Title:
HYDRAZIDE CHELATE COMPLEX COMPOUND AND OPTICAL RECORDING MEDIUM USING SAME
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2011/102348
Kind Code:
A1
Abstract:
Disclosed is a hydrazide chelate complex compound, which exhibits both excellent solubility in a coating solvent and excellent light resistance when used as a dye for forming a recording layer of an optical recording medium, and which is applicable to high speed recording (especially to BD-R) using blue laser light.
Specifically disclosed is a hydrazide chelate complex compound represented by general formula (I).
Inventors:
SATOU, Wataru (Inc. 1000, Kamoshida-cho, Aoba-ku, Yokohama-sh, Kanagawa 02, 〒2278502, JP)
佐藤 済 (〒02 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町１０００番地 株式会社三菱化学科学技術研究センター内 Kanagawa, 〒2278502, JP)
FUJITA, Rieko (Inc. 1000, Kamoshida-cho, Aoba-ku, Yokohama-sh, Kanagawa 02, 〒2278502, JP)
藤田 理恵子 (〒02 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町１０００番地 株式会社三菱化学科学技術研究センター内 Kanagawa, 〒2278502, JP)
NAKAMURA, Takeshi (Inc. 1000, Kamoshida-cho, Aoba-ku, Yokohama-sh, Kanagawa 02, 〒2278502, JP)
中村 健史 (〒02 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町１０００番地 株式会社三菱化学科学技術研究センター内 Kanagawa, 〒2278502, JP)
SATAKE, Kenichi (Inc. 1000, Kamoshida-cho, Aoba-ku, Yokohama-sh, Kanagawa 02, 〒2278502, JP)
佐藤 済 (〒02 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町１０００番地 株式会社三菱化学科学技術研究センター内 Kanagawa, 〒2278502, JP)
FUJITA, Rieko (Inc. 1000, Kamoshida-cho, Aoba-ku, Yokohama-sh, Kanagawa 02, 〒2278502, JP)
藤田 理恵子 (〒02 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町１０００番地 株式会社三菱化学科学技術研究センター内 Kanagawa, 〒2278502, JP)
NAKAMURA, Takeshi (Inc. 1000, Kamoshida-cho, Aoba-ku, Yokohama-sh, Kanagawa 02, 〒2278502, JP)
中村 健史 (〒02 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町１０００番地 株式会社三菱化学科学技術研究センター内 Kanagawa, 〒2278502, JP)
SATAKE, Kenichi (Inc. 1000, Kamoshida-cho, Aoba-ku, Yokohama-sh, Kanagawa 02, 〒2278502, JP)
Application Number:
JP2011/053167
Publication Date:
August 25, 2011
Filing Date:
February 15, 2011
Export Citation:
Assignee:
MITSUBISHI KAGAKU MEDIA CO., LTD. (1-23, Shiba 4-chome Minato-k, Tokyo 15, 〒1088415, JP)
三菱化学メディア株式会社 (〒15 東京都港区芝四丁目１番２３号 Tokyo, 〒1088415, JP)
SATOU, Wataru (Inc. 1000, Kamoshida-cho, Aoba-ku, Yokohama-sh, Kanagawa 02, 〒2278502, JP)
佐藤 済 (〒02 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町１０００番地 株式会社三菱化学科学技術研究センター内 Kanagawa, 〒2278502, JP)
FUJITA, Rieko (Inc. 1000, Kamoshida-cho, Aoba-ku, Yokohama-sh, Kanagawa 02, 〒2278502, JP)
藤田 理恵子 (〒02 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町１０００番地 株式会社三菱化学科学技術研究センター内 Kanagawa, 〒2278502, JP)
NAKAMURA, Takeshi (Inc. 1000, Kamoshida-cho, Aoba-ku, Yokohama-sh, Kanagawa 02, 〒2278502, JP)
中村 健史 (〒02 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町１０００番地 株式会社三菱化学科学技術研究センター内 Kanagawa, 〒2278502, JP)
三菱化学メディア株式会社 (〒15 東京都港区芝四丁目１番２３号 Tokyo, 〒1088415, JP)
SATOU, Wataru (Inc. 1000, Kamoshida-cho, Aoba-ku, Yokohama-sh, Kanagawa 02, 〒2278502, JP)
佐藤 済 (〒02 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町１０００番地 株式会社三菱化学科学技術研究センター内 Kanagawa, 〒2278502, JP)
FUJITA, Rieko (Inc. 1000, Kamoshida-cho, Aoba-ku, Yokohama-sh, Kanagawa 02, 〒2278502, JP)
藤田 理恵子 (〒02 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町１０００番地 株式会社三菱化学科学技術研究センター内 Kanagawa, 〒2278502, JP)
NAKAMURA, Takeshi (Inc. 1000, Kamoshida-cho, Aoba-ku, Yokohama-sh, Kanagawa 02, 〒2278502, JP)
中村 健史 (〒02 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町１０００番地 株式会社三菱化学科学技術研究センター内 Kanagawa, 〒2278502, JP)
International Classes:
C09B26/02; B41M5/26; C07D213/85; C07D233/61; C07D249/08; C07D401/12; C07D403/12; C07D405/14; C07D413/12; C07D417/12; C07D471/04; C07D487/08; C07D513/04; G11B7/24; G11B7/244
Attorney, Agent or Firm:
SENMYO, Kenji et al. (4th Floor, SIA Kanda Square 17, Kanda-konyacho, Chiyoda-k, Tokyo 35, 〒1010035, JP)
Download PDF:
Claims: