメタノール、エタノール、メトキシエタ ールのようなアルコール類;ジエチルエーテ ル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、1, 2-ジメトキシエタン、シクロヘキシルメチル ーテルのようなエーテル類;DMF、DMSO、DMA、 ルホランのような非プロトン性極性溶媒;ベ ゼン、トルエンのような非極性溶媒などが げられる。また、式(VIII)で表される化合物 反応試薬と溶媒とを兼ねることもできる。 媒としては、これら1種又は2種以上を適宜 択することができる。
 上記反応は、必要に応じ不活性ガスの下に うことができる。不活性ガスとしては、例 ば、窒素ガス、アルゴンガスなどが挙げら る。
 上記反応の反応温度は、通常0℃~200℃、反 時間は、通常1分~48時間で行うことができる

 上記式(XXXIII)で表される化合物は、下記 応[AR]に従って製造することができる。

(式中、R 4 、R 6-a-3 、Hal-1及びHalは前述の通りであり、Hal-3はハ ゲンであり、お互いに同一であっても異な てもよい。)
 上記反応に使用する酸としては、塩化亜鉛 臭化亜鉛、塩化アルミニウム、臭化アルミ ウム、塩化鉄、塩化ビスマス、塩化インジ ム、塩化アンチモン、三臭化ホウ素、臭化 、のようなルイス酸;メタンスルホン酸、硫 酸、トリフルオロメタンスルホン酸などが挙 げられ、式(XXXIV)で表される化合物に対して0. 01当量~10当量の範囲で用いることができる。 としては、必要に応じ1種又は2種以上を適 選択することができる。
 上記反応に使用する、アルキルスルホニル ライド[(R 6-a-3 )(Hal-3)]又はアルキルスルホン酸無水物[(R 6-a-3 ) 2 O]としては、式(XXXIV)で表される化合物に対し て1当量~10当量の範囲で用いることができる アルキルスルホニルハライドにおけるハロ ンはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素などが挙 られる。
 上記反応は、必要に応じて溶媒の存在下に うことができる。溶媒としては反応に不活 な溶媒であればいずれのものでもよく、塩 メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化 素;二硫化炭素、ニトロメタンなどが挙げら れる。溶媒としては、これら1種又は2種以上 適宜選択することができる。
 上記反応の反応温度は、通常0℃~250℃、反 時間は通常1分~48時間で行うことができる。

 上記式(I-a)で表される化合物のうち、R 6 がR 6-a-3 である、式(I-a-3)で表される化合物は、下記 応[AS]に従って製造することができる。

(式中、R 1 、R 2 、R 3 、R 4 、R 5-a-1 、R 6-a-3 及びHalは前述の通りである。)
 即ち、式(I-a-3)で表される化合物は、触媒及 び塩基の存在下に、式(XXXII)で表される化合 と、一酸化炭素又はその等価体と、式(III):

(式中、R 1 及びR 2 は前述の通りである)で表される化合物又は の塩とを反応させることにより製造するこ ができる。
 式(III)で表される化合物の塩としては、上 反応[B]で例示したものなどが挙げられる。
 上記反応で用いる塩基としては、無機塩基 は有機塩基のいずれでもよく、上記反応[AP] で例示したものなどが挙げられる。これら塩 基は、式(XXXII)で表される化合物に対して0.1~1 00当量にて、これらの1種又は2種以上を適宜 択、混合して使用することができる。
 上記反応で用いる触媒としては、上記反応[ AP]で例示したものなどが挙げられる。これら 触媒は、式(XXXII)で表される化合物に対して10 -10 ~1当量にて、これら1種又は2種以上を適宜選 、混合して使用することができる。
 上記反応で用いることができる一酸化炭素 価体としては、例えば、ヘキサカルボニル リブデン、ギ酸、クロロホルムなどが挙げ れる。一酸化炭素又はその等価体は式(XXXII) で表される化合物に対して、1~1000等量にて、 必要に応じて加圧下で反応することができる 。圧力は1~100MPaの範囲で適宜選択することが きる。

 上記反応は、必要に応じて溶媒の存在下に うことができる。溶媒としては、反応に不 性な溶媒であればいずれのものでもよく、 記反応[A]において例示したものなどが挙げ れる。溶媒としては、これらの1種又は2種 上を適宜選択することができる。
 上記反応は、必要に応じて配位子の存在下 行うことができる。配位子としては、上記 応[AP]で例示したものなどが挙げられる。こ れら配位子は、式(XXXII)で表される化合物に して10 -10 ~1当量にて、これら1種又は2種以上を適宜選 、混合して用いることができる。
 上記反応は、必要に応じて助触媒の存在下 行うことができる。助触媒としては、上記 応[AP]で例示したものなどが挙げられる。こ れら助触媒は、式(XXXII)で表される化合物に して0.001~1当量にて、これら1種又は2種以上 適宜選択、混合して用いることができる。
 上記反応は、必要に応じ不活性ガスの下に うことができる。不活性ガスとしては、例 ば、窒素ガス、アルゴンガスなどが挙げら る。
 上記反応の反応温度は、通常0℃~300℃、反 時間は通常1分~72時間で行うことができる。

 上記式(I-a-Hal)で表される化合物のうち、R 6 がR 6-a-3 である、式(I-a-Hal-3)で表される化合物は、下 反応[AT]に従って製造することができる。

(式中、R 1 、R 2 、R 3 、R 4 、R 6-a-3 、Hal-1及びHalは前述の通りである。)
 即ち、式(I-a-Hal-3)で表される化合物は、触 及び塩基の存在下に、式(XXXIII)で表される化 合物と、一酸化炭素又はその等価体と、式(II I):

(式中、R 1 及びR 2 は前述の通りである)で表される化合物又は の塩とを反応させることにより製造するこ ができる。
 この反応は、前述の反応[AS]と同様に行うこ とができる。

 本発明の除草剤は、優れた除草効果を示 。その適用範囲は、水田、畑地、果樹園、 園などの農耕地、山林、農道、グランド、 場敷地などの非農耕地と多岐にわたり、適 方法も土壌処理、茎葉処理、湛水処理等を 宜選択できる。

 本発明の除草剤は、例えばイヌビエ、タ ヌビエ、メヒシバ、エノコログサ、アキノ ノコログサ、オヒシバ、カラスムギ、セイ ンモロコシ、シバムギ、ビロードキビ、ギ アキビ、パラグラス、アゼガヤ、イトアゼ ヤ、スズメノカタビラ、スズメノテッポウ カモジグサのようなイネ科雑草;コゴメガヤ ツリ、ハマスゲ、キハマスゲ、ホタルイ、ミ ズガヤツリ、タマガヤツリ、マツバイ、クロ グワイのようなカヤツリグサ科雑草;ウリカ 、オモダカ、ヘラオモダカのようなオモダ 科雑草;コナギ、ミズアオイのようなミズア イ科雑草;アゼナ、アブノメのようなゴマノ ハグサ科雑草;キカシグサ、ヒメミソハギの うなミソハギ科雑草;ミゾハコベのようなミ ハコベ科雑草;イチビ、アメリカキンゴジカ のようなアオイ科雑草;オナモミ、ブタクサ エゾノキツネアザミのようなキク科雑草;イ ホウズキ、シロバナチョウセンアサガオの うなナス科雑草;アオビユ、アオゲイトウの ようなヒユ科雑草;サナエタデ、ハルタデの うなタデ科雑草;タネツケバナ、ナズナのよ なアブラナ科雑草;マルバアサガオ、セイヨ ウヒルガオ、アメリカアサガオのようなヒル ガオ科雑草;シロザのようなアカザ科雑草;ス リヒユのようなスベリヒユ科雑草;エビスグ サのようなマメ科雑草;ハコベのようなナデ コ科雑草;ホトケノザのようなシソ科雑草;ヤ エムグラのようなアカネ科雑草;エノキグサ ようなトウダイグサ科雑草;ツユクサのよう ツユクサ科雑草などの各種有害雑草を防除 ることができる。よって、有用作物、例え トウモロコシ、ダイズ、ワタ、コムギ、イ 、オオムギ、エンバク、ソルガム、アブラ 、ヒマワリ、テンサイ、サトウキビ、芝、 ーナッツ、アマ、タバコ、コーヒーなどの 培において選択的に有害雑草を防除する場 或は非選択的に有害雑草を防除する場合に いて有効に使用される。特に本発明の除草 は、トウモロコシ、ダイズ、ワタ、コムギ イネ、アブラナ、ヒマワリ、テンサイ、サ ウキビ、芝、ピーナッツ、アマ、タバコ、 ーヒーなどの栽培、その中でもトウモロコ 、コムギ、イネ、芝などの栽培において選 的に有害雑草を防除する場合において有効 使用される。

 本発明の除草剤は、上記式(I)の化合物と 常各種農業上の補助剤とを混合して、粉剤 粒剤、顆粒水和剤、水和剤、錠剤、丸剤、 プセル剤(水溶性フィルムで包装する形態を 含む)、水性懸濁剤、油性懸濁剤、マイクロ マルジョン製剤、サスポエマルジョン製剤 水溶剤、乳剤、液剤、ペースト剤などの形 に製剤調製し、施用することができるが、 発明の目的に適合するかぎり、通常の当該 野で用いられているあらゆる製剤形態にす ことができる。

 製剤に使用する補助剤としては、珪藻土 消石灰、炭酸カルシウム、タルク、ホワイ カーボン、カオリン、ベントナイト、カオ ナイト、セリサイト、クレー、炭酸ナトリ ム、重曹、芒硝、ゼオライト、澱粉などの 型担体;水、トルエン、キシレン、ソルベン トナフサ、ジオキサン、アセトン、イソホロ ン、メチルイソブチルケトン、クロロベンゼ ン、シクロヘキサン、ジメチルスルホキシド 、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア ミド、N-メチル-2-ピロリドン、アルコールな の溶剤;脂肪酸塩、安息香酸塩、アルキルス ルホコハク酸塩、ジアルキルスルホコハク酸 塩、ポリカルボン酸塩、アルキル硫酸エステ ル塩、アルキル硫酸塩、アルキルアリール硫 酸塩、アルキルジグリコールエーテル硫酸塩 、アルコール硫酸エステル塩、アルキルスル ホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、 アリールスルホン酸塩、リグニンスルホン酸 塩、アルキルジフェニルエーテルジスルホン 酸塩、ポリスチレンスルホン酸塩、アルキル リン酸エステル塩、アルキルアリールリン酸 塩、スチリルアリールリン酸塩、ポリオキシ エチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩、 ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテ ル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリ ールエーテル硫酸エステル塩、ポリオキシエ チレンアルキルエーテルリン酸塩、ポリオキ シエチレンアルキルアリールリン酸エステル 塩、ポリオキシエチレンアリールエーテルリ ン酸エステル塩、ナフタレンスルホン酸塩ホ ルマリン縮合物、アルキルナフタレンスルホ ン酸塩ホルマリン縮合物のような陰イオン系 の界面活性剤や展着剤;ソルビタン脂肪酸エ テル、グリセリン脂肪酸エステル、脂肪酸 リグリセライド、脂肪酸アルコールポリグ コールエーテル、アセチレングリコール、 セチレンアルコール、オキシアルキレンブ ックポリマー、ポリオキシエチレンアルキ エーテル、ポリオキシエチレンアルキルア ールエーテル、ポリオキシエチレンスチリ アリールエーテル、ポリオキシエチレング コールアルキルエーテル、ポリエチレング コール、ポリオキシエチレン脂肪酸エステ 、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エ テル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪 エステル、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ 、ポリオキシプロピレン脂肪酸エステルの うな非イオン系の界面活性剤や展着剤;オリ ブ油、カポック油、ひまし油、シュロ油、 油、ヤシ油、ごま油、トウモロコシ油、米 か油、落花生油、綿実油、大豆油、菜種油 亜麻仁油、きり油、液状パラフィンなどの 物油や鉱物油などが挙げられる。これら補 剤は本発明の目的から逸脱しないかぎり、1 種又は2種以上を適宜選択して使用すること でき、また、例えば、増量剤、増粘剤、沈 防止剤、凍結防止剤、分散安定剤、薬害軽 剤、防黴剤、発泡剤、崩壊剤、結合剤など 常使用される各種補助剤も使用することが きる。上記式(I)の化合物と各種補助剤との 合割合は0.1:99.9~95:5、望ましくは0.2:99.8~85:15 ある。

 本発明の除草性組成物は、優れた除草効 を示す。その適用範囲は、水田、畑地、果 園、桑園などの農耕地、山林、農道、グラ ド、工場敷地などの非農耕地と多岐にわた 、適用方法も土壌処理、茎葉処理、湛水処 等を適宜選択できる。

 本発明の除草剤の施用量は、気象条件、 壌条件、製剤形態、対象雑草の種類、施用 期などの相違により一概に規定できないが 一般に上記式(I)の化合物は、通常、0.1~10,000 g/ha、望ましくは、1~2,000 g/ha、更に望ましく 、1~1,000g/haとなるように施用する。本発明 は、このような除草剤の施用による有害雑 の防除方法も含まれる。

 また、本発明の除草剤は、他の農薬、肥 、薬害軽減剤などと混用或は併用すること でき、この場合に一層優れた効果、作用性 示すことがある。他の農薬としては、除草 、殺菌剤、抗生物質、植物ホルモン、殺虫 などが挙げられる。特に、上記式(I)の化合 と他の除草剤の有効成分化合物の1種又は2 以上とを混用或は併用した混合除草性組成 は、適用草種の範囲、薬剤処理の時期、除 活性等を好ましい方向へ改良することが可 である。尚、上記式(I)の化合物と他の除草 の有効成分化合物は各々別々に製剤したも を散布時に混合して使用しても、両者を一 に製剤して使用してもよい。本発明には、 記した混合除草性組成物も含まれる。

 本発明における他の除草剤の有効成分化合 としては、例えば以下のもの(一般名:一部IS O申請中を含む、又は試験コード)が挙げられ これらの1種又は2種以上を適宜選択するこ ができる。また、特に記載がない場合であ てもこれら化合物に塩、アルキルエステル 水和物、異なる結晶形態、各種構造異性体 どが存在する場合は、当然それらも含まれ 。
 (1)2,4-D、2,4-Dブトチル(2,4-D-butotyl)、2,4-Dブチ (2,4-D-butyl)、2,4-Dジメチルアンモニウム(2,4-D- dimethylammonimum)、2,4-Dジオールアミン(2,4-D-diolam ine)、2,4-Dエチル(2,4-D-ethyl)、2,4-D-2-エチルヘキ シル(2,4-D-2-ethylhexyl)、2,4-Dイソブチル(2,4-D-isob utyl)、2,4-Dイソオクチル(2,4-D-isoctyl)、2,4-Dイソ プロピル(2,4-D-isopropyl)、2,4-Dイソプロピルア モニウム(2,4-D-isopropylammonium)、2,4-Dナトリウ (2,4-D-sodium)、2,4-Dイソプロパノールアンモニ ム(2,4-D-isopropanolammonium)、2,4-Dトロールアミ (2,4-D-trolamine)、2,4-DB、2,4-DBブチル(2,4-DB-butyl) 2,4-DBジメチルアンモニウム(2,4-DB-dimethylammoni um)、2,4-DBイソオクチル(2,4-DB-isoctyl)、2,4-DBカ ウム(2,4-DB-potassium)、2,4-DBナトリウム(2,4-DB-sod ium)、ジクロロプロップ(dichorprop)、ジクロロ ロップブトチル(dichorprop-butotyl)、ジクロロプ ロップジメチルアンモニウム(dichorprop-dimethyla mmonium)、ジクロロプロップイソオクチル(dichor prop-isoctyl)、ジクロロプロップカリウム(dichorp rop-potassium)、ジクロロプロップ-P(dichlorprop-P) ジクロロプロップ-Pジメチルアンモニウム(di chlorprop-P-dimethylammonium)、ジクロロプロップ-P リウム(dichlorprop-P-potassium)、ジクロロプロッ -Pナトリウム(dichlorprop-P-sodium)、MCPA、MCPAブ チル(MCPA-butotyl)、MCPAジメチルアンモニウム(M CPA-dimethylammonium)、MCPA-2-エチルヘキシル(MCPA-2- ethylhexyl)、MCPAカリウム(MCPA-potassium)、MCPAナト ウム(MCPA-sodium)、MCPAチオエチル(MCPA-thioethyl) MCPB、MCPBエチル(MCPB-ethyl)、MCPBナトリウム(MCP B-sodium)、メコプロップ(mecoprop)、メコプロッ ブトチル(mecoprop-butotyl)、メコプロップナト ウム(mecoprop-sodium)、メコプロップ-P(mecoprop-P) メコプロップ-Pブトチル(mecoprop-P-butotyl)、メ コプロップ-Pジメチルアンモニウム(mecoprop-P-d imethylammonium)、メコプロップ-P-2-エチルヘキシ ル(mecoprop-P-2-ethylhexyl)、メコプロップ-Pカリウ ム(mecoprop-P-potassium)、ナプロアニリド(naproanili de)、クロメプロップ(clomeprop)のようなフェノ シ系;2,3,6-TBA、ジカンバ(dicamba)、ジカンバブ トチル(dicamba-butotyl)、ジカンバジグリコール ミン(dicamba-diglycolamine)、ジカンバジメチル ンモニウム(dicamba-dimethylammonium)、ジカンバジ オールアミン(dicamba-diolamine)、ジカンバイソ ロピルアンモニウム(dicamba-isopropylammonium)、 カンバカリウム(dicamba-potassium)、ジカンバナ リウム(dicamba-sodium)、ジクロベニル(dichlobenil )、ピクロラム(picloram)、ピクロラムジメチル ンモニウム(picloram-dimethylammonium)、ピクロラ イソオクチル(picloram-isoctyl)、ピクロラムカ ウム(picloram-potassium)、ピクロラムトリイソ ロパノールアンモニウム(picloram-triisopropanolam monium)、ピクロラムトリイソプロピルアンモ ウム(picloram-triisopropylammonium)、ピクロラムト ールアミン(picloram-trolamine)、トリクロピル(t riclopyr)、トリクロピルブトチル(triclopyr-butotyl )、トリクロピルトリエチルアンモニウム(tric lopyr-triethylammonium)、クロピラリド(clopyralid)、 ロピラリドオールアミン(clopyralid-olamine)、 ロピラリドカリウム(clopyralid-potassium)、クロ ラリドトリイソプロパノールアンモニウム( clopyralid-triisopropanolammonium)、アミノピラリド(a minopyralid)のような芳香族カルボン酸系;その ナプタラム(naptalam)、ナプタラムナトリウム( naptalam-sodium)、ベナゾリン(benazolin)、ベナゾリ ンエチル(benazolin-ethyl)、キンクロラック(quincl orac)、キンメラック(quinmerac)、ダイフルフェ ゾピル(diflufenzopyr)、ダイフルフェンゾピル トリウム(diflufenzopyr-sodium)、フルオキシピル( fluroxypyr)、フルオキシピル-2-ブトキシ-1-メチ エチル(fluroxypyr-2-butoxy-1-methylethyl)、フルオ シピルメプチル(fluroxypyr-meptyl)、クロロフル ノール(chlorflurenol)、クロロフルレノールメ ル(chlorflurenol-methyl)などのように植物のホル モン作用を攪乱することで除草効力を示すと されているもの。

 (2)クロロトルロン(chlorotoluron)、ジウロン( diuron)、フルオメツロン(fluometuron)、リニュロ (linuron)、イソプロチュロン(isoproturon)、メト ベンズロン(metobenzuron)、テブチウロン(tebuthiur on)、ジメフロン(dimefuron)、イソウロン(isouron) カルブチレート(karbutilate)、メタベンズチア ズロン(methabenzthiazuron)、メトクスロン(metoxuron )、モノリニュロン(monolinuron)、ネブロン(neburo n)、シデュロン(siduron)、ターブメトン(terbumeto n)、トリエタジン(trietazine)のような尿素系;シ マジン(simazine)、アトラジン(atrazine)、アトラ ン(atratone)、シメトリン(simetryn)、プロメト ン(prometryn)、ジメタメトリン(dimethametryn)、ヘ キサジノン(hexazinone)、メトリブジン(metribuzin) 、ターブチラジン(terbuthylazine)、シアナジン(c yanazine)、アメトリン(ametryn)、シブトリン(cybut ryne)、トリアジフラム(triaziflam)、ターブトリ (terbutryn)、プロパジン(propazine)、メタミトロ ン(metamitron)、プロメトン(prometon)のようなト アジン系;ブロマシル(bromacil)、ブロマシルリ チウム(bromacyl-lithium)、レナシル(lenacil)、ター バシル(terbacil)のようなウラシル系;プロパニ (propanil)、シプロミッド(cypromid)のようなア リド系;スエップ(swep)、デスメディファム(des medipham)、フェンメディファム(phenmedipham)のよ なカーバメート系;ブロモキシニル(bromoxynil) 、ブロモキシニルオクタノエート(bromoxynil-oct anoate)、ブロモキシニルヘプタノエート(bromoxy nil-heptanoate)、アイオキシニル(ioxynil)、アイオ キシニルオクタノエート(ioxynil-octanoate)、ア オキシニルカリウム(ioxynil-potassium)、アイオ シニルナトリウム(ioxynil-sodium)のようなヒド ロキシベンゾニトリル系;その他ピリデート(p yridate)、ベンタゾン(bentazone)、ベンタゾンナ リウム(bentazone-sodium)、アミカルバゾン(amicarb azone)、メタゾール(methazole)、ペンタノクロー (pentanochlor)などのように植物の光合成を阻 することで除草効力を示すとされているも 。

 (3)それ自身が植物体中でフリーラジカル なり、活性酸素を生成させて速効的な除草 力を示すとされているパラコート(paraquat)、 ジクワット(diquat)のような4級アンモニウム塩 系。

 (4)ニトロフェン(nitrofen)、クロメトキシフ ェン(chlomethoxyfen)、ビフェノックス(bifenox)、 シフルオルフェン(acifluorfen)、アシフルオル ェンナトリウム(acifluorfen-sodium)、ホメサフ ン(fomesafen)、ホメサフェンナトリウム(fomesafe n-sodium)、オキシフルオルフェン(oxyfluorfen)、 クトフェン(lactofen)、アクロニフェン(aclonifen )、エトキシフェンエチル(ethoxyfen-ethyl、HC-252) 、フルオログリコフェンエチル(fluoroglycofen-et hyl)、フルオログリコフェン(fluoroglycofen)のよ なジフェニルエーテル系;クロルフタリム(ch lorphthalim)、フルミオキサジン(flumioxazin)、フ ミクロラック(flumiclorac)、フルミクロラック ンチル(flumiclorac-pentyl)、シニドンエチル(cini don-ethyl)、フルチアセットメチル(fluthiacet-methy l)のような環状イミド系;その他オキサジアル ギル(oxadiargyl)、オキサジアゾン(oxadiazon)、ス フェントラゾン(sulfentrazone)、カルフェント ゾンエチル(carfentrazone-ethyl)、チジアジミン( thidiazimin)、ペントキサゾン(pentoxazone)、アザ ェニジン(azafenidin)、イソプロパゾール(isoprop azole)、ピラフルフェンエチル(pyraflufen-ethyl)、 ベンズフェンジゾン(benzfendizone)、ブタフェナ シル(butafenacil)、サフルフェナシル(saflufenacil) 、フルポキサム(flupoxam)、フルアゾレート(flua zolate)、プロフルアゾール(profluazol)、ピラク ニル(pyraclonil)、フルフェンピルエチル(flufenp yr-ethyl)、ベンカルバゾン(bencarbazone)などのよ に植物のクロロフィル生合成を阻害し、光 感過酸化物質を植物体中に異常蓄積させる とで除草効力を示すとされているもの。

 (5)ノルフルラゾン(norflurazon)、クロリダゾ ン(chloridazon)、メトフルラゾン(metflurazon)のよ なピリダジノン系;ピラゾリネート(pyrazolynat e)、ピラゾキシフェン(pyrazoxyfen)、ベンゾフェ ナップ(benzofenap)、トプラメゾン(topramezone, BAS -670H)、ピラスルフォトール(pyrasulfotole)のよう なピラゾール系;その他アミトロール(amitrole) フルリドン(fluridone)、フルルタモン(flurtamone )、ジフルフェニカン(diflufenican)、メトキシフ ェノン(methoxyphenone)、クロマゾン(clomazone)、ス ルコトリオン(sulcotrione)、メソトリオン(mesotri one)、テンボトリオン(tembotrione)、テフリルト オン(tefuryltrione,AVH-301)、イソキサフルトー (isoxaflutole)、ジフェンゾコート(difenzoquat)、 フェンゾコートメチルサルフェート(difenzoqua t-metilsulfate)、イソキサクロロトール(isoxachlort ole)、ベンゾビシクロン(benzobicyclon)、ピコリ フェン(picolinafen)、ビフルブタミド(beflubutamid )などのようにカロチノイドなどの植物の色 生合成を阻害し、白化作用を特徴とする除 効力を示すとされているもの。

 (6)ジクロホップメチル(diclofop-methyl)、ジ ロホップ(diclofop)、ピリフェノップナトリウ (pyriphenop-sodium)、フルアジホップブチル(fluaz ifop-butyl)、フルアジホップ(fluazifop)、フルア ホップ-P(fluazifop-P)、フルアジホップ-P-ブチ (fluazifop-P-butyl)、ハロキシホップメチル(haloxy fop-methyl)、ハロキシホップ(haloxyfop)、ハロキ ホップエトチル(haloxyfop-etotyl)、ハロキシホ プ-P(haloxyfop-P)、ハロキシホップ-P-メチル(halo xyfop-P-methyl)、キザロホップエチル(quizalofop-eth yl)、キザロホップ-P(quizalofop-P)、キザロホッ -P-エチル(quizalofop-P-ethyl)、キザロホップ-P-テ フリル(quizalofop-P-tefuryl)、シハロホップブチ (cyhalofop-butyl)、フェノキサプロップエチル(fe noxaprop-ethyl)、フェノキサプロップ-P(fenoxaprop-P )、フェノキサプロップ-P-エチル(fenoxaprop-P-eth yl)、メタミホッププロピル(metamifop-propyl)、メ タミホップ(metamifop)、クロジナホッププロパ ギル(clodinafop-propargyl)、クロジナホップ(clodi nafop)、プロパキザホップ(propaquizafop)のような アリールオキシフェノキシプロピオン酸系; ロキシジムナトリウム(alloxydim-sodium)、アロ シジウム(alloxydim)、クレソジム(clethodim)、セ キシジム(sethoxydim)、トラルコキシジム(tralko xydim)、ブトロキシジム(butroxydim)、テプラロキ シジム(tepraloxydim)、プロホキシジム(profoxydim) シクロキシジム(cycloxydim)のようなシクロヘ サンジオン系;その他、フラムプロップ-M-メ チル(flamprop-M-methyl)、フラムプロップ-M(flamprop -M)、フラムプロップ-M-イソプロピル(flamprop-M- isopropyl)などのようにイネ科植物に特異的に 草効力が強く認められるもの。

 (7)クロリムロンエチル(chlorimuron-ethyl)、ク ロリムロン(chlorimuron)、スルホメツロンメチ (sulfometuron-methyl)、スルホメツロン(sulfometuron) 、プリミスルフロンメチル(primisulfuron-methyl) プリミスルフロン(primisulfuron)、ベンスルフ ンメチル(bensulfuron-methyl)、ベンスルフロン(be nsulfuron)、クロルスルフロン(chlorsulfuron)、メ スルフロンメチル(metsulfuron-methyl)、メトスル フロン(metsulfuron)、シノスルフロン(cinosulfuron) 、ピラゾスルフロンエチル(pyrazosulfuron-ethyl) ピラゾスルフロン(pyrazosulfuron)、アジムスル ロン(azimsulfuron)、フラザスルフロン(flazasulfu ron)、リムスルフロン(rimsulfuron)、ニコスルフ ン(nicosulfuron)、イマゾスルフロン(imazosulfuron )、シクロスルファムロン(cyclosulfamuron)、プロ スルフロン(prosulfuron)、フルピルスルフロン チルナトリウム(flupyrsulfuron-methyl-sodium)、フ ピルスルフロン(flupyrsulfuron)、トリフルスル ロンメチル(triflusulfuron-methyl)、トリフルス フロン(triflusulfuron)、ハロスルフロンメチル( halosulfuron-methyl)、ハロスルフロン(halosulfuron) チフェンスルフロンメチル(thifensulfuron-methyl) 、チフェンスルフロン(thifensulfuron)、エトキ スルフロン(ethoxysulfuron)、オキサスルフロン( oxasulfuron)、エタメトスルフロン(ethametsulfuron) エタメトスルフロンメチル(ethametsulfuron-methy l)、イオドスルフロン(iodosulfuron)、イオドス フロンメチルナトリウム(iodosulfuron-methyl-sodiu m)、スルフォスルフロン(sulfosulfuron)、トリア ルフロン(triasulfuron)、トリベヌロンメチル(t ribenuron-methyl)、トリベヌロン(tribenuron)、トリ スルフロン(tritosulfuron)、フォーラムスルフ ン(foramsulfuron)、トリフルオキシスルフロン( trifloxysulfuron)、トリフルオキシスルフロンナ リウム(trifloxysulfuron-sodium)、メソスルフロン メチル(mesosulfuron-methyl)、メソスルフロン(mesos ulfuron)、オルソスルファムロン(orthosulfamuron) フルセトスルフロン(flucetosulfuron)、アミドス ルフロン(amidosulfuron)、TH-547、国際公開公報WO2 005092104に記載されている化合物のようなスル ホニルウレア系;フルメツラム(flumetsulam)、メ スラム(metosulam)、ジクロスラム(diclosulam)、 ロランスラムメチル(cloransulam-methyl)、フロラ スラム(florasulam)、ペノクススラム(penoxsulam)の ようなトリアゾロピリミジンスルホンアミド 系;イマザピル(imazapyr)、イマザピルイソプロ ルアンモニウム(imazapyr-isopropylammonium)、イマ ゼタピル(imazethapyr)、イマゼタピルアンモニ ム(imazethapyr-ammonium)、イマザキン(imazaquin)、 マザキンアンモニウム(imazaquin-ammonium)、イマ ザモックス(imazamox)、イマザモックスアンモ ウム(imazamox-ammonium)、イマザメタベンズ(imazam ethabenz)、イマザメタベンズメチル(imazamethabenz -methyl)、イマザピック(imazapic)のようなイミダ ゾリノン系;ピリチオバックナトリウム(pyrithi obac-sodium)、ビスピリバックナトリウム(bispyrib ac-sodium)、ピリミノバックメチル(pyriminobac-meth yl)、ピリベンゾキシム(pyribenzoxim)、ピリフタ ド(pyriftalid)、ピリミスルファン(pyrimisulfan,  KUH-021)のようなピリミジニルサリチル酸系;フ ルカーバゾン(flucarbazone)、フルカーバゾンナ リウム(flucarbazone-sodium)、プロポキシカーバ ンナトリウム(propoxycarbazone-sodium)、プロポキ シカーバゾン(propoxycarbazone)のようなスルホニ ルアミノカルボニルトリアゾリノン系;その グリホサート(glyphosate)、グリホサートナト ウム(glyphosate-sodium)、グリホサートカリウム( glyphosate-potassium)、グリホサートアンモニウム (glyphosate-ammonium)、グリホサートジアンモニウ ム(glyphosate-diammonium)、グリホサートイソプロ ルアンモニウム(glyphosate-isopropylammonium)、グ ホサートトリメシウム(glyphosate-trimesium)、グ リホサートセスキナトリウム(glyphosate-sesquisod ium)、グルホシネート(glufosinate)、グルホシネ トアンモニウム(glufosinate-ammonium)、ビラナホ ス(bilanafos)、ビラナホスナトリウム(bilanafos-so dium)、シンメチリン(cinmethylin)などのように植 物のアミノ酸生合成を阻害することで除草効 力を示すとされているもの。

 (8)トリフルラリン(trifluralin)、オリザリン (oryzalin)、ニトラリン(nitralin)、ペンディメタ ン(pendimethalin)、エタルフルラリン(ethalflurali n)、ベンフルラリン(benfluralin)、プロジアミン (prodiamine)、ブトラリン(butralin)、ジニトラミ (dinitramine)のようなジニトロアニリン系;ベン スリド(bensulide)、ナプロパミド(napropamide)、プ ロピザミド(propyzamide、プロナミド(pronamide))の ようなアミド系;アミプロホスメチル(amiprofos- methyl)、ブタミホス(butamifos)、アニロホス(anilo fos)、ピペロホス(piperophos)のような有機リン ;プロファム(propham)、クロルプロファム(chlorp ropham)、バーバン(barban)、カルベタミド(carbetam ide)のようなフェニルカーバメート系;ダイム ン(daimuron)、クミルロン(cumyluron)、ブロモブ ド(bromobutide)、メチルダイムロン(methyldymron) ようなクミルアミン系;その他アシュラム(as ulam)、アシュラムナトリウム(asulam-sodium)、ジ オピル(dithiopyr)、チアゾピル(thiazopyr)、クロ ルタールジメチル(chlorthal-dimethyl)、クロルタ ル(chlorthal)、ジフェナミド(diphenamid)などの うに植物の細胞有糸分裂を阻害することで 草効力を示すとされているもの。

 (9)アラクロール(alachlor)、メタザクロール (metazachlor)、ブタクロール(butachlor)、プレチラ クロール(pretilachlor)、メトラクロール(metolachl or)、S-メトラクロール(S-metolachlor)、テニルク ール(thenylchlor)、ペトキサマイド(pethoxamid)、 アセトクロール(acetochlor)、プロパクロール(pr opachlor)、ジメテナミド(dimethenamid)、ジメテナ ド-P(dimethenamid-P)、プロピソクロール(propisoch lor)、ジメタクロール(dimethachlor)のようなクロ ロアセトアミド系;モリネート(molinate)、ジメ ペレート(dimepiperate)、ピリブチカルブ(pyribut icarb)、EPTC、ブチレート(butylate)、ベルノレー (vernolate)、ペブレート(pebulate)、シクロエー (cycloate)、プロスルホカルブ(prosulfocarb)、エ プロカルブ(esprocarb)、チオベンカルブ(thioben carb)、ジアレート(diallate)、トリアレート(tri-a llate)、オルベンカルブ(orbencarb)のようなチオ ーバメート系;その他エトベンザニド(etobenza nid)、メフェナセット(mefenacet)、フルフェナセ ット(flufenacet)、トリディファン(tridiphane)、カ フェンストロール(cafenstrole)、フェントラザ ド(fentrazamide)、オキサジクロメフォン(oxaziclo mefone)、インダノファン(indanofan)、ベンフレセ ート(benfuresate)、ピロキサスルフォン(pyroxasulf one、KIH-485)、ダラポン(dalapon)、ダラポンナト ウム(dalapon-sodium)、TCAナトリウム(TCA-sodium)、 トリクロロ酢酸(trichloroacetic acid)などのよう 植物のタンパク質生合成あるいは脂質生合 を阻害することで除草効力を示すとされて るもの。

 (10)MSMA、DSMA、CMA、エンドタール(endothall)、 ンドタールジカリウム(endothall-dipotassium)、エ ンドタールナトリウム(endothall-sodium)、エンド タールモノ(N,N-ジメチルアルキルアンモニウ )(endothall-mono(N,N-dimethylalkylammonium))、エトフ セート(ethofumesate)、ソディウムクロレート(so dium chlorate)、ペラルゴン酸(pelargonic acid、ノ ン酸(nonanoic
acid))、ホスアミン(fosamine)、ホスアミンアン ニウム(fosamine-ammonium)、ピノキサデン(pinoxaden )、HOK-201、アクロレイン(aclolein)、スルファミ ン酸アンモニウム(ammonium sulfamate)、ボラック ス(borax)、クロロ酢酸(chloroacetic acid)、クロロ 酢酸ナトリウム(sodium chloroacete)、シアナミド (cyanamide)、メチルアルソン酸(methylarsonic
acid)、ジメチルアルソン酸(dimethylarsinic acid) ジメチルアルソン酸ナトリウム(sodium dimethyl arsinate)、ジノターブ(dinoterb)、ジノターブア モニウム(dinoterb-ammonium)、ジノターブジオー アミン(dinoterb-diolamine)、ジノターブアセテ ト(dinoterb-acetate)、DNOC、硫酸第一鉄(ferrous sul fate)、フルプロパネート(flupropanate)、フルプ パネートナトリウム(flupropanate-sodium)、イソ サベン(isoxaben)、メフルイジド(mefluidide)、メ ルイジドジオールアミン(mefluidide-diolamine)、 メタム(metam)、メタムアンモニウム(metam-ammoniu m)、メタムカリウム(metam-potassium)、メタムナ リウム(metam-sodium)、イソチオシアン酸メチル (methyl isothiocyanate)、ペンタクロロフェノール (pentachlorophenol)、ペンタクロロフェノールナ リウム(sodium pentachlorophenoxide)、ペンタクロ フェノールラウレート(pentachlorophenol laurate) キノクラミン(quinoclamine)、硫酸(sulfuric acid) ウレアサルフェート(urea sulfate)など。

 (11)ザントモナス キャンペストリス(Xanthomon as campestris)、エピココロシルス ネマトソル (Epicoccosirus
nematosorus)、エピココロシルス ネマトスペラ (Epicoccosirus nematosperus)、エキセロヒラム モ ノセラス(Exserohilum monoseras)、ドレクスレラ  ノセラス(Drechsrela monoceras)などのように植 に寄生することで除草効力を示すとされて るもの。

 本発明の式(I)で表される化合物と上記し 他の除草剤の有効成分化合物との配合比率 、気象条件、土壌条件、製剤形態、対象雑 の種類、施用時期などの相違により一概に 定できないが、通常、1:1000~1000:1、望ましく は、1:800~100:1、更に望ましくは1:600~20:1となる ように施用する。

 次に本発明の望ましい態様の一例を記載す が、本発明はこれらに限定されるものでは い。
(1)前記式(I)中、R 4 がアルキルであり、R 5 がシアノ;シアノアルキル;ハロアルコキシア キル;アルキル、シアノ、シアノアルキル、 (アルキルチオ)カルボニルアルキル、アルキ (チオカルボニル)アルキル、-C(O)OR 7 及び-C(O)SR 7 からなる群から選ばれる少なくとも1つの置 基で置換されてもよいアミノ(チオカルボニ )アルキル;チオシアナトアルキル;ハロアル キシ;アルコキシアルコキシ;アルキルスル ニル;アルキルスルホニルアルキル;アルコキ シカルボニルアルキル;アルコキシカルボニ アルコキシ;ヘテロシクリルアルキル;アルキ ル、シアノ、シアノアルキル、(アルキルチ )カルボニルアルキル、アルキル(チオカルボ ニル)アルキル、-C(O)OR 7 及び-C(O)SR 7 から選ばれる少なくとも1つの置換基で置換 れてもよいアミノアルキルであるベンゾイ ピラゾール系化合物又はその塩を有効成分 して含有する除草剤。

(2)前記式(I)中、R 1 がアルキルであり、R 2 が水素原子であり、R 3 がヒドロキシであり、R 4 がアルキルであり、R 5 がアルコキシアルコキシであり、R 6 がアルキルスルホニルである、前記(1)のベン ゾイルピラゾール系化合物又はその塩を有効 成分として含有する除草剤。
(3)前記式(I)中、R 1 がメチル、エチル又はイソプロピルであり、 R 2 が水素原子であり、R 3 がヒドロキシであり、R 4 がメチルであり、R 5 が2-メトキシエトキシであり、R 6 がメチルスルホニルである、前記(2)のベンゾ イルピラゾール系化合物又はその塩を有効成 分として含有する除草剤。
(4)前記式(I)中、R 1 がメチルである、前記(3)のベンゾイルピラゾ ール系化合物又はその塩を有効成分として含 有する除草剤。
(5)前記式(I)中、R 1 がエチルである、前記(3)のベンゾイルピラゾ ール系化合物又はその塩を有効成分として含 有する除草剤。
(6)前記式(I)中、R 1 がイソプロピルである、前記(3)のベンゾイル ピラゾール系化合物又はその塩を有効成分と して含有する除草剤。
(7)前記式(I)のベンゾイルピラゾール系化合物 又はその塩及び農業用補助剤を含有する除草 性組成物。

(8)前記式(I)のベンゾイルピラゾール系化合物 又はその塩の除草有効量を、望ましくない植 物又はそれが生育する場所に施用し、望まし くない植物を防除又はその生育を抑制する方 法。
(9)トウモロコシ圃場において望ましくない植 物を防除又はその生育を抑制する、前記(8)の 方法。
(10)トウモロコシが形質転換されたものであ 、前記(9)の方法。
(11)ムギ類圃場において望ましくない植物を 除又はその生育を抑制する、前記(8)の方法
(12)イネ圃場において望ましくない植物を防 又はその生育を抑制する、前記(8)の方法。
(13)非農耕地において望ましくない植物を防 又はその生育を抑制する、前記(8)の方法。
(14)トウモロコシ圃場における選択的除草剤 有効成分としての、前記式(I)のベンゾイル ラゾール系化合物又はその塩の使用。

(15)前記式(I)で表される化合物に含まれる 式(I-a):

(式中、R 1 はアルキル又はシクロアルキルであり、R 2 は水素原子又はアルキルであり、R 3 はヒドロキシであり、R 4 はアルキル;ハロアルキル;アルコキシ;ハロゲ ン;ニトロ;シアノ;アルキルチオ;アルキルス フィニル;又はアルキルスルホニルであり、R 5-a-1 はアルコキシ;ハロアルコキシ;アルコキシア コキシ;ハロアルコキシアルコキシ;アルコ シハロアルコキシ;ハロアルコキシハロアル キシ;ヘテロシクリルオキシ;ヘテロシクリ アルコキシ;シクロアルキルオキシ;-OC(O)SR 7 ;-OC(O)OR 7 ;アルキルチオアルコキシ;アルコキシカルボ ルアルコキシ;アルケニルオキシ;又はアル ニルオキシであり、R 6 はハロアルキル;ハロゲン;ニトロ;シアノ;ア キルチオ;アルキルスルフィニル;又はアルキ ルスルホニルである)で表される化合物を製 する方法であって、
式(I-b):

(式中、R 1 、R 2 、R 3 、R 4 及びR 6 は前記の通りであり、Halはハロゲンである) 表される化合物と、式(VIII):

(式中、R α はアルキル;ハロアルキル;アルコキシアルキ ;ハロアルコキシアルキル;アルコキシハロ ルキル;ハロアルコキシハロアルキル;ヘテロ シクリル;ヘテロシクリルアルキル;シクロア キル;-C(O)SR 7 ;-C(O)OR 7 ;アルキルチオアルキル;アルコキシカルボニ アルキル;アルケニル又はアルキニルであり 、R 7 はアルキル;ハロアルキル;アルコキシアルキ ;アルケニル;ハロアルケニル;アルキニル;又 はR 8 で置換されてもよいアリールアルキルであり 、R 8 はハロゲン;アルキル;又はアルコキシである) で表される化合物と、塩基とを反応させるか 或いは、前記式(I-b)で表される化合物と、前 式(VIII)で表される化合物の金属塩とを反応 せ、式(I-a)で表される化合物を製造する方 。
(16)R 1 がアルキルであり、R 2 が水素原子であり、R 4 がアルキルであり、R 5-a-1 がアルコキシアルコキシであり、R α がアルコキシアルキルである、前記(15)の方 。
(17)R 1 がアルキルであり、R 2 が水素原子であり、R 4 がアルキルであり、R 5-a-1 がアルコキシであり、R α がアルキルである、前記(15)の方法。

(18)前記式(I-a-Hal-3):

(式中、R 1 はアルキル又はシクロアルキルであり、R 2 は水素原子又はアルキルであり、R 3 はヒドロキシであり、R 4 はアルキル;ハロアルキル;アルコキシ;ハロゲ ン;ニトロ;シアノ;アルキルチオ;アルキルス フィニル;又はアルキルスルホニルであり、R 6-a-3 はアルキルスルホニルであり、Hal-1はハロゲ である)で表される化合物を製造する方法で あって、
式(XXXIII):

(式中、R 6-a-3 は前記の通りであり、Hal-1及びHalはハロゲン あり、お互いに同一であっても異なっても い。)で表される化合物と、
式(III):

(式中、R 1 及びR 2 は前記の通りである。)で表される化合物又 その塩と、一酸化炭素又はその等価体とを 触媒及び塩基の存在下に反応させ、式(I-a-Hal -3)で表される化合物を製造する方法。
(19)R 1 がアルキルであり、R 2 が水素原子であり、R 4 がアルキルである、前記(18)の方法。
(20)触媒が金属系触媒である、前記(18)の方法
(21)金属系触媒がパラジウム触媒である、前 (20)の方法。

(22)前記式(XXXIII):

(式中、R 4 はアルキル;ハロアルキル;アルコキシ;ハロゲ ン;ニトロ;シアノ;アルキルチオ;アルキルス フィニル;又はアルキルスルホニルであり、R 6-a-3 はアルキルスルホニルであり、Hal-1及びHalは ロゲンであり、Hal-1とHalとはお互いに同一 あっても異なってもよい)で表される化合物 製造する方法であって、
式(XXXIV):

(式中、R 4 、Hal-1及びHalは前記の通りである)で表される 化合物と、式:

(式中、R 6-a-3 は前記の通りであり、Hal-3はハロゲンであり Hal-1、Hal及びHal-3はお互いに同一であっても 異なってもよい)で表される化合物とを酸の 在下に反応させ、式(XXXIII)で表される化合物 を製造する方法。
(23)R 4 がアルキルである、前記(22)の方法。

(24)前記式(V-a-1-3):

(式中、R 4 はアルキル;ハロアルキル;アルコキシ;ハロゲ ン;ニトロ;シアノ;アルキルチオ;アルキルス フィニル;又はアルキルスルホニルであり、R 5-a-1 はアルコキシ;ハロアルコキシ;アルコキシア コキシ;ハロアルコキシアルコキシ;アルコ シハロアルコキシ;ハロアルコキシハロアル キシ;ヘテロシクリルオキシ;ヘテロシクリ アルコキシ;シクロアルキルオキシ;-OC(O)SR 7 ;-OC(O)OR 7 ;アルキルチオアルコキシ;アルコキシカルボ ルアルコキシ;アルケニルオキシ又はアルキ ニルオキシであり、R 6-a-3 はアルキルスルホニルであり、R 7 はアルキル;ハロアルキル;アルコキシアルキ ;アルケニル;ハロアルケニル;アルキニル;又 はR 8 で置換されてもよいアリールアルキルであり 、R 8 はハロゲン;アルキル;又はアルコキシである) で表される化合物を製造する方法であって、
式(XXXII):

(式中、R 4 、R 5-a-1 、R 6-a-3 は前記の通りであり、Halはハロゲンである) 表される化合物と、一酸化炭素又はその等 体と、H 2 Oとを、触媒と塩基の存在下に反応させ、式(V -a-1-3)で表される化合物を製造する方法。
(25)R 4 がアルキルであり、R 5-a-1 がアルコキシアルコキシである、前記(24)の 法。
(26)触媒が金属系触媒である、前記(24)の方法
(27)金属系触媒がパラジウム触媒である、前 (26)の方法。

(28)前記式(XXXII):

(式中、R 4 はアルキル;ハロアルキル;アルコキシ;ハロゲ ン;ニトロ;シアノ;アルキルチオ;アルキルス フィニル;又はアルキルスルホニルであり、R 5-a-1 はアルコキシ;ハロアルコキシ;アルコキシア コキシ;ハロアルコキシアルコキシ;アルコ シハロアルコキシ;ハロアルコキシハロアル キシ;ヘテロシクリルオキシ;ヘテロシクリ アルコキシ;シクロアルキルオキシ;-OC(O)SR 7 ;-OC(O)OR 7 ;アルキルチオアルコキシ;アルコキシカルボ ルアルコキシ;アルケニルオキシ;又はアル ニルオキシであり、R 6-a-3 はアルキルスルホニルであり、Halはハロゲン である)で表される化合物を製造する方法で って、
式(XXXIII):

(式中、R 4 及びR 6-a-3 は、前記の通りであり、Hal-1及びHalはハロゲ であり、Hal-1及びHalはお互いに同一であっ も異なってもよい)で表される化合物と、式( VIII):

(式中、R α はアルキル;ハロアルキル;アルコキシアルキ ;ハロアルコキシアルキル;アルコキシハロ ルキル;ハロアルコキシハロアルキル;ヘテロ シクリル;ヘテロシクリルアルキル;シクロア キル;-C(O)SR 7 ;-C(O)OR 7 ;アルキルチオアルキル;アルコキシカルボニ アルキル;アルケニル;又はアルキニルであ 、R 7 はアルキル;ハロアルキル;アルコキシアルキ ;アルケニル;ハロアルケニル;アルキニル;又 はR 8 で置換されてもよいアリールアルキルであり 、R 8 はハロゲン;アルキル;又はアルコキシである) で表される化合物とを塩基の存在下に反応さ せるか或いは、前記式(XXXIII)で表される化合 と、前記式(VIII)で表される化合物の金属塩 を反応させ、式(XXXII)で表される化合物を製 造する方法。
(29)R 4 がアルキルであり、R 5-a-1 がアルコキシアルコキシであり、R α がアルコキシアルキルである、前記(28)の方 。
(30)R 4 がアルキルであり、R 5-a-1 がアルコキシであり、R α がアルキルである、前記(28)の方法。

(31)式(XXXII-a):

(式中、R 4-a はアルキルであり、R 5-a-1 はアルコキシ;ハロアルコキシ;アルコキシア コキシ;ハロアルコキシアルコキシ;アルコ シハロアルコキシ;ハロアルコキシハロアル キシ;ヘテロシクリルオキシ;ヘテロシクリ アルコキシ;シクロアルキルオキシ;-OC(O)SR 7 ;-OC(O)OR 7 ;アルキルチオアルコキシ;アルコキシカルボ ルアルコキシ;アルケニルオキシ;又はアル ニルオキシであり、R 6-a-3 はアルキルスルホニルであり、Halはハロゲン である)で表される化合物。
(32)R 5-a-1 がアルコキシアルコキシである、前記(31)の 合物。
(33)前記式(XXVI):

(式中、R 4 はアルキル;ハロアルキル;アルコキシ;ハロゲ ン;ニトロ;シアノ;アルキルチオ;アルキルス フィニル;又はアルキルスルホニルであり、R 6-a-2 がアルキルチオであり、Hal及びHal-2はハロゲ であり、Hal及びHal-2はお互いに同一であっ も異なってもよい)を製造する方法であって 式(XXVII):

(式中、R 4 、R 6-a-2 、Hal及びHal-2は前述の通りである)で表される 化合物と、マグネシウム金属又はグリニヤー ル試薬とを溶媒の存在下に反応させ、式(XXVI) の化合物を製造する方法。
(34)R 4 がアルキルである前記(33)の方法。

(35)前記(XXVII):

(式中、R 4 はアルキル;ハロアルキル;アルコキシ;ハロゲ ン;ニトロ;シアノ;アルキルチオ;アルキルス フィニル;又はアルキルスルホニルであり、R 6-a-2 はアルキルチオであり、Hal及びHal-2はハロゲ であり、Hal及びHal-2はお互いに同一であっ も異なってもよい)で表される化合物を製造 る方法であって、式(XXVIII):

(式中、R 4 、R 6-a-2 、Halは前述の通りであり、Y - はCl - 、Br - 、I - 、BF 4 - 、HSO 3 - 、NO 3 - 、ClO 4 - 又はOH - である。)で表される化合物と、ハロゲン化 とを反応させることにより、式(XXVII)で表さ る化合物を製造する方法。
(36)R 4 がアルキルである、前記(35)の方法。
(37)前記式(XXVIII):

(式中、R 4 はアルキル;ハロアルキル;アルコキシ;ハロゲ ン;ニトロ;シアノ;アルキルチオ;アルキルス フィニル;又はアルキルスルホニルであり、R 6-a-2 はアルキルチオであり、Halはハロゲンであり 、YはCl - 、Br - 、I - 、BF 4 - 、HSO 3 - 、NO 3 - 、ClO 4 - 又はOH - である。)で表される化合物を製造する方法 あって、式(XXIX):

(式中、R 4 、R 6-a-2 、Halは前述の通りである。)で表される化合 と、ジアゾ化剤とを反応させ、式(XXVIII)で表 される化合物を製造する方法。
(38)R 4 がアルキルである、前記(37)の方法。
(39)前記式(XXIX):

(式中、R 4 はアルキル;ハロアルキル;アルコキシ;ハロゲ ン;ニトロ;シアノ;アルキルチオ;アルキルス フィニル;又はアルキルスルホニルであり、R 6-a-2 はアルキルチオであり、Halはハロゲンである 。)で表される化合物の製造方法であって、 (XXX):

(式中、R 4 は前述の通りである)で表される化合物と、 ルキル化剤とを、塩基の存在下に反応させ ことにより前記式(XXIX)で表される化合物を 造する方法。
(40)R 4 がアルキルである、前記(39)の方法。
(41)前記(XXVII):

(式中、R 4 はアルキル;ハロアルキル;アルコキシ;ハロゲ ン;ニトロ;シアノ;アルキルチオ;アルキルス フィニル;又はアルキルスルホニルであり、R 6-a-2 はアルキルチオであり、Hal及びHal-2はハロゲ であり、Hal及びHal-2はお互いに同一であっ も異なってもよい)で表される化合物。
(42)R 4 がアルキルである、前記(41)の化合物。
(43)前記式(XXIX):

(式中、R 4 はアルキル;ハロアルキル;アルコキシ;ハロゲ ン;ニトロ;シアノ;アルキルチオ;アルキルス フィニル;又はアルキルスルホニルであり、R 6-a-2 はアルキルチオであり、Halはハロゲンである 。)で表される化合物。
(44)R 4 がアルキルである、前記(43)の化合物。

 次に本発明の実施例を記載するが、本発明 これらに限定されるものではない。以下、 記式(I)の化合物の合成例を記載する。
合成例1
 5-ヒドロキシ-1-メチルピラゾール-4-イル 3-( 2,2-ジメトキシエトキシ)-2-メチル-4-(メチルス ルホニル)フェニル ケトンの合成(後記化合 No.1)

(1)3-ヒドロキシ-2-メチル-4-(メチルスルホニル ) 安息香酸(300mg)をN,N-ジメチルホルムアミド( 10mL)に溶解し、炭酸カリウム(360mg)及びブロモ アセトアルデヒドジメチルアセタール(660mg) 室温で加えた。反応混合物を80℃に加熱し、 32時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却 、100mLの水と0.5Nの水酸化ナトリウム水溶液( 10mL)を加えた。その後、酢酸エチル(200mL)で抽 出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し た。減圧下で溶媒を留去し、オイル状の3-(2,2 -ジメトキシエトキシ)-2-メチル-4-(メチルスル ホニル) 安息香酸 2,2-ジメトキシエチルを得 た。
1 H-NMR 400MHz(CDCl 3  δppm): 2.54(s,3H), 3.31(s,1H), 3.39(s,6H), 3.44(s,6H) , 4.06(d,2H,J=5.4Hz), 4.31(d,2H,J=5.4Hz), 4.73(t,1H,J=5.4 Hz), 4.87(t,1H,J=5.4Hz), 7.76(d,1H,J=8.4Hz), 7.82(d,1H,J= 8.4Hz).

(2)前記工程(1)で得た3-(2,2-ジメトキシエトキ )-2-メチル-4-(メチルスルホニル) 安息香酸 2 ,2-ジメトキシエチルをメタノール(20mL)に溶解 し、20wt%濃度の水酸化ナトリウム水溶液(2mL) 室温で加えた。30分間攪拌後、反応溶液に1 定の塩酸100mLを加え、酢酸エチル(200mL)で抽 した。有機層を飽和食塩水で2回洗浄し、無 硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒 留去し、3-(2,2-ジメトキシエトキシ)-2-メチ -4-(メチルスルホニル) 安息香酸(390mg)を白色 固体として得た。
1 H-NMR 400MHz(acetone-d 6  δppm): 2.56(s,3H), 3.31(s,3H), 3.44(s,6H), 4.06(d,2H, J=5.2Hz), 4.88(t,1H,J=5.2Hz), 7.82(br s,2H).

(3)3-(2,2-ジメトキシエトキシ)-2-メチル-4-(メチ ルスルホニル)安息香酸(390mg)をクロロホルム( 15mL)に溶解し、オキザリルクロライド(0.5mL)及 び触媒量のDMFを加えた。反応混合物を室温で 30分間攪拌し、溶媒を減圧下で留去した。残 を無水THF(20mL)に溶解し、5-ヒドロキシ-1-メ ルピラゾール(132mg)、トリエチルアミン(250mg) 及びN,N-ジメチルアミノピリジン(300mg)を加え 1時間加熱還流した。反応混合物を室温まで 冷却し、酢酸エチル(200mL)を加え、飽和食塩 で2回洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウ で乾燥した後、溶媒を減圧下で留去した。 渣を無水アセトニトリル(10mL)に溶解し、ト エチルアミン(250mg)と触媒量のアセトンシア ノヒドリンを加え、室温で12時間攪拌した。 媒を減圧下で留去し、粗5-ヒドロキシ-1-メ ルピラゾール-4-イル 3-(2,2-ジメトキシエト シ)-2-メチル-4-(メチルスルホニル)フェニル  ケトンを得た。
1 H-NMR (400MHz CDCl 3  δppm): 2.38(s,3H), 3.29(s,3H), 3.47(s,6H), 3.70(s,3H) , 4.09(d,2H,J=5.2Hz), 4.1(br s,1H), 4.83(t,1H,J=5.2Hz), 7.32(s,1H), 7.35(d,1H,J=8.4Hz), 7.91(d,1H,J=8.4Hz).

(4)前記工程(3)で得た粗5-ヒドロキシ-1-メチ ピラゾール-4-イル 3-(2,2-ジメトキシエトキ )-2-メチル-4-(メチルスルホニル)フェニル  トンを無水THF(10mL)に溶解し、トリエチルア ン(250mg)及び純度96%クロロチオール蟻酸S-エ ル(200mg)を加え室温で1時間攪拌した。得られ た反応混合物に酢酸エチル(200mL)を加え、飽 食塩水で2回洗浄した。有機層を無水硫酸ナ リウムで乾燥し減圧下で溶媒を留去した。 渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー( n-ヘキサン:酢酸エチル=1:1)で精製し、5-(エチ チオ)カルボニルオキシ-1-メチルピラゾール -4-イル 3-(2,2-ジメトキシエトキシ)-2-メチル-4 -(メチルスルホニル)フェニル ケトン(150mg)を 得た。

(5)前記工程(4)で得た5-(エチルチオ)カルボ ルオキシ-1-メチルピラゾール-4-イル 3-(2,2- メトキシエトキシ)-2-メチル-4-(メチルスルホ ニル)フェニル ケトン(91mg)をメタノール(10ml) に溶解し0.5Nの水酸化ナトリウム水溶液(3ml)を 室温で加えた。反応溶液を室温で1時間攪拌 、酢酸エチル(200ml)を加え、飽和食塩水で1回 洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾 燥し、溶媒を減圧下で留去し、目的物(80mg)を 得た。

合成例2
 5-ヒドロキシ-1-メチルピラゾール-4-イル 3-( 2-メトキシエトキシ)-2-メチル-4-(メチルスル ニル)フェニル ケトンの合成(後記化合物No.1 51)
(1)3-ヒドロキシ-2-メチル-4-ニトロ安息香酸  チル(63.3g)をDMF(400mL)に溶解し、炭酸カリウム (41.4g)及びヨウ化カリウム(3g)を加え攪拌した この混合液にクロロエチルメチルエーテル( 56.7g)を加え、90℃に加熱下20時間攪拌した。 応混合液を食塩水に加え、酢酸エチル・n-ヘ キサン混合溶媒で抽出した。有機層を飽和食 塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウム で乾燥した。減圧下で溶媒を留去して3-(2-メ キシエトキシ)-2-メチル-4-ニトロ安息香酸  チル(80.0g)を得た。
1 H-NMR (400MHz,CDCl 3 ,δppm)2.54(3H,s), 3.39(3H,s), 3.70(2H,m), 3.91(3H,m),4.1 1(2H,m), 7.59(1H,d,J=8.0Hz), 7.64(1H,d,J=8.0Hz).

(2)3-(2-メトキシエトキシ)-2-メチル-4-ニトロ安 息香酸 メチル(50 g)をDMF(320mL)に溶かし、水 下にナトリウムチオメトキシド(95wt%品,14.4g) 加えた。30分攪拌後、反応液に酢酸エチル n-ヘキサン混合溶媒(300mL/100mL)、次いで1N-塩 (300mL)を加えて攪拌した。有機層を食塩水で 浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶 を減圧留去し、3-(2-メトキシエトキシ)-2-メ ル-4-(メチルチオ)安息香酸 メチル(47.7g)を 体として得た。
1 H-NMR (400MHz,CDCl 3 ,δppm); 2.24(3H,s), 2.53(3H,s), 3.48(3H,s), 3.78(2H,m),  3.86(3H,s), 4.01(2H,m), 6.96(1H,d,J=8.4Hz), 7.68(1H,d,J =8.4Hz).

(3)3-(2-メトキシエトキシ)-2-メチル-4-(メチル オ)安息香酸 メチル(47.7g)を酢酸(350mL)に溶か し、タングステン酸(IV)ナトリウム2水和物(4.6 g)、次いで30%過酸化水素水(60.0g)を室温で徐々 に滴下した。1時間攪拌後、60℃で加熱し40分 攪拌した。反応混合液に食塩水を加え、酢 エチル・n-ヘキサン混合溶媒(1:1)で抽出した 。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナ トリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去し 、メタノール再結晶により3-(2-メトキシエト シ)-2-メチル-4-(メチルスルホニル)安息香酸 チル(46.8g)を得た。
1 H-NMR (400MHz,CDCl 3 ,δppm); 2.54(3H,s), 3.26(3H,s), 3.46(3H,s), 3.79(2H,m),  3.91(3H,s), 4.19(2H,m), 7.71(1H,d,J=8.4Hz), 7.84(1H,d,J =8.4Hz).

(4)3-(2-メトキシエトキシ)-2-メチル-4-(メチル ルホニル)安息香酸 メチル(46.79g)をメタノー ル・DMSO混合溶媒(280mL/100mL)に溶解し、室温で2 0wt%水酸化ナトリウム水溶液(77.5g)を加えた。 夜攪拌後、反応溶液に食塩水を加え、炭酸 リウム水溶液でアルカリ性にしてエーテル 洗浄した。水層を希塩酸で酸性にして酢酸 チルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗 し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧 で溶媒を留去し、3-(2-メトキシエトキシ)-2- チル-4-(メチルスルホニル)安息香酸(30.4g)を た。
1 H-NMR (400MHz,CDCl 3 ,δppm); 2.63(3H,s), 3.31(3H,s), 3.49(3H,s), 3.83(2H,m),  4.23(2H,m), 7.91(2H,s).

(5)3-(2-メトキシエトキシ)-2-メチル-4-(メチル ルホニル) 安息香酸(16.98g)をクロロホルム(20 0mL)に溶解し、塩化オキザリル(15g)及び触媒量 のDMFを加えた。反応混合物を室温で1時間攪 し、溶媒を減圧下で留去した。残渣を無水 トラヒドロフラン(150mL)に溶解し、5-ヒドロ シ-1-メチルピラゾール(6.35g)、トリエチルア ン(8.92g)及び4-(N,N-ジメチルアミノ)ピリジン( 10.8g)を加え、室温で17時間攪拌した。反応混 物を水中へ投入し、塩酸で酸性化した後、 成物を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル 液を飽和食塩水で2回洗浄した。有機層を無 水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧 下で留去した。残渣を無水アセトニトリル(20 0mL)に溶解し、トリエチルアミン(8.1g)と触媒 (0.75g)のアセトンシアノヒドリンを加え、室 で3時間攪拌した。溶媒を減圧留去した後、 水中へ投入し、希塩酸で酸性化して生成物を 酢酸エチルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで 乾燥した後、溶媒を減圧留去し、融点112-114 の目的物(16.8g)を得た。
1 H-NMR (400MHz,CDCl 3 ,δppm); 2.41(3H,s), 3.31(3H,s), 3.48(3H,s), 3.73(3H,s),  3.82(2H,m), 4.26(2H,m), 7.34(1H,s), 7.36(1H,d,J=8.4Hz),  7.94(1H,d,J=8.4Hz).

合成例3
5-ヒドロキシ-1-メチルピラゾール-4-イル 3-(2- メトキシエトキシ)-2-メチル-4-(メチルスルホ ル)フェニル ケトンの合成
(1)塩化チオニル(120g)及びメタンスルホン酸(24 0g)を室温で混合し、攪拌しながら120℃で1時 還流させた。ガスの発生が収束したことを 認し、反応混合物を50℃まで冷却した。そこ へ1,3-ジクロロ-2-メチルベンゼン(81g)及びトリ フルオロメタンスルホン酸(5g)を加えて、120 で5時間還流させた。反応混合物を50℃まで 却し、1Lの氷水へ投入した。沈殿した粗結晶 をクロロホルム(1L)に溶解し、水と2Mの水酸化 ナトリウム水溶液で各1回洗浄した。有機層 無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を 圧下で留去した。得られた粗結晶をエタノ ルから再結晶させ、1,3-ジクロロ-2-メチル-4-( メチルスルホニル)ベンゼン(88g)を白色結晶と して得た。
1 H-NMR 400MHz(CDCl 3  δppm): 2.58(s,3H), 3.28(s,3H), 7.50(d,1H,J=8.2Hz), 7. 97(d,1H,J=8.2Hz).

(2)1,3-ジクロロ-2-メチル-4-(メチルスルホニル) ベンゼン(31g)、重曹(33g)、酢酸パラジウム(0.87 5g)及び1,4-ビス(ジフェニルフォスフィノ)ブタ ン(3.25g)を容量500mLのステンレス製オートクレ ーブに入れ、窒素ガスで脱気処理した混合溶 媒(t-ブタノール:水=10:1、250mL)を加えた。容器 を密閉し、内部を一酸化炭素で2回置換した 、一酸化炭素の圧力を2MPaに設定して、125℃ 8時間攪拌した後、室温まで冷却した。翌日 に同じく125℃で8時間撹拌した後、室温まで 却し、その翌日に同じく125℃で4時間攪拌を った。反応容器を冷却後、2M水酸化ナトリ ム溶液(200mL)を加えた。15分間攪拌した後、 溶物をセライトでろ過し、残渣を2M水酸化ナ トリウム溶液(200mL)で洗浄した。ろ液をトル ン(200mL)で3回洗浄した後、水層に濃塩酸をpH1 となるまで加えた。析出した沈殿を濾取後、 乾燥し、3-クロロ-2-メチル-4-(メチルスルホニ ル)安息香酸(30g)を白色固体として得た。
1 H-NMR 400MHz(CDCl 3  δppm): 2.72(s,3H), 3.30(s,3H), 7.97(d,1H,J=8.4Hz),8.11 (d,1H,J=8.4Hz).

(3)窒素雰囲気下、水酸化ナトリウム(0.8g)を2- トキシエタノール(30mL)に室温で加えて、固 が完全に溶解するまで120℃で15分間攪拌し 。反応混合物を室温まで冷却し、減圧下で 媒を約15mL留去した。そこへ3-クロロ-2-メチ -4-(メチルスルホニル)安息香酸(1g)を加えて 120℃で12時間攪拌した。その後反応溶液を室 温まで冷却し、濃塩酸をpH1となるまで加えた 。酢酸エチル(100mL)で2回抽出し、合わせた有 層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減 下で溶媒を留去した。残渣を酢酸エチル(20m L)に溶解し、ヘキサン(5mL)を加えた。この溶 を冷蔵庫(約5℃)で12時間静置し、3-(2-メトキ エトキシ)-2-メチル-4-(メチルスルホニル)安 香酸(0.92g)を淡褐色固体として得た。
1 H-NMR 400MHz(CDCl 3 , δppm): 2.63(3H,s), 3.31(3H,s), 3.49(3H,s), 3.83(2H,m ), 4.23(2H,m), 7.91(2H,s).
(4)3-(2-メトキシエトキシ)-2-メチル-4-(メチル ルホニル)安息香酸を用い、前記合成例2(5)と 同様にして目的物を得る。

合成例4
 5-ヒドロキシ-1-メチルピラゾール-4-イル 3-( 2-メトキシエトキシ)-2-メチル-4-(メチルスル ニル)フェニル ケトンの合成
(1)3-クロロ-2-メチル-4-(メチルスルホニル)安 香酸(40g)及びクロロホルム(400mL)を室温で混 し、更に塩化オキザリル(28.1mL)及びDMF(3滴)を 加えた。ガスの発生が収束するまで約4時間 拌した後、40℃で30分間攪拌した。溶媒と過 な試薬を減圧下で留去し、残渣にクロロホ ム(400mL)、5-ヒドロキシ-1-メチル-1H-ピラゾー ル(16.6g)及びトリエチルアミン(17.9g)を加え室 で5時間攪拌した。反応溶液を希塩酸(100mL) 洗浄し、水層をクロロホルム(100mL)で抽出し 。有機層を一つにまとめ、無水硫酸ナトリ ムで乾燥した後、減圧下で溶媒を留去した 残渣を無水アセトニトリル(400mL)に溶解した 後、5-ヒドロキシ-1-メチル-1H-ピラゾール(1.58g )、アセトンシアノヒドリン(1.37g)及びトリエ ルアミン(16.3g)を加えて、40℃で12時間攪拌 た。反応溶液を減圧下で濃縮し、トルエン(2 00mL)を加えて1N水酸化ナトリウム水溶液(200mL) 抽出した。水層に濃塩酸をpH1となるまで加 、生成した固体を濾取した。濾取した固体 トルエン及び酢酸エチルで洗浄した後乾燥 せ、5-ヒドロキシ-1-メチルピラゾール-4-イ  3-クロロ-2-メチル-4-(メチルスルホニル)フ ニル ケトン(42g)を淡黄色固体として得た。
1 H-NMR 400MHz(DMSO-d 6  δppm): 2.32(s,3H), 3.40(s,3H), 3.53(s,3H), 7.35(s,1H) , 7.51(d,1H,J=8.0Hz), 7.97(d,1H,J=8.0Hz).

(2)窒素雰囲気下、水酸化ナトリウム(0.6g)を 2-メトキシエタノール(30mL)に加えて、100℃で1 5分間固体が完全に溶解するまで攪拌した。 応溶液を室温まで冷却した後、減圧下で溶 を約15mL留去した。そこへ5-ヒドロキシ-1-メ ルピラゾール-4-イル 3-クロロ-2-メチル-4-(メ チルスルホニル)フェニル ケトン(1g)を加え 、85℃で2時間撹拌し、更に120℃で3時間攪拌 た。1Mの水酸化ナトリウム水溶液(150mL)を加 、ジエチルエーテル(150mL)で洗浄した。水層 に濃塩酸をpH1となるまで加え、酢酸エチル(10 0mL)で2回抽出した。合わせた有機層を無水硫 ナトリウムで乾燥した後、減圧下で溶媒を 去し、油状の粗生成物を得た。これを酢酸 チル(20mL)に溶解した後、ヘキサン(5mL)を室 で加え12時間静置し、目的物(0.84g)を淡褐色 結晶として得た。

合成例5
 5-ヒドロキシ-1-メチルピラゾール-4-イル 3-( 2-メトキシエトキシ)-2-メチル-4-(メチルスル ニル)フェニル ケトンの合成
(1)硫化ナトリウム・九水和物(18g)を水(50mL)に かし、そこへ3-クロロ-2-メチル-4-チオイソ アネートアニリン(13g)をエタノール(250mL)に 濁させた混合物を室温下で滴下し、その後2 間撹拌した。反応器を氷浴下に置き、ヨウ メチル(13
g)をゆっくりと加え10分撹拌させた後、更に 温で3時間撹拌した。減圧下で溶媒を留去し 飽和食塩水(150mL)を加えてクロロホルム(100mL )で2回抽出した。合わせた有機層を無水硫酸 トリウムで乾燥させた後、減圧下で溶媒を 去し、3-クロロ-2-メチル-4-(メチルチオ)アニ リン(13g)を得た。
1 H-NMR 400MHz(CDCl 3  δppm): 2.25(s,3H), 2.40(s,3H), 6.60(d,1H,J=8.4Hz), 7. 01(d,1H,J=8.4Hz).
(2)3-クロロ-2-メチル-4-(メチルチオ)アニリン(0 .94g)と亜硝酸ナトリウム(0.69g)をDMSO(25mL)に溶 し35℃に加熱して、47wt%臭化水素酸(2.35mL)とDM SO(25mL)の混合物を滴下した。同温にて20時間 拌した後、炭酸カリウム(5g)を溶かし込んだ 水の溶液(100mL)に投入し、エーテル(50mL)で2 抽出した。合わせた有機層を水で洗浄し、 水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮して得 れた反応混合物をシリカゲルカラムクロマ グラフィーで単離し、(4-ブロモ-2-クロロ-3- チルフェニル)(メチル)スルフィド(0.61g)を得 。
1 H-NMR 400MHz(CDCl 3  δppm): 2.45(s,3H), 2.53(s,3H), 6.85(d,1H,J=8.4Hz), 7. 43(d,1H,J=8.4Hz).

(3)還流冷却管を取り付けて窒素雰囲気下に置 いた容器内に、マグネシウム金属(0.58g)と無 THF(10mL)を入れ、イソプロピルブロミド(0.70mL) を温度が上がり過ぎないようにゆっくりと滴 下した。その後室温で25分間撹拌し、(4-ブロ -2-クロロ-3-メチルフェニル)(メチル)スルフ ド(3.7g)の無水THF溶液(15mL)を20分かけて滴下 て、更に室温で更に3時間撹拌した。反応容 を氷浴し炭酸ガスを1時間吹き込みながら撹 拌した後、室温に戻してから20wt%塩酸(12mL)を え、更に30分間撹拌した。反応混合物にク ロホルム(40mL)を加えて抽出操作を3回行った 合わせた有機層を水で洗浄し、20wt%水酸化 トリウム水溶液(50mL)でアルカリ抽出を行い 35wt%塩酸でpH1に調節して酢酸エチル(50mL)で3 抽出した。合わせた有機層を水と飽和食塩 で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ 後、減圧下で溶媒を留去し、3-クロロ-2-メチ ル-4-(メチルチオ)安息香酸(2.1g)を得た。
1 H-NMR 400MHz(CDCl 3  δppm): 2.51(s,3H), 2.72(s,3H), 7.03(d,1H,J=8.4Hz),   7.93(d,1H,J=8.4Hz).
(4)3-クロロ-2-メチル-4-(メチルチオ)-安息香酸 用い、前記反応[AI]と同様にして、3-クロロ- 2-メチル-4-(メチルスルホニル)-安息香酸を得 。
(5)3-クロロ-2-メチル-4-(メチルスルホニル)-安 香酸を用い、前記合成例4の(1)及び(2)と同様 にして目的物を得る。

合成例6
 5-ヒドロキシ-1-メチルピラゾール-4-イル 3-( 2-メトキシエトキシ)-2-メチル-4-(メチルスル ニル)フェニル ケトンの合成
(1)1Lのフラスコに、2,6-ジクロロトルエン(100g) 、メタンスルホニルクロライド(71g)及び無水 化アルミニウム(83g)を入れ、オイルバスで12 0℃に加熱しながら12時間攪拌した。氷浴で冷 却しながら、2N-塩酸(400mL)をゆっくり加えた 1時間室温で攪拌した後、ヘキサン(300mL)を加 え、引き続き室温で2時間攪拌した。得られ 白色の結晶をろ過し、水(100mL)及びへキサン( 100mL)で洗浄し、乾燥した。1,3-ジクロロ-2-メ ル-4-(メチルスルホニル)ベンゼン(90g)を白色 晶(融点:125-127℃)として得た。
1 H-NMR 400MHz(CDCl 3 , δppm): 2.55(3H,s), 3.25(3H,s), 7.47(1H,d,J=8.4Hz), 7 .94(1H,d,d=8.4Hz).
(2)無水THF(50mL)に、60wt%水素化ナトリウム・パ フィン分散物(550mg)を加えた懸濁液に、2-メ キシエタノール(1.15g)を室温でゆっくり加え た。30分攪拌した後、1,3-ジクロロ-2-メチル-4- (メチルスルホニル)ベンゼン(3g)を加え、50℃ 2時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却 し、酢酸エチル(250mL)を加え、分液漏斗に移 た。飽和食塩水で2回洗浄した後、有機層を 水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒 留去した。1-クロロ-3-(2-メトキシエトキシ)- 2-メチル-4-(メチルスルホニル)ベンゼン(3.4g) 白色固体(融点:83-85℃)として得た。
1 H-NMR 400MHz(CDCl 3 , δppm): 2.39(3H,s), 3.23(3H,s), 3.46(3H,s), 3.77(2H,m ), 4.18(2H,m), 7.30(1H,d,J=8.8Hz), 7.73(1H,d,J=8.8Hz).

(3)1-クロロ-3-(2-メトキシエトキシ)-2-メチル-4- (メチルスルホニル)ベンゼン(2g)、5wt%パラジ ム炭素(20mg)、1,4-ビス(ジフェニルフォスフィ ノ)ブタン(16mg)及び炭酸ナトリウム(1.1g)をオ トクレーブに入れ、イソプロパノール(8.5mL) 水(1.5mL)を加えた。内部を一酸化炭素で置換 し、190℃、2MPaの圧力下で18時間攪拌した。過 剰なガスを除去し、反応混合物に1N-水酸化ナ トリウム水溶液(10mL)及びt-ブチルメチルエー ル(10mL)を加えた。5分間激しく攪拌した後、 不溶物をセライトで濾過して除いた。ろ液を 分液漏斗に移し、t-ブチルメチルエーテル(200 -mL)を加え、1N-水酸化ナトリウム水溶液(100mLx2 )で抽出した。水層を2N-塩酸(150mL)で酸性とし 酢酸エチル(150mLx2)で抽出した。有機層を無 硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を 去した。3-(2-メトキシエトキシ)-2-メチル-4-( メチルスルホニル)安息香酸(1.93g)を白色結晶( 融点:104-106℃)として得た。
(4)3-(2-メトキシエトキシ)-2-メチル-4-(メチル ルホニル)安息香酸を用い、前記合成例2(5)と 同様にして目的物を得る。

合成例7
 5-ヒドロキシ-1-メチルピラゾール-4-イル 3-( 2-メトキシエトキシ)-2-メチル-4-(メチルスル ニル)フェニル ケトンの合成
(1)1,3-ジクロロ-2-メチル-4-(メチルスルホニル) ベンゼン(1g)、5-ヒドロキシ-1-メチル-ピラゾ ル(820mg)を1,4-ジオキサン(20mL)に溶解させ、こ こへ酢酸パラジウム(50mg)、トリエチルアミン (630mg)、炭酸カリウム(1.15g)及び1,1’-ビス(ジ ェニルホスフィノ)フェロセン(230mg)を加えた 。この混合物をオートクレーブに入れ、内部 を一酸化炭素で置換し、130℃、2MPaの圧力下 12時間攪拌した。室温まで冷却後、過剰なガ スを除去し、反応溶液に1N-水酸化ナトリウム 水溶液(10mL)及びジエチルエーテル(10mL)を加え た。5分間激しく攪拌した後、不溶物をセラ トで濾過し、ろ液を分液漏斗に移した。ジ チルエーテル(200mL)を加えた後、1N-水酸化ナ リウム水溶液(100mLx2)で抽出した。合わせた 層を2N-塩酸(150mL)で酸性とし、酢酸エチル(15 0mLx2)で抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウ ムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去し、(3-クロ ロ-2-メチル-4-(メチルスルホニル)フェニル)(5- ヒドロキシ-1-メチル-1H-ピラゾール-4-イル)ケ ン(620mg)を得た。
(2)(3-クロロ-2-メチル-4-(メチルスルホニル)フ ニル)(5-ヒドロキシ-1-メチル-1H-ピラゾール-4 -イル)ケトンを用い、前記合成例4(2)と同様に して目的物を得る。

合成例8
5-ヒドロキシ-1-メチルピラゾール-4-イル 3-(2- メトキシエトキシ)-2-メチル-4-(メチルスルホ ル)フェニル ケトンの合成
(1)内容積50mLのオートクレーブ内に、無水THF(1 8mL)と60wt%水素化ナトリウム・パラフィン分散 物(316mg)を仕込み、窒素雰囲気下かつ氷冷攪 下で5-ヒドロキシ-1-メチルピラゾール(739mg) 少量ずつ添加した。放冷しながら1時間攪拌 た後に1-クロロ-3-(2-メトキシエトキシ)-2-メ ル-4-(メチルスルホニル)ベンゼン(2.0g)、1,4- ス(ジフェニルフォスフィノ)ブタン(100mg)及 10wt%パラジウム炭素の53wt%含水品(100mg)を加 て一酸化炭素で2MPaに加圧した後、190℃に加 し、20時間攪拌した。反応終了後、室温ま 冷却し、水(200mL)と有機溶媒(ジエチルエーテ ル30mL、酢酸エチル70mL)との混合物の中へ投入 攪拌した。水層を希塩酸でpH3程度に酸性化し て酢酸エチルで生成物を抽出し、硫酸ナトリ ウムで乾燥、溶媒を減圧留去して目的物(1.6g) を得た。

 次に、上記式(I)の化合物の代表例及びその 辺化合物を第1表に挙げ、それらの 1 H-NMRスペクトルデータを第2表に挙げる。これ らの化合物は、前記合成例或いは前記した種 々の製造方法に基づいて合成することができ る。尚、第1~2表中、No.は化合物番号を示す。 又、第1表中、Meはメチル基を、Etはエチル基 、n-Pr基はノルマルプロピル基を、i-Prはイ プロピル基を、t-Buは第三級ブチル基を各々 す。

試験例1
 1/170,000ヘクタールポットに畑作土壌をつめ 各種植物の種子を播種した。その後、植物 一定の葉令((1)イヌビエ:1.0~3.0葉期、(2)メヒ バ:1.0~3.0葉期、(3)エノコログサ:1.0~3.0葉期、 (4)アオゲイトウ:子葉~2.0葉期、(5)アメリカキ ゴジカ:子葉~1.0葉期、(6)イチビ:0.1~1.5葉期、 (7)イネ:1.0~3.0葉期、(8)コムギ:1.7~3.4葉期、(9) ウモロコシ:2.0~3.5葉期、(10)ダイズ:初生葉~0.4 葉期)に達したとき、上記式(I)の化合物を通 の製剤方法に準じて調製した水和剤又は乳 を所定有効成分量となるように秤量し、1ヘ タール当り500リットル相当の水(農業用展着 剤として、クサリノー:日本農薬株式会社製 0.1容量%含有)に希釈した。調製した散布液を 小型スプレーで茎葉処理した。
 薬剤処理後17~25日目に各種植物の生育状態 肉眼観察し、0(無処理区と同等)~100(完全枯殺 )の生育抑制率(%)で除草効果を評価し、第3表 結果を得た。

試験例2
 1/170,000ヘクタールポットに畑作土壌をつめ 各種植物の種子(イヌビエ、メヒシバ、エノ コログサ、アオゲイトウ、アメリカキンゴジ カ、イチビ、イネ、コムギ、トウモロコシ及 びダイズ)を播種した。播種翌日、上記式(I) 化合物を通常の製剤方法に準じて調製した 和剤又は乳剤を所定有効成分量となるよう 秤量し、1ヘクタール当り500リットル相当の に希釈し、小型スプレーで土壌処理した。
 薬剤処理後19~28日目に各種植物の生育状態 肉眼観察し、0(無処理区と同等)~100(完全枯殺 )の生育抑制率(%)で除草効果を評価し、第4表 結果を得た。

試験例3
 1/1,000,000 haポットに畑作土壌をつめ、各種 物の種子を播種した。その後、植物が一定 葉令((1)エノコログサ:4.0~4.5葉期、(2)ギネア ビ:3.5~4.3葉期、(3)トウモロコシ:4.0~4.3葉期)) 達したとき、上記式(I)の化合物を通常の製 方法に準じて調製した水和剤又は乳剤を所 有効成分量となるように秤量し、1ヘクター ル当り300または500リットル相当の水(農業用 着剤として、MSO Concentrate:Cognis
Corporation製又はクサリノー:日本農薬株式会社 製を含有)に希釈した。調製した散布液を小 スプレーで茎葉処理した。
 薬剤処理後18~24日目に各種植物の生育状態 肉眼観察し、0(無処理区と同等)~100(完全枯殺 )の生育抑制率(%)で除草効果を評価し、第5表 ら第7表の結果を得た。

 次に、製剤例を記載する。
製剤例1
(1)上記式(I)の化合物                  75  重量部
(2)ゲロポンT-77(商品名;ローヌ・プーラン社製 )  14.5 重量部
(3)NaCl                       10   量部
(4)デキストリン                    0.5  重量部
以上の各成分を高速混合細粒機に入れ、さら にそこへ20wt%の水を加え造粒、乾燥して顆粒 和剤が得られる。

製剤例2
(1)カオリン                     78 重量部
(2)ラベリンFAN(商品名;第一工業製薬(株)製)    2 重量部
(3)ソルポール5039(商品名;東邦化学工業(株)製)  5 重量部
(4)カープレックス(商品名;塩野義製薬(株)製)   15 重量部
以上、(1)~(4)の成分の混合物と上記式(I)の化 物とを9:1の重量割合で混合して水和剤が得 れる。

製剤例3
(1)ハイフィラーNo.10(商品名;松村産業(株)製)  33 重量部
(2)ソルポール5050(商品名;東邦化学工業(株)製)   3 重量部
(3)ソルポール5073(商品名;東邦化学工業(株)製)   4 重量部
(4)上記式(I)の化合物                  60 重量部
以上の(1)~(4)の各成分を混合して水和剤が得 れる。

製剤例4
(1)上記式(I)の化合物                   4  重量部
(2)ベントナイト                     30  重量部
(3)炭酸カルシウム                     61.5重量部
(4)トキサノンGR-31A(商品名;三洋化成工業(株) ) 3  重量部
(5)リグニンスルホン酸カルシウム塩            1.5  重量部
予め粉砕した(1)と、(2)及び(3)とを混合し、そ こへ(4)、(5)及び水を加えて混合し、押出し造 粒する。その後、乾燥、整粒して粒剤が得ら れる。

製剤例5
(1)上記式(I)の化合物                  30 重量部
(2)ジークライト(商品名;ジークライト(株)製)     60 重量部
(3)ニューカルゲン WG-1(商品名;竹本油脂(株) )  5 重量部
(4)ニューカルゲン FS-7(商品名;竹本油脂(株) )  5 重量部
(1)、(2)及び(3)を混合し、粉砕機を通した後、 (4)を加えて混練後、押出し造粒する。その後 、乾燥、整粒して顆粒水和剤が得られる。

製剤例6
(1)上記式(I)の化合物                   28 重量部
(2)ソプロポールFL(商品名;ローヌ・プーラン 製)     2 重量部
(3)ソルポール355 (商品名;東邦化学工業(株)製 )    1 重量部
(4)IPソルベント1620(商品名;出光石油化学(株) ) 32 重量部
(5)エチレングリコール                     6 重量部
(6)水                            31 重量部
以上の(1)~(6)の成分を混合し、湿式粉砕機(ダ ノ-ミル)を用いて粉砕して水性懸濁剤が得 れる。

 本発明の除草性組成物は、優れた除草効果 有しており、その適用範囲は、水田、畑地 果樹園、桑園などの農耕地、山林、農道、 ランド、工場敷地などの非農耕地と多岐に たり、また、適用方法も土壌処理、茎葉処 、湛水処理等を適宜選択できる等、産業上 利用可能性は極めて高い。
 
 なお、2006年12月27日に出願された日本特許 願2006-351617号、2007年6月12日に出願された日 特許出願2007-155359号、及び2007年7月27日に出 された日本特許出願2007-195420号の明細書、特 許請求の範囲、図面並びに要約書の全内容を ここに引用し、本発明の明細書の開示として 、取り入れるものである。