明 細 書

発明の名称 ： 磁心および磁心の製造方法

技術分野

[0001] 本発明は磁心および磁心の製造方法に関する 。

背景技術

[0002] 従来から、 家電機器、 産業機器、 車両など多種多様な用途において、 イン ダクタ、 トランス、 チョーク等のコイル部品が用いられ、 コイル部品は、 磁 心に敷設されたコイルで構成されていて、 かかる磁心には、 磁気特性、 形状 自由度、 価格に優れるフェライ トが広く用いられている。

[0003] また、 近年、 電子機器等の電源装置の小型化が進み、 更に多様な環境下で も使用可能であることが求められるようにな った。 その結果、 小型 ·低背で あって、 1 30 ^° 〇を超える高温の環境下で、 かつ大電流に対しても使用可能 なコイル部品の要求が強くなっている。 この様なコイル部品には、 フェライ 卜と比較してキュリー温度が高くて飽和磁束 密度も大きい金属系の軟磁性材 料を使用した磁心の採用が進んでいる。 金属系の軟磁性材料としては、 例え ば 6 -3 1系、 6 -1\1 1系、 6 -3 1 -八 1系、 6 -〇 「一八 1系 合金などの磁性粒子が用いられている。

[0004] 一般に焼結により製造されるフェライ ト磁心や、 金属系の軟磁性材料を用 いた圧粉磁心は微細な隙間や空孔を備えた多 孔質となり易いことが知られて いる。 特許文献 1ではフェライ ト磁心の微細な隙間に接着剤が染み込むのを 防ぐように、 磁心の表面にガラス層を設けることが記載さ れている。 また特 許文献 2には、 金属系の軟磁性材料を用いた圧粉磁心の空孔 部分に浸透防止 材料を充填して、 接着剤等の浸透を防止することが記載されて いる。

先行技術文献

特許文献

[0005] 特許文献 1 :特開 201 1 -01 4730号公報

特許文献 2 :特開 201 3-045926号公報 \¥0 2020/175367 2 卩（：17 2020 /007040 発明の概要

発明が解決しようとする課題

[0006] 特許文献 1や特許文献 2では、 多孔質の磁心に対して封孔処理を行うこと で接着剤の浸透を抑制する。 しかしながら、 磁心の形状は複雑で、 成形時の 密度差等から空孔の存在量の偏りが生じ易く 、 またガラス層等の浸透防止用 材料による皮膜の形成状態や充填状態もまた 異なり易い。 そのため、 浸透抑 止の効果が十分に得られない場合があった。 そもそも封孔処理後の磁心が十 分な浸透抑止性能を有するかの判断は容易で はなく、 実際に接着剤等を塗布 して浸透状態を確認するしかなかった。

[0007] そこで本発明では、 浸透抑止性能の優れた磁心を提供することを 目的とす る。

課題を解決するための手段

[0008] 本発明の一形態によれば、 表面の少なくとも一部にシリカ質皮膜で被覆 さ れた被覆面を有し、 前記被覆面における山頂点の算術平均曲 （3 〇 : I 3 0 2 5 1 7 8） 以下の磁心を提供できる。 これによれば 、 浸透抑止性能の優れた磁心を提供することが できる。

[0009] 本発明の一形態においては、 前記磁心が、 6 _ 1\/1 （IV!は 6よりも酸化 し易い金属） 系合金の磁性粒子どうしが前記磁性粒子由来 の酸化物を介して 結合した構造を有するのが好ましい。

[0010] 本発明の一形態においては、 前記シリカ質皮膜がシロキサン結合 （一 3 I

- 0 - 3 I —結合） を含むのが好ましい。

[001 1 ] 本発明の一形態おいては、 前記酸化物は前記 IV!を含み、 前記酸化物に含ま れる1\/1が八 丨又は〇 の少なくとも一方であるのが好ましい。

[0012] 本発明の一形態おいては、 前記被覆面に形成された電極を有するのが好 ま しい。

[0013] 本発明の別の形態によれば、 磁心の少なくとも一部をシリカ質皮膜で被覆 し、 山頂点の算術平均曲 （3 〇 : I 3 0 2 5 1 7 8）

以下である被覆面を形成する工程と、 前記被覆面に電極を形成する工程と、 \¥0 2020/175367 3 卩（：171? 2020 /007040

を備える磁心の製造方法を提供することが できる。 これによれば、 浸透抑止 性能の優れた被覆面の上に電極を形成するこ とができ、 磁心の信頼性や歩留 まりの向上が期待できる。

［0014］ 本発明の別の形態おいては、 前記磁心が、 6 _ 1\/1 （IV!は 6よりも酸化 し易い金属） 系合金の磁性粒子どうしが前記磁性粒子由来 の酸化物を介して 結合した構造を有することが好ましい。

［0015］ 本発明の別の形態おいては、 前記シリカ質皮膜がシロキサン結合 （一 3 I - 0 - 3 I —結合） を含むことが好ましい。

［0016］ 本発明の別の形態おいては、 前記酸化物は前記 1\/1を含み、 前記酸化物に含 まれる 1\/1が八 丨又は〇 「の少なくとも一方であることが好ましい。

［0017］ 本発明の別の形態おいては、 前記シリカ質皮膜は、 磁心の表面にシリカ質 皮膜形成用処理液を塗布し硬化させる工程を 1回以上行って形成するのが好 ましい。

発明の効果

［0018］ 本発明によれば、 浸透抑止性能が優れた磁心を提供することが でき、 磁心 の信頼性や歩留まりの向上に寄与することが できる。 また、 本発明よれば、 浸透抑止性能の優れた被覆面の上に電極を形 成することができ、 磁心の信頼 性や歩留まりの向上に寄与することができる 。

図面の簡単な説明

［0019］ ［図 1］シリカ質皮膜で被覆された被覆面の山頂� �の算術平均曲 （3 〇 : I 3 0 2 5 1 7 8） と浸透抑止性能との関係を説明するためのグ ラフである。

［図 2］シリカ質皮膜が被覆されていない磁心の� �面を拡大した 3巳 IV!画像であ る。

［図 3］シリカ質皮膜で被覆された磁心の被覆面� �拡大した 3巳 IV!画像である。 発明を実施するための形態

［0020］ 以下、 本発明の実施形態について具体的に説明する が、 本発明はこれに限 定されるものではない。

［0021］ 本実施形態の磁心は、 ！\1 丨系フヱライ ト等のセラミック系の軟磁性材料や \¥02020/175367 4 卩（：171? 2020 /007040

、 前述の金属系の軟磁性材料の磁性粒子が用い られた多孔質なものであり、 その表面の少なくとも一部をシリカ質皮膜で 被覆したものである。 その被覆 面における山頂点の算術平均曲 （3 〇 : 1 3025 1 78） を 37000 以下とすることで、 被覆面の表面がなだらかな形状となり、 それに相 応して被覆面の上に塗布される接着剤等の浸 透が抑制された浸透抑止性能が 向上した磁心とすることができる。 被覆面の表面の性状を立体的に評価する 山頂点の算術平均曲 （3 〇 : 1 3025 1 78） は国際標準化機構の丨 3 025 1 78に規定され、 後述するレーザー顕微鏡等の計測機器によっ て容 易に計測可能である。

[0022] 1 3025 1 78には立体的な面粗さのパラメータとして、 他にも算術平 均高さ 33、 最大高さ 32、 アスペクト比 31: 「、 展開面積比 3 「などが あるが、 その内、 表面の少なくとも一部がシリカ質皮膜で被覆 された被覆面 を有する磁心において、 被覆面を山頂点の算術平均曲 3 〇で規定される特 有の表面プロファイルとすることにより、 浸透抑止性能に優れた磁心を提供 できるとの知見を得た。

[0023] 本実施形態の磁心は、 空孔率が 5〜 25%である多孔質のものを用いるこ とができる。 金属系の軟磁性材料としては、 例えば ₆ と、 ₆ よりも酸化 しやすい元素 IV!を含有する軟磁性合金の磁性粒子とするの が好ましい。 磁心 の軟磁性材料の第 1の態様として、 IV! （ I及び（3 〇 の和を 1 00 質量％として、 I を 3質量％以上且つ 1 6. 0質量％以下、

%以上且つ 7. 0質量％以下で含み、 残部が ₆ 及び不可避不純物である軟 磁性合金であるのが好ましい。

[0024] また、 磁心の軟磁性材料の第 2の態様としては、 6、 IV! （八 I または〇 「） 、 3 丨の和を 1 00質量％として、 IV!を 1. 5質量％以上且つ 8質量％ 以下、 3 丨 を 1質量％超え且つ 7質量％以下で含み、 残部が ₆ 及び不可避 不純物である軟磁性合金であるのが好ましい 。

[0025] なお上記した第 1の態様や第 2の態様において、 CやMn、 、 3、 〇、

!\1 し ！\!などを不可避不純物として含みうる。 これらの不可避不純物の含有 \¥0 2020/175367 5 卩（：171? 2020 /007040

量は、 それぞれ、 0 £〇. 0 5質量％、 質量％、 0 2質量 %、 3 £〇. 0 2質量％、 0 £〇. 5質量％、 1\1 丨 £ 0 . 5質量％、 1\! £ 0 . 1質量％であることが好ましい。 前記第 1の態様では、 3 丨 についても、 不可避的不純物として〇. 5質量％以下で含まれる場合がある。

[0026] 軟磁性合金の磁性粒子の形態も特に限定する ものではないが、 例えば、 流 動性等の観点からは、 所定組成に調整された溶湯から、 比較的球状の粒子が 得られやすいアトマイズ法による磁性粒子を 用いることが好ましい。 ガスア トマイズ、 水アトマイズ等のアトマイズ法は、 展性や延性が高く、 粉砕しに くい合金の磁性粒子作製に好適である。

[0027] また磁性粒子の平均粒径 （ここでは、 累積粒度分布におけるメジアン径口

5 0を用いる） は、 これを限定するものではないが、 例えば、 1 以上、

1 0 0 以下の平均粒径を有するものを用いることが できる。 なお磁性粒 子を成形金型に充填した際に、 粒子径の大きな粒子どうしが隣り合うと、 そ の粒間に大きな隙間が形成されて充填率が上 がらず、 加圧成形により得られ る成形体の密度が上がらない傾向にある。 このため、 磁性粒子を分級し、 粒 子径の大きな粒子を除くことが好ましい。 分級の方法としては、 ふるい分け 分級などの乾式分級を用いることができ、 少なくとも 3 2 アンダーの （ すなわち、 目開き 3 2 の篩を通過した） 磁性粒子を得ることが好ましい 。 平均粒径を小さくすることで、 磁心の強度、 磁心損失、 高周波特性が改善 されるので、 平均粒径 （メジアン径口 5 0） は、 さらに好ましくは 1 5 以下である。 一方、 平均粒径が小さい場合は透磁率が低くなるた め、 平均粒 径 （メジアン径口 5 0） は、 より好ましくは 5 以上である。

[0028] 磁性粒子はバインダと混合し、 造粒によって顆粒とすることが好ましい。

それにより磁心に成形する際に、 金型内での流動性や充填性を向上できるし 、 加圧成形の際に磁性粒子同士を結着させ、 成形後のハンドリングに耐える 強度を成形体に付与することも出来る。 バインダの種類は特に限定されない が、 例えば、 ポリエチレンやポリビニルアルコール、 アクリル樹脂などの有 機バインダを使用できる。 熱処理後も残存する無機系バインダの併用も 可能 \¥0 2020/175367 6 卩（：171? 2020 /007040

である。

[0029] バインダの添加量は、 磁性粒子間にバインダが十分に行きわたり、 成形体 の強度を十分に確保できる程度であればよい が、 バインダの添加量が多過ぎ ると、 成形体の密度や強度が低下する傾向にある。 かかる観点から、 バイン ダの添加量は、 磁性粒子 1 〇〇重量部に対して、 〇. 2〜 1 0重量部にする ことが好ましく、 〇. 5〜 3 . 0重量部にすることがより好ましい。

[0030] 磁性粒子とバインダとの混合方法は、 特に限定されるものではなく、 従来 から知られている混合方法や混合機を用いる ことができる。 また、 造粒方法 としては、 例えば転動造粒や噴霧乾燥造粒などの湿式造 粒方法を採用できる 。 中でもスプレードライヤーを用いた噴霧乾燥 造粒が好ましく、 これによれ ば顆粒の形状が球形に近付き、 また加熱空気に曝される時間が短く、 大量の 顆粒を得ることができる。

[0031 ] 得られる顆粒は、 嵩密度： ·！ . 5 ~ 2 . 平均粒径 （

0 5 0） : 6 0〜 1 5 0 であることが好ましい。 このような顆粒によれ ば、 成形時の流動性に優れるとともに、 磁性粒子間の隙間が小さくなって金 型内への充填性が増し、 その結果、 成形体が高密度になって透磁率の高い磁 心が得られる。 所望の大きさの顆粒径を得るために、 振動篩などによる分級 が使用できる。

[0032] また、 加圧成形時の顆粒と成形金型との摩擦を低減 させるために、 ステア リン酸やステアリン酸塩などの潤滑剤を添加 することが好ましい。 潤滑剤の 添加量は、 磁性粒子 1 〇〇重量部に対して〇. 1〜 2 . 0重量部とすること が好ましい。 潤滑剤は、 金型に塗布することも可能である。

[0033] 磁性粒子の顆粒は加圧成形に供される。 加圧成形では、 油圧プレスやサー ボプレスといったプレス機械と成形金型を用 いて、 トロイダル形状や直方体 形状などの所定形状に混合粉を成形する。 この加圧成形は、 室温成形でもよ いし、 バインダの材質によっては、 バインダが消失しない程度であって、 バ インダが軟化するガラス転移温度付近まで顆 粒を加熱して行う温間成形でも よい。 加圧成形により得られた成形体における磁性 粒子は、 互いに点接触あ \¥0 2020/175367 7 卩（：171? 2020 /007040

るいは面接触し、 部分的に空隙を介して隣接する。 成形体の密度は 5 . 6 X が好ましい。

[0034] 成形体に対する熱処理として 6 5 0 °〇以上 9 0 0 °〇以下の温度で焼鈍が実 施される。 焼鈍は、 大気中、 または酸素と不活性ガスとの混合気体中、 ある いは水蒸気を含む雰囲気中など、 酸素を含む雰囲気中で行われ、 中でも大気 中での熱処理が簡便で好ましい。 酸化物は、 熱処理時の磁性粒子と酸素との 反応により得られ、 磁性粒子の自然酸化を超える酸化反応によっ て生成され る。 かかる酸化物が生成されることにより、 優れた絶縁性や耐食性を有して 、 多数の磁性粒子間の粒界として堅固に結合さ れた高強度の磁心が得られる 。 また、 加圧成形で導入された応力歪を緩和して良好 な磁気特性が得られる

[0035] 軟磁性合金を構成する IV!元素の Iや（3 「は、 ₆ や他の非鉄金属と比較 して〇 （酸素） との親和力が大きい。 そのため、 熱処理時には、 大気中の〇 やバインダに含まれる〇が磁性粒子の表面近 傍の Iや 0 「と優先的に結合 し、 化学的に安定な I酸化物や 0 「酸化物、 あるいは他の非鉄金属との複 合酸化物として磁性粒子の表面に生成される 。 IV!元素を含む酸化物が磁性粒 子の表面に生成されることにより、 耐食性に優れるとともに、 磁性粒子の絶 縁性が高められ、 渦電流損失を低減して磁心の比抵抗を向上で きる。 なお、 よりも八 丨のほうが〇との親和力が大きいため、 IV!元素として八 丨 と〇 「を含む場合、 形成される酸化物の程度は I酸化物が優位となり、 0 「酸 化物は抑えられる傾向がある。 そして磁心の表面は磁性粒子の酸化物で覆わ れたものとなる。

[0036] 熱処理を経て得られた磁心において、 占積率 （相対密度） は 7 5〜 9 5 % の範囲内であることが好ましい。 このような磁心の空孔率は 5 %〜 2 5 %と なる。 なお占積率 （相対密度） は、 磁心の密度をその寸法および質量から算 出し、 得られた磁心の密度を、 磁性粒子の真密度で除して算出する。 磁性粒 子の真密度は、 同組成で溶解して作製したインゴッ トの密度を用いればよい \¥0 2020/175367 8 卩（：171? 2020 /007040

[0037] 次いで、 得られた磁心の表面にシリカ質皮膜を形成す る。 シリカ質皮膜は

3つの〇と 3 丨がシロキサン結合 （一 3 丨 一〇一 3 丨 一） した主鎖を有する 分子構造を有する。 シリカ質皮膜は （一 3 丨 _〇_ 3 丨 _） で示される結合 を有していれば良く、 また （一 3 丨 - 0 -） で示される結合が繰り返して連 続に結合していても良い。 このようなシリカ質皮膜を磁心の表面に形成 する 方法としては、 アルコキシシランオリゴマーのゾルを加水分 解により縮合反 応させてゲル化するゾルーゲル法を用いた低 温法が好ましい。 シリカ質皮膜 は、 アルコキシシランオリゴマー溶液とコロイダ ルシリカを含むシリカ質皮 膜形成用処理液の液中に磁心を浸潰し、 またはシリカ質皮膜形成用処理液を 磁心に噴霧した後、 硬化処理を行うことにより形成するのが好ま しい。 シリ 力質皮膜形成用処理液の溶媒は、 アルコール系溶媒、 グリコールエーテル系 溶媒など、 親水性の有機溶媒が好ましい。 シリカ質皮膜自体が耐熱性に優れ 、 高強度であり、 また磁心の表面の全体を覆うことで耐食性を 向上すること が出来る。

[0038] 前述の通り、 磁性粒子の酸化物によって磁心の表面は酸化 物の皮膜で覆わ れた状態であり、 この皮膜には磁性粒子由来の金属元素と〇が 結びついた状 態と、 金属元素と水酸基 （〇1 ^~ 1） とが結びついた状態とが存在している。 磁 心表面の水酸基や酸化物とシリカ質皮膜中の 水酸基とが共有結合やイオン結 合等の化学結合することで、 磁性粒子とシリカ質皮膜との接着力を高める こ とができ、 もって磁心とシリカ質皮膜とが密着させるこ とができる。

[0039] また、 磁心の表面の磁性粒子間の隙間を通じてシリ カ質皮膜形成用処理液 が及んだ磁心内部の空孔にもシリカ質皮膜が 形成される。 シリカ質皮膜によ って磁心内部の空孔が埋まるとともに、 磁心表面 （被覆面） ではシリカ質皮 膜の形成によってなだらかな形状となる。 つまり、 被覆面の状態を山頂点の 算術平均曲 （3 〇 : 1 3 0 2 5 1 7 8） で定量化することで磁心の封孔状 態を容易に確認することが可能となる。 被覆面における山頂点の算術平均曲 （3 〇 : 丨 3 0 2 5 1 7 8） が 3 7 0 0 0 01 01 以下であれば、 浸透抑止 性能が優れた磁心とすることができる。 なお、 磁心をシリカ質皮膜形成用処 \¥0 2020/175367 9 卩（：171? 2020 /007040

理液に浸潰させた状態で脱泡処理し、 真空状態を解除する真空含侵法などの 処理を行うことで、 一層磁心にシリカ質皮膜形成用処理液を含浸 させること が出来る。

[0040] 磁心へのシリカ質皮膜形成用処理液の塗布方 法は、 例えば、 ディップスピ ンコート法、 ディップコート法、 スプレーコート法などの公知の方法に従っ て行えば良く、 特に限定されない。 なお、 シリカ質皮膜形成用処理液の粘度 によっては 1 0 0〜 2 0 0 °〇の温度に調整して塗布しても良い。 硬化処理は 、 例えば、 室温で硬化させても良いが、 4 0〜 2 0 0 ^° 〇程度の温度下におく ことで硬化を促進しても良い。 磁心の表面に形成するシリカ質皮膜の膜厚は 、 〇. 5〜 1 〇 程度の膜厚とすることが好ましい。 シリカ質皮膜の膜厚 は、 磁心表面へのシリカ質皮膜形成用処理液の塗 布と硬化を繰り返すことで 調整可能である。 膜厚が厚くなるに従って、 皮膜内の残留応力で皮膜の表面 側にひびが生じ易くなる。 硬化速度を緩やかにすることによってひび発 生を 抑制することは出来るが、 生産性を考慮すれば膜厚は 5 以下であるのが 好ましく、 より好ましくは 3 以下である。

[0041 ] 磁心の被覆層の上に、 電極を形成して、 電極を備える磁心を構成すること ができる。 シリカ質皮膜で被覆され、 山頂点の算術平均曲 （3 〇 : I 3 0 2 5 1 7 8） 以下とされた被覆層は、 浸透抑止性能が優 れ、 安定して電極を形成することができる。 電極材料としては、 八 ₉ 、 〇リ 、 八 I等 （その合金も含む） の導電性材料を用いることができる。 また、 電 極の形成方法としては、 例えば 銅合金、 丨合金、 ステンレス等 の金属端子を接着固定する方法や、 スパッタリング法、 イオンプレーティン グ法、 あるいは導体べーストを用いた印刷法、 転写法、 ディップ法などの方 法で膜状に電極を形成しても良い。

実施例

[0042] 磁性粒子として、 八 丨 を 5質量％、 残部を

e A \ C 「アトマイズ粉末 （平均粒径 0 5 0 = 1 〇 ） を準備した。 バイ ンダとして 八 （株式会社クラレ製ポバール 八_ 2 0 5） 水溶液、 溶 \¥0 2020/175367 10 卩（：171? 2020 /007040

媒としてイオン交換水を使用し、 それらを撹拌装置に投入し、 攪拌混合して スラリーとした。 アトマイズ粉末 1 0 0重量部に対して、 八固形分は 0 . 7 5重量部、 スラリー濃度が 8 0 ％となるよう、 バインダとイオン交 換水の配合比を調整した。 スラリーをスプレードライヤー装置で噴霧乾 燥し た。 スプレードライヤー装置内部でスラリーを噴 霧し、 2 4 0 ^° 〇の熱風でス ラリーを瞬時に乾燥させて、 装置下部から粒状になった顆粒を回収した。 得 られた顆粒の粗大粒を除去するため、 1 0 0メッシュのふるいを通し、 ふる い通し後の顆粒の平均粒径は 6 0 〜 8 0 の範囲内とした。 上記の各 造粒方法によって得られた顆粒に、 顆粒 1 〇〇重量部に対して〇. 4重量部 の割合でステアリン酸亜鉛を添加し、 混合機にて混合して成形用の顆粒を得 た。

［0043］ 上記で得られた顆粒を金型に充填し、 油圧プレス機を用いて 5 . 8 ₉ /〇

［0044］ 得られた成形体を 7 5 0 °〇 1時間、 大気中で熱処理を施して試料八、 試 料巳の磁心とした。 そして磁心の寸法および重量から密度を算出 した。

［0045］ 次に、 円柱状の磁心をステンレス製のメッシュ籠に 収めてシリカ質皮膜形 成用処理液に 1分間浸潰した。 液温は 2 3 ^° 〇であった。 シリカ質皮膜形成用 処理液には、 奥野製薬工業株式会社製 「〇 1 ₆ 〇 1 〇 「 3シリーズの封 孔剤を使用した。 浸潰中は籠を揺動させて磁心表面に付着した 気泡を取り除 いた。 その後、 磁心を遠心脱水機に投入し、 8 . 4 01 / 3の周速で付着した 余剰の封孔剤を取り除き、 7 0 ^° 〇の熱風で乾燥し硬化させた。 浸漬から乾燥 のコート処理工程を 1〜 3回繰り返す。 7 0 °〇の熱風乾燥においても縮合反 応が進みシリカ質皮膜が形成されるが、 未反応の部分が残るため、 コート処 理した後、 1 2 0 ^X2 0分の条件で再度硬化処理を実施して、 磁心の表面 の全面をシリカ質皮膜で覆った。

［0046］ 得られた磁心について表面粗さを測定した。 表面粗さ測定は、 株式会社キ —エンス製レーザー顕微鏡 ［＜— X 1 2 0を用いた。 倍率は 1 0 0倍で、 評 \¥0 2020/175367 1 1 卩（：171? 2020 /007040

価領域は 1 4 5 1 0 9 の領域とし、 断面曲線のレべリング （傾斜 調整） 、 平滑化処理を行い、 視野の異なる 5つの評価領域における平均の山 頂点の算術平均曲 （3 〇 : 1 3 0 2 5 1 7 8） を得た。 またシリカ質皮膜 が未形成の磁心についても同様にして山頂点 の算術平均曲 （3 〇 : I 3 0 2 5 1 7 8） を得た。 図 2はコート処理を行っていない試料 の表面を 1 0 0〇倍で観察した 巳 IV!画像であり、 図 3はコート処理を 2回行った試料八 の表面を 1 0 0 0倍で観察した 3巳 IV!画像である。

[0047] 磁心の封孔性を確認するのに、 インク吸収テストを採用した。 テストイン

を用いた。 磁心の表面にテストインクを塗布し、 その経過を動画で撮影した 。 塗布時から 2秒経過後の静止画にてテストインクとそれ� �外の領域をコン ピュータで二値化処理し、 観察面にてインクが吸収された割合から封孔 性を 判断した。 インク吸収が 3割以内の場合は良判定し、 3割超の場合は否判定 とした。

[0048] 磁心のシリカ質皮膜の被覆面について山頂点 の算術平均曲 （3 〇 : 丨 3 0 2 5 1 7 8） の測定結果と、 インク吸収テストの結果を纏めて表 1及び図 1 に示す。 なお表中、 インク吸収テストで良判定を〇、 否判定を Xとして示 している。

[0049] [表 1 ]

\¥02020/175367 12 卩（：171? 2020 /007040

[0050] 図 1 に示すように、 シリカ質皮膜で被覆された磁心の表面におい て山頂点 の算術平均曲 （3 〇 : 丨 3〇 25 1 78） が 370000101 以下である と、 インク吸収テストで良判定が得られるが、 37000 〇!_ ¹ 超だと否判 定となって、 容易に磁心の浸透抑止性能を評価することが 出来ることがわか る。 したがって、 シリカ質皮膜で被覆された被覆面の山頂点の 算術平均曲 （ 3 〇 : I 3025 1 78） が 37000 〇! ^-1 以下である磁心を用いるこ とにより、 浸透抑止性能の優れた磁心とすることができ る。