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Title:
ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2009/078224
Kind Code:
A1
Abstract:
An illumination optical system realizing a desired pupil intensity distribution while reducing influence of diffraction blur appearing in the diffraction image formed in an illumination pupil by, for example, reflected light from micro mirror elements regularly arranged. The illumination optical system (IL) for illuminating a surface (M) to be illuminated with light from a light source (1) comprises a spatial optical modulator (3a) having optical elements arranged two-dimensionally and controlled individually, a distribution creating optical system (4, 5) for creating a predetermined light intensity distribution in the illumination pupil using light passed through the spatial optical modulator, and a control section (CR) for integratedly controlling the postures of the optical elements depending on the pattern of the predetermined light intensity distribution created in the illumination pupil.

Inventors:
TANITSU, Osamu (2-3 Marunouchi 3-chome, Chiyoda-k, Tokyo 31, 1008331, JP)
谷津 修 (〒31 東京都千代田区丸の内三丁目2番3号 株式会社ニコン内 Tokyo, 1008331, JP)
Application Number:
JP2008/070000
Publication Date:
June 25, 2009
Filing Date:
November 04, 2008
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Assignee:
NIKON CORPORATION (2-3 Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku Tokyo, 31, 1008331, JP)
株式会社ニコン (〒31 東京都千代田区丸の内三丁目2番3号 Tokyo, 1008331, JP)
TANITSU, Osamu (2-3 Marunouchi 3-chome, Chiyoda-k, Tokyo 31, 1008331, JP)
International Classes:
H01L21/027; G02B19/00; G02B26/08; G03F7/20
Attorney, Agent or Firm:
YAMAGUCHI, Takao (Daiichi Bldg, 10 Kanda-tsukasacho 2-chom, Chiyoda-ku Tokyo 48, 1010048, JP)
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Claims:
光源からの光に基づいて被照射面を照明する照明光学系において、
 二次元的に配列されて個別に制御可能な複数の光学要素を有する空間光変調器と、
 前記空間光変調器を介した光に基づいて前記照明光学系の照明瞳に所定の光強度分布を形成する分布形成光学系と、
 前記複数の光学要素のうち、前記照明瞳に形成される所定の光強度分布の形状に応じた一群の光学要素の姿勢を一体的に制御する制御部とを備えていることを特徴とする照明光学系。
前記一群の光学要素は、互いに隣接する複数の光学要素を有することを特徴とする請求項1に記載の照明光学系。
前記互いに隣接する複数の光学要素を介した光が、前記照明瞳に形成される所定の光強度分布の外形形状のエッジ領域に向けられていることを特徴とする請求項2に記載の照明光学系。
前記空間光変調器は、二次元的に配列された複数のミラー要素と、該複数のミラー要素の姿勢を個別に制御駆動する駆動部とを有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の照明光学系。
前記駆動部は、前記複数のミラー要素の向きを連続的に変化させることを特徴とする請求項4に記載の照明光学系。
前記分布形成光学系は、オプティカルインテグレータと、該オプティカルインテグレータと前記空間光変調器との間の光路中に配置された集光光学系とを有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の照明光学系。
前記被照射面と光学的に共役な面を形成する投影光学系と組み合わせて用いられ、前記照明瞳は前記投影光学系の開口絞りと光学的に共役な位置であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の照明光学系。
所定のパターンを照明するための請求項1乃至7のいずれか1項に記載の照明光学系を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置。
前記照明瞳に形成される所定の光強度分布を、前記照明瞳または前記照明瞳と光学的に共役な面で計測する瞳分布計測部をさらに備え、前記制御部は前記瞳分布計測部による計測結果に基づいて前記空間光変調器を制御することを特徴とする請求項8に記載の露光装置。
請求項8または9に記載の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光する露光工程と、
 前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
 前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法。
照明光学系を介した光源からの光に基づいて被照射面を照明する照明方法において、
 二次元的に配列されて個別に制御可能な複数の光学要素を有する空間光変調器へ光を導く第1工程と、
 前記空間光変調器を介した光に基づいて前記照明光学系の照明瞳に所定の光強度分布を形成する第2工程とを含み、
 前記第1工程では、前記複数の光学要素のうち、前記照明瞳に形成される所定の光強度分布の形状に応じた一群の光学要素の姿勢を一体的に制御することを特徴とする照明方法。
前記第1工程では、互いに隣接する複数の光学要素の姿勢を一体的に制御することを特徴とする請求項11に記載の照明方法。
前記互いに隣接する複数の光学要素を介した光が、前記照明瞳に形成される所定の光強度分布の外形形状のエッジ領域に向けられていることを特徴とする請求項12に記載の照明方法。
前記第2工程は、前記空間光変調器を介した光を集光光学系へ導く第3工程と、該集光光学系を介した前記空間光変調器からの光をオプティカルインテグレータへ導く第4工程とを備えることを特徴とする請求項11乃至13のいずれか1項に記載の照明方法。
前記被照射面からの光に基づいて前記被照射面と光学的に共役な面を形成する投影光学系と組み合わせて用いられ、前記照明瞳は前記投影光学系の開口絞りと光学的に共役な位置であることを特徴とする請求項11乃至14のいずれか1項に記載の照明方法。
請求項11乃至15のいずれか1項に記載の照明方法を用いて所定のパターンを照明し、前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光方法。
前記照明瞳に形成される所定の光強度分布を、前記照明瞳または前記照明瞳と光学的に共役な面で計測する瞳分布計測工程をさらに備え、
 前記第1工程では、前記瞳分布計測工程による計測結果に基づいて前記空間光変調器を制御することを特徴とする請求項16に記載の露光方法。
請求項16または17に記載の露光方法を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光する露光工程と、
 前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
 前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法。
二次元的に配列されて個別に制御可能な複数の光学要素を有する空間光変調器の制御方法であって、該空間光変調器を介した光源からの光に基づいて照明瞳に所定の光強度分布を形成して該照明瞳を介した光に基づいて被照射面を照明する照明光学系に用いられる空間光変調器の制御方法において、
 前記空間光変調器の前記複数の光学要素のうち、前記照明瞳に形成される所定の光強度分布の形状に応じた一群の光学要素の姿勢を一体的に制御することを特徴とする空間光変調器の制御方法。
前記一群の光学要素は、互いに隣接する複数の光学要素を有することを特徴とする請求項19に記載の空間光変調器の制御方法。
前記互いに隣接する複数の光学要素を介した光が、前記照明瞳に形成される所定の光強度分布の外形形状のエッジ領域に向けられていることを特徴とする請求項20に記載の空間光変調器の制御方法。
前記照明瞳に形成される所定の光強度分布を、前記照明瞳または前記照明瞳と光学的に共役な面で計測して計測結果を取得し、前記計測結果に基づいて前記空間光変調器を制御することを特徴とする請求項19乃至21のいずれか1項に記載の空間光変調器の制御方法。
二次元的に配列されて個別に制御可能な複数の光学要素を有する空間光変調器を制御するための特定の処理をコンピュータに実行させるプログラムであって、
 請求項19乃至22のいずれか1項に記載の制御方法を前記コンピュータに実行させるプログラム。
請求項23に記載のプログラムが記録されたコンピュータによる読み取りが可能な情報記録媒体。
二次元的に配列されて個別に制御可能な複数の光学要素を有する空間光変調器と該複数の光学要素を制御する制御部とを備えた空間光変調装置であって、前記空間光変調器を介した光源からの光に基づいて照明瞳に所定の光強度分布を形成して該照明瞳を介した光に基づいて被照射面を照明する照明光学系に用いられる空間光変調装置において、
 前記制御部は、前記空間光変調器の前記複数の光学要素のうち、前記照明瞳に形成される所定の光強度分布の形状に応じた一群の光学要素の姿勢を一体的に制御することを特徴とする空間光変調装置。
前記一群の光学要素は、互いに隣接する複数の光学要素を有することを特徴とする請求項25に記載の空間光変調装置。
前記互いに隣接する複数の光学要素を介した光が、前記照明瞳に形成される所定の光強度分布の外形形状のエッジ領域に向けられていることを特徴とする請求項26に記載の空間光変調装置。
Description:
照明光学系、露光装置、および バイス製造方法

 本発明は、照明光学系、露光装置、およ デバイス製造方法に関する。さらに詳細に 、本発明は、半導体素子、撮像素子、液晶 示素子、薄膜磁気ヘッド等のデバイスをリ グラフィー工程で製造するための露光装置 好適な照明光学系に関するものである。

 この種の典型的な露光装置においては、 源から射出された光束が、オプティカルイ テグレータとしてのフライアイレンズを介 て、多数の光源からなる実質的な面光源と ての二次光源(一般には照明瞳における所定 の光強度分布)を形成する。以下、照明瞳で 光強度分布を、「瞳強度分布」という。ま 、照明瞳とは、照明瞳と被照射面(露光装置 場合にはマスクまたはウェハ)との間の光学 系の作用によって、被照射面が照明瞳のフー リエ変換面となるような位置として定義され る。

 二次光源からの光束は、コンデンサーレ ズにより集光された後、所定のパターンが 成されたマスクを重畳的に照明する。マス を透過した光は投影光学系を介してウェハ に結像し、ウェハ上にはマスクパターンが 影露光(転写)される。マスクに形成された ターンは高集積化されており、この微細パ ーンをウェハ上に正確に転写するにはウェ 上において均一な照度分布を得ることが不 欠である。

 従来、ズーム光学系を用いることなく瞳 度分布(ひいては照明条件)を連続的に変更 ることのできる照明光学系が提案されてい (特許文献1を参照)。特許文献1に開示された 明光学系では、アレイ状に配列され且つ傾 角および傾斜方向が個別に駆動制御される 数の微小なミラー要素により構成された可 マルチミラーを用いて、入射光束を反射面 の微小単位に分割して偏向させることによ 、光束の断面を所望の形状または所望の大 さに変換し、ひいては所望の瞳強度分布を 現している。

特開2002-353105号公報

 特許文献1に記載された照明光学系では、 姿勢が個別に制御される多数の微小なミラー 要素を用いているので、瞳強度分布の形状お よび大きさの変更に関する自由度は高い。し かしながら、規則的に配置された微小な1つ ミラー要素からの反射光により照明瞳に形 される回折像の光強度分布の裾部分が当該 ラー要素に対応する領域から外側にはみ出 て比較的大きく拡がる現象、すなわち回折 ケを起こすため、この回折ボケの影響によ 所望の瞳強度分布を形成することが困難な 合がある。

 本発明は、前述の課題に鑑みてなされた のであり、例えば規則的に配置された微小 ミラー要素からの反射光が照明瞳に形成す 回折像の回折ボケの影響を抑えて、所望の 強度分布を実現することのできる照明光学 を提供することを目的とする。また、本発 は、回折ボケの影響を抑えて所望の瞳強度 布を実現する照明光学系を用いて、適切な 明条件のもとで良好な露光を行うことので る露光装置を提供することを目的とする。

 前記課題を解決するために、本発明の第1形 態では、光源からの光に基づいて被照射面を 照明する照明光学系において、
 二次元的に配列されて個別に制御可能な複 の光学要素を有する空間光変調器と、
 前記空間光変調器を介した光に基づいて前 照明光学系の照明瞳に所定の光強度分布を 成する分布形成光学系と、
 前記複数の光学要素のうち、前記照明瞳に 成される所定の光強度分布の形状に応じた 群の光学要素の姿勢を一体的に制御する制 部とを備えていることを特徴とする照明光 系を提供する。

 本発明の第2形態では、所定のパターンを 照明するための第1形態の照明光学系を備え 前記所定のパターンを感光性基板に露光す ことを特徴とする露光装置を提供する。

 本発明の第3形態では、第2形態の露光装置 用いて、前記所定のパターンを前記感光性 板に露光する露光工程と、
 前記所定のパターンが転写された前記感光 基板を現像し、前記所定のパターンに対応 る形状のマスク層を前記感光性基板の表面 形成する現像工程と、
 前記マスク層を介して前記感光性基板の表 を加工する加工工程とを含むことを特徴と るデバイス製造方法を提供する。

 本発明の第4形態では、二次元的に配列され て個別に制御可能な複数の光学要素を有する 空間光変調器の制御方法であって、該空間光 変調器を介した光源からの光に基づいて照明 瞳に所定の光強度分布を形成して該照明瞳を 介した光に基づいて被照射面を照明する照明 光学系に用いられる空間光変調器の制御方法 において、
 前記空間光変調器の前記複数の光学要素の ち、前記照明瞳に形成される所定の光強度 布の形状に応じた一群の光学要素の姿勢を 体的に制御することを特徴とする空間光変 器の制御方法を提供する。

 本発明の第5形態では、二次元的に配列さ れて個別に制御可能な複数の光学要素を有す る空間光変調器を制御するための特定の処理 をコンピュータに実行させるプログラムであ って、第4形態の制御方法を前記コンピュー に実行させるプログラムを提供する。

 本発明の第6形態では、第5形態のプログ ムが記録されたコンピュータによる読み取 が可能な情報記録媒体を提供する。

 本発明の第7形態では、二次元的に配列され て個別に制御可能な複数の光学要素を有する 空間光変調器と該複数の光学要素を制御する 制御部とを備えた空間光変調装置であって、 前記空間光変調器を介した光源からの光に基 づいて照明瞳に所定の光強度分布を形成して 該照明瞳を介した光に基づいて被照射面を照 明する照明光学系に用いられる空間光変調装 置において、
 前記制御部は、前記空間光変調器の前記複 の光学要素のうち、前記照明瞳に形成され 所定の光強度分布の形状に応じた一群の光 要素の姿勢を一体的に制御することを特徴 する空間光変調装置を提供する。

 本発明の照明光学系では、例えば反射型 空間光変調器を構成する多数のミラー要素 うち、照明瞳に形成される光強度分布すな ち瞳強度分布の形状に応じた一群のミラー 素の姿勢を一体的に制御する。具体的には 例えば互いに隣接する複数のミラー要素を れぞれ含む多数個のミラー要素群を仮想的 設定し、各群のミラー要素からの反射光が 明瞳面上の共通領域へそれぞれ向かうよう 、各群のミラー要素の姿勢をそれぞれ一体 に制御する。その結果、一体的に姿勢が制 される一群のミラー要素が照明瞳面上の共 領域に形成する回折像のボケ幅を小さく抑 、ひいては瞳強度分布に対する回折ボケの 響を小さく抑えることができる。

 こうして、本発明の照明光学系では、例 ば規則的に配置された微小なミラー要素か の反射光が照明瞳に形成する回折像の回折 ケの影響を抑えて、所望の瞳強度分布を実 することができる。また、本発明の露光装 では、回折ボケの影響を抑えて所望の瞳強 分布を実現する照明光学系を用いて、マス のパターン特性に応じて実現された適切な 明条件のもとで良好な露光を行うことがで 、ひいては良好なデバイスを製造すること できる。

本発明の実施形態にかかる露光装置の 成を概略的に示す図である。 空間光変調ユニットおよびズーム光学 の構成を概略的に示す図である。 空間光変調ユニットが備える空間光変 器の部分斜視図である。 ミラー要素の反射面と開口との典型的 形状および位置関係を示す図である。 具体的な数値例において式(1)に基づく 算により得られる回折像の光強度分布を示 図である。 本実施形態のKプリズムと同様の機能を 有するプリズム部材の第1の構成例を概略的 示す図である。 本実施形態のKプリズムと同様の機能を 有するプリズム部材の第2の構成例を概略的 示す図である。 本実施形態のKプリズムと同様の機能を 有する組立て光学部材の構成例を概略的に示 す図である。 半導体デバイスの製造工程を示すフロ チャートである。 液晶表示素子等の液晶デバイスの製造 工程を示すフローチャートである。

符号の説明

1 光源
2 ビーム送光部
3 空間光変調ユニット
3a 空間光変調器
3b Kプリズム
3c 駆動部
4 ズーム光学系
5 フライアイレンズ
6 コンデンサー光学系
7 照明視野絞り(マスクブラインド)
8 視野絞り結像光学系
10 瞳分布計測部
IL 照明光学系
CR 制御部
M マスク
PL 投影光学系
W ウェハ

 本発明の実施形態を、添付図面に基づい 説明する。図1は、本発明の実施形態にかか る露光装置の構成を概略的に示す図である。 図1において、感光性基板であるウェハWの法 方向に沿ってZ軸を、ウェハWの露光面内に いて図1の紙面に平行な方向に沿ってX軸を、 ウェハWの露光面内において図1の紙面に垂直 方向に沿ってY軸をそれぞれ設定している。

 図1を参照すると、本実施形態の露光装置 は、装置の光軸AXに沿って、空間光変調ユニ ト3を含む照明光学系ILと、マスクMを支持す るマスクステージMSと、投影光学系PLと、ウ ハWを支持するウェハステージWSとを備えて る。本実施形態の露光装置では、照明光学 ILを介した光源1からの照明光(露光光)を用い てマスクMを照明する。マスクMを透過した光 、投影光学系PLを介して、マスクMのパター の像をウェハW上に形成する。

 光源1からの光に基づいてマスクMのパタ ン面(被照射面)を照明する照明光学系ILは、 間光変調ユニット3の作用により、複数極照 明(2極照明、4極照明など)、輪帯照明等の変 照明を行う。照明光学系ILは、光軸AXに沿っ 光源1側から順に、ビーム送光部2と、空間 変調ユニット3と、ズーム光学系4と、フライ アイレンズ5と、コンデンサー光学系6と、照 視野絞り(マスクブラインド)7と、視野絞り 像光学系8とを備えている。

 空間光変調ユニット3は、ビーム送光部2 介した光源1からの光に基づいて、その遠視 領域(フラウンホーファー回折領域)に所望 光強度分布(瞳強度分布)を形成する。空間光 変調ユニット3の構成および作用については 述する。ビーム送光部2は、光源1からの入射 光束を適切な大きさおよび形状の断面を有す る光束に変換しつつ空間光変調ユニット3へ くとともに、空間光変調ユニット3に入射す 光束の位置変動および角度変動をアクティ に補正する機能を有する。ズーム光学系4は 、空間光変調ユニット3からの光を集光して フライアイレンズ5へ導く。

 フライアイレンズ5は、例えば稠密に配列 された多数のレンズ素子からなる波面分割型 のオプティカルインテグレータである。フラ イアイレンズ5は、入射した光束を波面分割 て、その後側焦点面にレンズ素子と同数の 源像からなる二次光源(実質的な面光源)を形 成する。フライアイレンズ5の入射面は、ズ ム光学系4の後側焦点位置またはその近傍に 置されている。フライアイレンズ5として、 例えばシリンドリカルマイクロフライアイレ ンズを用いることができる。シリンドリカル マイクロフライアイレンズの構成および作用 は、例えば米国特許第6913373号公報に開示さ ている。また、フライアイレンズとして、 えば米国特許第6741394号公報に開示されてい マイクロフライアイレンズを用いることも きる。ここでは、米国特許第6913373号公報お よび米国特許第6741394号公報の教示を参照と て援用する。

 本実施形態では、フライアイレンズ5によ り形成される二次光源を光源として、照明光 学系ILの被照射面に配置されるマスクMをケー ラー照明する。このため、二次光源が形成さ れる位置は投影光学系PLの開口絞りASの位置 光学的に共役であり、二次光源の形成面を 明光学系ILの照明瞳面と呼ぶことができる。 典型的には、照明瞳面に対して被照射面(マ クMが配置される面、または投影光学系PLを めて照明光学系と考える場合にはウェハWが 置される面)が光学的なフーリエ変換面とな る。

 なお、瞳強度分布とは、照明光学系ILの 明瞳面または当該照明瞳面と共役な面にお る光強度分布(輝度分布)である。フライアイ レンズ5による波面分割数が比較的大きい場 、フライアイレンズ5の入射面に形成される 局的な光強度分布と、二次光源全体の大局 な光強度分布(瞳強度分布)とが高い相関を す。このため、フライアイレンズ5の入射面 よび当該入射面と光学的に共役な面におけ 光強度分布についても瞳強度分布と称する とができる。

 コンデンサー光学系6は、フライアイレン ズ5から射出された光を集光して、照明視野 り7を重畳的に照明する。照明視野絞り7から の光は、視野絞り結像光学系8を介して、マ クMのパターン形成領域の少なくとも一部に 明視野絞り7の開口部の像である照明領域を 形成する。なお、図1では、光軸(ひいては光 )を折り曲げるための光路折曲げミラーの設 置を省略しているが、必要に応じて光路折曲 げミラーを照明光路中に適宜配置することが 可能である。

 マスクステージMSにはXY平面(例えば水平 )に沿ってマスクMが載置され、ウェハステー ジWSにはXY平面に沿ってウェハWが載置される 投影光学系PLは、照明光学系ILによってマス クMのパターン面上に形成される照明領域か の光に基づいて、ウェハWの露光面(投影面) にマスクMのパターンの像を形成する。こう て、投影光学系PLの光軸AXと直交する平面(XY 平面)内においてウェハステージWSを二次元的 に駆動制御しながら、ひいてはウェハWを二 元的に駆動制御しながら一括露光またはス ャン露光を行うことにより、ウェハWの各露 領域にはマスクMのパターンが順次露光され る。

 本実施形態の露光装置は、ズーム光学系4 とフライアイレンズ5との間の照明光路中に 置されたビームスプリッター9と、ビームス リッター9で反射されて照明光路の外へ導か れた光を検出する瞳分布計測部10とを備えて る。瞳分布計測部10は、例えばフライアイ ンズ5の入射面と光学的に共役な位置に配置 れた撮像面を有するCCD撮像部を備え、フラ アイレンズ5の入射面に形成される光強度分 布をモニターする。すなわち、瞳分布計測部 10は、照明瞳または当該照明瞳と光学的に共 な面で瞳強度分布を計測する機能を有する 瞳分布計測部10の計測結果は、制御部CRに供 給される。瞳分布計測部10の詳細な構成およ 作用については、例えば特開2006-054328号公 を参照することができる。また、特開2003-229 67号公報およびこれに対応する米国特許公開 2003/0038225号公報に開示されている技術を用 ても良い。ここでは、米国特許公開第2003/00 38225号公報の教示を参照として援用する。

 次に、図2および図3を参照して、空間光 調ユニット3の構成および作用を説明する。 2は、空間光変調ユニット3およびズーム光 系4の構成を概略的に示す図である。図3は、 空間光変調ユニット3が備える空間光変調器3a の部分斜視図である。空間光変調ユニット3 、図2に示すように、例えば蛍石のような光 材料により形成されたプリズム3bと、プリ ム3bのYZ平面に平行な側面3baに近接して取り けられた反射型の空間光変調器3aとを備え いる。プリズム3bを形成する光学材料は、蛍 石に限定されることなく、光源1が供給する の波長などに応じて、石英であっても良く の他の光学材料であっても良い。

 プリズム3bは、直方体の1つの側面(空間光 変調器3aが近接して取り付けられる側面3baと 向する側面)をV字状に凹んだ側面3bbおよび3b cと置き換えることにより得られる形態を有 、XZ平面に沿った断面形状に因んでKプリズ とも呼ばれる。プリズム3bのV字状に凹んだ 面3bbおよび3bcは、鈍角をなすように交差す 2つの平面P1およびP2によって規定されている 。2つの平面P1およびP2はともにXZ平面と直交 、XZ平面に沿ってV字状を呈している。

 2つの平面P1とP2との接線(Y方向に延びる直 線)P3で接する2つの側面3bbおよび3bcの内面は 反射面R1およびR2として機能する。すなわち 反射面R1は平面P1上に位置し、反射面R2は平 P2上に位置し、反射面R1とR2とのなす角度は 角である。一例として、反射面R1とR2とのな す角度を120度とし、光軸AXに垂直なプリズム3 bの入射面IPと反射面R1とのなす角度を60度と 、光軸AXに垂直なプリズム3bの射出面OPと反 面R2とのなす角度を60度とすることができる

 プリズム3bでは、空間光変調器3aが近接し て取り付けられる側面3baと光軸AXとが平行で り、且つ反射面R1が光源1側(露光装置の上流 側:図2中左側)に、反射面R2がフライアイレン 5側(露光装置の下流側:図2中右側)に位置し いる。さらに詳細には、反射面R1は光軸AXに して斜設され、反射面R2は接線P3を通り且つ XY平面に平行な面に関して反射面R1とは対称 に光軸AXに対して斜設されている。プリズム 3bの側面3baは、後述するように、空間光変調 3aの複数のミラー要素SEが配列される面に対 向した光学面である。

 プリズム3bの反射面R1は、入射面IPを介し 入射した光を空間光変調器3aに向かって反 する。空間光変調器3aは、反射面R1と反射面R 2との間の光路中に配置され、反射面R1を経て 入射した光を反射する。プリズム3bの反射面R 2は、空間光変調器3aを経て入射した光を反射 し、射出面OPを介してズーム光学系4へ導く。 図2にはプリズム3bを1つの光学ブロックで一 的に形成した例を示しているが、後述する うに複数の光学ブロックを用いてプリズム3b を構成しても良い。図2では、ビームスプリ ター9の図示を省略している。

 空間光変調器3aは、反射面R1を経て入射し た光に対して、その入射位置に応じた空間的 な変調を付与して射出する。空間光変調器3a 、図3に示すように、二次元的に配列された 複数の微小なミラー要素(光学要素)SEを備え いる。説明および図示を簡単にするために 図2および図3では空間光変調器3aが4×4=16個の ミラー要素SEを備える構成例を示しているが 実際には16個よりもはるかに多数のミラー 素SEを備えている。

 図2を参照すると、光軸AXと平行な方向に って空間光変調ユニット3に入射する光線群 のうち、光線L1は複数のミラー要素SEのうち ミラー要素SEaに、光線L2はミラー要素SEaとは 異なるミラー要素SEbにそれぞれ入射する。同 様に、光線L3はミラー要素SEa,SEbとは異なるミ ラー要素SEcに、光線L4はミラー要素SEa~SEcとは 異なるミラー要素SEdにそれぞれ入射する。ミ ラー要素SEa~SEdは、その位置に応じて設定さ た空間的な変調を光L1~L4に与える。

 空間光変調ユニット3では、空間光変調器 3aのすべてのミラー要素SEの反射面がYZ平面に 平行に設定された基準状態において、光軸AX 平行な方向に沿って反射面R1へ入射した光 が、空間光変調器3aを経た後に、反射面R2に り光軸AXと平行な方向に向かって反射され ように構成されている。また、空間光変調 ニット3は、プリズム3bの入射面IPからミラー 要素SEa~SEdを経て射出面OPまでの空気換算長と 、プリズム3bが光路中に配置されていないと の入射面IPに相当する位置から射出面OPに相 当する位置までの空気換算長とが等しくなる ように構成されている。ここで、空気換算長 とは、光学系中の光路長を屈折率1の空気中 光路長に換算したものであり、屈折率nの媒 中の空気換算長は、その光路長に1/nを乗じ ものである。

 空間光変調器3aは、ズーム光学系4の前側 点位置またはその近傍に配置されている。 間光変調器3aの複数のミラー要素SEa~SEdによ て反射されて所定の角度分布が与えられた は、ズーム光学系4の後側焦点面4aに所定の 強度分布SP1~SP4を形成する。すなわち、ズー ム光学系4は、空間光変調器3aの複数のミラー 要素SEa~SEdが射出光に与える角度を、空間光 調器3aの遠視野領域(フラウンホーファー回 領域)である面4a上での位置に変換している

 再び図1を参照すると、集光光学系として 機能するズーム光学系4の後側焦点面4aの位置 またはその近傍に、フライアイレンズ5の入 面が位置決めされている。したがって、フ イアイレンズ5が形成する二次光源の光強度 布(輝度分布)は、空間光変調器3aおよびズー ム光学系4が形成する光強度分布SP1~SP4に応じ 分布となる。空間光変調器3aは、図3に示す うに、平面形状の反射面を上面にした状態 1つの平面に沿って規則的に且つ二次元的に 配列された多数の微小な反射素子であるミラ ー要素SEを含む可動マルチミラーである。

 各ミラー要素SEは可動であり、その反射 の傾き、すなわち反射面の傾斜角および傾 方向は、制御部CR(図3では不図示)からの指令 にしたがって作動する駆動部3c(図3では不図 )の作用により独立に制御される。各ミラー 素SEは、その反射面に平行な二方向であっ 互いに直交する二方向(Y方向およびZ方向)を 転軸として、所望の回転角度だけ連続的或 は離散的に回転することができる。すなわ 、各ミラー要素SEの反射面の傾斜を二次元 に制御することが可能である。

 なお、各ミラー要素SEの反射面を離散的 回転させる場合、回転角を複数の状態(例え 、・・・、-2.5度、-2.0度、・・・0度、+0.5度 ・・・+2.5度、・・・)で切り換え制御するの 良い。図3には外形が正方形状のミラー要素 SEを示しているが、ミラー要素SEの外形形状 正方形に限定されない。ただし、光利用効 の観点から、ミラー要素SEの隙間が少なくな るように配列可能な形状(最密充填可能な形 )としても良い。また、光利用効率の観点か 、隣り合う2つの要素ミラーSEの間隔を必要 小限に抑えても良い。

 本実施形態では、空間光変調器3aとして 二次元的に配列された複数のミラー要素SEの 向きを連続的に(または離散的に)それぞれ変 させる空間光変調器を用いている。このよ な空間光変調器として、たとえば特表平10-5 03300号公報およびこれに対応する欧州特許公 第779530号公報、特開2004-78136号公報およびこ れに対応する米国特許第6,900,915号公報、特表 2006-524349号公報およびこれに対応する米国特 第7,095,546号公報、並びに特開2006-113437号公 に開示される空間光変調器を用いることが きる。ここでは、欧州特許公開第779530号公 、米国特許第6,900,915号公報、および米国特 第7,095,546号公報の教示を参照として援用す 。

 空間光変調器3aでは、制御部CRからの制御 信号に応じて作動する駆動部3cの作用により 複数のミラー要素SEの姿勢がそれぞれ変化 、各ミラー要素SEがそれぞれ所定の向きに設 定される。空間光変調器3aの複数のミラー要 SEによりそれぞれ所定の角度で反射された は、ズーム光学系4を介して、フライアイレ ズ5の後側焦点位置またはその近傍の照明瞳 に、複数極状(2極状、4極状など)、輪帯状等 光強度分布(瞳強度分布)を形成する。この瞳 強度分布は、ズーム光学系4の作用により、 似的に(等方的に)変化する。

 すなわち、ズーム光学系4およびフライア イレンズ5は、空間光変調ユニット3中の空間 変調器3aを介した光束に基づいて、照明光 系ILの照明瞳に所定の光強度分布を形成する 分布形成光学系を構成している。さらに、フ ライアイレンズ5の後側焦点位置またはその 傍の照明瞳と光学的に共役な別の照明瞳位 、すなわち視野絞り結像光学系8の瞳位置お び投影光学系PLの瞳位置(開口絞りASの位置) も、瞳強度分布に対応する光強度分布が形 される。

 露光装置では、マスクMのパターンをウェ ハWに高精度に且つ忠実に転写するために、 えばマスクMのパターン特性に応じた適切な 明条件のもとで露光を行うことが重要であ 。本実施形態では、複数のミラー要素SEの 勢がそれぞれ個別に変化する空間光変調器3a を備えた空間光変調ユニット3を用いている で、空間光変調器3aの作用により形成される 瞳強度分布を自在に且つ迅速に変化させるこ とができる。

 しかしながら、空間光変調器3aを用いる 実施形態の照明光学系ILでは、規則的に配置 された微小な1つのミラー要素SEからの反射光 により照明瞳に形成される回折像の光強度分 布の裾部分が当該ミラー要素SEに対応する領 から外側にはみ出して比較的大きく拡がる 象、すなわち回折ボケを起こす。その結果 この回折ボケの影響により、所望の瞳強度 布を形成することが困難な場合がある。以 、図4および図5を参照して、回折ボケおよ その影響を説明する。

 空間光変調器3aは、例えば矩形状の外形 有し且つ規則的に配列された微小なミラー 素(反射ミラー)SEの集合体である。したがっ 、空間光変調器3aにおける回折を考慮する 合には、同一の開口が複数並列する多重ス ットをモデルとする。説明を簡単にするた に、空間光変調器3aの各ミラー要素SEは、図4 に示すように、一辺の長さが2ξの正方形状の 反射面を有し、一辺の長さが2aの正方形状の 口の中央に位置決めされているものとする

 このとき、ミラー要素SEからの反射光がズ ム光学系4を介してフライアイレンズ5の入射 面に形成する回折像、ひいてはフライアイレ ンズ5の後側焦点面の照明瞳に形成する回折 の光強度分布I(x)は、次の式(1)で表される(辻 内著、「光学概論II」、p82を参照)。式(1)にお いて、I 0 は1つのミラー要素SEからの反射光が照明瞳に 形成する回折像の中心における光強度であり 、fはリレー光学系としてのズーム光学系4の 点距離であり、λは光の波長であり、xは照 瞳面上での位置座標であり、Mは照明瞳面上 の1つの共通領域に向けて一体的に姿勢が制 される一群のミラー要素SEの数である。

 ちなみに、空間光変調器3aにおいて、ξ/a より定義される開口率(フィルファクタ)は85 %~90%程度である。具体的に、各ミラー要素SE 反射面の一辺の長さ2ξを16μmとし、開口率ξ/ aを85%とし、ズーム光学系4の焦点距離fを300mm し、光の波長λを193nmとし、一群のミラー要 素SEの数Mを1個~4個とするとき、式(1)に基づく 計算により得られる回折像の光強度分布を図 5に示す。図5において、縦軸は回折像の中心 おける光強度の最大値を1に規格化したとき の光強度を示し、横軸は照明瞳面上での位置 座標x(mm)を示している。

 図5を参照すると、M=1のときに単一のミラ ー要素SEからの反射光が照明瞳に形成する回 像の光強度分布の裾部分の拡がりが7mm程度 最も大きく、照明瞳面上の1つの共通領域に 向けて一体的に姿勢が制御される一群のミラ ー要素SEの数Mが増えるにしたがって回折像の 光強度分布の裾部分の拡がりが小さくなるこ とがわかる。換言すれば、一体的に姿勢が制 御される一群のミラー要素SEの数Mを増大させ ることにより、回折ボケの幅すなわちボケ幅 を小さくすることができる。実際に、開口率 ξ/aは90%程度であるから、ボケ幅は単純に2λf/ (2Mξ)となり、一群のミラー要素SEの数Mに反比 例する。

 本実施形態の照明光学系ILでは、上述の 見に基づき、制御部CRからの制御信号に応じ て作動する駆動部3cの作用により、空間光変 器3aを構成する多数のミラー要素SEのうち、 瞳強度分布の形状に応じた一群のミラー要素 SEの姿勢を一体的に制御する。具体的には、 えば互いに隣接する複数(例えば2個~4個)の ラー要素SEをそれぞれ含む多数個のミラー要 素群を仮想的に設定し、各群のミラー要素SE らの反射光が照明瞳面上の共通領域にそれ れ向かうように、各群のミラー要素SEの姿 をそれぞれ一体的に制御する。

 その結果、一体的に姿勢制御される一群 ミラー要素SEが照明瞳面上の共通領域に形 する回折像のボケ幅を小さく抑え、ひいて 瞳強度分布に対する回折ボケの影響を小さ 抑えることができる。こうして、本実施形 の照明光学系ILでは、規則的に配置された微 小なミラー要素SEからの反射光が照明瞳に形 する回折像の回折ボケの影響を抑えて、所 の瞳強度分布を実現することができる。ま 、本実施形態の露光装置(3~WS)では、回折ボ の影響を抑えて所望の瞳強度分布を実現す 照明光学系ILを用いて、マスクMのパターン 性に応じて実現された適切な照明条件のも で良好な露光を行うことができる。また、 述の実施形態においては、一体的に姿勢が 御される一群のミラー要素SEからの光束が 明瞳面上の1つの共通領域に到達する際の当 光束の開き角が大きくなる(当該光束の開口 数が大きくなる)ため、この1つの共通領域に 成される回折像のボケ幅が小さくなると見 すこともできる。

 ただし、空間光変調器3aのすべてのミラ 要素SEを多数個のミラー要素群に仮想分割し 、各群が含む複数のミラー要素SEの姿勢をそ ぞれ一体的に制御すると、瞳強度分布の形 および大きさの変更に関する自由度が低下 る場合がある。また、回折ボケの影響を最 大きく受けるのは、瞳強度分布の外形形状 エッジ領域である。例えば複数極状の瞳強 分布における各極の外周エッジ領域や、輪 状の瞳強度分布における外周エッジ領域お び内周エッジ領域では、回折ボケの影響に り瞳強度分布が所定領域から外側にはみ出 てしまう。

 したがって、瞳強度分布の形状および大 さの変更に関する高い自由度の確保と瞳強 分布に対する回折ボケの影響の低減との両 を図るには、瞳強度分布のエッジ領域を形 するためのミラー要素SEだけを多数個のミ ー要素群に仮想分割することが好ましい。 の場合、各群が含む複数のミラー要素SEの姿 勢をそれぞれ一体的に制御することによりエ ッジ領域における瞳強度分布を形成し、複数 個のミラー要素群を除くその他のミラー要素 SEの姿勢を個別に制御することによりエッジ 域以外の領域(特に中央領域)における瞳強 分布を形成することになる。

 上述したように、開口率ξ/aが90%程度の場 合、一体的に姿勢が制御される一群のミラー 要素SEの数Mに応じてボケ幅は2λf/(2Mξ)で表さ る。本実施形態の露光装置では、瞳強度分 を計測する瞳分布計測部10の計測結果を参 して、回折ボケに関する所要の低減効果が られているか否かを随時確認することがで る。また、制御部CRが瞳分布計測部10の計測 果に基づいて空間光変調器3aを制御するこ により、実際に形成される瞳強度分布が所 の瞳強度分布に近づくようにフィードバッ 調整することができる。あるいは、瞳強度 布の形状をフーリエ変換して得られる光の 度成分を事前の計算により求め、所定のア ゴリズムにしたがって、瞳強度分布のエッ 領域を形成する各群のミラー要素SEの姿勢を それぞれ一体的に制御することもできる。

 なお、上述の説明では、空間光変調器3a 複数のミラー要素が配列される面に対向し 光学面を有するプリズム部材として、1つの 学ブロックで一体的に形成されたKプリズム 3bを用いている。しかしながら、これに限定 れることなく、例えば図6に示すような一対 のプリズム31と32とにより、Kプリズム3bと同 の機能を有するプリズム部材を構成するこ ができる。この場合、プリズム31と32との接 面を光が通るため、接触面の研磨が必要で る。場合によっては、プリズム31と32との間 でオプチカルコンタクトが必要になる。

 また、例えば図7に示すような平行平面板 33と一対の三角プリズム34および35とにより、 Kプリズム3bと同様の機能を有するプリズム部 材を構成することができる。三角プリズム34 35とは互いに接触しないため、三角プリズ 34と35との間にオプチカルコンタクトは不要 ある。平行平面板33と三角プリズム34および 35とは互いに接触していても良いし、間隔を てていても良い。平行平面板33は空間光変 器3aのカバーガラスの機能も果たすので、空 間光変調器3aの寿命後の交換時には、平行平 板33および空間光変調器3aを交換するだけで 三角プリズム34および35を交換する必要はな 。

 また、例えば図8に示すような平行平面板 36と一対の平面ミラー37および38とにより、K リズム3bと同様の機能を有する組立て光学部 材を構成することができる。図8の構成は、 7における三角プリズム34および35を平面ミラ ー37および38で置き換えたものである。この 合、図7の構成例と同様に、空間光変調器3a 寿命後の交換時には、平行平面板36および空 間光変調器3aを交換するだけで平面ミラー37 よび38を交換する必要はない。また、図7の 成例に比して、平面ミラー37から平行平面板 36へ入射する光の屈折分だけ、空間光変調器3 aへ入射する光の角度を小さくすることがで る。

 また、上述の説明では、二次元的に配列 れて個別に制御される複数の光学要素を有 る空間光変調器として、二次元的に配列さ た複数の反射面の向き(角度:傾き)を個別に 御可能な空間光変調器を用いている。しか ながら、これに限定されることなく、たと ば二次元的に配列された複数の反射面の高 (位置)を個別に制御可能な空間光変調器を いることもできる。このような空間光変調 としては、たとえば特開平6-281869号公報及び これに対応する米国特許第5,312,513号公報、並 びに特表2004-520618号公報およびこれに対応す 米国特許第6,885,493号公報の図1dに開示され 空間光変調器を用いることができる。これ の空間光変調器では、二次元的な高さ分布 形成することで回折面と同様の作用を入射 に与えることができる。なお、上述した二 元的に配列された複数の反射面を持つ空間 変調器を、たとえば特表2006-513442号公報およ びこれに対応する米国特許第6,891,655号公報や 、特表2005-524112号公報およびこれに対応する 国特許公開第2005/0095749号公報の開示に従っ 変形しても良い。

 また、上述の説明では、複数のミラー要 を有する反射型の空間光変調器を用いてい が、これに限定されることなく、たとえば 国特許第5,229,872号公報に開示される透過型 空間光変調器を用いても良い。ここでは、 国特許第5,312,513号公報、米国特許第6,885,493 公報、米国特許第6,891,655号、米国特許公開 2005/0095749号公報、および米国特許第5,229,872 公報の教示を参照として援用する。

 また、上述の実施形態では、マスクの代 りに、所定の電子データに基づいて所定パ ーンを形成する可変パターン形成装置を用 ることができる。このような可変パターン 成装置を用いれば、パターン面が縦置きで 同期精度に及ぼす影響を最低限にできる。 お、可変パターン形成装置としては、たと ば所定の電子データに基づいて駆動される 数の反射素子を含むDMD(デジタル・マイクロ ミラー・デバイス)を用いることができる。DM Dを用いた露光装置は、例えば特開2004-304135号 公報、国際特許公開第2006/080285号パンフレッ およびこれに対応する米国特許公開第2007/02 96936号公報に開示されている。また、DMDのよ な非発光型の反射型空間光変調器以外に、 過型空間光変調器を用いても良く、自発光 の画像表示素子を用いても良い。なお、パ ーン面が横置きの場合であっても可変パタ ン形成装置を用いても良い。ここでは、米 特許公開第2007/0296936号公報の教示を参照と て援用する。

 なお、上述の実施形態では、オプティカ インテグレータとして、フライアイレンズ5 を用いているが、その代わりに、内面反射型 のオプティカルインテグレータ(典型的には ッド型インテグレータ)を用いても良い。こ 場合、ズーム光学系4の後側にその前側焦点 位置がズーム光学系4の後側焦点位置と一致 るように集光レンズを配置し、この集光レ ズの後側焦点位置またはその近傍に入射端 位置決めされるようにロッド型インテグレ タを配置する。このとき、ロッド型インテ レータの射出端が照明視野絞り7の位置にな 。ロッド型インテグレータを用いる場合、 のロッド型インテグレータの下流の視野絞 結像光学系8内の、投影光学系PLの開口絞りA Sの位置と光学的に共役な位置を照明瞳面と ぶことができる。また、ロッド型インテグ ータの入射面の位置には、照明瞳面の二次 源の虚像が形成されることになるため、こ 位置およびこの位置と光学的に共役な位置 照明瞳面と呼ぶことができる。ここで、ズ ム光学系4と上記の集光レンズとを、オプテ カルインテグレータと空間光変調器との間 光路中に配置された集光光学系とみなすこ ができ、ズーム光学系4、上記の集光レンズ およびロッド型インテグレータを分布形成光 学系とみなすことができる。

 上述の実施形態の露光装置において、空 光変調ユニット3中の空間光変調器3aを構成 る多数のミラー要素SEの姿勢を制御する手 を制御部CRに実行させるためのプログラムは 、たとえばCD-ROM等の情報記憶媒体からCD-ROMド ライブを介して制御部CRに接続された記憶部 たは制御部CR内の記憶領域にインストール れている。

 上述の実施形態の露光装置は、本願特許 求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各 サブシステムを、所定の機械的精度、電気 精度、光学的精度を保つように、組み立て ことで製造される。これら各種精度を確保 るために、この組み立ての前後には、各種 学系については光学的精度を達成するため 調整、各種機械系については機械的精度を 成するための調整、各種電気系については 気的精度を達成するための調整が行われる 各種サブシステムから露光装置への組み立 工程は、各種サブシステム相互の、機械的 続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管 続等が含まれる。この各種サブシステムか 露光装置への組み立て工程の前に、各サブ ステム個々の組み立て工程があることはい までもない。各種サブシステムの露光装置 の組み立て工程が終了したら、総合調整が われ、露光装置全体としての各種精度が確 される。なお、露光装置の製造は温度およ クリーン度等が管理されたクリーンルーム 行っても良い。

 次に、上述の実施形態にかかる露光装置 用いたデバイス製造方法について説明する 図9は、半導体デバイスの製造工程を示すフ ローチャートである。図9に示すように、半 体デバイスの製造工程では、半導体デバイ の基板となるウェハWに金属膜を蒸着し(ステ ップS40)、この蒸着した金属膜上に感光性材 であるフォトレジストを塗布する(ステップS 42)。つづいて、上述の実施形態の投影露光装 置を用い、マスク(レチクル)Mに形成されたパ ターンをウェハW上の各ショット領域に転写 (ステップS44:露光工程)、この転写が終了し ウェハWの現像、つまりパターンが転写され フォトレジストの現像を行う(ステップS46: 像工程)。その後、ステップS46によってウェ Wの表面に生成されたレジストパターンをマ スクとし、ウェハWの表面に対してエッチン 等の加工を行う(ステップS48:加工工程)。

 ここで、レジストパターンとは、上述の 施形態の投影露光装置によって転写された ターンに対応する形状の凹凸が生成された ォトレジスト層であって、その凹部がフォ レジスト層を貫通しているものである。ス ップS48では、このレジストパターンを介し ウェハWの表面の加工を行う。ステップS48で 行われる加工には、例えばウェハWの表面の ッチングまたは金属膜等の成膜の少なくと 一方が含まれる。なお、ステップS44では、 述の実施形態の投影露光装置は、フォトレ ストが塗布されたウェハWを、感光性基板つ りプレートPとしてパターンの転写を行う。

 図10は、液晶表示素子等の液晶デバイス 製造工程を示すフローチャートである。図10 に示すように、液晶デバイスの製造工程では 、パターン形成工程(ステップS50)、カラーフ ルタ形成工程(ステップS52)、セル組立工程( テップS54)およびモジュール組立工程(ステ プS56)を順次行う。

 ステップS50のパターン形成工程では、プ ートPとしてフォトレジストが塗布されたガ ラス基板上に、上述の実施形態の投影露光装 置を用いて回路パターンおよび電極パターン 等の所定のパターンを形成する。このパター ン形成工程には、上述の実施形態の投影露光 装置を用いてフォトレジスト層にパターンを 転写する露光工程と、パターンが転写された プレートPの現像、つまりガラス基板上のフ トレジスト層の現像を行い、パターンに対 する形状のフォトレジスト層を生成する現 工程と、この現像されたフォトレジスト層 介してガラス基板の表面を加工する加工工 とが含まれている。

 ステップS52のカラーフィルタ形成工程で 、R(Red)、G(Green)、B(Blue)に対応する3つのドッ トの組をマトリックス状に多数配列するか、 またはR、G、Bの3本のストライプのフィルタ 組を水平走査方向に複数配列したカラーフ ルタを形成する。

 ステップS54のセル組立工程では、ステッ S50によって所定パターンが形成されたガラ 基板と、ステップS52によって形成されたカ ーフィルタとを用いて液晶パネル(液晶セル )を組み立てる。具体的には、例えばガラス 板とカラーフィルタとの間に液晶を注入す ことで液晶パネルを形成する。ステップS56 モジュール組立工程では、ステップS54によ て組み立てられた液晶パネルに対し、この 晶パネルの表示動作を行わせる電気回路お びバックライト等の各種部品を取り付ける

 また、本発明は、半導体デバイス製造用 露光装置への適用に限定されることなく、 えば、角型のガラスプレートに形成される 晶表示素子、若しくはプラズマディスプレ 等のディスプレイ装置用の露光装置や、撮 素子(CCD等)、マイクロマシーン、薄膜磁気 ッド、及びDNAチップ等の各種デバイスを製 するための露光装置にも広く適用できる。 に、本発明は、各種デバイスのマスクパタ ンが形成されたマスク(フォトマスク、レチ ル等)をフォトリソグラフィ工程を用いて製 造する際の、露光工程(露光装置)にも適用す ことができる。

 なお、上述の実施形態では、露光光としてA rFエキシマレーザ光(波長:193nm)やKrFエキシマ ーザ光(波長:248nm)を用いることができる。ま た、これに限定されることなく、他の適当な レーザ光源、たとえば波長157nmのレーザ光を 給するF 2 レーザ光源などを用いることもできる。

 また、上述の実施形態において、投影光 系と感光性基板との間の光路中を1.1よりも きな屈折率を有する媒体(典型的には液体) 満たす手法、所謂液浸法を適用しても良い この場合、投影光学系と感光性基板との間 光路中に液体を満たす手法としては、国際 開第WO99/49504号パンフレットに開示されてい ような局所的に液体を満たす手法や、特開 6-124873号公報に開示されているような露光 象の基板を保持したステージを液槽の中で 動させる手法や、特開平10-303114号公報に開 されているようなステージ上に所定深さの 体槽を形成し、その中に基板を保持する手 などを採用することができる。ここでは、 際公開第WO99/49504号パンフレット、特開平6-12 4873号公報および特開平10-303114号公報の教示 参照として援用する。

 また、上述の実施形態において、米国特 公開第2006/0170901号公報及び米国特許公開第2 007/0146676号公報に開示されるいわゆる偏光照 方法を適用することも可能である。ここで 、米国特許公開第2006/0170901号公報及び米国 許公開第2007/0146676号公報の教示を参照とし 援用する。

 また、上述の実施形態では、露光装置に いてマスクを照明する照明光学系に対して 発明を適用しているが、これに限定される となく、マスク以外の被照射面を照明する 般的な照明光学系に対して本発明を適用す こともできる。