Die Erfindung betrifft einen Hochfrequenz-Leistungstransistor und im Speziellen betrifft die Erfindung die Trennung von Hochfrequenz- und Gleichstrom- bzw. Niederfrequenz-Masse innerhalb des Leistungstransistorgehäuses. Der Betrieb eines Hochfrequenz- (HF) Leis tungstransistors mit potentialfreier Masse wird durch Einfügen eines HF- Bypasskondensators in das Transistorgehäuse ermöglicht. Durch den Kondensator wird eine Trennung der HF-Masse von der DC- (engl direct current, dt. Gleichstrom) und Niederfre quenz- (NF) Masse erzeugt. Indem der HF-Bypasskondensator im Gehäuse und so nah wie möglich am Transistor platziert wird, kann die Induktivität des HF-Pfades zwischen dem Sourcekontakt des Transistors und der Systemmasse reduziert werden. Dadurch werden die Effizienz, die DC- & NF- / HF-Isolation und somit auch die NF-Bandbreite sowie die Stabilität verbessert. Ein separater DC- & NF-Anschluss am Gehäuse ermöglicht den potentialfreien Betrieb bei einer großen NF-Bandbreite (engl. Video bandwidth), wobei die erreichbare Bandbreite von etwa 10 MHz auf mehrere hundert MHz erhöht wird.

Technologischer Hintergrund der Erfindung

Hochfrequenz(HF)-Leistungsverstärker sind bekanntlich Schlüsselkomponenten in drahtlo sen Kommunikationssystemen. Sie verstärken HF-Signale auf Leistungsniveaus, die für die Übertragung über eine bestimmte Entfernung erforderlich sind. Um die Datenübertragung mit hohen Datenraten oder großer Bandbreite zu ermöglichen, werden komplexe Modulations schemata auf das HF-Signal angewendet, die zu einer variierenden Signalleistung führen.

In Anbetracht der Tatsache, dass Energieverbrauch und Energieeinsparung kritische Aspek te bei HF-Leistungsverstärkern sind, ist es wichtig, HF-Leistungsverstärker in einem energie effizienten Modus zu betreiben. Bei linearen HF-Leistungsverstärkern ist der Wirkungsgrad im Bereich der maximalen Ausgangsleistung am höchsten und nimmt mit reduzierter Aus gangsleistung, d.h. bei Power Backoff, ab.

Ein Ansatz zur Erhöhung der HF-Leistungsverstärker-Effizienz bei Power Backoff ist das Hüllkurvenverfolgungs-Verfahren (englisch: envelope tracking technique, ET-technique), bei der die Versorgungsspannung des HF-Leistungsverstärkers entsprechend der momentanen Leistung des modulierten HF-Signals angepasst wird. Das ET-Verfahren reduziert somit die Leistungsaufnahme und damit die Verlustleistung eines HF-Leistungsverstärkers. Die extreme Bandbreite moderner Kommunikationssignale erfordert einen sehr schnellen Hüllkurvenverstärker, d.h. ein Gleichspannungswandler kann den HF-Leistungsverstärker mit einer Spannung versorgen, die der momentanen Leistungsänderung im HF-Signal ent spricht. Alle solchen schnellen Gleichspannungswandler beinhalten eine Art Schaltstufe.

In der einfachsten Form kann der Gleichspannungswandler ein Abwärtswandler sein, der die Last speist, was für ein ET-System, das ein ET-Verfahren verwendet, der HF- Leistungsverstärker ist. In dieser Topologie ist der HF-Leistungsverstärker mit der Masse verbunden, was bedeutet, dass der Abwärtswandler in Richtung der ET-System- Versorgungsspannung arbeitet, wobei der HF-Leistungsverstärker vom potentialfreien Ab- wärtswandler-Ausgang versorgt wird. Dazu ist entweder ein p-Kanal Feldeffekttransistor oder ein n-Kanal Feldeffekttransistor mit isoliertem Schalttreiber erforderlich.

Neuartige ultraschnelle Verbindungshalbleiter eignen sich aufgrund ihrer geringen parasitä ren Kapazitäten sehr gut für Schaltanwendungen, aber nur n-Typ-Material ist mit hoher Leis tung und Schaltgeschwindigkeit verfügbar. Eine vielversprechende Topologie in Bezug auf Schaltfrequenz und Belastbarkeit ist ein Abwärtswandler mit einem solchen n-Kanal- Feldeffekttransistor. Der vorgenannte isolierte Gate-Schalter ist jedoch kompliziert zu imple mentieren und führt zu einer parasitären Kapazität, die das Schaltverhalten beeinflusst und einen großen Einfluss auf die gesamten ET-Systemeigenschaften hat.

Um dies zu verhindern, wird in WO 2014/170710 A1 ein Hüllkurvenverfolgungssystem mit einem umgekehrten Abwärtswandler vorgeschlagen. Die vorgeschlagene Topologie ist un gewöhnlich in dem Sinne, dass die Versorgungsspannung des HF-Leistungsverstärkers mo difiziert wird, indem das Niederfrequenz(NF)-Source-Potential des HF-Leistungsverstärker- Transistors variiert wird, während Systemmasse und HF-Masse gemeinsam gehalten wer den. Der HF-Leistungsverstärker ist somit gegenüber der Gleichspannungs-Einspeisung, oder in diesem Fall dem NF-Source-Potential, potentialfrei. In einem solchen ET-System unter Verwendung eines umgekehrten Abwärtswandlers bildet der HF-Leistungsverstärker die Last des Abwärtswandlers, wird aber aus dem Spannungsabfall zwischen der Versor gungsspannung des ET-Systems und dem Ausgang des Abwärtswandlers mit potentialfreier Masse versorgt.

Weitere gewöhnliche Leistungstransistoren sind in US 6,593,797 B1 , US 6,734,728 B1 , US 2018/0262170 A2 und US 5,841 ,184 A offenbart. HF-Leistungstransistoren, die 10 W oder mehr Leistung liefern und die Kernelemente solcher Leistungsverstärker darstellen, werden typischerweise, wie in den Figuren 1A, 1 B und 1 C dargestellt, als separate, in jeweils ein Gehäuse eingebaute elektrische Bauelemente ver wendet. Das in Fig. 1A und 1 C gezeigte HF-Leistungstransistorgehäuse umfasst einen Flansch mit hoher elektrischer und thermischer Leitfähigkeit, einen darauf angebrachten elektrisch isolierenden Rahmen, der die wiederum darauf angebrachten zwei elektrischen Anschlüsse von dem Flansch isoliert, sowie einen elektrisch isolierenden Deckel, der den Inhalt des Gehäuses schützt. Der im Gehäuse enthaltene Transistor wird (zusammen mit weiteren benötigten Bauelementen) auf dem Flansch innerhalb des elektrisch isolierenden Rahmens platziert. Bei dem in Fig. 1 C gezeigten gehäusten Transistor, welcher entweder ein Feldeffekt- (FET) oder Bipolar- (BJT) Transistor sein kann, werden Bonddrähte verwendet um den Eingangsanschluss mit dem Gatekontakt des FETs (oder dem Basiskontakt eines BJTs), den Drainkontakt des FETs (oder Emitterkontakt eines BJTs) mit dem Ausgangsan schluss sowie den Sourcekontakt des FETs (oder Kollektorkontakt eines BJTs) mit der Sys temmasse zu verbinden. Da es sich bei dem dargestellten Transistorchip um einen Transis tor ohne Vias handelt, werden elektrisch leitfähige Bondstützpunkte nahe am Transistor plat ziert, die über den Flansch des Leistungstransistorgehäuses direkt mit der Systemmasse verbunden sind. Der gehäuste Transistor aus Fig. 1A, 1 B und 1 C kann zusätzlich, wie in Abb. 1 D gezeigt, ein Eingangsanpassungsnetzwerk, das den Eingangsanschluss mit dem Gatekontakt des FETs (oder dem Basiskontakt eines BJTs) verbindet, und/oder ein Aus gangsnetzwerk, das den Drainkontakt des FETs (oder Emitterkontakt eines BJTs) mit dem Ausgangsanschluss verbindet, enthalten.

Der gehäuste Transistor wird typischerweise, wie in Fig. 2A gezeigt, in eine Platine einge baut. Auf dieser Platine befinden sich auch Anpassungsnetzwerke und DC- & NF- / HF- Diplexer, die den Ausgangsanschluss des Transistors mit dem HF-Ausgang verbinden. Eine DC- & NF-Spannungsversorgung ist über eine DC- & NF-Versorgungsleitung mit dem be schriebenen Diplexer und somit mit dem Ausgangsanpassungsnetzwerk und dem Aus gangsanschluss des Transistors verbunden. Diese zweifache Funktion der Schaltung auf der Platine bewirkt die gezielte Impedanzanpassung bei der Trägerfrequenz und stellt zugleich einen Weg für die Zuführung der DC-Versorgungsspannung für den Transistor dar. Außer dem muss die Schaltung die DC- & NF-Versorgung vom HF-Ausgang trennen und ein Ein koppeln des HF-Signals in den Versorgungspfad unterdrücken.

Für den potentialfreien Betrieb des typischen HF-Leistungstransistors muss die HF-Masse von der DC- & NF-Masse außerhalb des Transistorgehäuses getrennt werden. Dies kann, wie in Fig. 2B gezeigt, durch das zusätzliche Einbringen eines DC- & NF- / HF-Diplexers in die Schaltung auf der Platine erreicht werden. Der Masseanschluss des Transistors, sprich der Flansch, wird dann über ein HF-Bypassnetzwerk mit der Systemmasse und über ein DC- & NF-Tiefpassnetzwerk mit dem potentialfreien DC- & NF-Anschluss verbunden. Das Gate des Transistors muss für den potentialfreien Betrieb über eine galvanisch getrennte Span nungsversorgung angesteuert werden.

Der Abstand zwischen dem Transistor und den für die Massetrennung relevanten Schal tungsteilen ist ein Nachteil dieser Realisierungsmöglichkeit, da durch die zusätzlichen Lei tungslängen zusätzliche Induktivitäten und elektrische Verzögerungen erzeugt werden. Zu sammen mit den Kondensatoren, die für den HF-Bypass auf der Platine benötigt werden, wird somit die NF-Bandbreite begrenzt.

Alternativ kann der potentialfreie Betrieb eines bloßen HF-Leistungstransistors ohne Vias und ohne Gehäuse mit einem Hybridaufbau realisiert werden, bei dem die Massetrennung zwischen HF bzw. DC & NF durch einen unmittelbar neben dem Transistorchip auf dem Flansch platzierten bondbaren Bypasskondensator erzeugt wird, dessen obere Elektrode durch Bonddrähte mit dem Sourcekontakt des Transistors verbunden ist und dessen untere Elektrode direkt mit dem Flansch kontaktiert ist. Weiterhin ist der Sourcekontakt des Transis tors durch Bonddrähte mit dem DC- & NF-Tiefpassnetzwerk und der zugehörigen potential freien Masse auf der umgebenden Platine verbunden. Die Gate- und Drainkontakte des Transistors sind ebenfalls durch Bonddrähte mit den Eingangs- und Ausgangsnetzwerken auf der umgebenden Platine verbunden, was dem Bonden zu den Ein- und Ausgangsan schlüssen in einem typischen HF-Leistungstransistorgehäuse entspricht.

Problematisch bei den bekannten Lösungen ist das Folgende:

(1 ) Es gibt keine genau definierte Schnittstelle zwischen dem potentialfreien Transistor und den umgebenden Netzwerken. Dies bedeutet das:

a. Eine korrekte Charakterisierung der Leistung und Stabilität des potentialfreien Tran sistors zusammen mit dem bondbaren Kondensator ist nicht möglich.

b. Es kann für Simulationen kein HF-Modell außer für die einzelnen Zellen des T ransis- tors extrahiert werden.

c. Die Vorhersagbarkeit des HF-Leistungsverstärker-Verhaltens und damit des gesam ten ET-Systems ist nicht gut. (2) Der mechanische Aufbau einer Schaltung mit bloßem Transistorchip und bondbarem Kondensator ist sehr kompliziert und die aufgebaute Schaltung ist nicht vor mechanischen Beschädigungen geschützt. Dies bedeutet das:

a. Aus mechanischer Sicht sind einfache und schnelle Konstruktionen nicht möglich. b. Der HF-Leistungsverstärker mit gebondetem Transistorchip und Kondensator ist an fällig für mechanische Beschädigungen. Gleichzeitig ist es schwierig, im Falle eines mechanischen oder elektrischen Transistorschadens eine Reparatur durchzuführen und nur wenige Reparaturen sind überhaupt möglich.

Zusammenfassung der Erfindung

Die Aufgabe besteht darin, einen Hochfrequenz-Leistungstransistor bereitzustellen, der zu mindest einen Teil der oben genannten Nachteile überwindet.

Erfindungsgemäß wird ein Hochfrequenz-Leistungstransistor vorgestellt, umfassend:

- einen Transistor,

- mindestens einen Kondensator,

- ein Gehäuse, das den Transistor und den Kondensator zumindest teilweise umgibt, wobei ein erster Anschluss für einen Hochfrequenz-Eingang und eine Gate- Gleichspannungsversorgung an einem Gatekontakt des Transistors angeschlossen ist, dadurch gekennzeichnet,

dass ein zweiter Anschluss an einem Drainkontakt des Transistors für einen Hochfrequenz- Ausgang und Drain-Gleichspannungsversorgung angeschlossen ist, und

wobei an einem Sourcekontakt des Transistors ein dritter Anschluss und ein vierter An schluss angeschlossen sind, und

wobei der erste, zweite, dritte und vierte alle aus dem Gehäuse herausführen, und wobei der dritte Anschluss über den Kondensator an den Sourcekontakt angeschlossen ist und der vierte Anschluss über mindestens ein induktives Element an den Sourcekontakt an geschlossen ist, sodass der dritte Anschluss eine Hochfrequenz-Masse bereitstellt und der vierte Anschluss eine potentialfreie DC- & NF- Masse und Sourceversorgung bereitstellt.

Unter Niederfrequenz (NF) wird normalerweise Langwellen-Strahlung mit 30 kHz bis 300 kHz verstanden. Hier ist NF als ein generelle Bezeichnung umfassend Strahlung mit der Modula tionsfrequenz (MF) oder im Basisband im Frequenzbereich DC (0 Hz) bis mehrere hundert Megahertz, noch bevorzugter bis 400 MHz, zu verstehen. Unter Hochfrequenz (HF) wird normalerweise Kurzwellen-Strahlung mit 3 MHz bis 30 MHz verstanden. Hier ist HF als eine generelle Bezeichnung umfassend Strahlung im Bereich 500 MHz bis mehrere GHz zu ver stehen, noch bevorzugter bis 5 GHz und noch bevorzugter bis 10 GHz. Die obere NF- Grenze ist von der HF-Trägerfrequenz abhängig und kann mit der vorgeschlagenen Lösung bis zu 20% der HF-Trägerfrequenz erreichen, und kann noch bevorzugter bis zu 40% der HF Trägerfrequenz erreichen. Wird das beschriebene Verhältnis von NF zu HF berücksichtigt, kann bei einer bevorzugten HF von 10 GHz eine NF von vorzugsweise 4 GHz erreicht wer den.

Vorzugsweise ist der Widerstand zwischen dem Sourcekontakt des Transistors und dem Kondensator kleiner als 1 Ohm, noch bevorzugter kleiner als 0.5 Ohm und noch bevorzugter kleiner als 10 mOhm.

Vorzugsweise ist die Induktivität zwischen dem Sourcekontakt des Transistors und der Sys temmasse kleiner als 0.8 nH, noch bevorzugter kleiner als 0.1 nH und noch bevorzugter klei ner als 10 pH.

Vorzugsweise ist eine potentialfreie Masse eine geräteinterne Masse ohne einen Bezug zur Erde.

Unter galvanischer Trennung (auch galvanische Entkopplung) wird vorzugsweise das Ver meiden der elektrischen Leitung zwischen zwei Stromkreisen, zwischen denen Leistung oder Signale ausgetauscht werden sollen, verstanden. Die elektrische Leitung wird dabei durch elektrisch nicht leitfähige Kopplungsglieder aufgetrennt. Bei galvanischer Trennung sind die elektrischen Potentiale voneinander getrennt und die Stromkreise sind dann untereinander potentialfrei.

Vorzugsweise wird unter Bypassnetzwerk ein oder mehrere Bypass-Kondensatoren verstan den. Ein Bypass-Kondensator wird auch Ableitungskondensator, Kurzschlusskondensator oder Überbrückungskondensator genannt. Allgemein handelt es sich um einen Kondensator, der für bestimmte Signale oder Störsignale eine Umgehungs- oder Ableitungsstrecke schaf fen soll.

Bei einem Diplexer ist vorzugsweise eine elektrisch passive Baugruppe im Bereich der Hoch frequenztechnik mit drei Toren gemeint, der dazu dient, eine geführte elektromagnetische Welle in Abhängigkeit von der Frequenz zwischen zwei Toren zu trennen oder in umgekehr- ter Betriebsrichtung auf ein Tor zusammenzufügen. Der Diplexer stellt eine spezielle Bau form einer Frequenzweiche dar.

Unter Tiefpassnetzwerk wird vorzugsweise ein oder mehre Tiefpass-Filter verstanden. Ein Tiefpass-Filter ist ein Filter, der nur Frequenzen bis zu einer gewissen Höhe durchlässt. Dar über wird er zürn Blockungsfilter.

Vorzugsweise werden unter Anpassungsnetzwerk eine Schaltung zur Anpassung der Impe danz zwischen einer Quelle für hochfrequente Signale und einem Verbraucher verstanden. Dadurch wird die Leistungsübertragung zwischen Quelle und Verbraucher optimiert.

Eine l/4-Leitung ist vorzugsweise eine Transmissionsleitung zur Führung elektromagneti scher Wellen in Form einer Koplanar- oder Mikrostreifenleitung, deren Länge ein Viertel der Wellenlänge der zu übertragenden elektromagnetischen Welle beträgt und somit eine Trans formation eines HF-Kurzschlusses in einen HF-Leerlauf und umgekehrt bewirkt.

Vorzugsweise umfasst das HF-Leistungstransistorgehäuse einen Flansch mit hoher elektri scher und thermischer Leitfähigkeit, einen darauf angebrachten elektrisch isolierenden Rah men, der die wiederum darauf angebrachten zwei elektrischen Anschlüsse von dem Flansch isoliert, sowie einen elektrisch isolierenden Deckel, der den Inhalt des Gehäuses schützt.

Der vorgeschlagene HF-Leistungstransistor weist also getrennte Niederfrequenz- und Hoch frequenz-Massen auf, um ein gut vorhersagbares HF-Leistungsverstärker-Design mit poten tialfreier Niederfrequenz-Masse zu ermöglichen. Herkömmliche gehäuste HF- Leistungstransistoren haben drei Anschlüsse, d.h. einen für das HF-Eingangssignal und die DC-Gate-Versorgung, einen zweiten für das HF-Ausgangssignal und die DC-Drain- Versorgung oder in einem ET-System auch für die NF-Drain-Versorgung und einen dritten für die gemeinsame Masse.

Der erfindungsgemäße Leistungstransistor mit potentialfreier Masse verfügt über vier oder mehr Anschlüsse. Die Anschlüsse für das HF-Eingangssignal und die Gleichspannungs- Gate-Versorgung sowie für das HF-Ausgangssignal und die Gleichspannungs-Drain- Versorgung sind die gleichen wie bei herkömmlichen gehäusten HF-Leistungstransistoren.

Der Unterschied für den erfindungsgemäßen HF-Leistungstransistor besteht darin, dass der Anschluss für die herkömmliche gemeinsame Masse von HF und DC&NF nun nur noch als HF-Masse dient. Der Anschluss für die potentialfreie DC&NF-Masse ist durch mindestens einen zusätzlichen Anschluss (zumindest den vierten Anschluss) realisiert. Aus diesem Grund sind mindestens vier aus dem Gehäuse herausführende Anschlüsse erforderlich.

Für den erfindungsgemäßen HF-Leistungstransistor mit potentialfreier NF-Masse erfolgt die Trennung der NF- und HF-Massen beispielsweise durch Kopplung des HF-Signals an die Systemmasse über einen Kondensator mit ausreichender Reihenresonanzfrequenz, der vor zugsweise einen HF-Kurzschluss und DC&NF-Leerlauf bereitstellt. Die Bandbreite des HF- Kurzschlusses ist hauptsächlich abhängig vom Qualitätsfaktor des Kondensators.

Der Transistor wird zusammen mit einem (bondfähigen) Kondensator oder einer Anzahl von Kondensatoren parallel in das Gehäuse eingebaut. Diese Lösung ist praktikabel, solange das Gehäuse groß genug ist, um sowohl den Transistor als auch den/die Kondensator(en) aufzunehmen, und nicht zu groß, um eine Grenze bspw. für die parasitären Induktivitäten von Verbindungsbonddrähten, welche das Induktive Element darstellen, festzulegen. Insbe sondere eventuell verwendete Bonddrähte zwischen dem Sourcekontakt des Transistors und dem Kondensator haben einen wesentlichen Einfluss auf den HF-Kurzschluss.

Der erfindungsgemäße Leistungstransistor ermöglicht:

(1 ) - eine separate Charakterisierung und Modellierung des gehäusten (d.h. von einem Ge häuse umgeben), massegetrennten HF-Leistungstransistors an einer festen Schnittstelle, d.h. den mindestens vier aus dem Gehäuse herausführenden Anschlüssen;

(2) - einfaches und schnelles HF-Leistungsverstärker-Design durch Verwendung des erfin dungsgemäßen HF-Leistungstransistors wie ein konventionell gehäuster HF- Leistungstransistor mit nur mindestens einem zusätzlichen Anschluss für die NF-Masse, oh ne dass für die Montage besondere Ausrüstung und Wissen erforderlich sind;

(3)- Schutz vor mechanischen Beschädigungen durch einen Deckel als Teil des Gehäuses;

(4)- einfache und schnelle Reparatur eines HF-Leistungsverstärkers mit beschädigtem Tran sistor durch einfachen Austausch des gehäusten beschädigten Transistors mit einem neuen Transistor.

Das Leistungstransistorgehäuse umfasst vorzugsweise einen Flansch mit hoher elektrischer und thermischer Leitfähigkeit, vorzugsweise einen darauf angebrachten elektrisch isolieren den Rahmen, der die wiederum darauf vorzugsweise angebrachten zwei elektrischen An schlüsse von dem Flansch isoliert, sowie vorzugsweise einen elektrisch isolierenden Deckel, der den Inhalt des Gehäuses schützt. Das Merkmal„aus dem Gehäuse herausführen“ in Bezug auf die Anschlüsse ist so zu ver stehen, dass eine elektrische Verbindung mit einem externen Anschluss oder einer Masse für den jeweiligen Anschluss der mindestens vier Anschlüsse ermöglicht wird.

Der Begriff Transistor allein betrifft im Rahmen dieser Anmeldung lediglich den Transistor als einzelnes Schaltungselement im erfindungsgemäßen Leistungstransistor, wobei letzterer beispielsweise auch den Kondensator und das Gehäuse umfasst. Der Begriff Kondensator ist im Rahmen diese Anmeldung breit ausgelegt und kann auch ein anderes Schaltungsele ment, das dessen Funktionalität übernimmt, darstellen.

In einer bevorzugten Ausführungsform umfasst das induktive Element einen Bonddraht oder mehrere parallel geschaltete Bonddrähte. Vorzugsweise umfasst das induktive Element eine Vielzahl von Bonddrähten. Die Länge und Anzahl der Bonddrähte richtet sich nach dem zu überbrückenden Abstand zwischen dem Transistor und den zu verbindenden Elementen oder Anschlüssen und der benötigtem Stromtragfähigkeit und kann außerdem entsprechend der gewünschten Induktivität des induktiven Elements variiert werden.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform ist der Kondensator ein Einschichtkondensa tor. Die DC- & NF- / HF-Frequenztrennung am Sourcekontakt des Transistors wird dann durch mindestens einen, vorzugsweise bondfähigen, Einschichtkondensator mit entspre chender Kapazität und Reihenresonanzfrequenz erreicht. Der Kondensator ist vorzugsweise so nah wie möglich an dem Sourcekontakt des Transistors gebondet, wodurch ein HF- Kurzschluss zur Systemmasse bereitgestellt wird.

Vorzugsweise umfasst der Hochfrequenz-Leistungstransistor mindestens zwei parallel ge schaltete Kondensatoren zwischen dem dritten Anschluss und dem Sourcekontakt.

Es ist bevorzugt, wenn der Transistor und der Kondensator in einem integrierten Schaltkreis, noch bevorzugter in einem MMIC (engl monolithic microwave integrated Circuit, dt. monoli- tisch integrierte Mikrowellenschaltung), kombiniert sind. Ein MMIC ist in der Hochfrequenz technik eine spezielle Klasse von integrierten Schaltkreisen. Dabei werden alle aktiven und passiven Komponenten auf einem Halbleitersubstrat realisiert (Dicke vorzugsweise zwischen 50 pm und 350 pm). Die Miniaturisierung ermöglicht Schaltungen bis in den Bereich der Mil limeterwellen. Der Transistor und der Kondensator, über den die Verbindung zur HF-Masse (insb. zur Systemmasse) erfolgt, sind dann beide innerhalb desselben integrierten Schalt kreises (MMIC) realisiert. Der MMIC umfasst also funktionell den Transistor und den Kon- densator und ist von dem Gehäuse zumindest teilweise umschlossen. In diesem Fall wird auch ein induktives Element (insbesondere Bonddrähte) verwendet, um den MMIC zumin dest mit dem vierten Anschluss zu verbinden, aber die Eigenschaften des HF-Kurzschlusses werden durch den MMIC-Aufbau gegeben (der die Funktion des Kondensators übernimmt bzw. diesen umfasst) und ist daher nicht von der Baugruppe im Gehäuse abhängig.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform ist der dritte Anschluss mit mindestens ei nem elektrisch leitfähigen Flansch, vorzugsweise mit zwei gegenüberliegenden elektrisch leitfähigen Flanschen verbunden. Dadurch wird eine Verbindung mit einer Systemmasse (beispielsweise über einen kontaktierten Wärmetauscher) erleichtert.

Es ist bevorzugt, wenn der Hochfrequenz-Leistungstransistor einen fünften Anschluss um fasst, der über mindestens ein induktives Element an den Sourcekontakt angeschlossen ist, sodass der dritte Anschluss eine Hochfrequenz-Masse bereitstellt und der vierte Anschluss und der fünfte Anschluss gemeinsam eine potentialfreie Niederfrequenz-Masse und Source- Gleichspannungsversorgung bereitstellen.

Die oben genannte Aufgabe wird auch durch einen Hochfrequenz-Leistungstransistor nach einer der vorstehenden Ausführungsformen und zwei auf gegenüberliegenden Seiten des Hochfrequenz-Leistungstransistors angeordnete gedruckte Leiterplatten gelöst.

Vorzugsweise ist der erste Anschluss an eine Leiterbahn der ersten gedruckten Leiterplatte angeschlossen, wobei der zweite Anschluss, der vierte Anschluss, sowie gegebenenfalls der fünfte Anschluss, an Leiterbahnen der zweiten Leiterplatte angeschlossen sind. Die Leiter bahnen der gedruckten Leiterplatten stellen dann die externen Verbindungen für den ersten, zweiten, vierten und ggf. den fünften Anschluss (oder mehr) bereit. Vorzugsweise stellt eine Leiterplatte ein Eingangsanpassungsnetzwerk und die zweite ein Ausgangsanpassungs netzwerk bereit.

In einer weiteren Ausführungsform umfasst vorzugsweise eine gemeinsame Leiterplatte ein Eingangsanpassungsnetzwerk und ein Ausgangsanpassungsnetzwerk.

Es ist bevorzugt, wenn der dritte Anschluss, vorzugsweise über mindestens einen Flansch, an einen Kühlkörper des Hochfrequenz-Leistungsverstärkers angeschlossen ist, der die Sys temmasse für den Hochfrequenz-Leistungsverstärker definiert. Damit lässt sich sowohl die HF-Masse über die Systemmasse definieren als auch die mechanische und thermische Ver bindung des Leistungstransistors an das System bereitstellen.

Kurzbeschreibunq der Figuren

Die oben beschriebenen Eigenschaften, Merkmale und Vorteile dieser Erfindung sowie die Art und Weise, wie diese erreicht werden, werden klarer und deutlicher verständlich im Zu sammenhang mit der folgenden Beschreibung der Ausführungsbeispiele, die im Zusammen hang mit den Zeichnungen näher erläutert werden. Es zeigen:

Figur 1A eine Draufsicht eines herkömmlichen gehäusten HF-Leistungstransistors mit

Deckel,

Figur 1 B ein Blockschaltbild eines nach dem Stand der Technik bekannten gehäusten

HF-Leistungstransistors,

Figur 1 C eine Draufsicht eines herkömmlichen gehäusten HF-Leistungstransistors ohne

Deckel mit darin enthaltenem Transistorchip, elektrisch leitfähigen Bondstütz punkten und Bonddrähten,

Figur 1 D ein Blockschaltbild eines herkömmlichen gehäusten HF-Leistungstransistors mit Ein- und Ausgangsanpassungsnetzwerken innerhalb des Gehäuses,

Figur 2A ein Blockschaltbild des gehäusten HF-Leistungstransistors aus Fig. 1 B, ver bunden mit einer Platine, die, entsprechend dem Stand der Technik, Anpas sungsnetzwerke sowie den DC- & NF- / HF-Diplexer mit angeschlossenem Versorgungsnetzwerk enthält,

Figur 2B ein Blockschaltbild des gehäusten HF-Leistungstransistors aus Fig. 1 B, ver bunden mit einer Platine, die, entsprechend dem Stand der Technik, Anpas sungsnetzwerke, den DC- & NF- / HF-Diplexer mit angeschlossenem Versor gungsnetzwerk für die Drainversorgung des Transistors sowie weitere für den potentialfreien Betrieb notwendige Schaltungsteile enthält,

Figur 3A ein Blockschaltbild einer Ausführungsform des erfindungsgemäßen gehäusten

HF-Leistungstransistors mit internem HF-Bypassnetzwerk zur Systemmasse, Figur 3B ein Blockschaltbild einer weiteren Ausführungsform des erfindungsgemäßen gehäusten HF-Leistungstransistors mit internem HF-Bypassnetzwerk zur Sys temmasse sowie integrierten Ein- und Ausgangsanpassungsnetzwerken,

Figur 4A ein Blockschaltbild einer weiteren erfindungsgemäßen Ausführungsform des gehäusten HF-Leistungstransistors mit internem HF-Bypassnetzwerk zur Sys- temmasse und internem DC- & NF-Tiefpassnetzwerk zum DC- & NF- Masseanschluss,

Figur 4B ein Blockschaltbild einer weiteren Ausführungsform des erfindungsgemäßen gehausten HF-Leistungstransistors mit internem HF-Bypassnetzwerk zur Sys temmasse und internem DC- & NF-Tiefpassnetzwerk zum DC- & NF- Masseanschluss sowie integrierten Ein- und Ausgangsanpassungsnetzwer ken,

Figur 5A ein physikalisches Ersatzschaltbild einer Ausführungsform des erfindungsge mäßen HF-Leistungstransistors,

Figur 5B ein elektrisches Ersatzschaltbild der Ausführungsform des erfindungsgemä ßen HF-Leistungstransistors aus Fig. 5A,

Figur 5C ein Realisierungsbeispiel des erfindungsgemäßen gehäusten HF-

Leistungstransistors mit einem DC- & NF-Masseanschluss,

Figur 5D ein Realisierungsbeispiel des erfindungsgemäßen gehäusten HF-

Leistungstransistors mit zwei DC- & NF-Masseanschlüssen,

Figur 6A ein physikalisches Ersatzschaltbild einer weiteren Ausführungsform des erfin dungsgemäßen HF-Leistungstransistors mit internen Ein- und Ausgangsan passungsnetzwerken,

Figur 6B ein elektrisches Ersatzschaltbild der weiteren Ausführungsform des erfin dungsgemäßen HF-Leistungstransistors mit internen Ein- und Ausgangsan passungsnetzwerken aus Fig. 6A

Figur 7A ein physikalisches Ersatzschaltbild einer weiteren Ausführungsform des erfin dungsgemäßen HF-Leistungstransistors, bei der das HF-Bypassnetzwerk zur Systemmasse auf demselben Chip wie der T ransistor realisiert ist,

Figur 7B ein elektrisches Ersatzschaltbild der weiteren Ausführungsform des erfin dungsgemäßen HF-Leistungstransistors, bei der das HF-Bypassnetzwerk zur Systemmasse auf demselben Chip wie der Transistor realisiert ist, aus Fig. 7A,

Figur 7C ein Realisierungsbeispiel des erfindungsgemäßen gehäusten HF- Leistungstransistors mit einem DC- & NF-Masseanschluss,

Figur 8 eine Ausführungsform eines erfindungsgemäßen HF-Leistungstransistors ge mäß Figur 5C mit umgebenden Platinen,

Figur 8A ein physikalisches Ersatzschaltbild einer weiteren Ausführungsform des erfin dungsgemäßen HF-Leistungstransistors mit internen Ein- und Ausgangsan passungsnetzwerken, bei der das HF-Bypassnetzwerk zur Systemmasse auf demselben Chip wie der Transistor realisiert ist, Figur 8B ein elektrisches Ersatzschaltbild der weiteren Ausführungsform des erfin dungsgemäßen HF-Leistungstransistors mit internen Ein- und Ausgangsan passungsnetzwerken, bei der das HF-Bypassnetzwerk zur Systemmasse auf demselben Chip wie der Transistor realisiert ist, aus Fig. 8A,

Figur 9A ein physikalisches Ersatzschaltbild einer weiteren Ausführungsform des erfin dungsgemäßen HF-Leistungstransistors, bei der das HF-Bypassnetzwerk zur Systemmasse und das DC- & NF-Tiefpassnetzwerk zum DC- & NF-Anschluss auf demselben Chip wie der Transistor realisiert sind,

Figur 9B ein elektrisches Ersatzschaltbild der weiteren Ausführungsform des erfin dungsgemäßen HF-Leistungstransistors, bei der das HF-Bypassnetzwerk zur Systemmasse und das DC- & NF-Tiefpassnetzwerk zum DC- & NF-Anschluss auf demselben Chip wie der Transistor realisiert sind, aus Fig. 9A,

Figur 9C ein elektrisches Ersatzschaltbild einer weiteren Ausführungsform des erfin dungsgemäßen HF-Leistungstransistors, bei der das HF-Bypassnetzwerk zur Systemmasse und eine kurzgeschlossene l/4-Leitung zum DC- & NF- Anschluss auf demselben Chip wie der Transistor realisiert sind,

Figur 10 ein Blockschaltbild einer Ausführungsform des erfindungsgemäßen potential freien gehäusten HF-Leistungstransistors aus Fig. 4A, verbunden mit einer Platine, die Anpassungsnetzwerke sowie den DC- & NF- / HF-Diplexer für die Drainversorgung des Transistors mit angeschlossenem Versorgungsnetzwerk enthält, sowie einer zusätzlichen externen Schaltung für die galvanisch ge trennte Gateversorgung des Transistors, die für den potentialfreien Betrieb notwendig ist.

Detaillierte Beschreibung der Erfindung

Fig. 3A und 3B zeigen Blockschaltbilder zweier erfindungsgemäßer Ausführungsformen des HF-Leistungstransistors 1 mit bzw. ohne Anpassungsnetzwerken 27, 28 und mit HF- Bypassnetzwerk 3.1 zur Systemmasse 26. Funktionsblöcke mit gleichen Bezeichnungen in beiden Figuren gleichen einander. In Fig. 3A und 3B ist ein HF-Leistungstransistor 1 in ein Gehäuse 12 montiert. In beiden Figuren ist ein Feldeffekttransistor 2 (FET) dargestellt. An stelle dessen kann jedoch, wie bereits erwähnt, auch ein Bipolartransistor (BJT) verwendet werden. Außerdem können anstelle nur eines Transistors 2 mehrere Transistoren in dem Gehäuse 12 montiert und parallel geschaltet werden. Der Gatekontakt 5 des FETs ist dem Stand der Technik entsprechend unmittelbar oder durch das Eingangsanpassungsnetzwerk 27 mit dem Eingangsanschluss 4 verbunden. Ebenso dem Stand der Technik entsprechend ist der Drainkontakt 7 des FETs 2 unmittelbar oder durch das Ausgangsanpassungsnetzwerk 28 mit dem Ausgangsanschluss 6 verbunden. Entgegen dem Stand der Technik ist der Sourcekontakt 8 des FETs 2 nicht direkt mit der Systemmasse 26 verbunden. Anstelle des sen ist er über ein HF-Bypassnetzwerk 3.1 mit der Systemmasse 26, die die HF-Masse 9,26 darstellt, verbunden und über eine zusätzliche Verbindung mit dem DC- & NF- Masseanschluss 10 verbunden. In beiden Ausführungsformen wird das HF-Bypassnetzwerk 3.1 mittels eines nach Systemmasse 26 geschalteten Kondensators 3 realisiert. Die Verbin dung mit dem DC- & NF-Masseanschluss 10 wird durch Drahtbonden erreicht. Die Funktio nalität des DC- & NF- / HF-Diplexers 30 wird durch ein auf der Platine befindliches DC- & NF-Tiefpassnetzwerk 3.2 vervollständigt. In der Schaltung für potentialfreien Betrieb in Fig. 2B, die dem Stand der Technik entspricht, ist das HF-Bypassnetzwerk 3.1 außerhalb des Transistorgehäuses 12 auf der Platine 29 platziert, wodurch ein gewisser Abstand zum ei gentlichen Transistor 2 entsteht. Wie bereits erwähnt, erleichtert die HF-Masseverbindung 9,26 innerhalb des Gehäuses 12 den Entwurf eines HF-Leistungstransistors 1 und erhöht die Bandbreite des HF-Bypassnetzwerkes 3.1 und somit auch die Linearität der Transistorschal tung für breitbandige Signale.

Die Blockdiagramme der Fig. 4A und 4B gleichen denen der Fig. 3A und 3B bis auf ein zu sätzliches DC- und NF-Tiefpassnetzwerk 3.2, welches zwischen dem Sourcekontakt 8 des FETs 2 und dem DC- & NF-Masseanschluss 10, 26.1 eingefügt ist um die HF-Isolation und NF-Bandbreite des Transistors 2 zu verbessern. Die Funktionalität des DC- & NF- / HF- Diplexer 30 ist somit vollständig innerhalb des Transistorgehäuses 12 realisiert.

Fig. 5A und 5B sind physikalische bzw. elektrische Ersatzschaltbilder der in Fig. 3A darge stellten Ausführungsform des erfindungsgemäßen HF-Leistungstransistors 1 , wobei die elektrischen Verbindungen durch die in Fig. 5A gezeigten Bonddrähte 36, 13, 14, 15 herge stellt werden, die ihrerseits wiederum die in Fig. 5B gezeigten Induktivitäten 11 bilden. Das in Fig. 3A dargestellte HF-Bypassnetzwerk 3.1 wird durch den in 5A und 5B gezeigten Konden sator 3 gebildet, der wiederum einen diskreten, bondbaren ein- oder mehrlagigen Kondensa tor darstellt. Anstelle eines Kondensators 3 können auch mehrere parallel geschaltete Kon densatoren verwendet werden, die nebeneinander im Gehäuse 12 platziert werden. Die in Fig. 5A dargestellte erfindungsmäße Ausführungsform des HF-Bypassnetzwerkes 3.1 wird durch einen Kurzschlusskondensator 3 nach Systemmasse 26 gebildet, der bei der HF- Trägerfrequenz optimale Eigenschaften besitzt und durch Bonddrähte 15, 11 mit dem Tran sistor 2 und dem DC- & NF-Masseanschluss 10 verbunden ist. Die Größe der dadurch ein- gebrachten Induktivitäten 15, 1 1 trägt zur HF-Isolation und NF-Bandbreite des Diplexers 30 bei. Die kleine Induktivität 15, 11 stellt zusammen mit dem Kurzschlusskondensator 3 einen optimalen HF-Bypass 3.1 zur Systemmasse 26 dar. In einer anderen Ausführungsform des erfindungsgemäßen HF-Leistungstransistors wird, wie in Fig. 4A gezeigt, die gesamte Funk tionalität des DC- & NF- / HF-Diplexers 30 im Transistorgehäuse 12 untergebracht, wobei das HF-Bypassnetzwerk 3.1 unverändert bleibt, aber eine zusätzliche Induktivität 36, 1 1 zwi schen der oberen Elektrode des Kondensators 3, der mit dem Sourcekontakt 8 verbunden ist, und dem DC- & NF-Masseanschluss 10 in das Gehäuse 12 eingefügt. Diese Induktivität 36, 11 muss die entsprechende Größe aufweisen, um zusammen mit der Induktivität 15, 11 eine gute HF-Isolation und NF-Bandbreite zu realisieren. Diese zusätzliche Induktivität 36, 1 1 kann erfindungsgemäß entweder durch eine erhöhte Anzahl von Bonddrähten oder das Ein fügen einer diskreten Spule erreicht werden.

Fig. 5C zeigt eine erste Ausführungsform des erfindungsgemäßen HF-Leistungstransistors 1. Das gezeigte HF-Leistungstransistorgehäuse 12 ähnelt dem in Fig. 1A-C gezeigten und um fasst einen Flansch 16 mit hoher elektrischer und thermischer Leitfähigkeit, einen darauf an gebrachten keramischen Rahmen des Gehäuses 12, der die wiederum darauf angebrachten drei elektrischen Anschlüsse 4, 6, 10 von dem Flansch 16 isoliert. Der im Gehäuse 12 ent haltene Transistor 2 wird zusammen mit einem bondbaren, einlagigen Kondensator 3 auf dem Flansch 16 innerhalb des keramischen Rahmens des Gehäuses 12 platziert. Es werden Bonddrähte 13 verwendet um den Eingangsanschluss 4 mit dem Gatekontakt 5 des FETs 2 (oder dem Basiskontakt eines BJTs), den Drainkontakt 7 des FETs 2 (oder Emitterkontakt eines BJTs) mit dem Ausgangsanschluss 6 sowie den Sourcekontakt 8 des FETs 2 (oder Kollektorkontakt eines BJTs) mit der oberen Elektrode des Kondensators 3 und weiter mit dem DC- & NF-Masseanschluss 10 zu verbinden. Bei dem dargestellten Transistorchip han delt es sich um einen Transistor ohne Vias, sodass die Trennung von DC- & NF- / HF-Masse erreicht werden kann. Optional kann ein keramischer Deckel 12.1 , wie in Fig. 1A gezeigt, verwendet werden um den Inhalt des Gehäuses 12 zu schützen.

Fig. 5D zeigt eine zweite Ausführungsform des erfindungsgemäßen HF-Leistungstransistors 1 , die der in Fig. 5C ähnelt, mit dem Unterschied, dass anstelle des einen in Fig. 5C gezeig ten DC- & NF-Masseanschlusses 10 zwei DC- & NF-Masseanschlüsse 10 enthalten sind und folglich auch zusätzliche Bonddrähte 36, die die obere Elektrode des Kondensators 3 mit dem zweiten DC- & NF-Masseanschluss 10 verbinden.

Fig. 6A und 6B sind physikalische bzw. elektrische Ersatzschaltbilder der in Fig. 3B darge stellten Ausführungsform des erfindungsgemäßen HF-Leistungstransistors 1 mit integrierten Anpassungsnetzwerken 27, 28, wobei Bonddrähte 36, 13 14, 15 als induktive Elemente und diskrete ein- oder mehrlagige Kondensatoren 3 als kapazitive Elemente eingesetzt werden. Die Anpassungsnetzwerke 27, 28 können bezüglich des HF-Leistungstransistors 1 ein und/oder ausgangsseitig implementiert werden. Das in Fig. 3B gezeigte Eingangsanpas sungsnetzwerk 27 ist in Fig. 6A mit einem diskreten ein- oder mehrlagigen Kurzschlusskon densator 3 realisiert, welcher durch Drahtbonden sowohl mit dem Eingangsanschluss 4 als auch mit dem Gatekontakt 5 des Transistors 2 verbunden ist. Anstelle eines Kondensators 3 können auch mehrere parallel geschaltete Kondensatoren 3 verwendet werden. Das in Fig. 6A gezeigte Eingangsanpassungsnetzwerk 27 kann um weitere Stufen in Form induktiver und/oder kapazitiver Elemente erweitert werden. Das in Fig. 3B gezeigte Ausgangsanpas sungsnetzwerk 28 ist in Fig. 6A mit einem diskreten ein- oder mehrlagigen Kurzschlusskon densator 3 realisiert, welcher durch Drahtbonden sowohl mit dem Drainkontakt 7 des Tran sistors 2 als auch mit dem Ausgangsanschluss 6 verbunden ist. Anstelle eines Kondensators 3 können auch mehrere parallel geschaltete Kondensatoren 3 verwendet werden. Das in Fig. 6A gezeigte Ausgangsanpassungsnetzwerk 28 kann um weitere Stufen in Form induktiver und/oder kapazitiver Elemente erweitert werden. Das in Fig. 3B gezeigte HF- Bypassnetzwerk 3.1 ist in Fig. 6A mit einem ein- oder mehrlagigen Kondensator 3 realisiert, der bei der HF-Trägerfrequenz optimale Eigenschaften besitzt. Die obere Elektrode des Kondensators 3 ist durch Bonddrähte 15 mit dem Sourcekontakt 8 des Transistors 2 verbun den. Die untere Elektrode des Kondensators 3 ist direkt mit dem Flansch 16 des Transistor gehäuses 12 verbunden, welcher die System- bzw. HF-Masse 9,26 darstellt. In einer typi schen Ausführungsform stellen die Induktivitäten 36 und 15 die Induktivitäten der für die elektrischen Verbindungen verwendeten Bonddrähte 36, 15 dar. Zugleich trägt deren Größe zur HF-Isolation und NF-Bandbreite des Diplexers 30 bei. Die kleine Induktivität 15 stellt zu sammen mit dem Kurzschlusskondensator 3 einen optimalen HF-Bypass 3.1 zur System masse 26 dar. In einer anderen Ausführungsform des erfindungsgemäßen HF- Leistungstransistors wird, wie in Fig. 4B gezeigt, die gesamte Funktionalität des DC- & NF- / HF-Diplexers 30 im Transistorgehäuse 12 untergebracht, wobei das HF-Bypassnetzwerk 3.1 unverändert bleibt, aber eine zusätzliche Induktivität 36, 1 1 zwischen der oberen Elektrode des Kondensators 2, der mit dem Sourcekontakt 8 verbunden ist, und dem DC- & NF- Masseanschluss 10 in das Gehäuse 12 eingefügt wird. Diese Induktivität 36, 1 1 muss die entsprechende Größe aufweisen, um zusammen mit der Induktivität 15, 1 1 eine gute HF- Isolation und NF-Bandbreite zu realisieren. Diese zusätzliche Induktivität 36, 1 1 kann erfin dungsgemäß entweder durch eine erhöhte Anzahl von Bonddrähten oder das Einfügen einer diskreten Spule erreicht werden. Fig. 7A und 7B sind physikalische bzw. elektrische Ersatzschaltbilder einer weiteren auf Fig. 3A basierenden Ausführungsform des erfindungsgemäßen HF-Leistungstransistors 1 , die den Fig. 5A und 5B ähneln, bei denen aber der HF-Bypasskondensator 3.1 als Metall- Isolator-Metall- (MIM) Kondensator 3 auf demselben Chip 18 wie der Transistor 2 realisiert ist. Dadurch wird der induktive Anteil des HF-Bypassnetzwerkes 3.1 minimiert und die HF- Isolation und NF-Bandbreite weiter verbessert.

Fig. 7C zeigt eine dritte Ausführungsform des erfindungsgemäßen HF-Leistungstransistors 1 gemäß Fig. 7A und 7B, die der in Fig. 5C ähnelt, mit dem Unterschied, dass anstelle des Transistorchips mit separatem Kondensator 3 ein Transistorchip mit integriertem MIM- Kondensator gemäß Fig. 7A und 7B im Gehäuse 12 platziert wird. Die Anzahl der benötigten Bonddrähte ist somit gegenüber Fig. 5C reduziert.

Figur 8 zeigt eine Ausführungsform eines erfindungsgemäßen HF-Leistungstransistors 1 gemäß der Ausführungsform der Figur 5C und zwei auf gegenüberliegenden Seiten des Hochfrequenz-Leistungstransistors 1 angeordnete gedruckte Leiterplatten 20, 21. Der erste Anschluss 4 ist an eine Leiterbahn 22 der ersten gedruckten Leiterplatte 20 angeschlossen. Der zweite Anschluss 6 und der vierte Anschluss 10 (sowie gegebenenfalls der fünfte An schluss 17, hier nicht gezeigt) sind an entsprechende Leiterbahnen 23, 24 der zweiten Lei terplatte 21 angeschlossen. Die Leiterbahnen 22, 23, 24 der gedruckten Leiterplatten 20, 21 stellen die externen Verbindungen für den ersten, zweiten, vierten und ggf. den fünften (oder weitere) Anschluss 4, 6, 10, 17 bereit.

Der dritte Anschluss 9 ist über mindestens einen Flansch 16 an einen Kühlkörper 25 des Hochfrequenz-Leistungstransistors 1 angeschlossen, der die Systemmasse für den Hochfre quenz-Leistungsverstärker definiert. Der Leistungstransistor 1 ist hier am Beispiel des Leis tungstransistors 1 der Figur 5C dargestellt, aber dem Fachmann sind entsprechende Ausfüh rungsformen für die Leistungstransistoren 1 der Figuren 5D und 7C ohne weiteres ersicht lich.

Fig. 8A und 8B sind physikalische und elektrische Ersatzschaltbilder einer anderen durch Fig. 3B dargestellten Ausführungsform des erfindungsgemäßen HF-Leistungstransistors 1 , die den Fig. 6A und 6B ähneln, bei denen aber der HF-Bypasskondensator 3 als Metall- Isolator-Metall- (MIM) Kondensator auf demselben Chip 18 wie der Transistor 2 realisiert ist. Dadurch wird der induktive Anteil des HF-Bypassnetzwerkes 3.1 minimiert und die HF- Isolation und NF-Bandbreite weiter verbessert. Das in Fig. 3B gezeigte Eingangsanpassungsnetzwerk 27 ist in Fig. 8A mit einem diskreten ein- oder mehrlagigen Kurzschlusskondensator 3 realisiert, welcher durch Drahtbonden so wohl mit dem Eingangsanschluss 4 als auch mit dem Gatekontakt 5 des Transistors 2 ver bunden ist. Anstelle eines Kondensators 3 können auch mehrere parallel geschaltete Kon densatoren verwendet werden. Das in Fig. 8A gezeigte Eingangsanpassungsnetzwerk 27 kann um weitere Stufen in Form induktiver und/oder kapazitiver Elemente erweitert werden. Das in Fig. 3B gezeigte Ausgangsanpassungsnetzwerk 28 ist in Fig. 8A mit einem diskreten ein- oder mehrlagigen Kurzschlusskondensator 3 realisiert, welcher durch Drahtbonden so wohl mit dem Drainkontakt 7 des Transistors 2 als auch mit dem Ausgangsanschluss 6 ver bunden ist. Anstelle eines Kondensators 3 können auch mehrere parallel geschaltete Kon densatoren verwendet werden. Das in Fig. 8A gezeigte Ausgangsanpassungsnetzwerk 28 kann um weitere Stufen in Form induktiver und/oder kapazitiver Elemente erweitert werden. In einer weiteren Ausführungsform des erfindungsgemäßen HF-Leistungstransistors 1 wer den das Eingangs 27- und/oder Ausgangsanpassungsnetzwerk 28 auf demselben Chip 18 wie der Transistor 2 realisiert, indem MIM-Kondensatoren 3 auf dem Chip 18 mit der Gate 5- bzw. Drainkontakt 7 verbunden werden und durch Drahtbonden mit den Eingangs 4- bzw. Ausgangsanschlüssen 6 des Transistorgehäuses 12 verbunden werden.

Fig. 9A ist das physikalische Ersatzschaltbild einer weiteren durch Fig. 4A dargestellten Aus führungsform des erfindungsgemäßen HF-Leistungstransistors 1 , die den Ausführungsfor men in Fig. 7A und 7B ähnelt, bei der aber die Funktion des DC- & NF-Tiefpassfilters 3.2 nicht durch die Anzahl und Länge der verwendeten Bonddrähte zwischen dem Sourcekon takt 8 und dem DC- & NF-Masseanschluss 10, sondern durch Einfügen einer geeigneten Filterstruktur 3.2 auf dem Transistorchip 18 realisiert wird.

Fig. 9B und 9C sind elektrische Ersatzschaltbilder zweier Ausführungsformen des erfin dungsgemäßen HF-Leistungstransistors 1 der Fig. 9A. In Fig. 9B wird die Filterstruktur 3.2 durch ein induktiv-kapazitives (LC) Filter auf dem Transistorchip 18 realisiert. Die DC- & NF- Verbindung zwischen dem Chip 18 und dem DC- & NF-Masseanschluss 10 wird durch Drahtbonden realisiert. In einer anderen Ausführungsform des erfindungsgemäßen HF- Leistungstransistors 1 wird das LC-Filter 3.2 auf einem separaten Chip realisiert, der durch Drahtbonden sowohl mit dem Sourcekontakt 8 des Transistors 2 als auch mit dem DC- & NF- Masseanschluss 10 verbunden wird. In Fig. 9C wird die HF-Isolation und NF-Bandbreite der Filterstruktur 3.2 verbessert, indem als Filter eine mit einem Kondensator kurzgeschlossene l/4-Leitung 35 als DC- & NF-Leitung auf demselben Chip 18 wie der Transistor 2 implemen tiert wird, welche durch Drahtbonden 36, 1 1 mit dem DC- & NF-Masseanschluss 10 verbun- den wird. In einer anderen Ausführungsform des erfindungsgemäßen HF- Leistungstransistors 1 wird die kurzgeschlossene l/4-Leitung 35 auf einem separaten Chip realisiert, der durch Drahtbonden sowohl mit dem Sourcekontakt 8 des Transistors 2 als auch mit dem DC- & NF-Masseanschluss 10 verbunden wird. In einer weiteren Ausführungs form des erfindungsgemäßen HF-Leistungstransistors 1 werden in das Transistorgehäuse 12 zusätzlich zu dem Transistorchip 18 mit integriertem DC- & NF- / HF-Diplexer 30 Eingangs 27- und/oder Ausgangsanpassungsnetzwerke 28 montiert, wobei das Eingangsanpassungs netzwerk 27 mit einem diskreten ein- oder mehrlagigen Kurzschlusskondensator 3 realisiert wird, welcher durch Drahtbonden sowohl mit dem Eingangsanschluss 4 als auch mit dem Gatekontakt 5 des Transistors 2 verbunden ist und das Ausgangsanpassungsnetzwerk 28 mit einem diskreten ein- oder mehrlagigen Kurzschlusskondensator 3 realisiert wird, welcher durch Drahtbonden sowohl mit dem Drainkontakt 7 des Transistors als auch mit dem Aus gangsanschluss 6 verbunden ist. Für beide Anpassungsnetzwerke 27, 28 können anstelle eines Kondensators 3 auch mehrere parallel geschaltete Kondensatoren verwendet werden. Beide Anpassungsnetzwerke 27, 28 können um weitere Stufen in Form induktiver und/oder kapazitiver Elemente erweitert werden. In einer weiteren Ausführungsform des erfindungs gemäßen HF-Leistungstransistors 1 werden das Eingangs 27- und/oder Ausgangsanpas sungsnetzwerk 28 auf demselben Chip 18 wie der Transistor 2 realisiert, indem MIM- Kondensatoren auf dem Chip 18 mit der Gate 5- bzw. Drainkontakt 7 verbunden werden und durch Drahtbonden mit den Eingangs 4- bzw. Ausgangsanschlüssen 6 des Transistorgehäu ses 12 verbunden werden.

Figur 10 ist ein Blockschaltbild einer Ausführungsform des erfindungsgemäßen potential freien gehäusten HF-Leistungstransistors 1 aus Fig. 4A umgeben von einer Platine 29, die Anpassungsnetzwerke 28 sowie den DC- & NF- / HF-Diplexer 30 für die Drainversorgung des Transistors 1 mit angeschlossenem Versorgungsnetzwerk 31 enthält, sowie einer zu sätzlichen externen Schaltung für die galvanisch getrennte Gateversorgung 34 des Transis tors 1 , die für den potentialfreien Betrieb notwendig ist. Fig. 10 verdeutlicht die Vorteile der Erfindung verglichen mit dem Stand der Technik.

Obwohl die Erfindung im Detail durch bevorzugte Ausführungsbeispiele näher illustriert und beschrieben wurde, so ist die Erfindung nicht durch die offenbarten Beispiele eingeschränkt und andere Variationen können vom Fachmann hieraus abgeleitet werden, ohne den Schutzumfang der Erfindung zu verlassen.

Vorzugsweise sind alle induktiven Elemente 1 1 als Bond-Drähte ausgebildet. Bezugszeichenliste

1 Hochfrequenz-Leistungstransistor

2 Transistor

3 Kondensator

3.1 Bypassnetzwerk

3.2 Tiefpassnetzwerk

4 erster Anschluss (Eingangsanschluss)

5 Gatekontakt

6 zweiter Anschluss (Ausgangsanschluss)

7 Drainkontakt

8 Sourcekontakt

9 dritter Anschluss (HF-Masseverbindung)

10 vierter Anschluss (DC- & NF-Masseanschluss)

1 1 induktives Element

12 Gehäuse

12.1 Deckel

13 Bond-Drähte

14 Bond-Drähte

15 Bond-Drähte

16 Flansch

16.1 Bondstützpunkte

17 fünfter Anschluss

18 Integrierter Schaltkreis

19 Ausschnitt eines Hochfrequenzleistungsverstärkers: Hochfrequenz- Leistungstransistor mit umgebenden Platinen

20 gedruckte Leiterplatte

21 gedruckte Leiterplatte

22 Leiterbahn

23 Leiterbahn

24 Leiterbahn

25 Kühlkörper

26 Masse

26.1 DC- & NF-Masse

27 Eingangsanpassungsnetzwerk 28 Ausgangsanpassungsnetzwerk

29 Platine

30 Diplexer

31 DC- & NF-Versorgungsnetzwerk 32 DC- & NF-Versorgung

33 HF-Ausgang

34 Galvanisch getrennte Gateversorgung

35 l/4-Leitung

36 Bond-Drähte