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Title:
LAYER AND LAYER SYSTEM, AS WELL AS BIPOLAR PLATE, FUEL CELL AND ELECTROLYSER
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2017/140293
Kind Code:
A1
Abstract:
The invention relates to a layer (3a), in particular for a bipolar plate (1) of a fuel cell or an electrolyser, wherein the layer (3a) consists of a homogeneous or heterogeneous solid metal solution or compound. According to the invention, the layer (3a) has either a first chemical element from the group of noble metals in the form of iridium, or a first chemical element from the group of noble metals in the form of iridium and a second chemical element from the group of noble metals in the form of ruthenium, as well as at least one further non-metal chemical element from the group comprising nitrogen, carbon, boron, fluorine, hydrogen. The invention also relates to a layer system (3), a bipolar plate (1) having a layer system (3) of this type, a fuel cell and an electrolyser.

Inventors:
DOBRENIZKI LADISLAUS (DE)
HOSENFELDT TIM (DE)
MUSAYEV YASHAR (DE)
REPENNING DETLEV (DE)
Application Number:
PCT/DE2017/100007
Publication Date:
August 24, 2017
Filing Date:
January 05, 2017
Export Citation:
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Assignee:
FRIEDRICH-ALEXANDER-UNIVERSITÄT ERLANGEN (DE)
SCHAEFFLER TECHNOLOGIES AG (DE)
International Classes:
H01M8/0208; C23C28/00; C23C28/04; C25B9/17; H01M8/0215; H01M8/0228; H01M8/021
Domestic Patent References:
WO2015134636A12015-09-11
WO2009108102A12009-09-03
Foreign References:
DE102010026330A12011-04-07
DE10230395A12004-01-15
US20080057371A12008-03-06
DE102010026330A12011-04-07
DE102013209918A12013-12-12
DE112005001704T52009-08-13
DE112008003275T52010-09-16
DE19937255B42004-05-06
EP1273060B12005-01-19
DE10017200A12001-10-18
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Claims:
Patentansprüche

1 . Schicht (3a), insbesondere für eine Bipolarplatte (1 ) einer Brennstoffzelle, wobei die Schicht (3a) aus einer homogenen oder heterogenen festen metallischen Lösung oder Verbindung besteht, die entweder ein erstes chemisches Element aus der Gruppe der Edelmetalle in Form von Iridium enthält oder

ein erstes chemisches Element aus der Gruppe der Edelmetalle in Form von Iridium und ein zweites chemisches Element aus der Gruppe der Edelmetalle in Form von Ruthenium enthält,

sowie weiterhin zumindest ein weiteres nichtmetallisches chemisches Element enthält aus der Gruppe umfassend Stickstoff, Kohlenstoff, Bor, Fluor, Wasserstoff.

2. Schicht nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass die Schicht (3a) weiterhin mindestens ein Metall aus der IV. und/oder der V. Nebengruppe des Periodensys- tems der chemischen Elemente enthält.

3. Schicht nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das mindestens eine nichtmetallische chemische Element in einer Konzentration im Bereich von 0, 1 At.-% bis 65 At.-% in der Schicht vorhanden ist.

4. Schicht nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass diese a) mehr als 35 At.-% Iridium und weiterhin Kohlenstoff umfasst; oder

b) mehr als 35 At.-% Iridium und weiterhin Kohlenstoff und Wasserstoff umfasst; oder

c) mehr als 35 At.-% Iridium und weiterhin Kohlenstoff und Fluor, optional weiterhin Wasserstoff, umfasst; oder

d) in Summe mehr als 35 At.-% Iridium und Ruthenium und weiterhin Kohlenstoff umfasst; oder

e) in Summe mehr als 35 At.-% Iridium und Ruthenium und weiterhin Kohlenstoff und Wasserstoff umfasst; oder

f) in Summe mehr als 35 At.-% Iridium und Ruthenium und weiterhin Kohlenstoff und Fluor, optional weiterhin Wasserstoff, umfasst.

5. Schicht nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Schicht (3a) weiterhin mindestens ein chemisches Element aus der Gruppe der unedlen Metalle enthält.

6. Schicht nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass das mindestens eine chemische Element aus der Gruppe der unedlen Metalle Aluminium, Eisen, Nickel, Kobalt, Zink, Cer oder Zinn ist. 7. Schicht nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, dass das mindestens eine weitere chemische Element aus der Gruppe der unedlen Metalle im Konzentrationsbereich von 0,01 bis 65 At.-%, insbesondere von 0,01 bis 5 At.-%, in der Schicht enthalten ist. 8. Schicht nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Schicht (3a) weiterhin zumindest ein chemisches Element aus der Gruppe der Re- fraktärmetalle, insbesondere Titan und/oder Zirkonium und/oder Hafnium und/oder Niob und/oder Tantal, aufweist. 9. Schicht nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass das mindestens eine chemische Element aus der Gruppe der Refraktärmetalle im Konzentrationsbereich von 0,01 bis 65 At.-%, insbesondere von 0,01 bis 5 At.-%, in der Schicht (3a) enthalten ist. 10. Schicht nach den Ansprüchen 5 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass das mindestens eine chemische Element aus der Gruppe der unedlen Metalle in Form von Zinn und das mindestens eine chemische Element aus der Gruppe der Refraktärmetalle zusammen im Konzentrationsbereich von 0,01 bis 65 At.-% insbesondere von 0,01 bis 5 At.-%, in der Schicht (3a) enthalten sind.

1 1 . Schicht nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Schicht (3a) weiterhin mindestens ein zusätzliches chemisches Element aus der Gruppe der Edelmetalle in einem Konzentrationsbereich von 0,01 bis 10 At.-% aufweist.

12. Schicht nach Anspruch 1 1 , dadurch gekennzeichnet, dass das chemische Element aus der Gruppe der Edelmetalle Platin, Gold, Silber, Rhodium, Palladium ist. 13. Schicht nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass alle chemischen Elemente aus der Gruppe der Edelmetalle, inklusive Iridium und Ruthenium, im Konzentrationsbereich von 35 bis 99 At.-% in der Schicht enthalten sind. 14. Schicht nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das nichtmetallische chemische Element Kohlenstoff im Konzentrationsbereich von 10 bis 25 At.-% in der Schicht enthalten ist.

15. Schicht nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Schicht (3a) eine Schichtdicke von mindestens 1 nm bis maximal 50 nm aufweist.

16. Schichtsystem (3), insbesondere für eine Bipolarplatte (1 ) einer Brennstoffzelle oder eines Elektrolyseurs, umfassend eine Deckschicht (3a) und ein Unterlagen- schichtsystem (4), dadurch gekennzeichnet, dass die Deckschicht (3a) in Form einer Schicht (3a) nach den Ansprüchen 1 bis 15 ausgebildet ist.

17. Schichtsystem nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass das Unterlagen- schichtsystem (4) mindestens eine Unterlagenschicht (4a, 4b) aufweist umfassend mindestens ein chemisches Element aus der Gruppe Titan, Niob, Hafnium, Zirkoni- um, Tantal.

18. Schichtsystem nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, dass das Unterlagen- schichtsystem (4) mindestens eine erste Unterlagenschicht (4a) in Form einer metallischen Legierungsschicht umfassend die chemischen Elemente Titan und Niob aufweist.

19. Schichtsystem nach Anspruch 17 oder 18, dadurch gekennzeichnet, dass das Un- terlagenschichtsystem (4) eine zweite Unterlagenschicht (4b) aufweist umfassend mindestens ein chemisches Element aus der Gruppe Titan, Niob, Hafnium, Zirkonium, Tantal und weiterhin mindestens ein nichtmetallisches Element aus der Gruppe Stickstoff, Kohlenstoff, Bor, Fluor. 20. Schichtsystem nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Unterlagenschicht (4b) zwischen der ersten Unterlagenschicht (4a) und der Deckschicht (3a) angeordnet ist.

21. Schichtsystem nach Anspruch 19 oder 20, dadurch gekennzeichnet, dass die zwei- te Unterlagenschicht (4b) bis zu 5 At.-% Sauerstoff enthält.

22. Bipolarplatte (1 ) umfassend ein metallisches Substrat (2) und ein zumindest in

Teilbereichen der Oberfläche des Substrats (2) aufgebrachtes Schichtsystem (3) nach einem der Ansprüche 16 bis 21 .

23. Brennstoffzelle, insbesondere Polymerelektrolytbrennstoffzelle, umfassend mindestens eine Bipolarplatte (1 ) nach Anspruch 22.

24. Elektrolyseur, umfassend mindestens eine Bipolarplatte (1 ) nach Anspruch 22.

Description:
Schicht und Schichtsystem, sowie Bipolarplatte, Brennstoffzelle und Elektrolyseur

Die Erfindung betrifft eine Schicht, insbesondere für eine Bipolarplatte einer Brennstoffzelle oder eines Elektrolyseurs, nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1. Des Weiteren betrifft die Erfindung ein Schichtsystem mit einer derartigen Schicht sowie ei- ne Bipolarplatte mit einem derartigen Schichtsystem. Die Erfindung betrifft weiterhin eine Brennstoffzelle oder einen Elektrolyseur mit einer solchen Bipolarplatte.

Elektrochemische Systeme wie bspw. Brennstoffzellen, insbesondere Polymerelektrolytbrennstoffzellen, und leitfähige, stromabnehmende Platten für derartige Brennstoff- zellen und Elektrolyseure sowie Stromabnehmer in galvanischen Zellen und Elektroly- seuren sind bekannt.

Ein Beispiel hierfür sind die Bipolar- oder Monopolarplatten in Brennstoffzellen, insbesondere in einer Sauerstoffhalbzelle. Die Bipolar- oder Monopolarplatten sind in Form von Kohlenstoffplatten (z.B. Graphoilplatten) ausgebildet, die als wesentlichen Bestandteil Kohlenstoff enthalten. Diese Platten neigen zur Brüchigkeit und sind vergleichsweise dick, sodass sie ein Leistungsvolumen der Brennstoffzelle wesentlich mindern. Ein weiterer Nachteil ist ihre mangelnde physikalische (z.B. thermomechani- sche) und/oder chemische und/oder elektrische Stabilität.

Ebenso bekannt ist die Herstellung der stromabnehmenden Platten der Brennstoffzelle aus metallischen (insbesondere austenitischen) Edelstählen. Der Vorteil dieser Platten liegt in einer erzielbaren Dicke der Platten von weniger als 0,5 mm. Diese Dicke ist anzustreben, damit sowohl ein Bauraum als auch ein Gewicht der Brennstoffzelle so gering wie möglich gehalten werden kann. Problematisch ist bei diesen Platten, dass Oberflächenoxide bei Betrieb der Brennstoffzelle gebildet werden, sodass ein Oberflächenwiderstand unzulässig erhöht wird und/oder ein elektrochemischer Zerfall (wie beispielsweise Korrosion) eintritt. Aus den Offenlegungsschriften DE 10 2010 026 330 A1 , DE 10 2013 209 918 A1 , DE 1 1 2005 001 704 T5 und DE 1 1 2008 003 275 T5 geht zur Erzielung der Anforderung z.B. für den Einsatz von Bipolarplatten von Brennstoffzellen die Beschichtung von austenitischen Edelstahlen als Träger mit einer Goldschicht hervor, welche in ei- nem Bandbereich von bis zu 2 nm liegt. Dieser Anforderungslösung obliegen gleich mehrere Nachteile. So ist beispielsweise eine, wenn auch nur 2 nm dicke Goldschicht für Massenanwendungen immer noch zu teuer. Ein wesentlich größerer Nachteil ist in einer Grundeigenschaft des chemischen Elementes Gold zu sehen. Gold ist edler als das Trägermaterial als nicht rostender austenitischer Stahl (Edelstahl) und erwirkt dadurch unter ungünstigen Betriebsbedingungen in den Brennstoffzellen eine Auflösung des Trägers (z.B. Lochfraß- bzw. Pittingkorrosion), die eine Reduzierung der Lebensdauer zur Folge hat. In insbesondere chloridhaltiger Umgebung (z.B. Aerosolen) ist die Korrosion nicht zu verhindern.

Insbesondere ist ein weiterer Nachteil, dass Gold für Hochlastanwendungen z.B. bei Elektrolysebedingungen oberhalb 1500 mV Standardwasserstoffeinheit sowohl in saurer als auch basischer Umgebung nicht stabil ist.

Aus dem Stand der Technik bekannt sind ebenso Schichten auf dem Träger in Form so genannter Hartstoffschichten auf Nitrid- bzw. Carbidbasis. Ein Beispiel hierfür ist Titannitrid, das allerdings im Betrieb einer Brennstoffzelle zur Ausbildung oxidischer Metallkomplexe bis hin zu geschlossenen Oberflächenschichten neigt. Infolgedessen steigt der Oberflächenwiderstand wie auch beim Edelstahl auf hohe Werte. Verfahren zur Beschichtung mit Chromnitrid oder Chromcarbonitrid gehen beispielsweise aus den Patentschriften DE 199 37 255 B4 und EP 1273060 B1 und der Offenle- gungsschrift DE 100 17 200 A1 hervor.

Die Hartstoffschichten weisen je nach Zusammensetzung sehr gute Betriebseigenschaften (bspw. Widerstand gegen Korrosion, Abriebfestigkeit, hohe Konturtreue) auf, bergen jedoch das Risiko zur anodischen Auflösung, wenn sich unter ungünstigen Be- triebsbedingungen in der Brennstoffzelle Konzentrationsketten ausbilden. Diese anodische Auflösung tritt dann in Erscheinung, wenn bei inneren elektrochemischen Kurzschlüssen in der Brennstoffzelle, wie z.B. bei der Ausbildung eines Wasserfilmes zwischen einer aktiven Elektrode einer Membran-Elektroden-Einheit der Brennstoffzelle und der Bipolarplatte ein so genanntes Lokalelement bzw. ein unerwartetes und uner- wünschtes Reaktionselement entsteht.

Ebenfalls bekannt sind Mehrfachbeschichtungen auf Basis von Nitriden mit sehr dünnen Gold- oder Platinschichten. Somit können bei Schichtdicken der Edelmetalle von über 2 pm zufriedenstellende Betriebsergebnisse für eine Brennstoffzelle erzielt werden. Das grundlegende Problem der Auflösung bleibt bei hohen anodischen Potenzialen bestehen. Die Schichtdicke gewährleistet eine nahezu porenfreie Decklage und mindert somit das Risiko der Pittingkorrosion. Weiterhin sind so genannte dimensionsstabile Anoden bekannt. Hier werden mit Hilfe von Refraktärmetallen einphasige oder mehrphasige Oxide mit Rutheniumoxid und/oder Iridiumoxid gebildet. Diese Art der Schicht ist zwar sehr stabil, bildet aber zu hohe elektrische Widerstände aus. Entsprechendes liegt auch vor, wenn eine Oberfläche des Trägers, im Allgemeinen aus einem Edelmetall hergestellt, mit Iridium dotiert wird.

Somit sind an die in diesen beispielhaft genannten elektrochemischen Systemen, insbesondere zur Energiewandlung, ausgebildeten metallischen Träger bzw. eine Bipolarplatte für eine PEM-Brennstoffzelle oder einen Elektrolyseur folgende Anforderun- gen zu stellen:

- Hohe Korrosionsfestigkeit gegenüber ein sie umgebendes Medium, und/oder

- hohe Belastbarkeit gegenüber anodischen bzw. kathodisch polarisierenden

Belastungen,

- geringer Oberflächenwiderstand einer einem Elektrolyten zugewandten Oberfläche des Trägers bzw. seiner Beschichtung, und

- niedrige Produktionskosten des Trägers, insbesondere bspw. eines elektrisch leitenden Konduktors in Form von Bipolarplatten für die Anwendung von

Brennstoffzellen für die mobile Anwendung. Somit ist es die Aufgabe der vorliegenden Erfindung eine verbesserte Schicht bzw. ein verbessertes Schichtsystem ganz allgemein für einen Energiewandler, insbesondere für eine Bipolarplatte einer Brennstoffzelle oder eines Elektrolyseurs, bereitzustellen. Des Weiteren ist es die Aufgabe der Erfindung, eine Bipolarplatte mit einem verbes- serten Schichtsystem und eine damit ausgestattete Brennstoffzelle und einen damit ausgestatteten Elektrolyseur anzugeben.

Die Aufgabe wird erfindungsgemäß durch eine Schicht, insbesondere für eine Bipolar- platte einer Brennstoffzelle oder eines Elektrolyseurs, gelöst, wobei die Schicht aus einer homogenen oder heterogenen festen metallischen Lösung oder Verbindung besteht, die entweder ein erstes chemisches Element aus der Gruppe der Edelmetalle in Form von Iridium enthält oder ein erstes chemisches Element aus der Gruppe der Edelmetalle in Form von Iridium und ein zweites chemisches Element aus der Gruppe der Edelmetalle in Form von Ruthenium enthält,

sowie weiterhin zumindest ein weiteres nichtmetallisches chemisches Element enthält aus der Gruppe umfassend Stickstoff, Kohlenstoff, Bor, Fluor, Wasserstoff.

Die Aufgabe wird weiterhin erfindungsgemäß durch ein Schichtsystem, insbesondere für eine Bipolarplatte einer Brennstoffzelle oder eines Elektrolyseurs, umfassend eine Deckschicht und ein Unterlagenschichtsystem gelöst, indem die Deckschicht in Form der erfindungsgemäßen Schicht ausgebildet ist.

Die Aufgabe wird weiterhin erfindungsgemäß durch eine Bipolarplatte umfassend ein Substrat und das zumindest in Teilbereichen einer Oberfläche des Substrats aufgebrachtes erfindungsgemäßes Schichtsystem gelöst.

Die Aufgabe wird weiterhin erfindungsgemäß durch eine Brennstoffzelle, insbesondere Polymerelektrolytbrennstoffzelle, umfassend mindestens eine erfindungsgemäße Bipolarplatte gelöst.

Die Aufgabe wird weiterhin erfindungsgemäß durch einen Elektrolyseur umfassend mindestens eine erfindungsgemäße Bipolarplatte gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen mit zweckmäßigen und nicht-trivialen Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen angegeben.

Die erfindungsgemäße Schicht ist elektrisch leitend und elektrokatalytisch aktiv korrosionsschützend ausgebildet. Unter einer homogenen metallischen Lösung (Typ 1 ) wird verstanden, dass die genannten nichtmetallischen chemischen Elemente im Metallgitter so gelöst sind, dass sich der Gittertyp des Wirtsmetalls oder der Wirtsmetalllegierung im Wesentlichen nicht ändert.

Unter einer homogenen metallischen Verbindung (Typ 2) wird verstanden, dass bei einer höheren Konzentration der gelösten nichtmetallischen chemischen Elemente sich ein neuer Gittertyp ausbildet wie z. B. bei der Bildung der stöchiometrischen Ver- bindung Iridiumcarbid. Man spricht hier auch von homogenen Phasen.

Unter einer heterogenen metallischen Lösung oder Verbindung wird verstanden, dass entweder die unterschiedlichen Phasen (Typ1 und Typ2) nebeneinander vorliegen oder dass neben den metallhaltigen Phasen auch eines der nichtmetallischen chemi- sehen Elemente in einer Mischphase elementar vorliegt. Beispielweise kann so je nach Ausprägung des Phasendiagramms der binären oder multinären Systems elementarer Kohlenstoff neben der alpha-Phase (Typ1 ), also beispielweise alpha - Ruthenium, vorliegen oder beispielsweise Kohlenstoff neben Iridiumcarbid. Je nach Abscheidebedingungen kann die erfindungsgemäße Schicht im thermodyna- mischen Sinn metastabil oder stabil sein.

Die erfindungsgemäße Schicht ist weiterhin insbesondere dadurch gekennzeichnet, dass die Edelmetalle in Form von Iridium oder in Form von Ruthenium und Iridium mit den nichtmetallischen chemischen Elementen feste stöchiometrische Verbindungen ausbilden.

Es hat sich gezeigt, dass mit einer kohlenstoffhaltigen Schicht, somit durch den Einsatz des Metalloids bzw. nichtmetallischen chemischen Elements Kohlenstoff, die Leit- fähigkeit der Schicht höher ist als bei Gold und dass zugleich ihre Oxidationsstabilität in einer sauren Lösung deutlich über einer Spannung von 2000 mV einer Standardwasserstoffelektrode liegt. Gemessene spezifische elektrische Widerstände liegen je nach Ausführungsform unter 5 mQ cm -2 (unter standardisierten Bedingungen).

Im Vergleich hierzu liegt der spezifische elektrische Widerstand von Gold bei ca. 10 mQ cm -2 bei Raumtemperatur.

Ein weiterer wichtiger Vorteil ist, dass das Iridium nicht bei Spannungen oberhalb des Wertes E = 2,04 - 0,059 Ig pH- -0,0295 Ig (lrO 4 ) 2"

oxidiert und in Lösung geht. In der festen Lösung wird also das niederwertige Iridium soweit stabilisiert, dass die sonst übliche Oxidation bei ca. 1800 mV in 1 mol/l (1 N- konzentrierter) Schwefelsäure (H2S0 4 ) nicht mehr stattfindet. Maßgabe für die Stabilisierung ist der Gewinn an freier partieller Mischenergie AGiviisch der festen Lösungen bzw. Verbindungen.

Die erfindungsgemäße Schicht weist bevorzugt eine Schichtdicke von mindestens 1 nm bis maximal 10 nm auf.

Beispielsweise ergibt sich bei einer Schichtdicke von ca. 10 nm bei einer Verwendung von (lr,Nb)Ci- x nur 4 g Ir pro cm 2 der Schicht. Für eine 10 nm dicke Goldschicht müssen mehr als 20 g Gold pro cm 2 eingesetzt werden. Der Vorteil der erfindungsgemäßen Schicht im Vergleich zu einer Goldschicht ist die hohe Oxidationsstabilität bis zu Spannungen weit oberhalb 2000 mV gegenüber einer Standardwasserstoffelektrode in 1 N-konzentrierter Schwefelsäure.

Mit einer erfindungsgemäßen Schicht, welche carbidische Verbindungen aufweist, ist die Stabilität von beispielsweise Iridium-haltigen dimensionsstabilen Anoden- Elektroden deutlich zu steigern. Die erfindungsgemäße Schicht weist bevorzugt weiterhin mindestens ein Metall aus der IV. und/oder der V. Nebengruppe des Periodensystems der chemischen Elemente auf. Der Vorteil bei Nutzung dieser Metalle - entweder elementar oder in Form von Verbindungen - liegt darin, dass sie unter Korrosionsbedingungen selbstschützende, stabile und leitfähige Oxide ausbilden.

Das mindestens eine nichtmetallische chemische Element ist vorzugsweise in einer Konzentration im Bereich von 0, 1 At.-% bis 65 At.-%, insbesondere von 10 bis 30 At.-% in der Schicht vorhanden. Insbesondere ist das nichtmetallische chemische Element Kohlenstoff im Konzentrationsbereich von 10 bis 25 At.-% in der Schicht enthalten.

Insbesondere hat sich eine erfindungsgemäße Schicht bewährt, die

a) mehr als 35 At.-% Iridium und weiterhin Kohlenstoff umfasst; oder

b) mehr als 35 At.-% Iridium und weiterhin Kohlenstoff und Wasserstoff umfasst; oder

c) mehr als 35 At.-% Iridium und weiterhin Kohlenstoff und Fluor, optional weiterhin Wasserstoff, umfasst; oder

d) in Summe mehr als 35 At.-% Iridium und Ruthenium und weiterhin Kohlenstoff umfasst; oder

e) in Summe mehr als 35 At.-% Iridium und Ruthenium und weiterhin Kohlenstoff und Wasserstoff umfasst; oder

f) in Summe mehr als 35 At.-% Iridium und Ruthenium und weiterhin Kohlenstoff und Fluor, optional weiterhin Wasserstoff, umfasst.

Der Wasserstoff bzw. optional vorhandene Wasserstoff gemäß den Schichtzusammensetzungen b), c), e) und f) ist dabei lediglich in Spuren vorhanden.

Weiterhin kann die erfindungsgemäße Schicht mindestens ein chemisches Element aus der Gruppe der unedlen Metalle enthalten. Das mindestens eine chemische Element aus der Gruppe der unedlen Metalle ist dabei bevorzugt durch Aluminium, Eisen, Nickel, Kobalt, Zink, Cer oder Zinn gebildet und/oder im Konzentrationsbereich von 0,01 bis 65 At.-%, insbesondere von 0,01 bis 5 At.-%, in der Schicht enthalten. In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der erfindungsgemäßen Schicht weist diese zumindest ein chemisches Element aus der Gruppe der Refraktärmetalle, insbesondere Titan und/oder Zirkonium und/oder Hafnium und/oder Niob und/oder Tantal, auf. Es hat sich gezeigt, dass durch den Zusatz der Refraktärmetalle zusätzlich anteilsweise während der Elektrolyse entstehendes H2O2 und Ozon gesteuert werden.

Die erfindungsgemäße Schicht, umfassend bevorzugt feste stöchiometrische Verbindungen ist vorzugsweise mit dem Zusatz von Refraktärmetallen als multinäre Verbindung ausgebildet. Die erfindungsgemäße Schicht, umfassend mindestens ein Refraktärmetall, weist insbesondere in einem Temperaturbereich von 0 bis ca. 200 °C eine hohe Leitfähigkeit und eine hohe Korrosionsbeständigkeit auf. Somit sind mit multinären festen Iridium- und/oder Ruthenium-haltigen Schichten herausragende Eigenschaften für einen dau- erfesten Einsatz in z. B. Brennstoffzellen hergestellt.

Ein weiterer Vorteil ergibt sich aus der Beschichtung von elektrischen Konduktoren, wie insbesondere metallischen Bipolarplatten, unabhängig davon, ob der elektrische Konduktor wie z.B. eine Bipolarplatte für Niedertemperatur-Polymerelektrolytbrennstoff- zellen oder für Hochtemperatur-Polymerelektrolytbrennstoffzellen ausgebildet ist. Der besondere Vorteil liegt darin, dass die erfindungsgemäße Schicht mit einer Dichte zwischen 10-13 gern -3 eine fast nur halb so hohe Dichte aufweist im Vergleich zu einem reinen Edelmetall. Somit kann der Einsatz teurer Edelmetalle und/oder seiner Verbindungen reduziert werden, insbesondere durch die Bildung multinärer Verbindungen mit den anderen Elementen.

Das mindestens eine chemische Element aus der Gruppe der Refraktärmetalle ist bevorzugt im Konzentrationsbereich von 0,01 bis 65 At.-%, insbesondere von 0,01 bis 5 At.-%, in der Schicht enthalten.

Sofern das mindestens eine chemische Element aus der Gruppe der unedlen Metalle in Form von Zinn vorliegt, so sind dieses und das mindestens eine chemische Element aus der Gruppe der Refraktärmetalle zusammen im Konzentrationsbereich von 0,01 bis 65 At.-% insbesondere von 0,01 bis 5 At.-%, in der Schicht enthalten.

Es hat sich bewährt, wenn die erfindungsgemäße Schicht weiterhin mindestens ein zusätzliches chemisches Element aus der Gruppe der Edelmetalle in einem Konzentrationsbereich von 0,01 bis 10 At.-% aufweist. Das chemische Element aus der Gruppe der Edelmetalle ist insbesondere Platin, Gold, Silber, Rhodium, Palladium.

Es hat sich bewährt, wenn alle chemischen Elemente aus der Gruppe der Edelmetalle, d.h. zusammen mit Iridium und Ruthenium, im Konzentrationsbereich von 35 bis 99 At.-% in der Schicht enthalten sind. Der Korrosionsschutz auf metallischen Trägern, wie aus Stählen, insbesondere Edel- stählen, oder Titan, wird dadurch weiter verbessert, indem die erfindungsgemäße Schicht auf ein zwischen dem Träger und der Schicht ausgebildetes Unterschichtsys- tem aufgebracht wird. Dieses ist besonders dann von Vorteil, wenn korrosive Umgebungsmedien vorhanden sind, insbesondere wenn die Korrosionsmedien chloridhaltig sind.

Eine Unteroxidation, d.h. eine Oxidation der Oberfläche eines Trägers mit einer auf dieser Oberfläche aufgebrachten Schicht, führt normalerweise zur Delamination aufliegender Edelmetallschichten.

Das erfindungsgemäße Schichtsystem, insbesondere für eine Bipolarplatte einer Brennstoffzelle oder eines Elektrolyseurs, umfasst daher eine Deckschicht und ein Unterlagenschichtsystem, wobei die Deckschicht in Form der erfindungsgemäßen Schicht ausgebildet ist.

Insbesondere umfasst das Unterlagenschichtsystem mindestens eine Unterlagenschicht, die mindestens ein chemisches Element aufweist aus der Gruppe Titan, Niob, Hafnium, Zirkonium, Tantal.

Das Unterlagenschichtsystem weist insbesondere eine erste Unterlagenschicht in Form einer metallischen Legierungsschicht auf umfassend die chemischen Elemente Titan und Niob, insbesondere 20 - 50 Gew.-% Niob und Rest Titan.

Das Unterlagenschichtsystem weist insbesondere eine zweite Unterlagenschicht auf umfassend mindestens ein chemisches Element aus der Gruppe Titan, Niob, Zirkonium, Hafnium, Tantal und weiterhin mindestens ein nichtmetallisches Element aus der Gruppe Stickstoff, Kohlenstoff, Bor, Fluor.

Das Unterlagenschichtsystem weist in einer besonders bevorzugten Ausführungsform eine zweite Unterlagenschicht umfassend die chemischen Elemente

a) Titan, Niob und weiterhin Kohlenstoff und Fluor auf, oder

b) Titan, Niob und weiterhin Stickstoff auf, ist insbesondere aus (Ti67Nb33)No,8-i ,i ge- bildet.

Die zweite Unterlagenschicht ist bevorzugt zwischen der ersten Unterlagenschicht und der Deckschicht angeordnet.

Die zweite Unterlagenschicht kann weiterhin bis zu 5 At.-% Sauerstoff enthalten.

Der weitere Vorteil in der Wahl einer multinären Verbindung für die erfindungsgemäße Schicht bzw. die Deckschicht liegt darin, dass sie unter hohen anodischen Spannun- gen bis zu 3500 mV gegenüber einer Normalwasserstoffelektrode oder in Gegenwart von Wasserstoffperoxid bzw. Ozon zwar Oxide ausbildet, allerdings sind diese elektrisch leitfähig und selbst heilend. Sie neigen zur Bildung inerter und leitfähiger Mischoxid-Schichten mit der zweiten Unterlagenschicht. Die erfindungsgemäße Bipolarplatte umfasst ein metallisches Substrat und ein zumindest in Teilbereichen der Oberfläche des Substrats aufgebrachtes erfindungsgemäßes Schichtsystem. Insbesondere ist das Schichtsystem auf einer oder beiden Seiten des plattenförmigen Substrats vollflächig aufgebracht. Das metallische Substrat ist insbesondere aus Stahl oder Titan, bevorzugt aus Edelstahl, gebildet. Eine Dicke des Substrats beträgt bevorzugt weniger als 1 mm und ist insbesondere gleich 0,5 mm.

Eine erfindungsgemäße Brennstoffzelle, insbesondere eine Polymerelektrolytbrennstoffzelle, umfassend mindestens eine erfindungsgemäße Bipolarplatte, hat sich als besonders vorteilhaft hinsichtlich der elektrischen Werte und der Korrosionsbestän- digkeit erwiesen. Eine solche Brennstoffzelle weist daher eine hohe Lebensdauer von mehr als 10 Jahren oder mehr als 5000 Kfz-Betriebsstunden auf.

Mit einem erfindungsgemäßen Elektrolyseur, der mit umgekehrtem Wirkprinzip im Hinblick auf eine Brennstoffzelle arbeitet und mit Hilfe elektrischen Stroms eine chemische Reaktion, also eine Stoffumwandlung, herbeiführt, sind vergleichbar hohe Lebensdauern erreichbar. Insbesondere handelt es sich bei dem Elektrolyseur um einen zur Wasserstoffelektrolyse geeigneten. Vorteilhafterweise ist eine Dicke der erfindungsgemäßen Schicht von weniger als 10 nm ausreichend, um vor einer widerstandserhöhenden Oxidation der zweiten Unterlagenschicht zu schützen. Zur Ausbildung eines gesicherten Korrosionsschutzes, sind Teilschichten des Unterlagenschichtsystems aus zumindest einem Refraktärme- tall ausgebildet, welche zumindest zweilagig auf dem Stahl, insbesondere Edelstahl, appliziert sind, und zwar zunächst als Metall- bzw. Legierungsschicht (= erste Unterlagenschicht) und dann als Metalloidschicht (= zweite Unterlagenschicht). Die mit Hilfe der Zweilagigkeit ausgebildete Doppelschicht unter der erfindungsgemäßen Schicht sorgt einerseits für eine elektrochemische Anpassung an ein Trägermaterial, also das Material, aus welchem der Träger ausgebildet ist, und andererseits wird Porenbildung auf Grund von Oxidations- und Hydrolyseprozessen ausgeschlossen.

Die elektrochemische Anpassung an das Trägermaterial ist notwendig, da sowohl die Metalloidschicht (= zweite Unterlagenschicht) als auch die erfindungsgemäße Schicht bzw. die Deckschicht, sehr edel sind. Bei Porenbildung würden sich hohe Lokalelementpotentiale mit der Folge unzulässiger Korrosionsströme aufbauen. Die metallische erste Unterlagenschicht ist aus vorzugsweise Titan oder Niob oder Zirkonium oder Tantal oder Hafnium oder aus Legierungen dieser Metalle gebildet, die unedler sind als das Trägermaterial in Form von Stahl, insbesondere Edelstahl, und reagieren zunächst bei Korrosionsvorgängen zu nicht löslichen Oxiden bzw. voluminösen teils gelartigen Hydroxoverbindungen dieser Refraktärmetalle. Hierdurch wachsen die Poren zu und schützen das Grundmaterial vor Korrosion. Der Vorgang stellt eine Selbstheilung des Schichtsystems dar. Insbesondere eine zweite Unterlagenschicht in Form einer nitridischen Schicht dient als Wasserstoffbarriere und schützt somit das Substrat, insbesondere aus Edelstahl, der Bipolarplatte als auch die metallische erste Unterlagenschicht vor einer

Wasserstoffversprödung. Weitere Vorteile, Merkmale und Einzelheiten der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele und der Figur. Die vorstehend in der Beschreibung genannten Merkmale und Merkmalskombinationen sind nicht nur in der jeweils angegebenen Kombination, sondern auch in anderen Kombinationen oder in Alleinstellung verwendbar, ohne den Rahmen der Erfindung zu verlassen.

Die Figur zeigt eine Bipolarplatte 1 umfassend ein Substrat 2 aus Edelstahl und ein vollflächig auf einer Seite des Substrats 2 aufgebrachtes Schichtsystem 3. Das

Schichtsystem 2 umfasst eine Deckschicht 3a und ein Unterlagenschichtsystem 4 umfassend eine erste Unterlagenschicht 4a und eine zweite Unterlagenschicht 4b.

In einem ersten Ausführungsbeispiel ist ein metallisches Substrat 2 in Form eines Kon- duktors, hier für eine Bipolarplatte 1 einer Polymerelektrolytbrennstoffzelle zur Umsetzung von (reformiertem) Wasserstoff, aus einem Edelstahl, insbesondere aus einem so genannten authentischen Stahl mit sehr hoher bekannter Anforderung bzgl. Korrosionsbeständigkeit, z.B. mit der DIN ISO Werkstoffnummer 1 .4404, hergestellt. Mittels eines Beschichtungsverfahrens, beispielsweise einem vakuumbasierten Be- schichtungsverfahrens (PVD), wird ein erfindungsgemäßes Schichtsystem 3 auf dem Substrat 2 der Bipolarplatte 1 ausgebildet, wobei das Substrat 2 in einem Verfahrensdurchgang zunächst mit einer ersten Unterlagenschicht 4a in Form einer 1 ,5 pm dicken Titanschicht, anschließend mit einer etwa gleich dicken zweiten Unterlagen- schicht 4b in Form einer Titannitridschicht und abschließend mit einer Deckschicht 3a in Form einer 25 nm dicken Titan-Iridium-Nitrid-Schicht beschichtet wird. Die Deckschicht 3a entspricht einer einseitig offenen Schichtlage, da nur eine Deckschichtfläche einer weiteren Schicht, hier der zweiten Unterlagenschicht 4b, diese kontaktierend ausgebildet ist. Somit ist die freie Oberfläche 30 der Deckschicht 3a in einer Brenn- stofffzelle einem Elektrolyten, insbesondere einem Polymerelektrolyten, unmittelbar angrenzend angeordnet und ausgesetzt.

In einem zweiten Ausführungsbeispiel wird das metallische Substrat 2 für die Bipolarplatte 1 zunächst mit einer ersten Unterlagenschicht 4a in Form einer metallischen Legierungsschicht in einer Dicke von mehreren 100 nm beschichtet, wobei die metallische Legierungsschicht die Zusammensetzung Tio.9 Nbo.1 aufweist. Anschließend erfolgt eine weitere Auftragung einer zweiten Unterlagenschicht 4b mit einer Dicke von weiteren mehreren 100nm der Zusammensetzung Tio.9 Nbo.1 Ni -X . Darauf wird eine Deckschicht 3a in der Dicke von mehreren nm in der Zusammensetzung (Ti, Nb- lr)Ni-5 aufgetragen.

Der Vorteil ist eine außergewöhnlich hohe Stabilität gegen Oxidation der erfindungsgemäßen Bipolarplatte 1 . Selbst bei einer dauerhaften Belastung von +3000 mV ge- genüber einer Normalwasserstoffelektrode wird in schwefelsaurer Lösung, welche einen pH-Wert von 3 aufweist, keine Widerstandserhöhung festgestellt. Von besonderem Vorteil scheint zu sein, wenn sich im Betrieb einer Brennstoffzelle eine Deckschicht 3a der Zusammensetzung (Tio.9 Nbo.i ΐΓ ν )Νι Ο φ ausbildet, die eine vergleichsweise hohe Restleitfähigkeit besitzt und mit Iridium (Ir) unter hoher anodischer Belastung zu einem stabilen quaternären Mischoxid reagiert. Äußerlich bleibt die freie Oberfläche 30 der Deckschicht 3a, somit die vom Substrat 2 abgewandt ausgebildete Fläche der Deckschicht 3a, selbst nach 50h Dauerbelastung bei +2000 mV im Vergleich zu einer Normalwasserstoffelektrode, silberglänzend. Selbst in einer Rasterelektronenmikroskop-Untersuchung sind keine sich durch die Dicke der Deckschicht 3a zum Substrat 2 hin erstreckenden oder das Substrat 2 erreichende Korrosionsspuren erkennbar.

Die erfindungsgemäße Deckschicht 3a des zweiten Ausführungsbeispiels ist sowohl mittels der Sputtertechnik als auch mittels eines kathodischen ARC- Beschichtungsverfahren, auch Vakuumlichtbogenverdampfen genannt, applizierbar. Trotz einer höheren Dropletsanzahl, mit anderen Worten, einer im Vergleich zur Sput- tertechnologie gesteigerten Metalltröpfchenanzahl, weist auch die im kathodischen ARC-Verfahren hergestellte erfindungsgemäße Deckschicht 3a die vorteilhaften Eigenschaften hoher Korrosionsbeständigkeit bei zeitstabiler Oberflächenleitfähigkeit, der mittels der Sputtertechnik hergestellten erfindungsgemäßen Deckschicht 3a auf.

In einem dritten Ausführungsbeispiel ist das erfindungsgemäße Schichtsystem 3 auf einem Substrat 2 in Form eines strukturierten Edelstahllochblechs ausgebildet. Das Substrat 2 ist vor einer Auftragung eines Schichtsystems 3 in einem H2SO 4 H3PO4-Bad elektrolytisch poliert worden. Nach Aufbringung einer einzelnen Unterlagenschicht in Form einer mehrere 1000 nm dicken Tantalcarbidschicht wird eine Deckschicht 3a in Form einer mehrere 100 nm dicken Iridiumcarbidschicht aufgebracht. Der Vorteil der aus dem Tantalcarbid ausgebildeten Unterlagenschicht besteht nicht nur in ihrer außerordentlichen Korrosionsbeständigkeit sondern auch darin, dass sie keinen Wasserstoff aufnimmt und dem Substrat 2 somit als Wasserstoffbarriere dient. Dieses ist insbesondere von Vorteil, sofern Titan als Substratmaterial verwendet wird.

Das erfindungsgemäße Schichtsystem 3 des dritten Ausführungsbeispiels ist geeignet für einen Einsatz einer Elektrolysezelle zur Erzeugung von Wasserstoff bei Stromdichten i, die größer als 500 mA cm -2 sind. Der Vorteil der im Schichtsystem zwischenliegenden und/oder beidseitig geschlossenen Metalloidschicht bzw. der zweiten Unterlagenschicht, die im einfachsten Fall beispielsweise aus Titannitrid gebildet ist, ist ihr niedriger elektrischer Widerstand von 10- 12 mQ cm -2 . Ebenso kann die erfindungsgemäße Schicht bzw. Deckschicht unter möglicher Widerstandserhöhung auch ohne eine zweite Unterlagenschicht bzw. Me- talloidschicht ausgebildet sein.

In Tabelle 1 sind beispielhaft einige Schichtsysteme mit ihren charakteristischen Werten dargestellt.

In Tabelle 1 sind nur einige exemplarische Schichtsysteme dargestellt. Vorteilhafterweise weisen die erfindungsgemäßen Schichtsysteme bei einer anodischen Belastung von +2000 mV gegenüber Normalwasserstoffsäule in schwefelsaurer Lösung bei einer Temperatur mit einem Wert von 80 °C über mehrere Wochen keine Widerstandserhöhung auf. Die im Hochvakuum mittels eines Sputter- oder ARC-Verfahrens oder im Feinvakuum mittels PECVD-Verfahren (Plasmaunterstütztes chemisches Gasphasen- abscheideverfahren) aufgebrachten Schichtsysteme waren nach dieser Belastungszeit teilweise dunkel verfärbt. Allerdings traten keine sichtbaren Korrosionserscheinungen oder signifikante Veränderungen der Oberflächenwiderstände auf.

Bezugszeichenliste Bipolarplatte

Substrat

Schichtsystem

a Deckschicht

Unterlagenschichtsystem

a erste Unterlagenschicht

b zweite Unterlagenschicht

0 freie Oberfläche