以下、本発明を実施するための最良の形態� ��ついて、図面を参照しながら説明する。
 <レンズ鏡筒の全体構成>
 図1は本発明の実施の形態におけるレンズ鏡 筒100の分解斜視図である。図2はレンズ鏡筒10 0の概略斜視図である。図1および図2に示す矢 印Aは光学系の光軸Bに平行な方向を示してい� ��。以下、光軸Bに平行な方向を光軸方向とい う。被写体を撮影する際、矢印Aが向いてい� �方向が被写体側である。以下、光軸方向の� �写体側を前方、光軸方向の被写体と反対側� �後方とする。図3はレンズ鏡筒100の概略断面� ��である。図4は図3の部分拡大図である。
 図1から図3に示すように、レンズ鏡筒100は� �鏡筒本体4と、カム筒3(回転枠の一例)と、第1 レンズ移動枠1と、第2レンズ移動枠2と、4本� �ガイドポール5a~5d(ガイド部材の一例)と、を� ��えている。

 鏡筒本体4は、他の部材を内側に収容してお り、カム筒3を光軸B回りに回転可能に支持し� ��いる。具体的には、鏡筒本体4は、本体部材 4aと、本体部材4aに装着されたセンサホルダ9( 保持部材の一例)と、を有している。
 本体部材4aはセンサホルダ9が嵌め込まれる� ��口4cを有している。本体部材4aには光軸方向 に平行になるように配置されたガイドポール 5a~5dが固定されている。ガイドポール5a~5dの� �1端部(光軸方向の前方側の端部)はそれぞれ� �体部材4aに固定されており、ガイドポール5a~ 5dの第2端部(光軸方向の後方側の端部)はそれ� ��れ鏡筒フランジ(図示せず)に固定されてい� �。
 センサホルダ9は、磁気センサ8(後述)を保持 するための部材であり、開口4cに嵌め込まれ� ��状態で本体部材4aに外側から装着されてい� �。センサホルダ9の詳細については後述する� ��

 カム筒3は、第1レンズ移動枠1および第2レン ズ移動枠2を光軸方向に案内するための部材� �あり、鏡筒本体4により有効回転角度である� ��90°の範囲で回転可能に支持されている。本 実施形態では、カム筒3は鏡筒本体4に対して� ��軸方向に移動しない。カム筒3は、ギヤ部3d� ��、第1カム溝3aと、第2カム溝3bと、回転方向� ��延びる長孔3c(孔の一例)と、を有している。
 ギヤ部3dは駆動モータのギヤ(図示せず)と噛 み合っており、ギヤ部3dを介してカム筒3には 駆動モータ(図示せず)の駆動力が伝達される� ��第1カム溝3aは第1レンズ移動枠1を案内する� �めの溝である。第2カム溝3bは第2レンズ移動� ��2を案内するための溝である。
 長孔3cは、磁気センサ8(後述)を磁気スケー� �7(後述)に近接して配置するために設けられ� �開口であり、磁気センサ8に対応する位置に� ��置されている。長孔3cの光軸方向の幅は、� �ンサホルダ9の光軸方向の幅よりも若干大き� ��。カム筒3が90°(有効回転角度)の範囲内で回 転してもセンサホルダ9がカム筒3に干渉しな� ��ように、長孔3cの回転方向の寸法は設定さ� �ている。

 第1レンズ移動枠1は、フォーカスレンズと� �ての第1バリエータレンズ群L1を保持するた� �の枠であり、鏡筒本体4に対して光軸方向に� ��動可能に設けられている。具体的には、第1 レンズ移動枠1は、ガイドポール5a,5bによって 光軸方向に移動可能に支持されている。第1� �ンズ移動枠1は、第1本体枠1aと、第1本体枠1a� ��ら光軸方向に延びる第1案内部1cと、第1本体 枠1aに固定された第1連結ピン6aと、を有して� ��る。第1案内部1cにはガイドポール5aが光軸� �向に貫通している。第1連結ピン6aは、第1案� ��部1c周辺に配置されており、カム筒3の第1カ ム溝3aに挿入されている。第1本体枠1aには、� ��ンサホルダ9との干渉を防止するために切欠 き1bが形成されている(図4)。
 第2レンズ移動枠2は、ズームレンズとして� �第2バリエータレンズ群L2を保持するための� �であり、鏡筒本体4に対して光軸方向に移動� ��能に設けられている。具体的には、第2レン ズ移動枠2はガイドポール5c,5dによって光軸方 向に移動可能に支持されている。第2レンズ� �動枠2は、第2本体枠2aと、第2本体枠2aから光� ��方向に延びる第2案内部2cと、第2本体枠2aに� ��定された第2連結ピン6bと、を有している。� ��2連結ピン6bは、第2案内部2c周辺に配置され� ��おり、第2カム溝3bに挿入されている。

 <レンズ鏡筒の詳細構成>
 鏡筒本体4に対する第1レンズ移動枠1の光軸� ��向の位置を検出するために、このレンズ鏡� ��100は、磁気スケール7(被検出部材の一例)と� ��磁気センサ8(検出部の一例)と、位置調整機� ��13と、リニアポジションセンサ(図示せず)と 、をさらに備えている。
 磁気スケール7は、光軸方向に延びる細長い 部材であり、第1レンズ移動枠1に接着固定さ� ��ている。磁気スケール7は第1レンズ移動枠1� ��一体となってカム筒3の内側を光軸方向に移 動する。磁気スケール7の磁気センサ8と対向� ��る着磁面7a(図4)には、例えば約0.2mmのピッチ でS極とN極とが交互に着磁されている。
 磁気センサ8は、鏡筒本体4に対する磁気ス� �ール7の相対的な位置を検出するためのMR(Magn etic Resistance)センサであり、検出素子8aと、� �気配線(図示せず)が接続される端子15と、を� ��している。鏡筒本体4の外側から磁気センサ 8を装着できるように、磁気センサ8は鏡筒本� ��4の外側に配置されている。より詳細には、 磁気センサ8は、鏡筒本体4のセンサホルダ9に 装着されており、センサホルダ9の外側に配� �されている。

 図3および図4に示すように、センサホルダ9� ��、窪んだ形状を有しており、開口4cから本� �部材4aの内側に入り込んでいる。センサホル ダ9の窪んだ部分に磁気センサ8が配置されて� ��る。センサホルダ9がカム筒3に干渉しない� �うに、センサホルダ9はカム筒3の長孔3c(後述 )内に配置されており、センサホルダ9の一部� ��長孔3cを通ってカム筒3の内側に入り込んで� ��る。このため、図3および図4に示すように� �光軸方向から見た場合、センサホルダ9に装� ��されている磁気センサ8がカム筒3の内側に� �置されている。これにより、カム筒3の内側� ��配置された磁気スケール7に対して磁気セン サ8を近接して配置することができる。
 磁気センサ8(後述)を磁気スケール7にさらに 近づけるために、センサホルダ9には開口9aが 形成されている。図1および図4に示すように� ��センサホルダ9を光軸方向から見た場合、セ ンサホルダ9の側壁9bは開口9aにより切り欠か� ��た状態となっている。図4に示すように、こ の開口9aに磁気スケール7が入り込んでいるた め、磁気スケール7が磁気センサ8近傍を光軸� ��向に移動することができる。

 位置調整機構13は、鏡筒本体4に対する位置� ��調整可能なように磁気センサ8を保持するた めの機構であり、1対のピン13aと、1対の板バ� ��13bと、調整ネジ10と、を有している。ピン13 aは、磁気センサ8から光軸方向に突出してお� ��、センサホルダ9の孔(図示せず)に挿入され� ��いる。ピン13aにより磁気センサ8はセンサホ ルダ9に対して回転可能となっている。板バ� �13bは、ピン13aと反対側の磁気センサ8の端部� ��設けられており、磁気センサ8から光軸方向 に突出している。調整ネジ10は、鏡筒本体4に 対する磁気センサ8の位置を調節するための� �材であり、磁気センサ8の板バネ13b側の端部� ��設けられた孔を貫通している。調整ネジ10� �センサホルダ9に螺合している。
 ピン13aを中心としたセンサホルダ9に対する 磁気センサ8の回転は、板バネ13bおよび調整� �ジ10により規制されている。具体的には、調 整ネジ10を締め付けると磁気センサ8とセンサ ホルダ9との間で板バネ13bがたわむ。板バネ13 bがたわんでいる状態では、板バネ13bの弾性� �により磁気センサ8は調整ネジ10の頭10aに押� �付けられているため、鏡筒本体4に対する磁� ��センサ8の姿勢が安定する。また、調整ネジ 10を締め付けたり緩めたりすることで、磁気� ��ンサ8のセンサホルダ9に対する位置(つまり� ��磁気センサ8の磁気スケール7に対する位置)� ��調整することができる。

 リニアポジションセンサ(図示せず)は、鏡� �本体4に対する第1レンズ移動枠1の絶対的な� �置を検出するためのセンサであり、第1レン� ��移動枠1と一体となって光軸方向に移動する スライダ(図示せず)を有している。リニアポ� ��ションセンサにより鏡筒本体4に対する第1� �ンズ移動枠1の光軸方向の絶対位置を検出す� ��ことができる。
 磁気センサ8は磁気スケール7から発生する� �界に応じて電気信号を出力する。磁気セン� �8に対する磁気スケール7の位置が変化すると 、磁気センサ8周辺の磁界が変化し、その磁� �の変化に応じた正弦波状の電気信号が磁気� �ンサ8から出力される。この電気信号に基づ� ��て、鏡筒本体4に対する第1レンズ移動枠1の� ��置を高精度で求めることができる。特に、� ��源ON時に鏡筒本体4に対する第1レンズ移動枠 1の大まかな位置をリニアポジションセンサ� �より検出することができる。つまり、リニ� �ポジションセンサおよび磁気センサ8の検出� ��果を用いて、第1レンズ移動枠1の位置を高� �度かつ効率良く求めることができる。

 磁気センサ8での検出精度を高いレベルに保 つためには、磁気スケール7と磁気センサ8と� ��距離を例えば0.1mm程度に保つ必要がある。� �の構成を実現するために、図3および図4に示 すように、センサホルダ9の一部が長孔3cを通 ってカム筒3の内部に入り込んでいる。この� �果、センサホルダ9に装着された磁気センサ8 はカム筒3の内部に配置される。さらに、セ� �サホルダ9には開口9aが形成されており、磁� �スケール7が開口9aに入り込んでいるため、� �気スケール7が磁気センサ8の付近を光軸方向 に移動することができる。これにより、磁気 センサ8を鏡筒本体4およびセンサホルダ9の外 部に露出させた状態で、磁気センサ8を磁気� �ケール7に対して近接して配置することが可� ��となる。
 さらに、第1レンズ移動枠1の可動範囲内で� �気センサ8と磁気スケール7との間の寸法精度 を実現するために、第1レンズ移動枠1には磁� ��スケール7が光軸方向に平行となるように固 定されている。それに加えて、組み付け後に おいて、調整ネジ10を回転させて磁気センサ8 と磁気スケール7との間の距離が約0.1mmになる ように磁気センサ8の位置が調整される。こ� �結果、磁気スケール7が第1レンズ移動枠1と� �体となって移動する際に、磁気センサ8が磁� ��スケール7の着磁面7aと近接して対向した状� ��を保つことができる。

 <レンズ鏡筒の特徴>
 以上に説明したレンズ鏡筒100の特徴を以下� ��まとめる。
 (1)
 このレンズ鏡筒100では、第1レンズ移動枠1� �磁気スケール7が設けられており、かつ、鏡� ��本体4に磁気センサ8が設けられているため� �鏡筒本体4に対する第1レンズ移動枠1の位置� �磁気スケール7および磁気センサ8により直接 検出することができる。これにより、部材間 に形成された隙間により第1レンズ移動枠1の� ��置検出精度が低下するのを抑制でき、第1レ ンズ移動枠1の位置検出精度を確保すること� �できる。
 また、鏡筒本体4の外側に磁気センサ8が設� �られているため、磁気センサ8用の電気配線� ��設置するのが容易となり、組み付け性を高� ��ることができる。例えば、磁気センサ8の端 子15が外側に露出しているため、電気配線を� ��子15に接続するのが容易となる。

 このように、このレンズ鏡筒100では、第1レ ンズ移動枠1の位置検出精度を確保しつつ組� �付け性を高めることができる。
 ここで、磁気センサ8が鏡筒本体4の外側に� �けられている状態には、例えば、鏡筒本体4� ��外側から磁気センサ8が装着されている状態 や鏡筒本体4の外側から磁気センサ8が見える� ��態が含まれる。したがって、図1~図4に示す� ��うに、鏡筒本体4の内側に窪んだ部分(より� �細には、センサホルダ9の窪んだ部分)に磁気 センサ8が配置されている場合であっても、� �気センサ8が鏡筒本体4に外側から装着されて いるか、あるいは、磁気センサ8が鏡筒本体4� ��外側から見えていれば、これらの状態は磁� ��センサ8が鏡筒本体4の外側に設けられてい� �状態に含まれ得る。
 (2)
 このレンズ鏡筒100では、鏡筒本体4が、本体 部材4aと、本体部材4aに外側から装着された� �ンサホルダ9と、を有している。磁気センサ8 がセンサホルダ9の外側に配置されているた� �、例えば、本体部材4aに対してセンサホルダ 9を取り付けた後に磁気センサ8を外側からセ� ��サホルダ9に取り付けることができる。また 、センサホルダ9に磁気センサ8を取り付けた� ��にセンサホルダ9および磁気センサ8を一体� �外側から本体部材4aに取り付けることができ る。つまり、このレンズ鏡筒100では、組み付 け時の自由度を高めることができる。

 ここで、磁気センサ8がセンサホルダ9の外� �に配置されている状態には、例えば、セン� �ホルダ9の外側から磁気センサ8が装着されて いる状態やセンサホルダ9の外側から磁気セ� �サ8が見える状態が含まれる。したがって、� ��1~図4に示すように、センサホルダ9の内側に 窪んだ部分に磁気センサ8が配置されている� �合、あるいは、センサホルダ9が本体部材4a� �内側に入り込んでいる場合であっても、磁� �センサ8が鏡筒本体4に外側から装着されてい るか、あるいは、磁気センサ8が鏡筒本体4の� ��側から見えていれば、これらの状態は磁気� ��ンサ8がセンサホルダ9の外側に設けられて� �る状態に含まれ得る。
 (3)
 このレンズ鏡筒100では、センサホルダ9の一 部が本体部材4aの内側に配置されているため� ��センサホルダ9を磁気スケール7に近接して� �置することができる。この結果、センサホ� �ダ9に取り付けられた磁気センサ8を磁気スケ ール7に近接して配置することができ、第1レ� ��ズ移動枠1の位置検出精度を確保しやすくな る。

 (4)
 このレンズ鏡筒100では、センサホルダ9の一 部が長孔3c内に配置されているため、磁気セ� ��サ8を磁気スケール7に近接して配置しやす� �なり、第1レンズ移動枠1の位置検出精度を確 保しやすくなる。
 (5)
 このレンズ鏡筒100では、磁気センサ8がカム 筒3の内側に配置されているため、磁気スケ� �ル7がカム筒3の内側に配置されていても、磁 気スケール7に磁気センサ8を近接して配置し� ��すくなる。
 (6)
 このレンズ鏡筒100では、鏡筒本体4に対して カム筒3が回転する際にカム筒3がセンサホル� ��9と干渉しないように長孔3cが形成されてい� ��ため、センサホルダ9の一部が長孔3c内に配� ��されていても、カム筒3の回転に影響を及ぼ さない。

 (7)
 このレンズ鏡筒100では、磁気スケール7の光 軸方向の位置が案内部1cと概ね同じであるた� ��、ガイドポール5aと案内部1cとの間に形成さ れた隙間によりガイドポール5aに対して第1レ ンズ移動枠1が傾いても、磁気センサ8に対す� ��磁気スケール7の傾きを抑制することができ る。これにより、磁気スケール7の光軸方向� �位置が案内部1cと大きくずれている場合に比 べて、部材間に形成された隙間により磁気セ ンサ8での位置検出の精度を確保することが� �きる。
 ここで、「磁気スケール7の光軸方向の位置 が案内部1cと概ね同じである」とは、磁気ス� ��ール7の光軸方向の位置が案内部1cと完全に� ��じである場合の他に、第1レンズ移動枠1の� �置検出精度を確保できる範囲内で磁気スケ� �ル7の光軸方向の位置が案内部1cとずれてい� �場合も含んでいる。

 (8)
 このレンズ鏡筒100では、位置調整機構13に� �り鏡筒本体4に対する磁気センサ8の位置を調 整することができるため、磁気スケール7に� �する磁気センサ8の位置を微調整することが� ��き、磁気スケール7と磁気センサ8との間の� �離の精度を確保できる。
 特に、磁気センサ8が鏡筒本体4の外側に配� �されているため、位置調整機構13による位置 調整をレンズ鏡筒100の組み付け完了後に行う ことができる。
 (9)
 磁気センサの配置の一例として、鏡筒本体� ��よびカム筒の光軸方向の後方(図1の右側)に� ��気センサを配置する場合が考えられる。こ� ��場合、磁気スケールは鏡筒本体およびカム� ��から光軸方向の後方に突出するように配置� ��れる。後方に突出した磁気スケールの位置� ��磁気センサで検出する。

 この構成では、第1レンズ移動枠からの磁気 スケールの位置が遠くなるため、磁気スケー ルと光軸との平行度を精度良く保持すること が困難であり、位置検出精度が低下するおそ れがある。さらに、第1レンズ移動枠が光軸� �向の後方に移動した場合には、磁気スケー� �が突出することになり、レンズ鏡筒の小型� �が妨げられる。
 しかし、前述のレンズ鏡筒100では、鏡筒本� ��4の半径方向外側に磁気センサ8が配置され� �いるため、磁気センサ8を鏡筒本体4の後方に 配置する場合に比べて、磁気スケール7を第1� ��ンズ移動枠1の近くに配置することができる 。このため、位置検出精度を確保することが できる。さらに、磁気スケール7が後方に突� �しないため、磁気センサ8を鏡筒本体4の後方 に配置する場合に比べて、レンズ鏡筒100の光 軸方向の小型化を図ることができる。

 <他の実施形態>
 なお、本発明の具体的な構成は、前述の実� ��形態に限られるものではなく、発明の要旨� ��逸脱しない範囲で種々の変更および修正が� ��能である。
 (A)
 前述の実施形態では、被検出部材の位置を� ��出するための検出部として磁気センサ8(MRセ ンサ)、被検出部材として磁気スケール7を例� ��説明しているが、検出部および被検出部材� ��これらに限られない。例えば、検出部はフ� ��トインタラプタあるいはフォトリフレクタ� ��あってもよい。検出部がフォトインタラプ� ��あるいはフォトリフレクタの場合は、被検� ��部材としては櫛歯状部材が考えられる。
 (B)
 前述の実施形態では、磁気センサ8がカム筒 3の内側に配置されているが、磁気センサ8の� ��なくとも一部(より詳細には、検出素子8a)が カム筒3の内側に配置されていればよい。

 また、センサホルダ9の一部がカム筒3の内� �に配置されているが、センサホルダ9全体が� ��ム筒3の内側に配置されていてもよい。
 (C)
 前述の実施形態では、磁気スケール7を磁気 センサ8に近接して配置するために、カム筒3� ��長孔3cが形成されているが、長孔3cは回転方 向に延びていなくてもよく、孔が形成されて いればよい。
 また、カム筒3の磁気スケール7および磁気� �ンサ8の間に位置する部分が磁気を通す素材� ��できている場合は、カム筒3に孔が形成され ていなくても、磁気センサ8により磁気スケ� �ル7の位置を検出することは可能である。例� ��ば、カム筒3の磁気スケール7および磁気セ� �サ8の間に位置する部分の厚みが薄い場合は� ��磁気センサ8による位置検出精度を所望のレ ベルで確保しやすくなる。

 なお、磁気スケール7の着磁ピッチ(S極とN 極との間の距離)を大きくとることで、磁気� �ケール7と磁気センサ8とを離して配置するこ とができる。このため、カム筒3の磁気スケ� �ル7および磁気センサ8の間に位置する部分の 厚みが厚い場合であっても、第1レンズ移動� �1の位置検出を行うことは可能である。