Title:
MANUFACTURING METHOD FOR TRANSPARENT CONDUCTIVE CARBON FILM, AND TRANSPARENT CONDUCTIVE CARBON FILM
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2011/115197
Kind Code:
A1
Abstract:
The disclosed method for the formation of a transparent conductive carbon film solves the problems of high temperature processing and long processing times, which are issues in graphene film deposition by thermal CVD, and uses a crystalline carbon film formed at lower temperatures and in less time using a graphene film. The disclosed method is characterised in that: the substrate temperature is set to 500°C or less; the pressure is set to 50 Pa or less; and a transparent conductive carbon film is deposited on the substrate surface of a copper or aluminium thin film by a microwave surface-wave plasma CVD process under a gas atmosphere in which an oxidation inhibitor for inhibiting the oxidation of the substrate surface is added to a mixed gas comprising a carbon-containing gas and an inert gas as an additive gas.
Inventors:
KIM Jaeho (1-1 Higashi 1-chom, Tsukuba-shi Ibaraki 65, 〒3058565, JP)
金 載浩 (〒65 茨城県つくば市東１－１－１ 中央第５ 独立行政法人産業技術総合研究所内 Ibaraki, 〒3058565, JP)
ISHIHARA Masatou (1-1 Higashi 1-chom, Tsukuba-shi Ibaraki 65, 〒3058565, JP)
石原 正統 (〒65 茨城県つくば市東１－１－１ 中央第５ 独立行政法人産業技術総合研究所内 Ibaraki, 〒3058565, JP)
KOGA Yoshinori (1-1 Higashi 1-chom, Tsukuba-shi Ibaraki 65, 〒3058565, JP)
古賀 義紀 (〒65 茨城県つくば市東１－１－１ 中央第５ 独立行政法人産業技術総合研究所内 Ibaraki, 〒3058565, JP)
TSUGAWA Kazuo (1-1 Higashi 1-chom, Tsukuba-shi Ibaraki 65, 〒3058565, JP)
金 載浩 (〒65 茨城県つくば市東１－１－１ 中央第５ 独立行政法人産業技術総合研究所内 Ibaraki, 〒3058565, JP)
ISHIHARA Masatou (1-1 Higashi 1-chom, Tsukuba-shi Ibaraki 65, 〒3058565, JP)
石原 正統 (〒65 茨城県つくば市東１－１－１ 中央第５ 独立行政法人産業技術総合研究所内 Ibaraki, 〒3058565, JP)
KOGA Yoshinori (1-1 Higashi 1-chom, Tsukuba-shi Ibaraki 65, 〒3058565, JP)
古賀 義紀 (〒65 茨城県つくば市東１－１－１ 中央第５ 独立行政法人産業技術総合研究所内 Ibaraki, 〒3058565, JP)
TSUGAWA Kazuo (1-1 Higashi 1-chom, Tsukuba-shi Ibaraki 65, 〒3058565, JP)
Application Number:
JP2011/056352
Publication Date:
September 22, 2011
Filing Date:
March 17, 2011
Export Citation:
Assignee:
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (3-1 Kasumigaseki 1-chome, Chiyoda-ku Tokyo, 21, 〒1008921, JP)
独立行政法人産業技術総合研究所 (〒21 東京都千代田区霞が関１－３－１ Tokyo, 〒1008921, JP)
KIM Jaeho (1-1 Higashi 1-chom, Tsukuba-shi Ibaraki 65, 〒3058565, JP)
金 載浩 (〒65 茨城県つくば市東１－１－１ 中央第５ 独立行政法人産業技術総合研究所内 Ibaraki, 〒3058565, JP)
ISHIHARA Masatou (1-1 Higashi 1-chom, Tsukuba-shi Ibaraki 65, 〒3058565, JP)
石原 正統 (〒65 茨城県つくば市東１－１－１ 中央第５ 独立行政法人産業技術総合研究所内 Ibaraki, 〒3058565, JP)
KOGA Yoshinori (1-1 Higashi 1-chom, Tsukuba-shi Ibaraki 65, 〒3058565, JP)
古賀 義紀 (〒65 茨城県つくば市東１－１－１ 中央第５ 独立行政法人産業技術総合研究所内 Ibaraki, 〒3058565, JP)
独立行政法人産業技術総合研究所 (〒21 東京都千代田区霞が関１－３－１ Tokyo, 〒1008921, JP)
KIM Jaeho (1-1 Higashi 1-chom, Tsukuba-shi Ibaraki 65, 〒3058565, JP)
金 載浩 (〒65 茨城県つくば市東１－１－１ 中央第５ 独立行政法人産業技術総合研究所内 Ibaraki, 〒3058565, JP)
ISHIHARA Masatou (1-1 Higashi 1-chom, Tsukuba-shi Ibaraki 65, 〒3058565, JP)
石原 正統 (〒65 茨城県つくば市東１－１－１ 中央第５ 独立行政法人産業技術総合研究所内 Ibaraki, 〒3058565, JP)
KOGA Yoshinori (1-1 Higashi 1-chom, Tsukuba-shi Ibaraki 65, 〒3058565, JP)
古賀 義紀 (〒65 茨城県つくば市東１－１－１ 中央第５ 独立行政法人産業技術総合研究所内 Ibaraki, 〒3058565, JP)
International Classes:
C23C16/26; C23C16/511; C23C16/54; H01B13/00
Attorney, Agent or Firm:
ETO Yasuko (KYOBASHI PATENT OFFICE, Kyobashi-toei building 7th Floor 14-4, kyobashi 1-chome, Chuo-k, Tokyo 31, 〒1040031, JP)
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Claims: