以下に、本発明の実施の形態について図� ��を参照しながら、次の項目に従って説明す� ��。

 (説明項目)
 (1)本発明に至った経過の説明
 (2)本発明の第1の実施の形態に係る光反射板 の説明
 (i)光反射板の構成
  (a)基板の構成
  (b)光反射層の構成
  (c)保護膜の構成
 (ii)光反射板の別の構成
 (iii)光反射板の光反射層の表面性状及びそ� �付与方法
 (iv)光反射板の製造方法
 (v)表面性状の評価
 (3)本発明の第2の実施の形態に係る光反射装 置の説明
 (i)光ダクト
 (実施形態の説明)
 (1)本発明に至った経過の説明
 図6(a)、(b)、(c)は、反射面の表面性状と光の 反射特性の関係を説明する模式図である。

 図6(a)は、反射面20aでうねりがなく、算術 平均粗さ(Ra)が小さい場合の光の反射特性を� �している。符号21は入射光を示し、22aは反射 光を示している。この場合、反射面20aで正反 射が強くなる(正反射率が高くなる)ため、反� ��光22aは眩しく感じられる。一方、図6(b)に示 すように、反射面20bの算術平均粗さ(Ra)が大� �くなると、反射面20bで拡散反射が強くなる(� ��散反射率が高くなる)ため、反射光22bの眩し さは改善されるが受光面に到達する光量は少 なくなる。

 本願発明者は、反射光の強度を維持しつ� ��、眩しさを改善できないか、種々の調査や� ��討を行った。

 その結果、図6(c)に示すように、反射面20c で算術平均粗さ(Ra)が図6(a)と同等でもJISB0601� �規定された算術平均うねり(Wa)を加えた場合� ��反射面20cで正反射とともに拡散反射が生じ� ��いることを見出した。そして、算術平均粗� ��(Ra)及び算術平均うねり(Wa)の程度を適正に� �整することにより、正反射率を高く維持し� �つ拡散反射率を高めて、反射光の強度を高� �維持し、かつ眩しさを軽減することができ� �ことを見出した。

 そして、図6(c)に示す表面性状を光ダクト 内壁に適用した場合に、光の反射伝送効率を 高く維持しながら、照明光の眩しさを軽減す ることができた。さらに、光を反射伝送する 際に拡散反射により光線束がより広範囲に広 がるため、放光部での照明ムラを防止できる こととなった。

 (2)本発明の第1の実施の形態に係る光反射板 の説明
 (i)光反射板の構成
 図1(a)は、本発明の第1の実施の形態に係る� �反射板101の構成を示す断面図である。

 光反射板101は、図1(a)に示すように、基板 (基体)11と、基板11上の光反射層13とにより構� ��される。なお、必要に応じて光反射層13上� �保護膜14を付与することもできる。

 基板11の表面11aは、図6(c)に示すような粗� ��やうねりを有する。粗さは、JISB0601に算術� �均粗さ(Ra)として規定され、この実施形態で� ��0.10~0.30μmの範囲に設定されている。うねり� ��、同じく算術平均うねり(Wa)として規定され 、この実施形態では0.30~2.50μmの範囲に設定さ れている。この表面性状は光反射層13に引き� ��がれて、光反射層13の表面13aも基板11とほぼ 同じ表面性状を有する。

 (a)基板の構成
 光反射板101を構成する基板11は、金属から� �る板或いは箔(以下、特別に表示する場合を� ��いて金属板と総称する。)、表面処理金属か らなる板或いは箔(以下、特別に表示する場� �を除いて表面処理金属板と総称する。)、ガ� ��ス板、またはプラスチックからなる板或い� ��フィルム(以下、特別に表示する場合を除い てプラスチック板と総称する。)を用いる。

 金属板は、鋼板、又はアルミニウム板を� ��いる。鋼板は、クロム含有量が11質量%未満� ��鉄合金の板、又はクロム含有量が11質量%以� ��の鉄合金、所謂ステンレスの板を含む。特� ��、クロム含有量が11質量%未満の鉄合金鋼板� ��、アルミニウムやステンレスと比べて安価� ��材料であるため、製品を広く普及させるの� ��好適である。アルミニウム板は、この実施� ��態では、純アルミニウムの板、アルミニウ� ��合金の板を総称したものをいう。アルミニ� ��ム合金は、アルミニウムを主成分とし、強� ��、加工性、耐食性などを付与するためにマ� ��ネシウム(Mg)、マンガン(Mn)、シリコン(Si)な� ��を添加し、合金化したものである。

 表面処理金属板は、上記した金属板の表� ��に各種めっきを施したもの、またはアルミ� ��ウム板の表面にアルマイト処理を施したも� ��である。なお、金属板表面への表面処理に� ��り形成された層(表面処理層)は光を反射さ� �るためではなく、さび止めなどのために設� �られたものである。

 めっきに用いる金属としては、亜鉛、亜� ��合金、錫、ニッケル、クロムなどを用いる� ��とができる。

 次に、表面処理金属板のうち、特に、亜� ��めっき又は亜鉛合金めっきを施した鋼板(以 下、亜鉛めっき鋼板と称する。)について詳� �く説明する。

 亜鉛めっき鋼板にはめっき方法により幾� ��かの種類がある。例えば、溶融亜鉛めっき� ��板、溶融亜鉛合金めっき鋼板、電気亜鉛め� ��き鋼板、電気亜鉛合金めっき鋼板などであ� ��。

 めっきに用いる金属としては、亜鉛や亜� ��合金が用いられる。亜鉛合金として、亜鉛( Zn)に5或いは55質量%のアルミニウム(Al)を含有� ��るもの、亜鉛(Zn)にコバルト(Co), モリブデ� �(Mo)を含有するものなどが用いられる。

 亜鉛めっき鋼板は基板としてそのまま用� ��てもよいが、さらに、亜鉛等のめっきの剥� ��れや変質を防止するため化成処理を施して� ��よい。化成処理として、例えば、クロメー� ��処理、リン酸塩処理、リチウム-シリケート 処理、シランカップリング処理あるいは、ジ ルコニウム処理などを適用できる。

 基板11の表面11aには、後に(iii)項で説明す る方法により、0.10~0.30μmの範囲の算術平均粗 さ(Ra)、及び0.30~2.50μmの範囲の算術平均うね� �(Wa)を施すことができる。

 (b)光反射層の構成
 光反射層13は、銀或いは銀合金、又はアル� �ニウム或いはアルミニウム合金の膜を用い� �ことができる。

 そのうち、銀或いは銀合金の膜は、銀鏡� ��応により銀を還元析出させる無電解めっき� ��、例えばスプレーめっき法により形成する� ��とができる。そのほかに、銀イオンを含む� ��溶液中での電気分解による電気めっき法や� ��減圧雰囲気下で銀を蒸発させて皮膜を形成� ��る蒸着法などを適用することができる。銀� ��等の厚さは、実用的な反射効果が得られる0 .01~0.3μm程度が好適である。

 また、アルミニウム膜等の形成には、蒸� ��法、又はイオンプレーティング法などの乾� ��めっき法を用いることができる。特に、蒸� ��法により形成されたものが、高い正反射率� ��確保できるため好適である。アルミニウム� ��等の膜厚は、所謂光沢面を得ることができ� ��0.01~0.2μm程度が最適である。

 銀膜等及びアルミニウム膜等ともに、膜� ��が薄すぎると不可避的にピンホールが生じ� ��反射率が低下する。一方で、膜厚が厚すぎ� ��も所謂反射率が急激に低下する傾向が見ら� ��る。

 光反射層13は、上記膜厚の範囲では基板11 の表面性状がほぼそのまま引き継がれて、基 板11とほぼ同じ表面性状を有する。

 (c)保護膜の構成
 光反射層13である銀膜などは、大気に露出� �れると変色したり、汚れなどを生じ易い。� �に、雰囲気がイオウ系ガスを微量でも含む� �合に変色し易い。さらに、銀膜に付着した� �塵、埃を洗浄する場合、銀膜は洗剤による� �色跡を残し易い。保護膜14はこれらを防止す るために光反射層13上に設けられている。こ� ��により、長期間において、光反射板として� ��性能維持及び保守管理が可能となる。

 保護膜14は、有機樹脂材料、或いは無機� �料、又はこれらの混合物からなる膜を用い� �。又は、有機樹脂材料の膜と、無機材料の� �との2層で構成されていてもよい。

 有機樹脂材料は、透明、かつ薄いポリエ� ��テル樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂� ��どを用いることができ、無機材料は、耐汚� ��性に優れる酸化チタンなどを用いることが� ��きる。有機樹脂材料等の膜は、材料を溶解� ��た塗布液を用いた塗布法により又は材料を� ��ィルム状にして貼り付けることにより作製� ��れる。

 なお、保護膜14として、増反射膜を用い� �もよい。増反射膜は、大きな屈折率の材料� �例えばチタン酸化物などからなる層と、小� �な屈折率の材料、例えばシリコン酸化物な� �からなる層を2層に積層したものであり、そ� ��らの各層の光学的厚さ(物理的な膜厚×屈折� ��)をλ/4(λ:光の波長)として全体の光学的厚さ をλ/2としたものである。増反射膜を用いる� �とで、光の正反射率をより一層向上させる� �とができる。

 (ii)光反射板の別の構造
 次に、本発明の第1の実施の形態に係る光反 射板の別の構成について説明する。図1(b)は� �その構成を示す断面図である。

 図1(b)の光反射板102の構成において、図1(a )と異なるところは、基板11と光反射層13との� ��に、バインダ層12を介在させている点であ� �。この場合、基板11とバインダ層12とが基体� ��構成する。

 バインダ層12は、基板11自体の耐食性を向 上させ、さらに、基板11と光反射層13の間に� �在させて基板11と光反射層13との密着性を向� ��させるために設けられる。特に、基板11と� �て亜鉛めっき又は亜鉛合金めっきを施した� �板などを用いる場合、光反射層13との密着性 を強固にするためその鋼板上にバインダ層12� ��形成することが望ましい。なお、バインダ� ��12の表面に、コロナ放電処理あるいはグロ� �放電処理を施すことにより、その上に積層� �れる銀膜との密着性がさらに向上する。

 この構成では、光反射層13の表面13aに、0. 10~0.30μmの算術平均粗さ(Ra)、及び0.30~2.50μmの� ��術平均うねり(Wa)の表面性状を付与するため 、下地のバインダ層12の表面12aにこれと同じ� ��面性状が予め付与される。

 バインダ層12として、種々の材料で構成� �れる塗装膜又はフィルムを用いることがで� �る。塗装膜の材料は、基板11に対して密着性 の良い有機樹脂材料であれば、その種類は特 に限定されるものではないが、特に、ポリエ ステル樹脂、アルキッド樹脂、アクリル樹脂 、2液硬化型ポリウレタン樹脂などの塗料が� �適である。フィルムの材料は、ポリエチレ� �、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂� �ポリイミド樹脂などを用いることができる� �バインダ層12が塗装膜の場合、材料を溶解し た塗料を用いた塗布法により基板11上に作製� ��ることができる。また、バインダ層12がフ� �ルムの場合、フィルムを接着剤等により基� �11に貼り付けることで基板11上に作製するこ� ��ができる。バインダ層12は所望の表面性状� �付与し得るような膜厚で形成することを要� �る。

 なお、バインダ層12の表面性状は、光反� �層13の表面性状に、ひいては光反射板の反射 特性に影響を及ぼすため、その作製方法が重 要である。バインダ層12に所定の表面性状を� ��与するためのより詳細なバインダ層12の作� �方法については後述する。

 (iii)光反射板の光反射層の表面性状及びそ� �付与方法
 次に、光反射板の反射特性に大きな影響を� ��える光反射層の表面性状及びその付与方法� ��ついて説明する。

 光反射板の反射特性は、直接的には光反� ��層13の表面性状により決まる。そして、光� �射板101では、光反射層13の表面性状は基板11� ��表面性状を引き継ぐため、基板11(表面処理� ��属板の場合は表面処理層の表面)の表面性状 を予め調整する必要がある。また、光反射板 102では、光反射層13の表面性状はバインダ層1 2の表面12aの性状を引き継ぐため、バインダ� �12の表面性状を予め調整する必要がある。

 光反射板101では、基板11が表面処理金属� �の場合、所望の表面性状を付与するため、� �2(a)に示すように所定の表面性状であるうね� ��やさらに微小な凹凸を有する圧延ロール15� �、基板(被圧延体)11の表面11aに当接して仕上� ��圧延(調質圧延ともいう)を行う。これによ� �、圧延ロール15表面の表面性状が基板11の表� ��に転写されて基板11の表面に表面性状が付� �される。

 調質圧延で用いる圧延ロール15の表面15a� �所定の表面性状を予め付与するために、研� �砥石による研磨加工、ショットダル加工、� �び放電ダル加工などを用いる。または、レ� �ザーダル加工、電子ビーム加工などを用い� �もよい。

 調質圧延において、圧延ロールの被圧延� ��への圧下荷重、及び被圧延体に加える張力� ��ど圧延条件を調整することにより、容易に� ��望の表面性状を得ることができる。

 調質圧延では、表面性状の異なる2対の仕 上げ圧延ロールを用いて、前段で鏡面仕上げ ロール圧延を行って表面を平坦にしておき、 後段でショットダル仕上げロール圧延を行っ て表面性状を付与するとよい。表面性状の異 なる鏡面仕上げロールと、ショットダルロー ルとの組み合わせによって、被圧延体の表面 性状を精度よく制御できる。

 ただし、溶融亜鉛めっきなど、比較的厚� ��亜鉛めっきを施した冷間圧延鋼板では、め� ��き前に表面性状を付与するとめっきにより� ��面性状が変化するので、めっき後に調質圧� ��を行うことが望ましい。

 また、基板(被圧延体)11がガラス板の場合 、物理的な研削、研磨若しくは酸液による化 学的なエッチング(侵食)を行うことにより、� ��板11に表面性状を付与する。例えば、平坦� �板ガラスを平坦で水平なテーブル上に載せ� �、板ガラスを研削ヘッドの下を通過させる� �ともに、研削ヘッドに適切な研磨剤を供給� �る。好適な研磨剤として砂の水性懸濁液を� �用する。通常、研削が進行するにつれて段� �的に小さな研磨剤粒子を使用し、表面性状� �調整する。基板(被圧延体)11がプラスチック� ��(フィルムを含む)の場合、ガラス転移点以� �の温度に昇温した状態で、所定の表面性状� �仕上げた加熱金属ロールを押し当てて表面� �状を転写し、基板11に表面性状を付与する。

 一方、光反射板102では、バインダ層12の� �面12aの性状については、塗料の粘度の調整� �、形成膜の厚さの調整とを組み合わせるこ� �により、容易に所望の範囲に調整すること� �できる。例えば、塗料の希釈度を上げて粘� �を低くすると、算術平均粗さ(Ra)を小さくで� ��る。一方、塗料の希釈度を下げて粘度を高� ��するとともに形成膜の厚さに関係する塗料� ��量を適宜調整すると、算術平均うねり(Wa)を 大きくできる。よって、塗料の粘度の調整と 、塗料の量の調整を適正に行うことで所望の 表面性状が得られることになる。

 具体例をあげると、バインダ層12の材料� �2液硬化型ポリウレタン樹脂を使用した場合� ��主剤と、硬化剤と、溶剤と、レべリング剤� ��の比率を5:1:20:2に配合し、塗料粘度(粘度カ� ��プNK-2/アネスト岩田製)を9~10秒とし、スプレ ーガンにて乾燥後の厚さが3~8μmとなるように バインダ層12を成膜することにより算術平均� ��さ(Ra)及び算術平均うねり(Wa)を所望の範囲� �調整できる。

 (iv)光反射板の製造方法
 次に、図1及び図2を参照して、上記した光� �射板101の製造方法について説明する。特に� �図2(a)、(b)は、基板11に表面性状を付与する� �法について示す斜視図である。

 まず、通常の冷間圧延鋼板の製造工程に� ��って、酸洗、冷間圧延、焼鈍を行って作製� ��た冷間圧延鋼板(基板)11を用意する。

 次に、冷間圧延鋼板11に対して所望の表� �性状を付与するため、図2(a)、(b)に示すよう� ��して、圧延機で調質圧延を行う。なお、(iii )項の説明では、2対の圧延ロールによる調質� ��延を説明したが、この製造方法の説明では� ��1対の圧延ロールによる調質圧延を実施する こととする。図2(a)、(b)では、圧延ロールを� �つしか表示していないが、実際には一対の� �延ロールが対向して設置されている。

 調質圧延では、所定の表面仕上げに研磨� ��れた圧延ロールの間に用意した冷間圧延鋼� ��11を挟んで移動させることにより圧延を行� �、冷間圧延鋼板11に表面性状を付与する。こ の場合、圧延条件(圧下荷重、張力)を適宜調� ��する。この調質圧延により、図2(b)に示すよ うに、冷間圧延鋼板11の表面11aに、0.10~0.30μm� ��算術平均粗さ(Ra)、及び0.30~2.50μmの算術平均 うねり(Wa)が付与される。

 以上、めっきを施さない冷間圧延鋼板11� �おける表面形状付与方法について説明した� �、上記の調質圧延を施した後に、耐食性付� �のため、亜鉛などのめっきを施すこともで� �る。一例として、亜鉛めっき又は亜鉛合金� �っきを施す方法は、溶融亜鉛めっき法、溶� �亜鉛合金めっき法、電気亜鉛めっき法、又� �電気亜鉛合金めっき法のうちいずれか一つ� �利用することができる。

 溶融亜鉛めっき法、又は溶融亜鉛合金め� ��き法は、溶融した亜鉛中、又は溶融した亜� ��合金中に鋼板を浸漬して亜鉛又は亜鉛合金� ��被着する方法である。また、電気亜鉛めっ� ��法、又は電気亜鉛合金めっき法は、亜鉛な� ��を溶解しためっき液中、又は亜鉛合金など� ��溶解しためっき液中に鋼板を浸漬し、鋼板� ��亜鉛アノードとの間に電圧を印加して亜鉛� ��は亜鉛合金を被覆する方法である。

 なお、溶融亜鉛めっきなどで比較的厚い� ��っきを施した鋼板の場合、めっき前に表面� ��状を付与するとめっきにより表面粗さなど� ��変化するため、めっき後に調質圧延を行う� ��うにするとよい。

 次に、基板11表面の脱脂のため、基板11の 表面をアルカリ溶液で洗浄する。続いて、イ オン交換水または蒸留水を用いて、上記基板 11を水洗し、乾燥する。なお、バインダ層12� �表面状態によっては、アルカリ溶液による� �浄はしなくてもよい。

 次に、銀膜を形成するための前処理を行� ��。

 前処理は、基板11上に錫を形成する処理� �あり、その後、銀鏡反応を実施する。

 前処理では、まず、基板11の表面に、塩� �を含有する塩化第二錫、塩化第一錫及び塩� �第二鉄を含んだ水溶液(前処理活性剤)を塗布 して、触媒としての錫を基板11の表面に形成� ��る。当前処理溶液はpH2以下に調整するのが� ��ましい。

 次いで、イオン交換水、或いは蒸留水を� ��いて錫を形成させた基板11の表面を洗浄し� �基板11表面に残る前処理溶液を除去する。

 このように前処理を行った後、基板11上� �銀鏡反応により光反射層13である銀膜形成工 程を施す。

 銀膜形成工程では、前処理が施された基� ��11表面に、スプレー噴射によりpH10~13のアン� ��ニア性硝酸銀水溶液と、還元剤(例えば、硫 酸ヒドラジニウム、グリオキサールなど)を� �むpH8~12の水溶液とを同時に射出する。還元� �水溶液として、還元を水に溶解し、或いは� �釈したものに水酸化ナトリウムを加えてア� �カリ性にしたものを用いる。これにより、� �板11表面に錫を始動核として銀が析出し、銀 膜が形成される。

 形成された銀膜は基板11の表面性状を引� �継いで、表面13aに、0.10~0.30μmの算術平均粗� �(Ra)、及び0.30~2.50μmの算術平均うねり(Wa)の表 面性状が付与される。

 次いで、イオン交換水又は蒸留水を用い� ��基板11を洗浄し、光反射層13の表面に残存し ているアンモニア性硝酸銀水溶液と還元剤水 溶液を除去する。

 続いて、エアブローにて光反射層13表面� �付着している水滴を吹き飛ばす。その後、� �板11を乾燥させる乾燥工程を行う。乾燥条件 は、例えば70℃の温度で20分とする。

 必要に応じ、光反射層13の上に保護膜14を 形成する。詳しく述べると、保護膜14は、無� ��材料又は有機樹脂材料を溶解した塗布液を� ��いた塗布法により、又は有機樹脂材料をフ� ��ルム状にして貼り付けることにより形成す� ��。

 以上により、図1(a)に示す光反射板101が完 成する。

 以上のように、この実施形態に係る光反� ��板の製造方法によれば、算術平均粗さ(Ra)が 0.10~0.30μmであり、かつ、算術平均うねり(Wa)� �0.30~2.50μmの表面性状を有する基板11上に、無 電解めっき法等によって、銀膜等からなる光 反射層13を形成している。したがって、基板1 1表面の表面性状が光反射層13に引き継がれる ため光反射層13に容易に所望の表面性状を付� ��することができる。

 なお、上記した光反射板の製造方法では� ��基板11上に直接光反射層13である銀膜を形成 しているが、図1(b)に示すように、光反射層13 の形成前に、基板11上にこの発明の表面性状� ��有するバインダ層12を形成してもよい。こ� �場合、基板11にはこの発明の表面性状を付与 しなくてもよい。

 基板11上にこの発明の表面性状を有する� �インダ層12を形成するには、ポリエステル樹 脂、アルキッド樹脂、アクリル樹脂、又は2� �硬化型ポリウレタン樹脂のいずれか一つか� �なり、粘度を適正に調整した塗料を基板11上 に塗布する。このとき、塗布量を調整し、所 定の膜厚が得られるようにする。このように して塗料を塗布後、乾燥することにより、表 面12aに、0.10~0.30μmの算術平均粗さ(Ra)、及び0. 30~2.50μmの算術平均うねり(Wa)の表面性状を有� ��るバインダ層12が形成される。

 また、銀膜の形成方法としてスプレー噴� ��方式による無電解めっき法を用いているが� ��浸漬方式を用いることができる。また、そ� ��他、電気めっき法や蒸着法を用いてもよい� ��

 また、銀膜の代わりに、アルミニウム膜を� ��いてもよい。アルミニウム膜を例えば蒸着� ��により形成する場合、真空度を約1×10 ^-3 Paとし、基板加熱を約300Kとする。

 (v)表面性状の特性評価
 次に、種々の表面性状を有する光反射板に� ��いて作製し、その特性を評価した具体的な� ��施例について、以下に説明する。

 (光反射板の作製条件)
 上記の光反射板の製造方法に従って、特性� ��価に用いる試料として光反射板を作製した� ��この場合、保護膜14は省略している。それ� �は図3の表にまとめて記載されている。

 (実施例1(A1))
 算術平均粗さ(Ra)が0.1μmで、算術平均うねり (Wa)が0.3μmの表面性状を付与した冷間圧延鋼� �(基板11、以下同じ)上に、pH10程度のアンモニ ア性硝酸銀水溶液とpH10程度の還元剤(硫酸ヒ� ��ラジニウム)水溶液とを用いた無電解めっき 法により厚さ100nmの銀(Ag)膜(光反射層13、以下 同じ)を形成した。

 なお、算術平均粗さ(Ra)、算術平均うねり (Wa)は、下記の(特性評価)の項に基づき測定し たものである。以下、同じである。また、図 3の表では、基板11の冷間圧延鋼板を単に鋼板 と記載した。以下同じである。

 (実施例2(A2))
 算術平均粗さ(Ra)が0.11μmで、算術平均うね� �(Wa)が0.89μmの表面性状を付与したアルミニウ ム(Al)板(基板11、以下同じ)上に、実施例1と同 じ無電解めっき法により厚さ100nmの銀(Ag)膜を 形成した。

 (実施例3(A3))
 算術平均粗さ(Ra)が0.11μmで、算術平均うね� �(Wa)が2.5μmの表面性状を付与したアルミニウ� ��(Al)板上に、実施例1と同じ無電解めっき法� �より厚さ100nmの銀(Ag)膜を形成した。

 (実施例4(A4))
 算術平均粗さ(Ra)が0.21μmで、算術平均うね� �(Wa)が1.1μmの表面性状を付与した冷間圧延鋼� ��上に、実施例1と同じ無電解めっき法により 厚さ100nmの銀(Ag)膜を形成した。

 (実施例5(A5))
 冷間圧延鋼板(基板11)上に、スプレー塗装に より算術平均粗さ(Ra)が0.22μmで、算術平均う� ��り(Wa)が1.0μmの表面性状を付与したアクリル 樹脂膜(バインダ層12)を形成し、アクリル樹� �膜上に実施例1と同じ無電解めっき法により� ��さ100nmの銀(Ag)膜を形成した。

 (実施例6(A6))
 算術平均粗さ(Ra)が0.29μmで、算術平均うね� �(Wa)が0.33μmの表面性状を付与した冷間圧延鋼 板上に、実施例1と同じ無電解めっき法によ� �厚さ100nmの銀(Ag)膜を形成した。

 (実施例7(A7))
 算術平均粗さ(Ra)が0.3μmで、算術平均うねり (Wa)が2.5μmの表面性状を付与した冷間圧延鋼� �上に、蒸着法により、真空度を約1×10 ^-3 Paとし、基板加熱を約300Kとして、厚さ0.05μm� �アルミニウム(Al)膜(光反射層13)を形成した。

 (比較例1(B1))
 算術平均粗さ(Ra)が0.05μmで、算術平均うね� �(Wa)が0.15μmの表面性状を付与した冷間圧延鋼 板上に、実施例1と同じ無電解めっき法によ� �厚さ100nmの銀(Ag)膜を形成した。

 (比較例2(B2))
 算術平均粗さ(Ra)が0.2μmで、算術平均うねり (Wa)が3.2μmの表面性状を付与した冷間圧延鋼� �上に、実施例1と同じ無電解めっき法により� ��さ100nmの銀(Ag)膜を形成した。

 (比較例3(B3))
 算術平均粗さ(Ra)が0.49μmで、算術平均うね� �(Wa)が0.3μmの表面性状を付与した冷間圧延鋼� ��上に、実施例1と同じ無電解めっき法により 厚さ100nmの銀(Ag)膜を形成した。

 (比較例4(B4))
 算術平均粗さ(Ra)が0.6μmで、算術平均うねり (Wa)が1.1μmの表面性状を付与した冷間圧延鋼� �上に、実施例1と同じ無電解めっき法により� ��さ100nmの銀(Ag)膜を形成した。

 (特性評価)
 各試料について、算術平均粗さ(Ra)、算術平 均うねり(Wa)を測定し、さらに、正反射率及� �光反射投影幅(S)を測定した。測定結果は図3� ��表にまとめて記載されている。

 (算術平均粗さ(Ra)、算術平均うねり(Wa)の評� ��方法及び条件)
 算術平均粗さ(Ra)、及び算術平均うねり(Wa)� �JISB0601に規定された方法により、表1に記載� �条件で測定した。

 (正反射率の評価方法及び条件)
 正反射率は、例えば光ダクト内における光� ��送性能を表す指標であり、正反射率が大き� ��ほど光伝送効率は高い。

 正反射率は、実測された全反射率から、� ��じく実測された拡散反射率を差し引いて求� ��られる。その全反射率及び拡散反射率は、� ��光測色計(ミノルタ社製、型式CM-3500d、波長: 550nm)を使用し、JISZ8722の条件(c)の規定に基づ� ��測定した。実用的な光伝送効率に対応する� ��反射率が88%以上を合格とした。

  (光反射投影幅(S)の評価方法及び条件)
 光反射投影幅(S)は眩しさの程度を表す指標� ��あり、光反射投影幅(S)が大きいほど、正反� ��の一部が拡散反射に移行し反射光の眩しさ� ��軽減されることになる。

 光反射投影幅(S)は、図7に示す測定法によ り測定することができる。その測定法におい ては、同図に示すように、測定試料23の表面� ��対してレーザ光線27(測定試料面における投� ��円25の長径が5mm)を角度45°で照射し、その反 射光線を投影円25から30cm離れた位置に垂直に 立設した投影スクリーン26に向けて投影する� ��

 その結果、投影スクリーン26に、レーザ� �線の反射投影楕円24が測定試料23の表面性状� ��対応する反射投影幅(S:楕円の長径)で投影さ れる。測定試料表面において算術平均うねり (Wa)で表されるうねりが大きくなるに従い、� �射投影幅が大きくなるとともにその輪郭が� �瞭でなくなる。

 本実施形態においては、反射光が眩しく� ��じられなくなる光反射板について、この光� ��射投影幅(S)が12mm以上を合格とした。図3の� �の評価欄において、正反射率が88%以上、及� �光反射投影幅(S)が12mm以上を満足する試料を� ��格の記号○で示し、いずれか一つでも満足� ��ない試料を不合格の記号×で示した。

  (評価結果)
 正反射率により算術平均粗さ(Ra)及び算術平 均うねり(Wa)を評価(評価1)し、光反射投影幅(S )により算術平均粗さ(Ra)及び算術平均うねり( Wa)を評価(評価2)した。

 (評価1)
 図4は、図3の表の測定結果を用いて作成し� �、算術平均粗さ(Ra)と正反射率との関係を示� ��グラフである。グラフ中に記入した数字は� ��料番号を示す。グラフでは各試料ごとに算� ��平均うねり(Wa)の範囲が分かるように表示し てある。白丸(○)は算術平均うねり(Wa)が0.05~2 .5μmの範囲にある試料を示し、黒丸(●)は算� �平均うねり(Wa)が3.2μmの試料を示す。

 図4によれば、算術平均うねり(Wa)が0.05~2.5 μmの試料では、正反射率は算術平均粗さ(Ra)� �概ね一定の関係がある。すなわち、算術平� �粗さ(Ra)が0.3μm以下では、正反射率は88%と十� ��に大きな値が確保されるが、算術平均粗さ( Ra)が0.3μmを超えると正反射率の低下が大きく なる。したがって、十分に大きな、反射によ る光伝送効率を確保するためには、光反射層 13の膜面の算術平均粗さ(Ra)の上限を0.3μmとす ることが好ましい。

 一方、算術平均うねり(Wa)が3.20μmの試料(� ��較例2(●印))では、算術平均粗さ(Ra)が0.3μm� �下であっても、正反射率は85.6%と低く、反射 による光伝送効率が良くない。

 (評価2)
 次に、図5は、図3の表の測定結果を用いて� �成した、算術平均うねり(Wa)と光反射投影幅( S)の関係を示すグラフである。グラフ中に記� ��した数字は試料番号を示す。

 図5によれば、算術平均粗さ(Ra)が0.1~0.3μm� ��各試料では、光反射投影幅(S)は算術平均う� ��り(Wa)が0.2μm付近で大きく上昇し、算術平均 うねり(Wa)が0.3μm以上で合格値である12mm以上� ��なる。

 一方、比較例3、4では、光反射投影幅(S)� �28mm、35mmと大きく、眩しさ軽減の点では良好 であるが、正反射率は88%未満であり、光伝送 効率が劣る。

 また、算術平均粗さ(Ra)が0.1μm未満である 比較例1は、正反射率は高いが、光反射投影� �(S)が12mm未満となっており、眩しさは軽減さ� ��ない。

 また、アルミニウム基板を使用した実施� ��2及び3、基板11と光反射層13の間にバインダ� ��(アクリル樹脂)12を介在させた実施例5、及� �光反射層13としてアルミニウム膜を使用した 実施例7も、表面性状(算術平均粗さ(Ra)及び算 術平均うねり(Wa))を所定の範囲に設定するこ� ��により、十分に大きな光反射投影幅(S)を得� ��ことができ、よって、眩しさの軽減効果が� ��る。

 以上のように、本発明の実施の形態の光� ��射板によれば、銀或いは銀合金の膜、又は� ��ルミニウム或いはアルミニウム合金の膜か� ��なる光反射層13を備えているので、特に可� �光全域にわたって反射効率が優れている。

 また、光反射層13表面の算術平均粗さ(Ra)� ��0.10~0.30μmと小さいため、正反射による光反� ��率を高く維持することができる。しかも、� ��じ光反射層13の表面に算術平均うねり(Wa)を� ��け、かつ算術平均うねり(Wa)の範囲を0.3~2.5μ mとしているため、正反射による光反射率を� �下させずに光の拡散反射を起こさせること� �できる。

 これにより、正反射による光反射率を高� ��維持しつつ、反射光の眩しさを軽減するこ� ��ができる。

 (3)本発明の第2の実施の形態に係る光反射装 置の説明
 (i)光ダクト
 図8は、本発明の第2の実施の形態に係る光� �クトの構成を示す断面図である。図8では、� ��際に屋内と屋外とを仕切る家の屋根31に設� �された光ダクト103を示す。

 光ダクト103は、屋外に設けられた採光部3 2と、屋内に設けられた放光部34と、採光部32� ��放光部34とを結ぶ導光部33とを有する。導光 部33の仕切り壁33aの内面は、図6(c)に示すよう な光反射面を有する。

 仕切り壁33aは、図1(a)に示す光反射板101又 は図1(b)に示す光反射板102を用いて作製され� �いる。例えば、基板11として、比較的厚い金 属板、又はプラスチック板を採用した場合は 、光反射層側を内壁面としてこれらの板自体 をダクトの形に成形して設置することができ る。一方、基板11として、箔と呼ばれる薄い� ��属板、又はプラスチックフィルムなどを採� ��した場合は、剛性の高い別部材で製作した� ��ダクト成形体の内壁面に貼着施工する。

 この実施例の光ダクトによれば、光ダク� ��内壁の光反射面において算術平均粗さ(Ra)及 び算術平均うねり(Wa)の範囲が適正に規定さ� �ているため、採光部32から採りこまれた太陽 光線を、光ダクト103の内壁で拡散反射させな がら高い反射伝送効率を維持して伝播させる ことができる。図8に示すように、光は、光� �クト内で拡散反射により光線束を広げなが� �伝播するため、放光部34では均一に光線が放 射されるようになる。これにより、照明ムラ を防止できるとともに、照明光の眩しさも軽 減することができる。

 以上、実施の形態によりこの発明を詳細� ��説明したが、この発明の範囲は上記実施の� ��態に具体的に示した例に限られるものでは� ��く、この発明の要旨を逸脱しない範囲の上� ��実施の形態の変更はこの発明の範囲に含ま� ��る。