以下、本発明を実施するための最良の形態� ��説明する。
 透明導電膜においては、その透明性が重要� ��特性である。膜が透明であるための条件と� ��ては、入射光に対して反射が少なく、可視� ��での吸収がなく散乱が無いことが要求され� ��。散乱に関しては、散乱源となる粉体が1種 類の物質であるならば、当該粉体の粒子径と 対象光の波長とに依存し、ミー散乱、レイリ ー散乱の式により計算できる。

 ここで、ミー散乱は、粒子の大きさが波� ��に比べて無視できない場合の光の散乱をい� ��、粒子の大きさが、波長の1/10程度より大き い場合に問題となる。一方、波長に対する粒 子径が十分小さい場合は、レイリー散乱が支 配要因となる。本発明に係る粒子の場合は、 レイリー散乱の領域である。そこで、以下、 レイリー散乱について説明する。

 一般に、対象光の波長の2分の1に相当する� �子径の粉体が、最も散乱が大きい。粉体の� �子径が、この粒子径から外れ、さらに対象� �の波長に比べて小さくなると、以下のレイ� �ー散乱式により、粒子径の6乗に比例して散� ��は急激に小さくなる。
      Ks=(4π ⁵ /3λ ⁴ )×d×[(M ² -1)/(M ² +2)]
      Ks:散乱係数、λ:波長、d:粒子径、M=n ₀ /n ₁ 、
      n ₀ :物質の屈折率、n ₁ :媒体の屈折率
 ここで、可視域の波長が0.4~0.8μmであること より、粉体の粒子径を0.9μm以下にし、均一に 分散させることで、この粒子からなる粉体を 可視光に対して透明にすることができること が判る。

 本実施形態のITO粉体は、1次粒子径が20nm� �下の粒子が個数割合で90%以上である。本発� �者らは、ITO粒子が上述の構成を備えること� �より、当該ITO粒子を含む透明導電膜におい� �、光学特性の1つであるヘイズの値が改善さ� ��るとともに、全光線透過率も増加すること� ��見出した。尚、全光線透過率とは、物体(本 実施形態では当該ITO粒子を含む透明導電膜)� �光を照射した際、当該物体に反射されるこ� �なく、当該物体を透過した光の割合のこと� �ある。

 本発明者らは、本実施形態のITO粉体が、� ��述の構成に加えて、さらに1次粒子径が15nm� �下の個数割合が90%以上であると、さらにヘ� �ズの値を改善出来ることを見出した。

 本実施形態で作成したITO粒子を含むITO塗� ��は、ITO粒子の分散性が良好である。従来のI TO塗料においては、ITO粒子の分散性向上のた� ��に分散剤が添加されている。しかし、本実� ��形態にかかるITO粉体を用いた場合は、ITO粒� ��が微粒子であって、且つ、粒子間の接触が� ��く独立した粒子として存在するので、分散� ��を使用せずとも、均一でムラがなくヘイズ� ��値の低いITO塗膜を得ることができる。

(本実施形態に係るITO粒子の生成機構)
 本実施形態に係るITO粒子の生成機構につい� ��説明する。
 本実施形態に係るITO粒子は、インジウムを� ��む無機塩と、スズを含む無機塩とを有機溶� ��中に溶解させ、当該有機溶媒を、前記イン� ��ウムを含む塩およびスズを含む塩の分解温� ��以上、250℃以下の有機溶媒中で加熱分解し� ��、インジウムとスズとを含む前駆体を作製� ��る第1の工程と、第1の工程で得た前駆体を� �200℃以上、350℃以下の有機溶媒中で加熱処� �することでITO粒子を生成させる第2の工程を� ��て、生成したITO粒子である。
 ここで、インジウムを含む塩およびスズを� ��む塩の分解温度とは、金属元素と酸基とが� ��合しているこれらの塩を加熱したとき、両� ��の塩において金属元素と酸基とが分離する� ��度のことをいう。

 本出願人が特許文献2で提案した、有機溶 媒中で加熱処理を行うITO粒子の製造方法では 、まず、水溶液中でスズを含有するインジウ ム水酸化物を作製し、スズ含有インジウム水 酸化物を有機溶媒に分散させ、240℃以上350℃ 以下の有機溶媒中で熱処理を行い、ITO粒子お よび塗料を合成していた。この製造方法で得 られるITO粒子は、シングルナノレベルの微細 な粒子である。しかし、最大50nm近い粒子も� �在するなど、非常に大きな粒子も同時に生� �しており、ITO粒子の平均粒子径に対して粒� �サイズの分布が広くバラツキがあった。

 これに対し、本実施形態に係るITO粒子の生� ��においては、インジウムとスズとを含む塩� ��直接有機溶媒中に溶解させ、当該有機溶媒� ��前記インジウムを含む塩およびスズを含む� ��の分解温度以上、250℃以下の加熱により熱� ��解し、インジウムとスズとを含む前駆体を� ��機溶媒中に生成させる第1の工程を有する。
 この第1の工程を経ることによって、上述の 、水溶液中でスズ含有水酸化インジウム水酸 化物を作製し有機溶媒中に溶解・分散させる 方法や、有機溶媒中でインジウムを含む塩と スズを含む塩とをアルカリで中和させ、スズ 含有水酸化インジウムを分散させる方法、と 比較すると、有機溶媒中で直接インジウム塩 とスズ塩とを熱分解させて前駆体を作製する ことにより、より微細な前駆体を有機溶媒中 に均一に分散させることが可能である。
 この結果、有機溶媒中での加熱分解により� ��成する前駆体は非常に微細であり、X線回折 法による結晶相の同定を試みるも正確な同定 は出来ない。おそらく有機溶媒中有で得られ る前駆体は、ズズを含有するインジウム水酸 化物、インジウムオキシ水酸化物、または、 溶媒とインジウム有機化合物との単一体もし くは混合物と推定される。

 本実施形態に係るITO粒子の生成で使用でき� ��塩としては、加熱すると塩の分解が起こり� ��化物、オキシ水酸化物、水酸化物となる塩� ��好ましい。具体的に示すと、インジウム含� ��塩としては、インジウム成分原料として、� ��酸インジウム、硫酸インジウム、リン酸イ� ��ジウム、塩化インジウム等の無機塩、酢酸� ��ンジウム、シュウ酸インジウム、酒石酸イ� ��ジウム、インジウムアルコキシド等の有機� ��が挙げられ、これらは単一であってもよく� ��混合して使用しても良い。
 また、スズを含む塩としては、硝酸スズ、� ��酸スズ、リン酸スズ、塩化スズ等の無機塩� ��酢酸スズ、シュウ酸スズ、酒石酸スズ、ス� ��メトキシド、スズエトキシド、スズプロポ� ��シド、スズブトキシド等のスズアルコキシ� ��などの有機塩が挙げられ、これらは、単一� ��あってもよく、混合して使用しても良い。
 インジウムやスズを含む塩として有機金属� ��でも良いが、有機金属塩は無機塩と比べる� ��高価である。また、一般的に有機塩は親水� ��が弱く、本実施形態に係る親水性の有機溶� ��中に溶解させた際、有機溶媒に対する溶解� ��が足りずに溶け残りができる、または2層に 分かれる、など、有機溶媒中に均一に塩が分 散しない場合がある。従って、安価に入手で き、親水性の強い無機塩が好ましい原料であ る。

 そして、前記インジウムを含む塩およびス� ��を含む塩として、分解温度が250℃以下の原� ��を用いることが好ましい。これは、ITO粒子� ��生成温度が250℃付近のため、前記インジウ� ��を含む塩およびスズを含む塩として、分解� ��度を250℃以下の原料を用いることで、イン� ��ウムとスズとが前駆体を経由せず、塩の分� ��とともに直接ITOを生成することを、回避で� ��るからである。
 このため、前記インジウムを含む塩および� ��ズを含む塩の原料としては、硝酸インジウ� ��、硝酸スズ、酢酸インジウム、酢酸スズ、� ��ュウ酸インジウム、酒石酸インジウムが好� ��しく、もっとも好ましいのは硝酸インジウ� ��、硝酸スズである。これら原料の加熱分解� ��より溶媒中のpHが酸性側から中性側に変動� �、他の溶媒中の金属イオンが同時に析出し� �スズ含有インジウム微細な前駆体の沈殿が� �成する。

 原料となる塩は、結晶体の塩を直接有機� ��媒中に溶解しても良く、結晶体の塩を溶解� ��た水溶液を用いても良い。ただし、原料中� ��含まれる水分は少ない方が好ましい。その� ��由として、原料中の水分が多いと原料の熱� ��解時に有機溶媒中に含まれる水分に再溶解� ��析出し、均一で微細な前駆体の形成を妨げ� ��おそれがあること、さらに高温加熱時に含� ��れる当該水分を蒸発させる量の熱量を加え� ��ければならないため、余計なエネルギーを� ��やすこととなるからである。

 次に、第1の工程で得たスズ含有インジウ ム前駆体を、有機溶媒中で200~350℃という低� �で熱処理する第2の工程をとることにより、� ��ズ含有インジウム前駆体をITO粒子とする。� ��1の工程でズズ含有インジウム前駆体が非常 に微細でかつ均一に分散していることにより 、第2の工程において各々の粒子が微細なITO� �子となり、非常に微細でかつ均一なサイズ� �粒子が得られる。

 本実施形態に関する第1の工程においては 、沸点が100℃から350℃以下の有機溶媒を用い ればよい。原料として用いるインジウム塩と ズズ塩との分解温度が低ければ、低い沸点の 有機溶媒を選択すればよく、原料塩の分解温 度により適時選択すればよい。また、第2の� �程においては、沸点が200℃以上の有機溶媒� �用いればよい。これは、有機溶媒中の加熱� �理でITO粒子の生成がなされるため、有機溶� �の沸点が200℃以上であれば、当該有機溶媒� �反応系外に揮発することを回避できるから� �ある。従って、本実施形態にて使用する有� �溶媒は、その沸点が200℃以上、好ましくは23 0℃以上であればよい。

 ITO粒子の生成に要する製造は、当該生成� ��度が低温であるほど、その設備、電力費を� ��減できるため、製造コストが安価になるメ� ��ットがある。ところが、一般的には、ITO粒� ��を低温生成させると、その結晶性が悪くな� ��てしまうと考えられている。しかし、本実� ��形態に係るITO粒子の生成では、低温生成と� ��好な結晶性とを両立させることができた。� ��の理由は定かではないが、前駆体の段階で� ��微粒子を均一に分散が生成させることによ� ��、エネルギーの効率が上がり、ITO粒子の生� ��温度の低温化が実現できたのではないかと� ��えられる。

 さらに、本実施形態に係るITO粒子の生成� ��使用できる有機溶媒は、1分子当たりに、少 なくともOH基を1個以上持つ溶媒が好ましい。 中でも多価アルコールが好ましく、さらに好 ましくは、エチレングリコール、ジエチレン グリコール、トリエチレングリコール、テト ラエチレングリコール、ポリエチレングリコ ール、1.2-プロピレングリコール、1.3-ブチレ� ��グリコール、2.3-ブチレングリコール、ヘキ シレングリコール、ジプロピレングリコール 、トリプロピレングリコール、グリセリンが 挙げられる。しかし、これに限らず、その有 機溶媒の沸点が第1の工程においては、沸点� �100℃から350℃以下、第2の工程では、200℃以� ��、さらに好ましくは230℃以上の、多価アル� ��ールまたは、その誘導体であればよく、ま� ��イオン性液体でもよい。これは、出発原料� ��なる塩の親水性が強いため、OH基を有する� �、または、イオン性の有機溶媒であれば、� �該粒子表面に吸着され易くなり、最終的なIT O粒子の分散性が良くなる為ではないかと考� �られる。勿論、これらの有機溶媒は1種のみ� ��はなく、2種以上を混合して用いても良い。 さらに好ましくは、50体積%以上の水を溶解出 来る、親水性の強い水溶性の有機溶媒を用い ればよい。

 上述したように、本実施形態に係るITO粒子� ��生成に用いる有機溶媒は、分子一個あたり� ��OH基を一個以上持つものであることが好ま� �いが、当該有機溶媒が、分子一個あたりにOH 基を一個以上持つことで、異なる効果も発揮 する。それは、当該有機溶媒中に存在するOH� ��がスズ含有酸化インジウムからO(酸素)を奪� ��て、これを還元し、酸素欠陥を生成させる� ��果である。当該生成した酸素欠陥に起因し� ��、生成するITO粒子中にキャリアが発生する� ��で導電性が向上する。
 ここで、OH基を多く有する化合物という観� �から、有機溶媒としては分子一個あたりにOH 基を2個以上もつポリオールが好ましい。

 ただし、好ましい有機溶媒はポリオール� ��限られる訳ではなく、多価アルコール、ま� ��は、その誘導体でも良い。さらには、有機� ��媒自体に当初の時点においてOH基が無くて� �、原料中に含有される水分等の存在により� �水分解を起こし、結果的にアルコールが生� �するタイプの有機溶媒であっても良い。こ� �タイプの有機溶媒としては、例えば、オレ� �ン酸、オレイルアミンがある。また、上述� �た有機溶媒は、カルボン酸基、アミン基を� �んでいても良い。

 以上のことから、本実施形態に係るITO粒子� ��成における好ましい有機溶媒の例として、� ��チレングリコール、ジエチレングリコール� ��トリエチレングリコール、テトラエチレン� ��リコール、ポリエチレングリコール、プロ� ��レングリコール、ジプロピレングリコール� ��トリプロピレングリコールの中から選ばれ� ��少なくとも一つ以上の有機溶媒が挙げられ� ��。中でも、常温で液体であること、かつ安� ��であること等の観点を考慮すると、ジエチ� ��ングリコール、トリエチレングリコール、� ��トラエチレングリコール、ポリエチレング� ��コールが、より好ましい。
 なお、酸素欠損を持たないITO粒子は、一般� ��に白色または黄色の粒子であるが、酸素欠� ��を持つことにより緑色または青色の粒子と� ��る。本実施形態に係るITO粒子はすべて青色� ��の粒子であり、酸素欠陥を有するITO粒子が� ��成していることが判明した。

(本実施形態に係るスズ含有酸化インジウム� �含む透明導電材用塗料)
 本実施形態に係るスズ含有酸化インジウム� ��含む透明導電材用塗料において溶媒は、水� ��極性をもつ有機溶媒、または、それらの混� ��溶媒が好ましく用いられる。これは、ITO粒� ��表面が極性を持ち、且つ親水性であるため� ��透明導電材用塗料を形成しているときには� ��溶媒中に水のような極性溶媒が存在するこ� ��が好ましいからである。

 本実施形態に係るITO粒子を含む塗料にお� ��ても、当該塗料を静置したときに、ITO粒子� ��沈降しないことが求められる。ここにいう� ��降とは、当該塗料を、遠心分離器を用いて3 000rpm、30分間分離させたときに、塗料溶媒が� ��降層と透明な上澄み層とに分離することを� ��う。ITO粒子を含む塗料において粒子が沈降� ��るということは、当該粒子が凝集したか、� ��たは、初めから粗大粒子が形成されていた� ��とが考えられる。そして、ITO粒子を含む塗� ��において、ITO粒子の凝集や当初からの粗大� ��子が存在することは、当該塗料を用いてITO� ��膜を形成した際に膜厚の不均一が生じ、導� ��性の低下や、ヘイズの値の増加につながる� ��従って、ITO粒子を含む塗料においては、ITO� ��子がブラウン運動のみで分散し、沈降せず� ��いる状態が理想である。

 本実施形態に係る透明導電材用塗料は、� ��実施形態に係るITO粉体と、水、極性をもつ� ��機溶媒、または、それらの混合溶媒とを含� ��、静置してもITO粒子が沈降しないものであ� ��。当該塗料を用いることで、均一な塗膜を� ��膜することが出来、当該均一な塗膜を焼成� ��ることによって、ヘイズが低く、導電性が� ��好な導電性塗膜が得られる。

〔本実施形態のITO粉体の製造方法〕
 次に、本実施形態のITO粒子の製造方法につ� ��て説明する。
 <原料>
 本実施形態に係るITO粒子の生成で使用でき� ��塩としては、加熱すると塩の分解が起こり� ��化物、オキシ水酸化物、水酸化物となる塩� ��好ましい。具体的に示すと、インジウム含� ��塩としては、インジウム成分原料として、� ��酸インジウム、硫酸インジウム、リン酸イ� ��ジウム、塩化インジウム等の無機塩、酢酸� ��ンジウム、シュウ酸インジウム、酒石酸イ� ��ジウム、インジウムアルコキシド等の有機� ��が挙げられ、これらは単一であってもよく� ��混合して使用しても良い。また同様に、ス� ��を含む塩としては、硝酸スズ、硫酸スズ、� ��ン酸スズ、塩化スズ等の無機塩、酢酸スズ� ��シュウ酸スズ、酒石酸スズ、スズメトキシ� ��、スズエトキシド、スズプロポキシド、ス� ��ブトキシド等のスズアルコキシドなどの有� ��塩が挙げられ、これらは、単一であっても� ��く、混合したものでもよい。
 さらに、原料として硝酸インジウム、硝酸� ��ズ、酢酸インジウム、酢酸スズ、シュウ酸� ��ンジウム、酒石酸インジウム等、250℃以下� ��加熱とともに分解し、酸化物、オキシ水酸� ��物、水酸化物となる原料を混合させておく� ��特に好ましい原料としては硝酸インジウム� ��挙げられる。

 <前駆体形成工程>
 本実施形態に係るITO粒子の生成工程として� ��まず、インジウムとスズとを含む前駆体を� ��る第1の工程を経る。第1の工程では、前記� �示した原料を有機溶媒中に溶解させ、イン� �ウムまたはスズを含む前駆体を、当該有機� �媒を前記インジウムを含む塩およびスズを� �む塩の分解温度以上、250℃以下の有機溶媒� �で加熱分解させインジウムを主成分とした� �駆体を得る。

 第1の工程で用いる有機溶媒について、さら に説明する。
 第1の工程で用いる有機溶媒は、その沸点が 100℃以上、350℃以下であれば良い。そして、 本実施形態で用いる有機溶媒は、少なくとも 1分子当たりにOH基を1個以上持つ溶媒が好ま� �い。中でも多価アルコールが好ましく、さ� �に好ましいのは、エチレングリコール、ジ� �チレングリコール、トリエチレングリコー� �、テトラエチレングリコール、ポリエチレ� �グリコール、プロピレングリコール、ジプ� �ピレングリコール、トリプロピレングリコ� �ルである。しかしこれらの溶媒に限られず� �沸点が100℃以上200℃以下である等のアルコ� �ル、(たとえば、へキシルアルコール、ヘプ� ��ノール)、または多価アルコール、または、 多価アルコールの誘導体、さらにはイオン性 液体でも良い。これらの有機溶媒は、1種の� �ではなく、2種以上を混合して用いても良い� ��出発原料であるインジウムを含む塩、また� ��、スズを含む塩の分解温度が低ければ低い� ��点の有機溶媒を選択すればよく、原料とし� ��用いるインジウム塩およびスズ塩の分解温� ��より高い沸点をもつ有機溶媒を選択すれば� ��い。さらに、原料として用いるインジウム� ��およびスズ塩は親水性であるため、親水性� ��有機溶媒を用いることで、当該有機溶剤が� ��子表面に吸着され、作製されるITO粒子の分� ��性の向上に寄与しているのであると考えら� ��る。

 原料となるインジウム塩およびスズ塩は� ��各々の結晶塩を直接有機溶媒中に溶解して� ��良いが、各々の結晶塩が溶解した水溶液を� ��いても良い。ただし、原料中に含まれる水� ��は少ない方が好ましい。その理由として、� ��料中の水分が多いと、原料の加熱分解時に� ��まれる水分にこれらの原料が再溶解・析出� ��、微細な前駆体の形成を妨げるおそれがあ� ��こと、高温加熱時に水分の蒸発熱分の熱量� ��余分に加えなければならないため、余計な� ��ネルギーを費やすこと、等による。

 これら原料の加熱分解により、溶媒中のp Hは酸性側から中性側に変動する為、溶媒中� �他の金属イオンも同時に析出してくる。た� �えば、溶媒中にインジウム硝酸塩と塩化ス� �を混合させておくと、加熱とともに硝酸イ� �ンが分解を起こしてNOxガスとなり、有機溶� �中から気体となって除かれる。それととも� �溶媒中にはズズイオンが析出し、スズ含有� �ンジウム前駆体の沈殿が生成する。

 第1の工程で生成した前駆体のスラリーは 、有機溶媒とともに、そのまま第2の工程で� �用しても良い。しかし、当該前駆体スラリ� �を固液分離にて採集し、洗浄して不純物イ� �ンを除去することが、純度を高めたスズ含� �インジウム前駆体のケーキが得られるので� �ましい構成である。このとき洗浄剤として� �、不純物イオンが溶解し易い純水等の洗浄� �を、単独または有機溶媒と混合させて使用� �ても良いが、次工程での分散を考慮すると� �本実施形態で使用する有機溶媒と同様の有� �溶媒を、単独で用いる洗浄が好ましい。

 <熱処理工程>
 次に、第1の工程で得たスズ含有インジウム 前駆体を、有機溶媒中で200~350℃という低温� �熱処理する第2の工程をとることにより、ズ� ��含有インジウム前駆体からITO粒子と生成さ� ��る。

 第2の工程で用いる有機溶媒について、さら に説明する。
 第2の工程で用いる有機溶媒は、その沸点が 200℃以上、350℃以下であれば良い。これは、 スズ含有酸化インジウム粉体の生成が、有機 溶媒中の加熱処理でなされるため、有機溶媒 の沸点が200℃以上であれば、当該有機溶媒が 加熱分解し、反応系外に揮発することを回避 できるからである。従って、本実施形態にて 使用する有機溶媒は、その沸点が200℃以上、 好ましくは230℃以上であればよい。そして、 本実施形態で用いる有機溶媒は、第1の工程� �同様、少なくとも1分子当たりにOH基を1個以� ��持つ溶媒が好ましい。中でも多価アルコー� ��が好ましく、さらに好ましいのは、ジエチ� ��ングリコール、トリエチレングリコール、� ��トラエチレングリコール、ポリエチレング� ��コール、トリプロピレングリコールである� ��しかしこれらの溶媒に限られず、沸点が200� ��以上350℃以下であるアルコール、または多� ��アルコール、または、多価アルコールの誘� ��体、さらにはイオン性液体でも良い。これ� ��の有機溶媒は、1種のみではなく、2種以上� �混合して用いても良い。

 本実施形態に係るITO粒子生成の際に使用� ��れる雰囲気ガスは、不活性ガスおよび/また は還元性ガスである。好ましくは、一酸化炭 素、窒素、水素、希ガス、アンモニアガスで ある。さらに好ましくは、窒素、水素が挙げ られる。これらの雰囲気ガスは、1種類の使� �でも良いが2種類以上を混合して使用しても� ��い。

 <加熱処理装置>
 本実施形態で使用される加熱装置として、� ��えば、マントルヒーター、リボンヒーター� ��オイルバス等が挙げられる。尤も、350℃ま� ��加熱可能ならば、多様な加熱装置が適用可� ��である。

 <反応器>
 本実施形態で使用される反応器は、350℃に� ��えうる反応器であればよい。但し、加熱処� ��中に有機溶媒が蒸気となって若干揮発する� ��とを考慮すると、0.1MPaの圧力下でも密閉状� ��を保持し、還流手段を有する反応器である� ��とが好ましい。

 <固液分離>
 固液分離は、有機溶媒中での加熱処理後に� ��成したITO粒子を回収する工程である。
 当該固液分離には、遠心分離法や吸引ろ過� ��が適用可能だが、本実施形態で生成したITO� ��子は分散性が良いので、吸引ろ過法を適用� ��る場合は、凝集剤を添加するなどして2次凝 集を起こさせる必要がある。従って、余分な 薬剤の添加を避ける観点からは、遠心分離法 の適用が好ましいと考えられる。当該遠心分 離の条件例としては、3000rpm、30minが挙げられ る。

 <洗浄>
 洗浄は、生成したITO粒子から不純物を除去� ��るために実施される。具体的には、上述し� ��有機溶媒中での加熱処理後に、遠心分離法� ��によりITO粒子と有機溶媒とを分離し、当該� ��離されたITO粒子へ洗浄液を添加する。洗浄� ��としては、純水、極性を持った有機溶媒、� ��たは、それらの混合液等が好ましく適用で� ��る。当該洗浄液を添加した後に、ITO粒子を� ��浄するための超音波分散を行う。このとき� ��ホモミキサー等による強制撹拌を併用して� ��よい。超音波分散後は、再度遠心分離機に� ��けて固液分離する。このときの遠心分離の� ��件例として、3000rpm、30minがあげられる。上� ��した、遠心分離-洗浄液添加-超音波分散を1� ��浄単位とし、当該洗浄単位を繰り返し実施� ��ることにより、ITO粒子中の不純物を低減す� ��ことができる。繰り返しの回数は、1回以上 、好ましくは3回以上である。

 <溶媒置換>
 生成したITO粒子への洗浄を終了した後、ITO� ��散液を得るために、溶媒置換を実施する。� ��媒置換する際の置換液は、その沸点が300℃� ��下、好ましくは200℃以下である溶媒が使用� ��きる。沸点が300℃以下であれば、ITO塗布液� ��塗布して塗膜焼成する際に、当該溶媒が揮� ��し、残留しないので、結果的に表面抵抗値� ��増大せず、ヘイズの悪化を回避できるから� ��ある。ITO分散液を得るための溶媒としては� ��水、メタノール、エタノール、プロパノー� ��、イソプロピルアルコール、ブタノール、� ��キサノール、ヘプタノール、オクタノール� ��デカノール、シクロヘキサノール、及びテ� ��ピネオール等のアルコール類、エチレング� ��コール、及びプロピレングリコール等のグ� ��コール類、アセトン、メチルエチルケトン� ��及びジエチルケトン等のケトン類、酢酸エ� ��ル、酢酸ブチル、及び酢酸ベンジル等のエ� ��テル類、メトキシエタノール、及びエトキ� ��エタノール等のエーテルアルコール類、ジ� ��キサン、及びテトラヒドロフラン等のエー� ��ル類、N ,N - ジメチルホルムアミド等の酸 アミド類、ベンゼン、トルエン、キシレン、 トリメチルベンゼン、及びドデシルベンゼン 等の芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタン 、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、 ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペン タデカン、ヘキサデカン、オクタデカン、ノ ナデカン、エイコサン、及びトリメチルペン タン等の長鎖アルカン、シクロヘキサン、シ クロヘプタン、および、シクロオクタン等の 環状アルカン等のような常温で液体のものを 適宜選択して使用すればよい。当該溶媒置換 も、洗浄のところで説明した、「遠心分離-� �浄液添加-超音波分散」の1洗浄単位を適用し て実施すれば良い。

[本実施形態に係るITO分散液を用いた塗膜の� �造方法例]
 本実施形態に係るITO分散液の塗膜化に際し� ��は、スクリーン印刷、スピンコート、ディ� ��プコート、ロールコート、刷毛コート、ス� ��レーコート等の公知の方法を用いることが� ��来る。また、当該ITO分散液を基板上に塗布� ��る場合には、当該基板材料として、有機高� ��子、プラスチック、ガラス等をあげること� ��できるが、当該基板形状としてはフィルム� ��のものが一般的である。特に、タッチパネ� ��のようにフレキシビリティを要求される基� ��には高分子フィルムが好ましく、当該高分� ��フィルムには、ポリエチレンテレフタレー� ��(PET)、ポリエチレンタフタレート(PEN)、ポリ イミド、アラミド、ポリカーボネート等のフ ィルムを用いることが出来る。
 当該基板材料上に成膜された本実施形に係� ��ITO粉体を含む透明導電膜は、透明度が高く� ��ヘイズの値が小さい透明導電膜であった。