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Title:
MASK FOR FACE CARE
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2019/101753
Kind Code:
A1
Abstract:
The invention concerns a mask for face care, comprising a support (1) to be applied on a body surface including, at least in part, the face of a user, the support (1) comprising: a first face, termed the inner face (2), intended to be facing the body surface, a second surface, termed the outer surface (3), opposite the inner face (2) and characterised in that the inner face (2) of the support (1) has a plurality of regions, termed functional regions (6, 7, 8, 13), to be applied respectively on a target area (16, 17, 18) of the body surface, the plurality of so-called functional regions (6, 7, 8, 13) comprising an adhesive matrix (5) configured to hold the mask in contact with the body surface and - an active composition comprising an active substance, at least two so-called functional regions (6, 7, 8, 13) among the plurality of functional regions (6, 7, 8, 13) having an active composition different from each other. The present invention concerns the field of cosmetic or dermatological compositions for providing care to a body surface of a user, including, at least in part, the face.

Inventors:
YAKOUB, Abdel (52 avenue de la Pépinière, Bât. A2, ANTIBES, 06600, FR)
BIANCHI, Christophe (9 Avenue Montclar, NICE, 06100, FR)
Application Number:
EP2018/081973
Publication Date:
May 31, 2019
Filing Date:
November 20, 2018
Export Citation:
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Assignee:
FEELIGREEN (25 allée Pierre Ziller, VALBONNE, 06560, FR)
International Classes:
A45D44/00; B41F15/08
Domestic Patent References:
WO2016159477A12016-10-06
Foreign References:
US20160089534A12016-03-31
Other References:
None
Attorney, Agent or Firm:
BRIZIO DELAPORTE, Allison (CABINET HAUTIER, 20 Rue De La Liberte, NICE, 06000, FR)
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Claims:
REVENDICATIONS

1. Masque destiné au soin du visage comprenant un support (1 ) destiné à s’appliquer sur une surface corporelle comprenant au moins partiellement le visage d’un utilisateur, le support (1 ) comprenant :

une première face, dite face intérieure (2), destinée à être au regard de la surface corporelle, et

une deuxième surface, dite surface extérieure (3), opposée à la face intérieure

(2)

caractérisé en ce que la face intérieure (2) du support (1 ) comprend une pluralité de régions dites fonctionnelles (6, 7, 8, 13) destinées à être respectivement appliquées sur une zone cible (16, 17, 18) de la surface corporelle, la pluralité de régions dites fonctionnelles (6, 7, 8, 13) comprennent une matrice adhésive (5) configurée pour maintenir le masque en contact avec la surface corporelle et - une composition active comprenant un principe actif, au moins deux régions dites fonctionnelles (6, 7, 8, 13) parmi la pluralité de régions fonctionnelles (6, 7, 8, 13) comprennent une composition active différente l’une de l’autre.

2. Masque selon la revendication précédente dans lequel la matrice adhésive (5) est chargée par la composition active.

3. Masque selon l’une quelconque des revendications précédentes dans lequel la matrice adhésive (5) s’étend sur l’ensemble des régions fonctionnelles (6, 7, 8, 13).

4. Masque selon l’une quelconque des revendications précédentes dans lequel la matrice adhésive (5) s’étend sur l’ensemble de la la surface du masque destinée à être en contact surfacique avec la surface corporelle.

5. Masque selon l’une quelconque des revendications précédentes comprenant des ouvertures traversantes (4) destinées à être placées en regard au moins de la bouche et/ou des yeux et/ou de nez de l’utilisateur.

6. Masque selon l’une quelconque des revendications précédentes dans lequel les régions fonctionnelles (6, 7, 8, 13) s’étendent au regard des zones cibles (16, 17, 18) et symétriquement de part et d’autre d’un axe vertical (10) défini par un plan sagittal.

7. Masque selon l’une quelconque des revendications précédentes dans lequel les régions fonctionnelles (6, 7, 8, 13) s’étendent parallèlement les unes aux autres.

8. Masque selon la revendication précédente dans lequel les régions fonctionnelles (6, 7, 8, 13) s’étendent perpendiculairement à un axe vertical (10) défini par un plan sagittal.

9. Masque selon l’une quelconque des revendications précédentes dans lequel les régions fonctionnelles (6, 7, 8, 13) sont contiguës.

10. Masque selon l’une quelconque des revendications 1 à 9 dans lequel les régions fonctionnelles (6, 7, 8, 8, 13) sont espacées les unes des autres.

11. Masque selon l’une quelconque des revendications précédentes dans lequel le support (1 ) comprend une nappe en matière plastique souple.

12. Masque selon l’une quelconque des revendications précédentes dans lequel le support (1 ) comprend un matériau choisi parmi un film de poly(téréphtalate d'éthylène) (PET) ou un film de polyuréthane (PU).

13. Masque selon l’une quelconque des revendications précédentes dans lequel le support (1 ) a une épaisseur de 40 à 80 miti, de préférence de 40 à 60 miti, avec une préférence de 50 pm.

14. Masque selon l’une quelconque des revendications précédentes dans lequel la matrice adhésive (5) a une épaisseur de 0,5mm à 3mm.

15. Masque selon l’une quelconque des revendications précédentes dans lequel le support (1 ) comprend une pluralité de couples galvaniques séparés (11 ), chaque couple galvanique (11 ) comprenant une première électrode conductrice qui est une anode et une seconde électrode conductrice qui est une cathode,

16. Masque selon la revendication précédente dans lequel l'anode de chaque couple galvanique (11 ) comprend un premier métal et la cathode de chaque couple galvanique comprend un second métal différent du premier métal, le premier et le second métal ayant un potentiel standard différent.

17. Masque selon l’une quelconque des deux revendications précédentes dans lequel les couples galvaniques (11 ) sont agencés sur la face intérieure (2) du support (1 ).

18. Procédé de fabrication d’un masque selon l’une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce qu’il comprend une seule étape de dépôt de la matrice adhésive (5) chargée de la composition active de chaque région fonctionnelle (6, 7, 8, 8, 13) sur la face intérieure (2) du support (1 ).

19. Procédé de fabrication d’un masque selon la revendication précédente dans lequel l’étape de dépôt est réalisée par sérigraphie.

20. Procédé de fabrication selon l’une quelconque des deux revendications précédentes en combinaison avec l’une quelconque des revendications 15 à 17 comprenant une étape préalable à l’étape de dépôt comprenant une étape de formation des couples galvaniques (11 ) sur la face intérieure (2) du support (1 ).

21. Procédé de fabrication selon la revendication précédente dans lequel l’étape de formation des couples galvaniques est réalisée par impression d’encre conductrice.

Description:
« Masque destiné aux soins du visage »

DOMAINE DE L’INVENTION

L’invention concerne un masque destiné au soin du visage.

La présente invention concerne le domaine cosmétique ou dermatologique pour délivrer un soin à une surface corporelle d’un utilisateur comprenant au moins partiellement le visage.

ETAT DE LA TECHNIQUE

Le domaine de la cosmétique comprend des compositions diverses destinées notamment à améliorer l’aspect esthétique de la peau et en particulier du visage. Le visage est une des cibles principales des fabricants de cosmétiques du fait de l’attention portée à cette région par les utilisateurs. Le visage est une région de la surface corporelle particulière et unique en ce qu’elle regroupe sur de faibles dimensions des variations physiologiques très fortes des cellules et donc des variations de textures, d’aspects, de propriétés de la peau définissant des zones distinctes. Ces différentes zones du visage ont des besoins parfois différents. Ainsi, une composition purifiante pour cibler

la zone T, correspondant à la partie médiane du visage qui comprend le front, le nez et les côtés des narines, ainsi qu’éventuellement le menton, peut être asséchante pour les joues. Et inversement, une composition hydratante peut faire briller la zone T. Les soins nécessaires à ces différentes régions sont différents.

Des kits de traitements du visage proposant à l’utilisateur d’appliquer une composition sur une région puis une autre composition sur une autre région existent.

On a cependant pu constater une faible efficacité de ces kits. En effet, l’utilisateur est laissé seul avec les compositions et leurs applications sur les zones de traitements. En outre, les consignes d’application ne sont pas forcément respectées que ce soit pour les quantités, pour les zones d’applications, ou la méthode d’application. De plus, une asymétrie d’application est souvent constatée conduisant à des résultats décevants pour l’utilisateur.

Par conséquent, il est nécessaire de développer une solution moins complexe et assurant une meilleure satisfaction pour l’utilisateur.

RESUME DE L’INVENTION

A cet effet la présente invention concerne un masque, avantageusement cosmétique, destiné au soin du visage comprenant un support destiné à s’appliquer, directement ou indirectement, sur une surface corporelle comprenant avantageusement au moins partiellement le visage d’un utilisateur. Le support comprend une première face, dite face intérieure, destinée à être au regard de la surface corporelle et une deuxième surface, dite surface extérieure, opposée à la surface intérieure. La face intérieure du support comprend une pluralité de régions dites fonctionnelles destinées à être respectivement appliquées sur ou au regard d’une zone cible de la surface corporelle. La pluralité de régions dites fonctionnelles comprend - une matrice adhésive configurée pour maintenir le masque en contact avec la surface corporelle et - une composition active comprenant un principe actif, au moins deux régions dites fonctionnelles parmi la pluralité de régions fonctionnelles comprennent une composition active différente l’une de l’autre. La solution proposée permet d’apporter un soin ciblé à chaque zone devant être traitée, et ceci de manière globale et simultanée.

L’invention présente ainsi l’avantage de proposer un produit unique à utiliser pour le soin du visage possédant différentes régions fonctionnelles configurées pour apporter une composition active différente et ciblée pour chaque zone cible. En un seul geste, l’utilisateur traite simultanément des zones cibles avec des soins différents et adaptés. L’application de la composition active se fait sur une localisation ciblée et la quantité d’actif est prédéfinie évitant à l’utilisateur les doutes et les mauvaises applications des produits.

L’application des compositions actives et donc les traitements sont réalisés de manière avantageusement symétrique permettant des résultats satisfaisants.

Avantageusement, la matrice adhésive est chargée par la composition active. On entend par là que la matrice adhésive est mélangée avec la composition active. Ainsi, une matrice adhésive différente comprenant une composition active différente est agencée sur différentes régions dites fonctionnelles sur la face intérieure du support destinée à être au regard de la surface corporelle.

Le masque comprend avantageusement des ouvertures traversantes destinées à être placées au regard au moins des yeux et/ou du nez et/ou de la bouche. Ces ouvertures améliorent le confort d’utilisation du masque en évitant de couvrir les yeux et/ou la bouche et/ou le nez de l’utilisateur.

Selon une possibilité préférée, le masque recouvre la majorité de la surface du visage, plus précisément le front, le contour des yeux, les tempes, les joues, le menton, le nez.

Selon une possibilité alternative, le masque a une forme de loup et recouvre le front et le contour des yeux.

Suivant une variante, l’invention concerne un procédé de fabrication d’un masque tel que décrit ci-dessus comprenant une seule étape de dépôt, avantageusement par sérigraphie, de la matrice adhésive comprenant la composition active de chaque région fonctionnelle sur la face intérieure du support.

Ce procédé de fabrication permet de déposer les différentes matrices adhésives de chaque région fonctionnelle en une fois sans risquer qu’une matrice adhésive déposée sur une région fonctionnelle soit endommagée par les étapes ultérieures de dépôt. Par exemple que la matrice adhésive déposée colle à un écran suivant permettant de réaliser le dépôt de la matrice adhésive de la région fonctionnelle suivante.

De plus, ce procédé en une étape de sérigraphie permet de réduire le temps de fabrication, la main-d’œuvre nécessaire et donc les coûts de fabrication.

Suivant cette variante, l’invention concerne également un équipement de sérigraphie comprenant un cadre, avantageusement parallélépipédique, comprenant au moins deux encoches parallèles agencées transversalement chacune en regard l’une de l’autre sur une face intérieure de deux côtés opposés. L’équipement comprend au moins un séparateur destiné à coopérer avec les au moins deux encoches pour délimiter les régions fonctionnelles du masque. Les séparateurs sont avantageusement agencés perpendiculairement aux deux côtes opposés recevant les encoches.

Préférentiellement, l’équipement comprend un écran disposé sur le cadre pour définir la forme du masque et la zone d’application de la matrice adhésive. L’écran définit avantageusement la surface active du masque.

BRÈVE DESCRIPTION DES FIGURES

Les figures sont données à titre d'exemple et ne sont pas limitatives de l’invention. Elles constituent une représentation schématique de principe destinée à faciliter la compréhension de l’invention et ne sont pas nécessairement à l'échelle des applications pratiques.

La figure 1 représente une vue de face d’un masque selon un premier mode de réalisation.

La figure 2 représente une vue de face d’un masque selon un deuxième mode de réalisation. La figure 3 représente une vue de face d’un masque selon un troisième mode de réalisation.

La figure 4 représente une vue de face d’un masque selon un quatrième mode de réalisation.

La figure 5 représente l’application d’un masque selon le premier mode de réalisation sur le visage d’un utilisateur.

La figure 6 représente une vue en coupe d’un masque selon la figure 1.

La figure 7 représente une vue en coupe d’un masque selon la figure 3.

La figure 8 représente un équipement de sérigraphie adapté au procédé de fabrication d’un masque selon les deuxième et quatrième modes de réalisation.

DESCRIPTION DETAILLEE DE L’INVENTION

Avant d’entamer une revue détaillée de modes de réalisation de l’invention, sont énoncées ci-après des caractéristiques optionnelles qui peuvent éventuellement être utilisées en association ou alternativement.

Avantageusement, la matrice adhésive permet de maintenir à elle seule le contact entre le masque et la surface corporelle.

Avantageusement, la matrice adhésive est chargée par la composition active.

Avantageusement, la matrice adhésive s’étend sur l’ensemble des régions fonctionnelles, permettant ainsi d’assurer un bon maintien du masque sur la surface corporelle et un traitement de l’ensemble de la zone cible en regard.

Avantageusement, la matrice adhésive s’étend sur l’ensemble de la surface active. La surface active s'entend comme la totalité de la surface de la face interne du masque. La surface active est la surface du masque en contact de la surface corporelle.

Avantageusement, la surface corporelle inclut le visage.

Avantageusement, la surface corporelle inclut le cou et/ou la poitrine Avantageusement, le masque comprend des ouvertures traversantes, avantageusement pour le confort, destinées à être placées en regard au moins de la bouche et/ou des yeux et/ou du nez de l’utilisateur. Avantageusement, les régions fonctionnelles s’étendent au regard des zones cibles et symétriquement de part et d’autre d’un axe vertical défini par un plan sagittal, assurant un soin symétrique du visage donnant un résultat satisfaisant à l’utilisateur.

Avantageusement, les régions fonctionnelles s’étendent parallèlement les unes aux autres, permettant une simplicité de fabrication par exemple par sérigraphie.

Avantageusement, les régions fonctionnelles s’étendent perpendiculairement à un axe vertical défini par un plan sagittal.

Avantageusement, les régions fonctionnelles sont contiguës.

Avantageusement, les régions fonctionnelles sont espacées de 5 mm ou moins, préférentiellement, de 1 mm.

Avantageusement, le support comprend un matériau choisi parmi un film de poly(téréphtalate d'éthylène) (PET) ou un film de polyuréthane (PU).

Avantageusement, le support a une épaisseur de 20 à 125 miti, de préférence de 20 à 80 miti, avec une préférence de 80 pm.

Avantageusement, le support comprend une nappe en matière plastique souple.

Avantageusement, la matrice adhésive a une épaisseur de 0,5 à 3 mm.

Avantageusement, le support comprend une pluralité de couples galvaniques séparés, chaque couple galvanique comprenant une première électrode conductrice qui est une anode et une seconde électrode conductrice qui est une cathode.

Avantageusement, les couples galvaniques sont agencés sur la face intérieure du support.

Avantageusement, l'anode de chaque couple galvanique comprend un premier métal et la cathode de chaque couple galvanique comprend un second métal différent du premier métal, le premier et le second métal ayant un potentiel standard différent.

Avantageusement, les couples galvaniques sont agencés sur la face intérieure du support. Suivant une variante, l’invention concerne un procédé de fabrication d’un masque selon l’une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce qu’il comprend une seule étape de dépôt, avantageusement par sérigraphie, de la matrice adhésive chargée de la composition active de chaque région active sur la face intérieure du support.

Avantageusement, le procédé comprend une étape préalable à l’étape de dépôt comprenant une étape de formation des couples galvaniques, avantageusement par impression d’encre conductrice, sur la face intérieure du support.

Suivant une variante, l’invention concerne un équipement pour mettre en œuvre le procédé ci-dessus décrit caractérisé en ce qu’il comprend : - un cadre de sérigraphie comprenant au moins deux encoches parallèles agencées respectivement sur des faces intérieures en regard l’une de l’autre de deux côtés opposés du cadre et les au moins deux encoches sont disposées transversalement auxdits côtés, - au moins un séparateur destiné à coopérer avec les au moins deux encoches de sorte à séparer les régions fonctionnelles du masque.

Avantageusement, l’équipement comprend au moins une racle comprenant au moins une entaille et configurée pour coopérer avec le cadre et le au moins un séparateur.

Le masque selon l’invention comprend un support 1 comprenant une première face, également appelée face intérieure 2, et une deuxième face, également appelée face extérieure 3. La première face et la deuxième face sont opposées l’une à l’autre. La face intérieure 2 est destinée à être au regard de la peau de l’utilisateur. Préférentiellement, la face intérieure 2 est destinée à être en contact, direct ou indirect, avec la surface corporelle de l’utilisateur. On entend par contact direct que la face intérieure 2 est appliquée sur la surface corporelle tandis que lors d’un contact indirect, au moins une couche ou un élément est intercalé entre la face intérieure 2 et la surface corporelle. La surface corporelle s’entend comme la membrane cutanée c’est-à-dire la peau de l’utilisateur. La surface corporelle peut être diverses surfaces de la peau de l’utilisateur.

Selon l’invention, le masque est avantageusement souple, plus précisément, le support 1 est une nappe souple. La souplesse est telle que deux points opposés du pourtour peuvent être accolés, sans détérioration du support 1. De cette manière, le masque selon l’invention se conforme aisément à la zone d’application du corps où il est destiné à être appliqué et notamment aux formes du visage de l’utilisateur de sorte à assurer un contact surfacique suffisant entre le masque et la peau assurant un soin efficace

Le masque selon l’invention est destiné au soin du visage. Le masque peut avoir des applications cosmétiques et/ou dermatologiques. Le masque est destiné à être appliqué sur au moins une partie du visage, préférentiellement sur l’ensemble du visage. Suivant une possibilité, le masque peut également s’étendre au-delà du visage en direction du cou pour le recouvrir au moins partiellement. Le masque peut de manière cumulative ou alternative s’étendre en direction du décolleté c’est-à-dire le haut de la poitrine.

Le masque peut présenter différentes formes que ce soit un loup, c’est-à-dire un masque couvrant le pourtour des yeux ou un masque couvrant une grande surface d'un visage humain tel que représenté aux figures. Cela signifie que le support 1 a la forme d'un masque facial avec avantageusement des ouvertures 4 pour exposer au moins les yeux.

Les masques cosmétiques connus sont des compositions cosmétiques qui sont appliquées sur la peau d’un utilisateur pendant une certaine durée pour apporter un soin. Les compositions sont combinées avec des substrats tels que des non-tissés, du papier ou du film polymère. L’utilisation d’un substrat facilite l’application de la composition cosmétique pour l’utilisateur. En général, le substrat est imprégné d'une composition cosmétique et conditionné à la vente. La fonctionnalité de ces produits dépend principalement de la fonctionnalité de la composition cosmétique et plus directement des ingrédients actifs utilisés dans la composition cosmétique. Ainsi, avec les masques connus le traitement est le même sur toute la surface du masque, c’est-à-dire sur toute la surface de la peau traitée par la composition cosmétique. De manière caractéristique de l’invention, la face intérieure 2 du masque de l’invention comprend une surface active correspondant à la surface du masque destinée à être en contact surfacique avec la surface corporelle. La surface active comprend au moins deux régions dites fonctionnelles 6, 7, 8, 13. Une région dite fonctionnelle est destinée à être appliquée sur une zone cible 16, 17, 18 de la surface corporelle. Chaque région fonctionnelle 6, 7, 8, 13 comprend une composition active différente comprenant au moins un principe actif. Ainsi, chaque région fonctionnelle permet d’apporter un soin spécifique à la zone cible de la surface corporelle correspondante. La composition active est délivrée à la surface de la peau, puis au travers des couches supérieures de l’épiderme par migration passive.

Les régions fonctionnelles 6, 7, 8, peuvent présenter diverses formes adaptées aux zones cibles que le masque est destiné à traiter.

L’objet de l’invention permet de traiter chaque zone du visage avec par exemple une composition antiride pour le front et autour de la bouche, une composition anticerne en dessous de l’œil, une composition coup d’éclat at anti- imperfections pour les joues, le tout en même temps, en un seul geste.

Selon un premier mode de réalisation illustré aux figures 1 et 3, les régions fonctionnelles 6, 7, 8, 13 présentent des formes complémentaires des zones cibles 16, 17, 18 à traiter. Préférentiellement, les régions fonctionnelles s’étendent de manière symétrique de part et d’autre d’un axe vertical 10 défini par un plan sagittal. L’axe vertical 10 traverse le masque du front au menton.

Selon un deuxième mode de réalisation illustré aux figures 2 et 4, les régions fonctionnelles 6, 7, 8, 13 s’étendent parallèlement les unes aux autres. Les régions fonctionnelles sont sous forme de bandes avantageusement parallèlement les unes des autres. Les bandes s’étendent transversalement par rapport à l’axe vertical 10 décrit ci-dessus.

Suivant le mode de réalisation, les régions fonctionnelles 6, 7, 8, 13 sont soient contiguës, soient espacées.

Avantageusement, chaque région fonctionnelle comprend une matrice adhésive 5 notamment destinée à maintenir le masque en contact de la peau. Préférentiellement, la matrice adhésive 5 présente une épaisseur de 0,5 à 3 mm.

La matrice adhésive 5 est souple, c’est-à-dire que la matrice adhésive 5 est configurée pour ne pas modifier la souplesse du support 1. La matrice est dite adhésive, c’est-à-dire qu’elle est configurée pour maintenir le masque contre la peau de l’utilisateur. Préférentiellement, le masque est maintenu en contact avec la peau uniquement par la matrice adhésive 5. On entend que la matrice adhésive 5 est destinée à coller ou adhérer, temporairement, à la peau sur laquelle elle est appliquée. A cet effet, la matrice adhésive 5 comprend au moins un adhésif choisi parmi l’acide acrylique, les polyacrylates, le polyisobutylène, le polyvinylpyrrolidone, les silicones. A titre d’exemple, la matrice présente une viscosité comprise entre 1 et 150K, préférentiellement 100K à 150K plus préférentiellement 125 K cPs mesuré par la méthode C/5.

La matrice adhésive 5 recouvre l’ensemble de la face intérieure 2 de chaque région fonctionnelle 6, 7, 8, 13. Préférentiellement, pour assurer un meilleur maintien, la matrice adhésive 5 est présente sur toute la surface active de la face intérieure 2.

La composition active comprend au moins un principe actif destiné à être administré à la peau 4 de l’utilisateur. On entend par principe actif une substance ayant un effet thérapeutique ou cosmétique sur l’utilisateur.

Le masque selon l’invention comprend au moins deux compositions actives différentes respectivement agencées au niveau d’une région fonctionnelle du masque. Le masque comprend suivant une possibilité un nombre de compositions actives égal au nombre de régions fonctionnelles.

Selon une possibilité préférée, la composition active est mélangée à la matrice adhésive. C’est-à-dire que le masque comprend au moins deux matrices adhésives différentes car comprenant des compositions actives différentes.

Le support 1 peut être constitué d'une variété de matériaux, tels que du papier, du plastique ou du polymère insoluble dans l'eau, des matériaux tissés (par exemple du tissu tissé) et des matériaux non-tissés (tissu non tissé). Le support peut comprendre un matériau « respirant » tel que, sans s'y limiter, une couche de coton ou de tissu synthétique et non-tissé, tels que les matériaux en tissu couramment utilisés pour les bandages et les bandages sportifs. Le support 1 est avantageusement en polyéthylène Téréphtalate (PET) ou en Polyuréthane (PU). Préférentiellement, le support 1 est un film souple.

Préférentiellement, le support 1 présente une épaisseur de 20pm à

125pm, préférentiellement 80pm.

La souplesse du support 1 permet de se conformer à la zone d’application du corps où elle est destinée à être appliquée.

Avantageusement, le support 1 comprend des ouvertures traversantes 4 pour le confort de l’utilisateur. Les ouvertures traversantes sont destinées à être placées en regard des yeux, et/ou des lèvres ou de la bouche et/ou du nez selon la forme du masque. Les ouvertures traversantes 4 sont des trous formés dans le support 1 correspondant à la forme des yeux. Pour les lèvres, l’ouverture 4 peut être un trou formé dans le support 1 à la forme de la bouche ou bien uniquement une fente traversant le support 1 pour laisser une possibilité d’ouverture de la bouche à l’utilisateur. Pour le nez, l’ouverture 4 peut être un trou formé dans le support 1 à la forme du nez ou bien une fente ou ligne de coupe 12, 14 traversant le support 1 pour permettre le passage de la pointe du nez.

Selon un mode de réalisation illustré aux figures 3 et 4, le masque comprend une pluralité de couples galvaniques 11 discrets, chaque couple galvanique comprenant une première électrode conductrice qui est une anode et une seconde électrode conductrice qui est une cathode. Les couples galvaniques 11 sont disposés sur la face intérieure 2 du support 1.

Tel qu'utilisé ici, la génération d'électricité signifie que des électrons libres peuvent traverser la peau à laquelle le masque est appliqué entre les première et deuxième électrodes conductrices. Ce flux d’électrons libres en plus d’avoir un effet propre sur la stimulation de la peau, améliore la migration des compositions actives et plus précisément des principes actifs vers la peau et au travers de celle-ci.

Le premier métal de l'anode et le second métal de la cathode de chaque couple galvanique sont sélectionnés pour avoir un potentiel standard différent. En utilisation, la peau fournit une conductivité entre l'anode et la cathode, permettant ainsi à un microcourant de circuler à travers la peau. Dans le cas de l'utilisation du zinc comme premier métal pour former l'anode et du chlorure d'argent comme second métal pour former la cathode, un microcourant d'environ 40 mA peut être produit.

Avantageusement, le premier métal est configuré pour s’oxyder au contact de la peau et ainsi créer le couple galvanique avec le second métal.

Les exemples de matériaux qui fournissent des couples galvaniques incluent, sans être limitatifs : l'argent zinc, l'oxyde zinc-argent, l'halogénure zinc- argent, le chlorure zinc-argent, le bromure zinc-argent, l'iodure zinc-argent et le fluorure zinc-argent.

Avantageusement, le masque est passif, c’est-à-dire qu’il ne comprend pas ou n’est pas relié à une source de courant externe. Le courant circulant entre les électrodes des couples galvaniques 11 est autogénéré localement.

Les électrodes conductrices peuvent être appliquées sur le support 1 au moyen de toute technique de dépôt adaptée connue dans l'art. Par exemple, l'une ou les deux des première et deuxième électrodes conductrices peuvent être une feuille de métal, un fil ou une maille, ou un tissu revêtu de métal ou un autre matériau tel qu'un tissu revêtu d'un métal et son oxyde, un halogénure et sulfure.

En variante, les première et seconde électrodes conductrices peuvent être déposées sur le support 1 en utilisant un dépôt chimique ou électrochimique tel qu'un placage autocatalytique pour le dépôt chimique et l'électrodéposition pour le dépôt électrochimique tel que connu dans l'art. Les première et seconde électrodes conductrices peuvent également être déposées sur le support 1 par dépôt physique, par exemple par sérigraphie, par pulvérisation, par héliogravure, par impression laser, par tampographie, par impression à aiguilles, par trempage, par dépôt sous vide ou par d'autres procédés d'impression ou de transfert.

Selon un mode de réalisation préféré de l'invention, les électrodes conductrices peuvent être créées en formulant des matériaux galvaniques dans des encres propres au procédé de dépôt des matériaux, telles qu'une encre de sérigraphie pour sérigraphie ou une encre d'impression par jet laser pour impression laser, et peut contenir des ingrédients tels que des solvants, des liants ou des plastifiants.

La taille des couples galvaniques 11 utilisés dans le masque selon l'invention peut dépendre de l'application spécifique. Dans un mode de réalisation, adapté pour une utilisation cosmétique du masque, un couple galvanique occupe typiquement une surface non supérieure à environ 4 cm2. Afin d'être adaptés pour être utilisés, par exemple sur le visage d'un être humain, les éléments métalliques formant le couple galvanique ont typiquement des formes qui ne sont pas carrées. Les formes peuvent avoir la forme d'ovales, ou d'autres formes pour s'adapter aux surfaces spécifiques de la peau auxquelles le masque est appliqué.

Dans un autre mode de réalisation, chaque couple galvanique 11 occupe une surface non supérieure à environ 2 cm2, par exemple non supérieure à 1 cm2. Les dimensions totales de chaque couple galvanique peuvent varier d'environ 0,01 cm2 à environ 10 cm2.

Les couples galvaniques 11 peuvent être disposés de plusieurs façons, à condition qu'ils soient discrets les uns des autres, c'est-à-dire que les couples galvaniques individuels sont déconnectés et ne se touchent pas. Les couples galvaniques peuvent être disposés comme souhaité pour augmenter ou diminuer la densité de l'électricité.

La matrice adhésive 5 contenant avantageusement les compositions actives ne recouvre pas le premier métal des couples galvaniques pour éviter son oxydation préalable à son utilisation. Avantageusement, au moins le premier métal est au contact de la peau.

Suivant une possibilité avantageuse, la circonférence, le pourtour, du support 1 est pourvu d'un certain nombre de découpes 9 présentant par exemple la forme d’indentation. Ces découpes 9 sont adaptées pour plier partiellement le support 1 afin d'améliorer ainsi le contact du support 1 avec la peau d'un utilisateur.

Le masque selon l'invention peut comprendre un revêtement détachable amovible, pour recouvrir le support 1 et en particulier pour recouvrir la matrice adhésive 5 avant l'utilisation du masque. La doublure de libération est typiquement une feuille de polymère ou un papier ou un tissu revêtu d'un polymère, qui a une faible adhérence vis-à-vis de la matrice adhésive utilisée, ce qui permet de l'enlever facilement avant l'utilisation sans endommager le masque de soin. Des exemples de polymères typiquement utilisés pour le revêtement détachable sont les silicones et les polyéthylènes.

Selon une variante de l’invention, le procédé de fabrication comprend une seule étape de dépôt de la matrice adhésive 5 pour la pluralité de régions fonctionnelles.

Le procédé de fabrication comprend éventuellement, avant l’étape de dépôt de la matrice adhésive 5, une étape de formation des couples galvaniques 11. Les couples galvaniques 11 sont formés sur la face intérieure 2 du support 1. La formation des couples galvaniques 11 est avantageusement réalisée par les procédés décrits ci-dessus. Préférentiellement, les couples galvaniques 11 sont formés par impression d’encre conductrice, notamment par sérigraphie.

Suivant une première possibilité, le dépôt de la matrice adhésive 5 se fait par impression numérique. Suivant une deuxième possibilité préférée, le dépôt se fait par sérigraphie. Ce type de dépôt présente un avantage de rapidité et de coût.

L’étape de dépôt de la matrice adhésive 5 par sérigraphie comprend l’application sur le support 11 du masque d’un cadre 19 de sérigraphie muni d’au moins un séparateur 25 destiné à séparer les régions fonctionnelles 6, 7, 8, 13 du masque. L’étape de dépôt de la matrice adhésive 5 comprend ensuite l’application, avantageusement simultanée, d’une matrice adhésive 5 mélangée à une composition active sur chaque région fonctionnelle 6, 7, 8, 13. Avantageusement, une racle 23 de forme complémentaire du cadre 19 et des séparateurs 25 permet une application simultanée des matrices adhésives 5 comprenant les compositions actives sur les différentes régions fonctionnelles 6, 7, 8, 13 du masque. Ce procédé de fabrication est particulièrement efficace en ce qu’il permet de réaliser un masque selon l’invention comprenant plusieurs régions fonctionnelles 6, 7, 8, 13 en une seule étape de sérigraphie. Le temps de fabrication est ainsi fortement réduit. De plus une application simultanée de la matrice adhésive 5 des différentes régions fonctionnelles 6, 7, 8, 13 permet d’éviter tout risque d’adhérence de la matrice adhésive 5 à d’éventuels écrans successifs classiquement utilisés dans les procédés de sérigraphie.

Selon cette variante de l’invention, un équipement de mise en œuvre du procédé de sérigraphie est prévu. L’équipement comprend un cadre 19 de sérigraphie de forme avantageusement parallélépipédique. Le cadre comprend quatre côtés parallèles et opposés deux à deux. L’équipement comprend un écran (non représenté) tendu dans le cadre 19. L’écran comprend des zones libres et des zones pleines à l’image d’un pochoir. L’écran présente avantageusement des zones libres et des zones pleines complémentaires de la forme du masque. Par exemple, les zones pleines correspondent aux ouvertures traversantes 4 du masque et/ou aux couples galvaniques 11 de sorte que la matrice adhésive 5 appliquée ne recouvre pas ces zones. Préférentiellement, l’écran définit la surface active du masque. Le cadre 19 comprend des encoches 20 agencées sur une face intérieure 22 de deux des côtés opposés 21 du cadre 19 de sorte à recevoir des séparateurs 25. Les encoches 21 sont réparties sur les faces intérieures 22 en regard l’une de l’autre de deux des côtés opposés 21 du cadre 19. Les encoches 20 sont parallèles les unes aux autres et s’étendent de manière transversale aux côtés 21 sur lesquels elles sont formées. Les séparateurs 25 sont des éléments amovibles, présentant une rigidité suffisante pour ne pas être déformés par la racle 23, et destinés à être agencés de manière transversale aux deux côtés 21 recevant les encoches 20 et parallèles entre eux. La racle 23 comprend des entailles 24 destinées à coopérer avec les séparateurs 25. La distance entre les encoches 20 correspond à la distance entre deux séparateurs 25 ou entre un séparateur 25 et un côté du cadre 19. Ladite distance correspond à la largeur d’une région fonctionnelle 6, 7, 8, 13. La figure 8 illustre un équipement selon cette variante de l’invention. A la figure 1 , un masque selon un premier mode de réalisation est représenté. Le masque est destiné à recouvrir la majeure partie du visage d’un utilisateur. Le masque comprend des ouvertures traversantes 4 et notamment une première 4a et une seconde 4b ouvertures pour permettre aux yeux d'un utilisateur de ne pas être couverts pendant l'utilisation du masque. Le support 1 comprend en outre une troisième ouverture 4c pour éviter de couvrir la bouche d'un utilisateur lors de l'utilisation du masque. Le support 1 comprend en outre une ligne de coupe 12 qui a la forme de la partie inférieure du nez humain. La ligne de coupe 12 permet le positionnement du support 1 autour de la partie inférieure du nez d'un utilisateur.

Le masque comprend six régions fonctionnelles 6, 7, 8, 13 :

- les régions fonctionnelles 6a et 6b sont destinées à être appliquées sur la zone cible 16 correspondant aux tempes. Les régions fonctionnelles 6a et 6b comprennent la même composition active et disposées symétriquement de part et d’autre de l’axe vertical 10 s’étendant suivant le plan sagittal

- la région fonctionnelle 7 est destinée à être appliquée sur la zone cible 17 correspondant au front et dessous des yeux. La région fonctionnelle 7 comprend deux sous-régions 7a, 7b comprenant la même composition active et disposées symétriquement de part et d’autre de l’axe vertical 10 s’étendant suivant le plan sagittal

- les régions fonctionnelles 8a et 8b sont destinées à être appliquées sur la zone cible 18 correspondant aux joues les régions fonctionnelles 8a et 8b comprennent la même composition active et disposées symétriquement de part et d’autre de l’axe vertical 10 s’étendant suivant le plan sagittal

- la région fonctionnelle 13 est destinée à être appliquée sur la zone cible 19 correspondant au menton. La région fonctionnelle 13 comprend deux sous-régions 13a, 13b comprenant la même composition active et disposées symétriquement de part et d’autre de l’axe vertical 10 s’étendant suivant le plan sagittal. Les régions fonctionnelles sont espacées les unes des autres de maximum 5mm préférentiellement plutôt de l’ordre de 1 mm pour avoir une proximité des soins permettant un traitement sur toute la surface de la peau.

Suivant ce mode de réalisation, les régions fonctionnelles sont formées par impression numérique.

A la figure 2, un masque selon un deuxième mode de réalisation est représenté. Le masque est destiné à recouvrir la majeure partie du visage d’un utilisateur. Le masque présente une forme similaire à celle décrite pour la figure 1. Le masque comprend des ouvertures traversantes 4 et notamment une première 4a et une seconde 4b ouvertures pour les yeux, une troisième ouverture 4c pour la bouche, une ouverture 4d pour la pointe du nez. Le support 1 comprend en outre une ligne de coupe 14 qui a la forme de la partie longitudinale de part et d’autre du nez pour permet le positionnement du support 1 sur le nez d'un utilisateur.

Le masque comprend quatre régions fonctionnelles 6, 7, 8, 13 :

- la région fonctionnelle 6 est destinée à être appliquée sur la zone cible 16 correspondant aux tempes et au front. La région fonctionnelle 6 s’étend sensiblement transversalement préférentiellement perpendiculairement à l’axe vertical 10 s’étendant suivant le plan sagittal,

- la région fonctionnelle 7 est destinée à être appliquée sur la zone cible 17 correspondant dessous des yeux et dessus du nez. La région fonctionnelle 7 s’étend sensiblement transversalement préférentiellement perpendiculairement à l’axe vertical 10 s’étendant suivant le plan sagittal,

- la région fonctionnelle 8 est destinée à être appliquée sur la zone cible 18 correspondant aux joues. La région fonctionnelle 8 s’étend sensiblement transversalement préférentiellement perpendiculairement à l’axe vertical 10 s’étendant suivant le plan sagittal,

- la région fonctionnelle 13 est destinée à être appliquée sur la zone cible 19 correspondant au menton. La région fonctionnelle 13 s’étend sensiblement transversalement préférentiellement perpendiculairement à l’axe vertical 10 s’étendant suivant le plan sagittal, Les régions fonctionnelles sont espacées les unes des autres du fait de la présence du séparateur lors du procédé de fabrication par sérigraphie. Suivant ce mode de réalisation, les régions fonctionnelles sont formées par sérigraphie.

Les figures 3 et 4 correspondent respectivement aux modes de réalisation des figures 1 et 2 comprenant en outre, des couples galvaniques 11 tels que décrits précédemment.

En figure 6, une coupe d’un masque selon les modes de réalisations des figures 1 ou 2 est représentée, on y voit de haut en bas, le support 1 présentant sa deuxième face, la face extérieure 3, car destinée à être tournée vers l’extérieure et la première face, la face intérieure 2 destinée à être tournée vers la surface corporelle de l’utilisateur donc vers l’intérieur. La face intérieure 2 est recouverte de la matrice adhésive 11 comprenant la composition active 12 destinée à être en contact de la peau de l’utilisateur.

En figure 7, une coupe d’un masque selon les modes de réalisations des figures 3 ou 4 est représentée, on y voit de haut en bas, le support 1 présentant la face extérieure 3, la face intérieure 2 recevant les couples galvaniques discrets 11. La face intérieure 2 est recouverte de la matrice adhésive 11 comprenant la composition active 12 destinée à être en contact de la peau de l’utilisateur sans recouvrir les couples galvaniques.

REFERENCES

1 Support

2 Face intérieure

3 Face extérieure

4 Ouvertures traversantes

5 Matrice adhésive

6 a. b Région fonctionnelle

7 a. b. Région fonctionnelle

8 a. b. Région fonctionnelle

9 Découpe

10 Axe vertical

11 Couples galvaniques

12 Ligne de coupe

13 A.b. Région fonctionnelle

14 Ligne de coupe

16 a.b Zones cibles

17 a.b Zones cibles

18 a.b Zones cibles

19 Cadre

20 Encoche

21 Côtés opposés

22 Face intérieure

23 Racle

24 Entaille

25 Séparateur