Die Erfindung betrifft einen Schichtkörper, insbesondere einen mit zwei Lagen elektrisch leitender Funktionsschichten, sowie ein Verfahren zur Herstellung und eine Verwendung dieses Schichtkörpers beispielsweise in einem Touchscreen mit einer verbesserten Auflösung.

Aus der DE 10 2009 014 757 ist eine elektrische Funktions ^¬ schicht bekannt, bei der leitfähige, nicht transparente Bah ^¬ nen auf der Oberfläche eines transparenten Trägers ein Muster bildend so angeordnet sind, dass die Funktionsschicht trans- parent für das menschliche Auge ist und trotzdem elektrisch leitfähig ist.

Nachteilig an einem Schichtkörper mit nur einer elektrischen Funktionsschicht ist, dass hier die Detektion nur in eine Richtung möglich ist. Es besteht daher der Bedarf an Schichtkörpern, die zwei Lagen elektrischer Funktionsschichten, beispielsweise in einem Winkel im Bereich von 85° bis 95° in einem Schichtaufbau gestapelt kombiniert haben. Bei der Verwendung von Gitterstrukturen kommt es aufgrund der Gitter und einer ungewollten nicht ganz passgenauen Überlagerung im Schichtkörper aufgrund des bekannten Moiree Effektes zu unterschiedlichen Absorptionen oder Helligkeiten des Schichtkörpers (siehe Figur 3) . Es besteht die Gefahr, dass die Transparenz der an sich für das menschliche Auge unsicht ^¬ baren Gitterstrukturen der Leiterbahnen durch den Moiree Effekt im Schichtaufbau ganz verloren geht. Eine ausreichend passgenaue Überlagerung zur Vermeidung von Moiree Effekten der Gitterstrukturen ist nur sehr kostspielig realisierbar und nicht wirtschaftlich, da bereits geringste Abweichungen der überlagerten Gitterstrukturen, wie beispielsweise eine Abweichung von nur ΙΟμπι zum Moiree Effekt führen können.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, einen Aufbau für einen Schichtkörper und insbesondere eine Anordnung von Leiterbahnen auf einem transparenten Träger anzugeben, wie transparente elektrisch leitfähige Funktionsschichten mit nicht transparenten Leiterbahnen zumindest in einem Schichtaufbau von zwei Lagen massenfertigungstauglich herstellbar sind, ohne dass der Moiree Effekt die Transparenz des

Schichtkörpers beeinträchtigt oder zerstört.

Lösung der Aufgabe und Gegenstand der Erfindung ist in der vorliegenden Beschreibung, den Ansprüchen und den Figuren offenbart . Dementsprechend ist Gegenstand der Erfindung ein Schichtkör ^¬ per, zumindest zwei Lagen elektrisch leitfähiger und transparenter Funktionsschichten mit leitfähigen, nicht transparenten Leiterbahnen auf zumindest einem transparentem Träger so umfassend, dass einzelne, Leiterbahnen oder Gitterstrukturen aus Leiterbahnen einer ersten Lage beim Schichtaufbau Kreuzungsbereiche mit einzelnen Leiterbahnen oder Gitterstruktu ^¬ ren der zweiten Lage bilden, wobei zumindest eine der zwei Lagen eine Gitterstruktur aus Leiterbahnen aufweist, die eine Abweichung in der Periodiziztät , insbesondere eine nicht- periodische, also unregelmäßige Abweichung in der Periodizi ^¬ tät der Gitterstruktur hat und insbesondere wobei zumindest eine der zwei Lagen eine Gitterstruktur aus Leiterbahnen aufweist, die aperiodisch ist. Die Periodizität einer Gitterstruktur ist der Abstand, in dem zueinander parallele und ungefähr gleichstarke oder gleichdicke Linien im Gitter auftreten oder wiederkehren. Vorzugsweise sind zwei oder mehr erste der Leiterbahnen des Leiterbahnmusters im Wesentlichen parallel zueinander ange ^¬ ordnet und / oder verlaufen im Wesentlichen in Längsrichtung des jeweiligen Leiterbahnsegments. Unter im Wesentlichen parallel zueinander angeordneten Leiterbahnen werden Leiterbah- nen verstanden, deren Beabstandung innerhalb einer Schwankungsbreite von +/- 25 % konstant ist. Unter im Wesentlichen in Längsrichtung des jeweiligen Leiterbahnsegments verlaufenden Leiterbahnen werden Leiterbahnen verstanden, deren mittlere Längsachse um nicht mehr als 30° von der mittleren

Längsachse des Leiterbahnsegments abweicht.

Es ist jedoch auch möglich, dass zwei oder mehr der ersten Leiterbahnen im Wesentlichen parallel zueinander angeordnet sind, jedoch nicht in Längsrichtung des jeweiligen Elektro- densegments verlaufen.

Die Gitterkonstante gibt dabei den konkreten Wert des Ab- stands und/oder der Linienstärke vor. Vorliegend werden die Linien durch nicht transparente Leiterbahnen auf einem transparenten Träger gebildet. Die Gitterstruktur kann die Oberfläche des gesamten transparenten Trägers einnehmen, sie wird dann als flächig bezeichnet, sie kann aber auch nur einzelne Bereiche des Trägers bedecken, wobei dann durch die Bereiche mit Gitterstrukturen, so genannten Leiterbahnsegmenten, auf dem Träger gegebenenfalls eine übergeordnete Gitterstruktur aus Leiterbahnsegmenten aufgebaut ist. Die Aperiodizität der Gitterstruktur kann sowohl selbst wieder periodisch als auch zufällig oder quasi-zufällig bis hin zu statistisch verteilt sein. Nach einer vorteilhaften Aus führungs form weisen die zueinander parallel verlaufenden Leiterbahnlinien keinen geradlinigen, sondern einen wellenlinienförmigen und insbesondere einen sinusförmigen Verlauf auf. Vorzugsweise beträgt die Periode der Wellenfunktion bzw. der Sinusfunktion zwischen 500μπι und 3000μπι, weiter bevorzugt zwischen ΙΟΟΟμπι und 1500μπι. Die Amplituden der Wellen- bzw. Sinusfunktion beträgt vorzugsweise zwischen 50μπι und ΙΟΟΟμπι, weiter bevorzugt zwischen 150μπι und 300μπι.

Die Erfindung betrifft sowohl die Ausführungsform, bei der die Leiterbahnen, leitfähigen Bereiche oder Leiterbahnsegmente selbst aus Gitterstrukturen, so genannter Netze nicht transparenter Leiterbahnen aufgebaut sind, als auch die Aus- führungsform, bei der eine Gitterstruktur aus herkömmlichen

Leiterbahnen wie beispielsweise einer Verdrahtung, die gesamte Fläche des transparenten Trägers überziehen. Bevorzugt sind die Leiterbahnen aus den oben genannten transparenten Leitern aufgebaut, also aus Netzstrukturen nicht- transparenter, dünnster, beispielsweise 0,5μπι bis 40 μπι dünner, Leiter, die auf einem transparenten Träger angeordnet sind. Diese Leiterbahnen werden in der DE 10 2009 014 757 offenbart . Es ist zumindest eines der beiden Leiterbahnsegmente der den Schichtaufbau bildenden beiden Lagen nicht vollflächig ausgebildet, sondern in Form einer Gitterstruktur aus Leiterbahnen, also strukturiert ausgebildet. Es ist jedoch auch möglich, dass zwei oder mehr der ersten Leiterbahnen im Wesentlichen parallel zueinander angeordnet sind, wobei sie nicht im 90° Winkel zu den Anschlußelektroden verlaufen .

Dabei kann gegebenenfalls noch eine statistische Verteilung nicht transparenter zweiter Leiterbahnen, die keine Gitterstruktur bilden, auf der Fläche des transparenten Trägers, beispielsweise als Querstege zwischen den ersten Leiterbahnen, vorgesehen sein (siehe Figuren 14 bis 17) . Gemäß einem weiteren bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung weist das Leiterbahnmuster zwei oder mehr zweite Leiterbahnen auf, welche als Querstege ausgebildet sind. Diese Querstege verbinden bevorzugt zwei benachbarte erste Leiter ^¬ bahnen miteinander, d. h. zwei benachbarte Leiterbahnen mit- einander, welche im Wesentlichen parallel zueinander angeordnet sind. Bevorzugt verbindet jeder Quersteg lediglich zwei Leiterbahnen. Die Querstege verbinden die beiden benachbarten ersten Leiterbahnen in regelmäßigen oder unregelmäßigen Abständen. Die Querstege verlaufen bevorzugt senkrecht zur Ver- laufsrichtung der beiden benachbarten ersten Leiterbahnen.

Durch eine derartige Anordnung von Leiterbahnen in dem Leiterbahnmuster wird zum Einen der bereits oben beschriebene Vorteil erzielt, den Ausschuss im Herstellungsprozess zu ver- ringern und ein besonders robustes und kostengünstigen

Schichtkörper bereitzustellen. Im Weiteren wird hierdurch - insbesondere auch bei einer unregelmäßigen Anordnung der Querstege und der Verwendung von Querstegen, welche lediglich zwei benachbarte Leiterbahnen verbinden, der Vorteil erzielt, eine besonders gleichmäßige Leitfähigkeit über den Bereich des jeweiligen Leiterbahnsegments zu erzielen. Die Querstege sind zumindest bereichsweise unregelmäßig im Leiterbahnmuster verteilt und ergeben so eine Abweichung in der Periodizität, die sich durch die gleichmäßig parallele Anordnung der Leiterbahnen eventuell ergänzt und dadurch eine in Bereichen gleichmäßige Anordnung von Querstegen ergibt.

Als Schichtkörper wird vorliegend ein aus mehreren Schichten aufgebauter Körper, also ein Schichtstapel, auf einem oder zwischen mehreren Träger bezeichnet, der beispielsweise vor einem Display als Touchscreen angeordnet sein könnte. Im

Schichtkörper wechseln sich beispielsweise elektrisch leitfähige und transparente Funktionsschichten mit isolierenden Funktionsschichten ab. Die Basis eines Schichtkörpers bildet beispielsweise ein transparenter Träger, auf dem einseitig oder zweiseitig Leiterbahnen vorgesehen sind.

Als elektrisch leitfähige und transparente Funktionsschicht wird vorliegend beispielsweise eine Funktionsschicht bezeich ^¬ net, wie sie aus der DE 10 2009 014 757 bekannt ist. Diese Funktionsschicht kann einen variablen Flächenanteil an Bele ^¬ gung mit nicht transparenten Leiterbahnen haben. Beispielsweise ist die Fläche der Funktionsschicht zu 20%, bevorzugt zu 10% und insbesondere bevorzugt zu 7% mit nicht transparen ^¬ ten Leiterbahnen belegt.

Bevorzugt wird hierbei die Beabstandung der Leiterbahnsegmente, also der Leiterbahnen der jeweils ersten Leiterbahnen des Leiterbahnmusters im Bereich zwischen 10 μπι bis 5 mm, bevorzugt zwischen 300 μπι bis 1 mm gewählt.

Die Leiterbahnsegmente besitzen vorzugsweise eine Breite zwi ^¬ schen 500 μπι und 15 mm.

Im Bereich der Abweichung von der Periodizität der Gitter- struktur der elektrisch leitfähigen Funktionsschicht ist die Belegung der Funktionsschicht mit nicht transparenter Leiter- bahn größer, kleiner oder gleich der Belegungsdichte außerhalb des Bereichs.

Die Breite der Leiterbahnen kann ebenso variieren. Beispiels- weise ist die Breite einer nicht transparenten Leiterbahn kleiner 40μπι, bevorzugt kleiner 30μπι und insbesondere bevorzugt kleiner 20 μπι.

Der Abstand der Leiterbahnen voneinander in der Gitterstruk- tur kann je nach Aus führungs form variieren, so ist beispielsweise in der Funktionsschicht ein Abstand der Leiterbahnen untereinander von mindestens ΙΟΟμπι, vorzugsweise von minde ^¬ stens 300μπι verwirklicht. Die Dicke der nicht transparenten Leiterbahn auf dem transparenten Träger liegt bevorzugt unter 250 nm, insbesondere un ^¬ ter 200nm und ganz bevorzugt unter lOOnm.

Die nicht transparenten Leiterbahnen sind beispielsweise aus Metall oder einer Legierung. Gut leitfähige und beispielswei ^¬ se auch durch Drucken verarbeitbare Metalle wie Kupfer, Sil ^¬ ber, Aluminium und/oder Chrom können hier eingesetzt werden.

Der transparente Träger ist beispielsweise aus transparentem Kunststoff wie Polyethylen, Polycarbonat und/oder Polyamid, sowie beliebigen Mischungen daraus.

Als transparenter Träger kann auch eine Kunststoff-Folie, beispielsweise eine PET-Folie mit einer Schichtdicke zwischen 18μπι und 450μπι eingesetzt werden.

Nach einer vorteilhaften Aus führungs form ist der - vertikale - Abstand der beiden leitfähigen und auf dem zumindest einen Träger liegenden Funktionsschichten innerhalb des Schichtkör- pers beispielsweise kleiner 30μπι, bevorzugt kleiner 25μπι und insbesondere bevorzugt kleiner ΙΟμπι. Vorzugsweise sind die Leiterbahnsegmente des Leiterbahnmu ^¬ sters elektrisch parallel zueinander verschaltet.

Als Lage elektrisch leitfähiger und transparenter Funktionsschicht mit nicht transparenten Leiterbahnen auf einem transparenten Träger, der in der Regel als transparente Folie aus ^¬ gebildet ist, wird einfach die Anordnung einer solchen Funktionsschicht innerhalb oder als Basis des Schichtkörpers ver ^¬ standen .

Nach einer Aus führungs form der Erfindung ist die Abweichung in der Periodizität der Gitterstruktur auf den Bereich der Kreuzungsbereiche sowie den Randbereich der Kreuzungsbereiche der beiden übereinander angeordneten Lagen beschränkt.

Nach einer vorteilhaften Aus führungs form ist die Abweichung in der Periodizität derart realisiert, dass einzelne Leiter ^¬ bahnen an den Kreuzungsbereichen unterbrochen oder verjüngt (also dünner) oder gepunktet, also unterbrochen oder auslaufend realisiert sind, aber dafür entsprechende Leiterbahnen, die in der Periodizität der Gitterstruktur aber auf der zweiten Ebene oder Lage liegen, die Gitterstruktur zur vollen Periodizität in Anzahl und Stärke der Leiterbahnen vervollständigen .

Die Kreuzungsbereiche können auch durch Durchkontakte verbun ^¬ den sein.

Dabei sind die Durchkontakte beispielsweise nur einfache Strukturen oder Löcher in den, die beiden Lagen leitfähiger Funktionsschichten im Schichtkörper trennenden, Isolationsschichten .

Dabei zeigt sich, dass die geringe Toleranz in der passgenau ^¬ en Überlappung, die zu Moiree-Effekten führt, unwichtig wird, wenn die Gitter sich auf verschiedenen Ebenen nur jeweils zum Ganzen ergänzen. Die dafür nötige Passgenauigkeit ist mit kommerziellen Herstellungsmethoden realisierbar und damit wirtschaftlich .

Nach einer besonderen Aus führungs form ist die Aperiodizität der Gitterstruktur nicht abrupt, sondern es gibt ein Randgebiet, in dem ein fließender Übergang zwischen den die Aperiodizität ausmachenden Leiterbahnanordnungen und/oder Leiterbahnformen gegeben ist (Figuren 6 bis 9 unten) . Nach einer vorteilhaften Aus führungs form wird die Gitterstruktur einer der beteiligten Funktionsschichten beispielsweise wie folgt realisiert: An den Kreuzungsbereichen wird die Periodizität der Gitterstruktur halbiert, an den Berei ^¬ chen außerhalb der Kreuzungsbereiche wird die gesamte Gitter- struktur realisiert und der Randbereich der Kreuzungsbereiche bildet einen Übergangsbereich, in dem die Hälfte der Leiterbahnen endet (siehe Figuren 8 bis 12) . Eine Aperiodizität er ^¬ gibt sich dann dadurch, dass die Bereiche, in denen die Git ^¬ terstruktur halbiert vorliegt, nicht gleichmäßig über die Fläche der Lage verteilt, also periodisch, vorliegen.

Vorzugsweise weisen die Leiterbahnsegmente der ersten

und/oder zweiten Lage im Bereich des Kreuzungspunktes mehr als 4 und insbesondere mehr als 6 Leiterbahnen auf, vorzugs- weise zwischen 4 und 16 Leiterbahnen auf.

Bei einer weiteren Aus führungs form der Erfindung ist in einem aktiven Bereich des Schichtkörpers die mittlere Flächenbele ^¬ gung bezogen auf einen Flächenbereich von 5 mm x 5 mm, insbesondere 3 x 3 mm, weiter bevorzugt l x l mm, weiter bevorzugt 0,5 x 0,5 mm, weiter bevorzugt 0,3 x 0,3 mm der ersten und/oder zweiten Lage und/oder Leiterbahnsegmente mit den Leiterbahnen, insbesondere mit den Leiterbahnen der Gitterstruktur, konstant. Nach einer weiteren vorteilhaften Aus führungs form der Erfindung ist in einem aktiven Bereich des Schichtkörpers die mittlere Flächenbelegung der Projektion der Leiterbahnen der ersten und zweiten Lage auf eine parallel zur ersten und zweiten Lage angeordnete Grundebene in Bezug auf einen Flä ^¬ chenbereich von 5 mm x 5 mm, insbesondere 3 x 3 mm, weiter bevorzugt l x l mm, weiter bevorzugt 0,5 x 0,5 mm, weiter bevorzugt 0,3 x 0,3 mm konstant.

Nach einer weiteren vorteilhaften Aus führungs form der Erfindung ist die mittlere Flächenbelegung der Projektion der Leiterbahnen der ersten und zweiten Lage auf eine parallel zur ersten und zweiten Lage angeordnete Grundebene beim Verschie ^¬ ben der Gitterstrukturen aus Leiterbahnen der ersten Lage und der Gitterstrukturen aus Leiterbahnen der zweiten Lage um eine Länge von nicht mehr als 5mm, insbesondere um nicht mehr als 3mm und bevorzugt um nicht mehr als 1 mm und/oder beim Verdrehen um einen Winkel von nicht mehr als 10° insbesondere um nicht mehr als 5° und insbesondere um nicht mehr als 3 ° konstant .

Nach einer weiteren bevorzugten Aus führungs form der Erfindung ist die Gitterstruktur aus Leiterbahnen über den gesamten aktiven Bereich des Schichtkörpers, über das gesamte Leiter ^¬ bahnsegment oder bereichsweise aperiodisch.

Nach einer weiteren bevorzugten Aus führungs form der Erfindung verbinden die im Wesentlichen parallel zueinander angeordneten ersten Leiterbahnen eine Vielzahl von zweiten Leiterbahnen .

Nach einer Aus führungs form der Erfindung beträgt die von den zweiten Leiterbahnen belegte Fläche weniger als 50, insbesondere weniger als 30, insbesondere weniger als 10 % der von den ersten Leiterbahnen und den zweiten Leiterbahnen belegten Fläche .

Nach einer nächsten Aus führungs form der Erfindung sind die zweiten Leiterbahnen zufällig oder quasi zufällig angeordnet, insbesondere zufällig oder quasi zufällig voneinander beab ^¬ standet angeordnet. Dabei kann es insbesondere vorgesehen sein, dass die zweiten Leiterbahnen im Wesentlichen parallel zueinander angeordnet sind. Insbesondere können die zweiten Leiterbahnen und die ersten Leiterbahnen einen Winkel zwischen 80 Grad und 100 Grad, insbesondere zwischen 85 Grad und 95 Grad miteinander einschließen.

Nach einer weiteren Aus führungs form der Erfindung ist das

Leiterbahnmuster eines Leiterbahnsegments so gestaltet, dass der Azimuthwinkel der ersten Leiterbahnen gemäß einer Funktion, insbesondere gemäß einer periodischen Funktion variiert ist .

Nach einer weiteren Aus führungs form der Erfindung sind die ersten Leiterbahnen parallel zu einer ersten Vorzugsrichtung und/oder die jeweils über eine Periode gemittelte Richtung der ersten Leiterbahnen parallel zu einer ersten Vorzugsrich- tung orientiert. Die Vorzugsrichtung kann dabei parallel zur Länge des Leiterbahnsegments verlaufen, oder in einem Winkel im Bereich von 85° bis 95° dazu, sowie in jedem anderen beliebigen Winkel zur Länge des Leiterbahnsegments und/oder zur Anschlusselektrode .

Dabei kann die Spatialfrequenz, Amplitude und/oder Phase der den Azimuthwinkel der ersten Leiterbahnen variierenden Funktion in einem ersten Abschnitt gegenüber einem benachbarten Abschnitt unterschiedlich gewählt sein, wobei die Differenz zwischen der Spatialfrequenz, Amplitude bzw. Phase des ersten Abschnitts und des benachbarten Abschnitts zwischen 4% und 8 %, insbesondere weniger als 10 %, beträgt.

Die ersten und/oder die zweiten Leiterbahnen die die Gitter- struktur, also auch das Leiterbahnmuster bilden, können jeweils oder gleichzeitig so gestaltet sein, dass eine Vielzahl von ersten und zweiten Abschnitten aufeinander folgen und die Differenz zwischen der Spatialfrequenz, Amplitude und/oder Phase der Funktion aufeinander folgender erster und zweiter Abschnitte der Leiterbahnen zufällig oder quasi zufällig ge ^¬ wählt ist.

Eine vorteilhafte Aus führungs form der Erfindung sieht vor, dass die erste Lage und die zweite Lage eine Gitterstruktur aus Leiterbahnen aufweisen und insbesondere sowohl die Gitterstruktur aus Leiterbahnen der ersten Lage als auch die Gitterstruktur aus Leiterbahnen der zweiten Lage aperiodisch ist .

Nach einer vorteilhaften Ausführung der Erfindung ist vorgesehen, dass die Gitterstruktur aus Leiterbahnen der ersten Lage eine Vielzahl von im Wesentlichen parallel angeordneten ersten Leiterbahnen und eine Vielzahl von zweiten Leiterbah- nen hat, die Querleiterbahnen sind, die jeweils zwei oder mehrere der ersten Leiterbahnen verbindet, und dass die Git ^¬ terstruktur aus Leiterbahnen der zweiten Lage eine Vielzahl von im Wesentlichen parallel angeordneten ersten Leiterbahnen und eine Vielzahl von zweiten Leiterbahnen hat, die Querlei- terbahnen sind, die jeweils zwei oder mehrere der ersten Lei ^¬ terbahnen der zweiten Lage verbindet.

Weiterhin kann es vorgesehen sein, dass die ersten Leiterbah- nen und/oder Leiterbahnsegmente der ersten Lage und die er ^¬ sten Leiterbahnen und/oder Leiterbahnsegmente der zweiten Lage zumindest bereichsweise jeweils einen Schnittwinkel zwi- sehen 85° und 95° zueinander aufweisen, insbesondere die Vorzugsrichtung der ersten Leiterbahnen und/oder Leiterbahnsegmente der ersten Lage und die Vorzugsrichtung der ersten Leiterbahnen und/oder Leiterbahnsegmente der zweiten Lage einen Winkel zwischen 85° und 95° zueinander aufweisen.

Beispielsweise kann auch vorgesehen sein, dass die Vorzugs ^¬ richtung der ersten Leiterbahnen der ersten und/oder zweiten Lage und/oder die Vorzugsrichtung der zweiten Leiterbahnen nicht parallel zu der Verbindungslinie zwischen den An ^¬ schlusselektroden des jeweiligen Leiterbahnsegments orientiert sind, insbesondere in etwa einen 45 Grad-Winkel zu der Verbindungsgerade der Anschlusselektroden des jeweiligen Lei- terbahnsegments einschließen.

Bei der Herstellung des Schichtkörpers kann es insbesondere vorteilhaft sein, wenn die beiden den Schichtkörper bildenden Lagen, die mit einer isolierenden Zwischenschicht auf ein Substrat auflaminiert werden, von einem einzigen bedruckten Band stammen, also beispielsweise aus dem gleichen Band he ^¬ rausgeschnitten werden. Das Band kann beispielsweise ein transparenter Träger mit einem Druck aus nicht transparenten Leiterbahnen sein, wie beispielsweise aus der DE 10 2009 014 757 bekannt. Die beiden Lagen sind dann von der Gitterstruktur her gleich und in einem Arbeitsgang herstellbar und werden beispielsweise in einem Winkel verdreht zueinander über ^¬ einander im Schichtkörper angeordnet. Bevorzugt werden die Lagen in einem Winkel zwischen 40 Grad und 50 Grad zueinander verdreht übereinander angeordnet.

Im Folgenden wird die Erfindung noch anhand von Figuren, die den Stand der Technik mit beispielhaften Aus führungs formen der Erfindung im Vergleich zeigen, näher erläutert:

Figuren 1 bis 3 zeigen den Stand der Technik,

Figur la die „stripe and bar"-Ausführung und Figur 1 b die Diamantstruktur in einer schematischen Darstellung von Teilbereichen zweier getrennter Lagen, die im

Schichtaufbau Kreuzungspunkte bilden

Figur 2a zeigt eine schematische Darstellung von Teilberei- chen zweier getrennter Lagen, die im Schichtaufbau Kreuzungspunkte bilden,

Figur 2b zeigt einen gewünschten „idealen" Kreuzungspunkt aus den Teilbereichen der Figur 2a beim Schichtaufbau

Figur 2c zeigt den realen Kreuzungspunkt aus den Teilberei- chen der Figur 2a beim Schichtaufbau nach dem Stand der Technik

Figur 3 zeigt den gemäß dem Stand der Technik entstehenden Moiree-Effekt . Figur 4 zeigt eine Aus führungs form der Erfindung mit

einer schematischen Darstellung von Teilbereichen zweier getrennter Lagen, die im Schichtaufbau Kreuzungspunkte bilden

Figuren 5 bis 8 und 10 bis 12 zeigen im Detail zu Figur 4 Beispiele für mögliche Aus führungs formen der Erfindung

Figur 9 zeigt im Überblick, wie sich der Stand der Technik (Figur 9a) von der Erfindung unterscheidet

Figur 9b zeigt im Vergleich die Aus führungs form gemäß Figur 8 Figur 9c zeigt im Vergleich die Aus führungs form gemäß Figur 7

Figur 13 zeigt im Überblick, wie sich der Stand der Technik (Figur 13a) von der Erfindung unterscheidet

Figur 13b zeigt im Vergleich die Aus führungs form gemäß Figur 12

Figur 13 c zeigt im Vergleich die Aus führungs form gemäß Figur 11

Figur 14 zeigt eine Aus führungs form der Erfindung mit

einer schematischen Darstellung von Teilbereichen zweier getrennter Lagen, die im Schichtaufbau Kreuzungspunkte bilden, wobei die Abweichung in der Periodizität statistisch verteilt ist

Figuren 15 a und b zeigen eine Aus führungs form der Erfindung mit einer schematischen Darstellung von Teilbereichen zweier getrennter Lagen, die im Schichtaufbau Kreuzungspunkte bilden

Figur 15 c zeigt einen Kreuzungspunkt, den die in Figuren 15a und 15b dargestellten Teilbereiche bilden

Figuren 16 a und b zeigen eine Aus führungs form der Erfindung mit einer schematischen Darstellung von Teilbereichen zweier getrennter Lagen, die im Schichtaufbau Kreuzungspunkte bilden

Figur 16 c zeigt einen Kreuzungspunkt, den die in Figuren 16a und 16b dargestellten Teilbereiche bilden

Figuren 17 a und b zeigen eine Aus führungs form der Erfindung mit einer schematischen Darstellung von Teilbereichen zweier getrennter Lagen, die im Schichtaufbau Kreuzungspunkte bilden

Figur 17 c zeigt einen Kreuzungspunkt, den die in Figuren 17a und 17b dargestellten Teilbereiche bilden

Figur 1 zeigt zwei grundsätzliche Realisierungsmöglichkeiten für kapazitive oder resistive zweilagige Touchscreens . Zum einen ist als Figur 1 a die Realisierung als Row and Column- Struktur (bar and stripe) von Leiterbahnsegmenten gezeigt, wobei ein Sensor, beispielsweise der Empfänger, durch dickere und dunklere waagrecht angeordnete Leiterbahnsegmente darge- stellt ist, und beispielsweise der Sender durch dünnere und senkrecht verlaufende. Die vorliegende Erfindung löst die Probleme, die nach dem Stand der Technik, wie beispielsweise in Figuren 2c und 3 gezeigt, durch den Schichtaufbau mit den jeweiligen Gitterstrukturen an den Kreuzungsbereichen entste- hen. Figur 1 b zeigt die so genannte Diamantstruktur, wobei wie ^¬ derum beispielsweise der Sender durch die waagrecht und dunk ^¬ ler dargestellten Rauten oder Diamantstrukturen dargestellt ist und in einer zweiten, darüber liegenden Lage der Empfän- ger heller und mit den Anschlusskontakten um 90° verdreht angeordnet ist. Auch hier wird durch die vorliegende Erfindung die Problematik gelöst, die sich durch Überlappung der Leiterbahnen an den Kreuzungsbereichen ergibt. Figur 2 zeigt die angesprochene Problematik im Detail. Zu er ^¬ kennen sind links die beiden noch getrennten Lagen an elektrisch leitfähiger transparenter Funktionsschicht, also Leiterbahnsegmente 6 und 7. Diese weisen jeweils erste Leiter ^¬ bahnen 8 auf, die im Rautenmuster als Gitterstruktur angeord- net sind. Die Breite der ersten Leiterbahnen 8 beträgt hierbei vorzugsweise zwischen 5μπι und 25μπι. Die ersten Leiterbahnen 8 sind vorzugsweise gemäß einem regelmäßigen 1- dimensionalen Raster angeordnet und benachbarte erste Leiter ^¬ bahnen 8 weisen zueinander einen im Wesentlichen konstanten Leiterbahnabstand vorzugsweise im Bereich zwischen ΙΟμπι und 5mm, weiter bevorzugt zwischen 300μπι und 1 mm auf.

Die Figuren 2b und 2c rechts zeigen die Anordnung der beiden Lagen im Schichtaufbau, so dass ein Kreuzungsbereich ent- steht. Dabei ist rechts oben im Bild der Idealzustand 2b zu sehen, der aber wirtschaftlich sinnvoll nicht für Touch- screens realisierbar ist und unten rechts der Realzustand 2c, der durch momentane Herstellungstechniken erreichbar ist. Die Registertoleranz oder Passgenauigkeit, mit der die beiden Gitterstrukturen übereinander zu liegen kommen, weicht einfach auch bei Auflösungen im Mikrometerbereich zu stark ab, um noch ausreichende Helligkeit und Transparenz der übereinander liegenden Lagen im Schichtkörper zu gewährleisten.

Vielmehr ist unten rechts zu erkennen, dass ein so genannter Moiree Effekt auftritt, der bei Überlagerung von Gitterstrukturen zu beobachten ist und eine deutliche Verminderung der Transparenz des Schichtkörpers an der Stelle bewirkt. Figur 3 schließlich zeigt den klassischen Moiree Effekt eines Schichtkörpers nach dem Stand der Technik, wobei hier auch noch durch eine kleine Winkelverschiebung der übereinander liegenden Lagen der Effekt verstärkt ist. An der Darstellung wird klar, dass diese Art der Überlappung nicht tolerierbar ist sondern vielmehr die Transparenz eines derartigen

Schichtkörpers aus an sich transparenten Lagen verhindert.

Figur 4 zeigt eine Möglichkeit, wie die Diamantstruktur aus Figur lb so ausgeführt werden kann, dass bei der zweilagigen Aus führungs form im Schichtaufbau tatsächlich nur die Überlappung an den Kreuzungsbereichen der Leiterbahnen und nicht auch die Verschiebung, wie in Figur 4 c zu erkennen, problematisch ist.

Figur 4a zeigt ganz klassisch die beiden Lagen der Diamantstruktur, die an sich identisch, aber um 90° verdreht zum zweilagigen Schichtkörper, beispielsweise einem Touchscreen angeordnet werden. Die Figuren 4a bis 4 c zeigen dabei den Stand der Technik und die Figuren 4 d und 4 e die Lösung gemäß vorliegender Erfindung.

Die Figuren 4 b und 4 c zeigen die beiden Anordnungen, wie die Lagen übereinander gebracht werden. Dabei ist, entspre ^¬ chend Figur 2, oben rechts zu sehen, wie der Idealfall 4b mit nahezu nicht realisierbarer Passgenauigkeit aussehen würde und unten die Darstellung der Realität 4c, wobei die einzel ^¬ nen Diamantstrukturen der beiden Lagen beim Aufbau des

Schichtkörpers größtenteils versetzt und damit mit unter ^¬ schiedlichen Abständen zueinander angeordnet sein werden. Dies würde zu einer unzumutbaren Zahl an Störfällen führen, weil einmal der Sender zum Empfänger (jeweils auf unterschiedlichen Lagen) praktisch keinen Abstand hat und einmal einen zu großen. In Figur 4 d ist vorgeschlagen, dass in einer Lage nur senkrecht verlaufende Leiterbahnen realisiert sind, während in der anderen Lage alle Diamantstrukturen, ob Sender oder Empfänger, allerdings ohne die notwendige elektrisch leitende Verbindung einer Sorte von Diamantstrukturen, wobei als „Sorte" jeweils entweder die Sender- oder die Empfänger- Diamantstrukturen gemeint sind, in einer einzigen Lage ausgeführt sind. Diese werden, wie in Figur 4e gezeigt, erst durch die zweite Lage mit den Leiterbahnen verbunden.

Die Passgenauigkeit, mit der die erste und die zweite Lage gemäß dieser Aus führungs form der Erfindung übereinander aufgebracht werden müssen ist weitaus geringer als gemäß dem Stand der Technik, bei dem die beiden Sorten der Diamantstruktur jeweils auf einer separaten Lage realisiert durch die Stapelung zum Schichtkörper zum Touchmodul laminiert werden .

Der Schichtaufbau gemäß Figur 4e reduziert somit die Proble ^¬ me, die sich beim zweilagigen Aufbau eines Touch Screens in Diamantstruktur ergeben würden, auf das Problem, das sich bei der herkömmlichen Row- und Column („stripe and bar" ) -Struktur ergibt, nämlich die Überlappung an den Kreuzungsbereichen.

Figur 5 zeigt einen Ausschnitt aus einer Lage einer transpa- renten elektrisch leitfähigen Folie mit einer Gitterstruktur aus leitfähigen Bereichen, hier als einfache, horizontal und vertikal verlaufende, Streifen gezeigt sind. Die leitfähigen Bereiche zeigen feine nicht transparente Leiterbahnen, die wiederum in einer periodischen Gitterstruktur angeordnet sind. Die Abänderung der Periodizität der Gitterstruktur am Kreuzungsbereich wird hier ganz einfach als Halbierung bzw. Verdopplung der Gitterkonstante der einzelnen feinen Leiterbahnen im Bereich der Kreuzungsbereiche ausgeführt. Durch Aufeinanderlegen ergibt sich dann das komplette Muster. Hier ist keinerlei Moiree Effekt durch Überlappung zu befürchten, weil an den Überlappungs-Stellen, also den Kreuzungsbereichen, die Hälfte der feinen Leiterbahnen fehlt. Figur 6 zeigt das gleiche Bild wie Figur 5 allerdings wird der Randbereich der Kreuzungsbereiche, dort, wo der Übergang von voller Periodizität der Gitterstruktur zur Gitterstruktur mit abweichender Periodizität stattfindet, durch angedeutete, nur durch Rahmen dargestellte, Linien gezeigt. Hier ist die Periodizität bereits abweichend von der Periodizität im ur ^¬ sprünglichen Gitter aber noch nicht so, wie die Abweichung am Kreuzungsbereich ist. Es gibt hier also 3 Bereiche mit unter- schiedlichen Mustern, zum einen die unversehrte, nicht von der Periodizität abweichende Gitterstruktur. Dann gibt es die Randbereiche, wo der Übergang von der intakten Periodizität zur abweichenden Periodizität gestaltet wird und dann die Be ^¬ reiche direkt am Kreuzungsbereich, wo die abweichende Peri- odizität glatt und im guten Gegensatz zu der nicht abweichenden Periodizität realisiert ist.

Wie ersichtlich, kann man mit abweichender Periodizität zwei Lagen auf zwei Ebenen gleich gestalten, aber man kann auch die gesamte Anzahl an redundanten Leiterbahnen in einer Lage oder Schicht weglassen und die zweite Lage unverändert las ^¬ sen. Dazwischen sind ebenfalls alle Möglichkeiten realisierbar, die hier dargestellten Beispiele stellen für den Fachmann nur ein paar von unzähligen Möglichkeiten dar. Es be- steht vollständige Gestaltungsfreiheit, wie die Abweichung von der Periodizität der Gitterstruktur an den Kreuzungsbereichen realisiert wird. Ebenso ist die Gestaltung des Rand ^¬ bereichs, wo der Übergang stattfindet, frei wählbar. Auch können herstellungstechnische Irregularitäten durch die Ge- staltung der Abweichung in der Periodizität der Gitterstruktur und/oder in der Gestaltung des Randbereichs ausgeglichen werden .

Figur 7 zeigt in Vergrößerung den Übergangs- oder Randbereich zwischen dem regulären Gitter und dem Kreuzungsbereich aus dem in Figur 6 gezeigten Beispiel. Dort findet der Übergang in den Leiterbahnen statt, wobei Figur 7 die Aus führungs form zeigt, bei der sich die Leiterbahnen langsam auflösen, indem sie als immer kleiner werdende Punkte mit immer größerem Ab ^¬ stand dargestellt sind. Es findet ein Auslaufen der Leiter ^¬ bahnen in Form von Auflösung in Symbole wie Punkte, Rechtec- ke, Quadrate, Kreise etc. statt. Die Auflösung kann zum einen dadurch erfolgen, dass hier immer größer werdende Abstände zwischen gleich groß bleibenden Symbolen realisiert werden und/oder dadurch, dass die Größe der Abstände zwischen den Symbolen sukzessive zunimmt.

Figur 8 zeigt den gleichen Ausschnitt wie Figur 7 mit dem Unterschied, dass anstelle der sich verlierenden Punkte hier die Leiterbahnen spitz zulaufend enden. Figur 9 zeigt links den Stand der Technik mit der unerwünschten Überlappung am Kreuzungsbereich 9a und rechts die beiden in Figur 7 (Bild 9c) und Figur 8 (9b) gezeigten Ausführungs ^¬ formen mit am Kreuzungsbereich abweichender Periodizität gemäß der vorliegenden Erfindung. Es ist in Figuren 9b und 9c klar zu erkennen, dass die geringe Abweichung in der passgenauen Überlappung hier nicht zu einem Moiree Effekt am Kreuzungsbereich führt und auch der Randbereich durch den Übergang keinerlei Helligkeitsstörung zeigt. Figuren 10, 11 und 12 zeigen wieder den Ausschnitt gemäß den Figuren 7 und 8, wobei hier nicht auf redundante Leiterbahnen einer Schicht oder Lage im Bereich des Kreuzungsbereiches verzichtet wird, sondern die Stärke der Leiterbahnen einfach verändert, beispielsweise sogar halbiert wird. Ebenso werden wieder verschiedene Gestaltungen der Übergangsbereiche ge ^¬ zeigt.

Die in den Figuren gezeigten Aus führungs formen sind wegen der Übersichtlichkeit Beispiele, bei denen beide Lagen so struk- turiert werden, dass die Gitterkonstante in irgendeiner Weise am Kreuzungsbereich verändert wird. Gemäß der Erfindung ist es aber ebenso gut möglich, dass nur in einer der Lagen eine Abänderung der Gitterstruktur stattfindet.

Figur 13 zeigt, analog zur Figur 9, wir sich die verschiede- nen Aus führungs formen im zweilagigen Schichtkörper optisch auswirken. Dabei zeigt Figur 13a wieder den Stand der Technik mit Moiree Effekt am Kreuzungsbereich und die Figuren 13 b und 13c zeigen Kreuzungsbereiche, die sich gemäß den in Figur 12 und 11 gezeigten Aus führungs formen beim zweilagigen Aufbau eines Schichtkörpers ergeben.

Figur 14 zeigt ein Beispiel bei dem die Abweichung in der Periodizität der Gitterstruktur statistisch verteilt und nicht mehr auf den Bereich der Kreuzungsbereiche sowie den Randbe- reich der Kreuzungsbereiche der beiden übereinander angeordneten Lagen beschränkt ist, sondern bei dem sich die Abwei ^¬ chung von der Periodizität der Gitterstruktur auf die gesamte Fläche bezieht. Dabei sind die ersten Leiterbahnen 8 mittels zweiter Leiterbahnen 9 miteinander verbunden, welche als Querleiterbahnen oder Querstege zwischen zwei benachbarten ersten Leiterbahnen 8 ausgebildet sind. Wie in Figur 14a und 14b angedeutet, werden durch die zweiten Leiterbahnen 9 die beiden benachbarten ersten Leiterbahnen 8 in unregelmäßigen, statistisch verteilten Abständen miteinander elektrisch lei- tend verbunden. An den Schnittstellen der ersten Leiterbahnen 8 und zweiten Leiterbahnen 9 sind weiter jeweils Schnittstellen 10 ausgebildet, an denen sich diese Leiterbahnen schneiden und diese Leiterbahnen miteinander galvanisch verbinden. Weiter sind gemäß Figur 14 noch Anschlusselektroden 11 vorgesehen, welche die ersten Leiterbahnen 8 miteinander kontaktieren und so damit dafür sorgen, dass die ersten Leiterbahnen 8 miteinander parallel elektrisch verbunden sind. Die Anschlusselektroden 11 befinden sich hierbei außerhalb des ak- tiven Bereichs des Schichtkörpers und besitzen vorzugsweise eine um mindestens den Faktor 10 breitere Leiterbahnbreite als die ersten Leiterbahnen 8. Dabei liegen anstelle sich kreuzender elektrisch leitfähiger Bereiche beim zweilagigen Aufbau eines Schichtkörpers mit zwei Lagen, beispielsweise transparenter elektrisch leitfähi- ger Funktionsschichten mit nicht transparenten Leiterbahnen auf einem transparenten Träger, hier nicht leitfähige Bereiche auf einem Untergrund von zueinander versetzt angeordneten vollflächigen und leitfähigen Gitterstrukturen, in denen erste Leiterbahnen 8 durch zweite Leiterbahnen 9, die stati- stisch verteilt sind, vor. Die statistische Verteilung der zweiten Leiterbahnen 9 wird hier zur Vermeidung des Moiree Effektes eingesetzt.

Gemäß Figur 14 ist die gesamte Fläche der Lage mit einer Git- terstruktur feiner nicht transparenter erster Leiterbahnen 8 überzogen. Die ersten Leiterbahnen 8 sind einfach parallel angeordnet, wobei sie zur Erzielung der flächigen Leitfähigkeit über statistisch verteilte Brücken, die die zweiten Leiterbahnen 9 bilden, verbunden sind. Es ergibt sich deshalb ein regelmäßiges Muster durchgezogener Linien, wie es eine periodische Gitterstruktur im Normalfall ist mit darin einer statistischen Verteilung von zweiten Leiterbahnen 9. Die statistische Verteilung der zweiten Leiterbahnen kann variieren beispielsweise kann sie im Verhältnis 1:3, 1:4 oder 1:5 vor- liegen.

Dieses Gitter füllt den ganzen aktiven Bereich des Schichtkörpers aus und bildet den Hintergrund für die Überstruktur, die beim Übereinanderlegen der ersten und zweiten Lage im Schichtkörper Kreuzungsbereiche bildet. Der aktive Bereich des Schichtkörpers ist der Teil des Schichtkörpers, der vor ^¬ zugsweise transparent ist und auf dem ein Display, ein Touch- modul, ein Touchscreen etc. aufgebaut wird. Die Anschluss ^¬ elektroden beispielsweise sind regelmäßig nicht in dem akti- ven Bereich des Schichtkörpers. Auf diesem Hintergrund zeigt sich die übergeordnete Gitter ^¬ struktur, die nicht durch Bereiche mit Leitfähigkeit (wie in den bisher gezeigten Beispielen) , sondern durch Bereiche ohne Leitfähigkeit, die zwischen den Leiterbahnsegmenten 6 und 7 liegen, gebildet wird. Vorliegend werden diese nicht leitfä ^¬ higen Bahnen innerhalb einer leitfähigen Fläche der Einfachheit halber manchmal auch als „Leiterbahnen" bezeichnet, die allerdings eben „Nicht-Leiterbahnen" sind, aber im Unterschied zu den echten Leiterbahnen, die elektrisch leitend und nicht transparent sind, zu begreifen sind. Die übergeordnete Gitterstruktur sind hier einfach zwei Balken, die die Anschlusselektroden darstellen und die durch zwei weiße Linien verbunden sind. Die Balken sind die Anschlusselektroden 11 außerhalb der aktiven Fläche der Lage und hier nur zur Ver- deutlichung der weißen, nicht leitfähigen, Linien dargestellt.

Die statistische Verteilung der zweiten Leiterbahnen 9, zusammen mit den nicht-leitfähgigen Bereichen führt auch wieder zu einer gleichbleibenden Helligkeit im Schichtkörper, weil die statistische Verteilung ein Ausbilden eines Moiree Effektes verhindert.

Figur 15 a zeigt einen Ausschnitt aus einer Lage mit Gitter- struktur, wobei wiederum die Abweichung in der Periodizität nicht auf den Bereich der Kreuzungspunkte beschränkt ist, sondern ganzflächig und statistisch verteilt wie in Figur 14.

Figur 15a zeigt erste Leiterbahnen 8, die einen wellenlinien- förmigen Verlauf besitzen und im Wesentlichen parallel zueinander angeordnet sind. Die ersten Leiterbahnen 8 sind vorzugsweise gemäß einem regelmäßigen 1-dimensionalen Raster angeordnet und benachbarte erste Leiterbahnen 8 weisen zueinan ^¬ der einen im Wesentlichen konstanten Leiterbahnabstand vor- zugsweise im Bereich zwischen 10 μπι und 5 mm, weiter bevorzugt zwischen 300 μπι und 1 mm auf. Weiter sind jeweils zwei der benachbarten ersten Leiterbahnen 8 mittels zweiter Lei- terbahnen 9 miteinander verbunden, welche als Querstege zwischen zwei benachbarten ersten Leiterbahnen 8 ausgebildet sind. Wie in Fig. 15a angedeutet, werden durch die zweiten Leiterbahnen 9 die beiden benachbarten ersten Leiterbahnen 8 in unregelmäßigen Abständen miteinander elektrisch leitend verbunden .

Weiter sind außerhalb der Bedienfläche noch Anschlusselektro ^¬ den 11 vorgesehen, welche die ersten Leiterbahnen 8 miteinan- der kontaktieren und so damit dafür sorgen, dass die ersten Leiterbahnen 8 miteinander parallel elektrisch verbunden sind. Die Anschlusselektroden 11 befinden sich hierbei außerhalb des aktiven Bereichs des Schichtkörpers und besitzen vorzugsweise eine um mindestens den Faktor 10 breitere Lei- terbahnbreite als die ersten Leiterbahnen 8.

Weiter sind noch Blindstrukturen 12 vorgesehen, welche mit keiner der Leiterbahnen elektrisch leitend verbunden sind. Durch sie lässt sich ein homogener optischer Eindruck erzie- len, so dass insbesondere nicht-leitenden Bereiche, also die Spaltbereiche zwischen benachbarten Leiterbahnsegmenten 6 bzw. 7 für das menschliche Auge nicht auffällig in Erschei ^¬ nung treten. Bei Einsatz eines derartigen Schichtkörpers in einem Touchscreen ergibt sich auf diese Art eine hohe Akzep- tanz durch eine Bedienperson und eine sehr gute Bedienbar- keit .

Die Leiterbahnsegmente der Lage 6 bestehen so jeweils aus mehreren ersten Leiterbahnen 8, welche miteinander durch die zweiten Leiterbahnen 9 und die Anschlusselektroden 11 verbunden sind. In den aktiven Bereichen des Schichtkörpers werden die Leiterbahnsegmente 6 von einem Leiterbahnmuster 13 gebil ^¬ det, welches, wie in Fig. 15a gezeigt, von den Leiterbahnen 8 und 9 gebildet ist. Die Leiterbahnsegmente 6 sind galva- nisch voneinander getrennt und durch den nicht-leitenden Bereich in dem Abstand 23 voneinander beabstandet angeordnet. Die Breite 22 der Leiterbahnsegmente 6 wird, wie dies in Fig. 15 angedeutet ist, durch den Abstand der Außenkontur des jeweiligen Leiterbahnsegments 6 bestimmt, d. h. durch die Beabstandung der jeweils äußeren Kante der äußersten Leiterbahnen des jeweiligen Leiterbahnsegments 6 bestimmt, welche die Außenkontur des Leiterbahnsegments 6 bilden. Der nicht ^¬ leitende Bereich in der Beabstandung 23 der Leiterbahnsegmen- te 6 voneinander wird ebenso durch die Beabstandung der Außenkontur der Leiterbahnsegmente 6 voneinander bestimmt, wie dies auch in Fig. 15b angedeutet ist.

Fig. 15b zeigt die entsprechende Ausgestaltung der Leiter- bahnsegmente 7, welche ebenfalls von zueinander im Wesentli ^¬ chen parallel angeordneten, wellenlinienförmig verlaufenden erste Leiterbahnen 8, Querstege ausbildende zweite Leiterbah ^¬ nen 9 und einer Anschlusselektrode 11 gebildet werden. Weiter zeigt Fig. 15b auch Schnittstellen 10 zwischen ersten Leiter- bahnen 8 und zweiten Leiterbahnen 9 und zeigt auch zwischen den ersten Leiterbahnen 8 angeordnete Blindstrukturen 12. Die Leiterbahnsegmente 7 werden im aktiven Bereich des Schicht ^¬ körpers von einem Leiterbahnmuster 14 aus den Leiterbahnen 8 und 9 gebildet. Bezüglich der Ausgestaltung der Leiterbahnen 8, 9 und der Anschlusselektrode 11 wird auf die diesbezügli ^¬ chen Ausführungen zu den Leiterbahnen 8, 9 und Anschlusselektrode 11 nach Fig. 15a verwiesen.

Die Leiterbahnsegmente 6 sind bei dieser Aus führungs form in dem gesamten Bereich gemäß dem in Fig. 15a gezeigten Leiterbahnmuster 13 und die Leiterbahnsegmente 7 gemäß dem in Fig. 15b gezeigten Leiterbahnmuster 14 ausgebildet. In jedem der Kreuzungsbereiche 5 in Figur 15c ist das Leiterbahnsegment 6 weiter gemäß dem Leiterbahnmuster 13 mit mehreren ersten Leiterbahnen 8 und mehreren zweiten Leiterbahnen 9 ausgebildet. In jedem der Kreuzungsbereiche 5 ist weiter das Leiterbahnsegment 7 in Form des Leiterbahnmusters 14 mit mehreren er- sten Leiterbahnen 8 und mehreren zweiten Leiterbahnen 9 ausgebildet .

Fig. 15c zeigt nun die Überlagerung zweier Leiterbahnsegmente 6 und zweier Leiterbahnsegmente 7 und damit die entspre- chende Anordnung der Leiterbahnen der Leiterbahnmuster 13 und 14 im Bereich von Kreuzungsbereichen 5. Wie in Fig. 15c gezeigt, verlaufen hierbei die Leiterbahnen 8 und 9 im Wesent ^¬ lichen in Längsrichtung der jeweiligen Leiterbahnsegmente 6 bzw. 7, sodass sich der in Fig. 15c gezeigte Kreuzungsbereich 5 mit dem Muster 15 ausbildet. Das Muster 15 ist, wie die

Kreuzungsbereiche der Figuren 5 bis 8 und 10 bis 12 und Figur 14, 16 und 17 gezeigten Aus führungs formen frei von Moire- Effekten. Fig. 16a bis Fig. 16c zeigen weitere Aus führungs formen der

Leiterbahnmuster 13 und 14, gemäß denen die Leiterbahnsegmente 6 bzw. 7 ausgebildet sind. Die Leiterbahnmuster 13 und 14 gemäß Fig. 16a bis Fig. 16c unterscheiden sich von den Leiterbahnmustern 13 und 14 gemäß Fig. 15a bis Fig. 15c ledig- lieh dadurch, dass die zweiten Leiterbahnen 9, welche als

Querstege ausgebildet sind, durch zweite Leiterbahnen 16 er ^¬ setzt sind. Die zweiten Leiterbahnen 16 sind hierbei nicht mehr im 90°-Winkel quer zu den Leiterbahnen 8 orientiert, sondern sind zur mittleren Längsrichtung dieser Leiterbahnen in einem Winkel zwischen 80° und 10° orientiert. Hierdurch wird der Vorteil erwirkt, dass durch die Querstege die voll ^¬ ständige Abdeckung einzelner Bildpixel eines beispielsweise darunterliegenden Display-Elements weitgehend vermieden wird. Im Übrigen wird auf die Ausführungen nach Fig. 15a bis Fig. 15c verwiesen.

Die Leiterbahnmuster 13 und 14 des Ausführungsbeispiels nach Fig. 17a bis Fig. 17c entspricht dem Leiterbahnmuster 13 bzw. 14 nach Fig. 15a bis Fig. 15c mit dem Unterschied, dass die zweiten Leiterbahnen 9 durch zweite Leiterbahnen 17 ersetzt sind. Die zweiten Leiterbahnen 17 sind hierbei ebenfalls wellenlinienförmig oder gebogen ausgebildet und bilden jeweils Querstege, die zwei oder drei benachbarte erste Lei ^¬ terbahnen 8 elektrisch miteinander kontaktieren. Durch eine derartige Ausgestaltung der Querstege wird der bereits anhand der Figuren Fig. 16a bis Fig. 16c erläuterte Vorteil bewirkt sowie zusätzlich die Ausbildung von optischen Störeffekten weiter vermindert.

Im Übrigen wird auch bezüglich der Ausgestaltung der Leiterbahnsegmente 6 und 7 nach Fig. 17a bis Fig. 17c auf die diesbezüglichen Ausführungen nach Fig. 15a bis Fig. 15c ver- wiesen.

In den Figuren 14 bis 17 werden jeweils Kreuzungsbereiche durch Aufeinanderlegen zweier gleich strukturierter Lagen gebildet. Die Erfindung ist aber nicht auf derartige Schicht ^¬ körper beschränkt, sondern umfasst ebenso Ausführungsformen, bei denen eine erste Lage, die beispielsweise eine Gitter ^¬ struktur aus Figur 15a aufweist, mit einer zweiten Lage, die eine andere Gitterstruktur, beispielsweise die aus Figur 14, zeigt, zu einem Schichtkörper kombiniert wird. Die Erfindung betrifft einen Schichtkörper, insbesondere einen mit zwei Lagen elektrischer Funktionsschichten, sowie eine Verwendung dieses Schichtkörpers beispielsweise in einem Touchscreen mit einer verbesserten Auflösung. Durch Veränderung der Gitterstruktur in den aktiven Bereichen und/oder an den Kreuzungsbereichen kann ein Moiree Effekt durch Überlage- rung der Gitterstrukturen der einzelnen Lagen vermieden werden .