以下図面を参照して、本発明の形態につ� ��て説明する。以下の図面の記載において、� ��一または類似の部分には同一または類似の� ��号が付してある。但し、図面は模式的なも� ��であり、厚みと平面寸法との関係、各層の� ��みの比率等は現実のものとは異なることに� ��意すべきである。したがって、具体的な厚� ��や寸法は以下の説明を参酌して判断すべき� ��のである。また図面相互間においても互い� ��寸法の関係や比率が異なる部分が含まれて� ��ることは勿論である。

 本発明の実施の形態に係る測定システム� ��、図1に示すように、測定ステージ12、測定� ��14、14a、14b、位置制御ユニット16、測定処理 ユニット20、入力装置22、出力装置24、及び外 部記憶部26等を備える。また、測定処理ユニ� ��ト20は、入力部30、比較部32、検証部34、計� �部36、判定部38、出力部40、及び内部記憶部42 等を備える。測定ステージ12の表面に測定対� ��物10が保持される。位置制御ユニット16は、 測定ステージ12及び測定器14、14a、14bの位置� �制御する。測定器14、14a、14b、位置制御ユニ ット16、入力装置22、出力装置24、及び外部記 憶部26は、測定処理ユニット20に接続される� �

 本発明の実施の形態に係る測定システム� ��は、測定対象物10の形状が構成できる形状� �子あるいは厳密な加工精度が要求される形� �因子の一つを、「第1形状因子」とする。第1 形状因子を用いて構成される図形から計算さ れる形状因子を、「第2形状因子」とする。

 第1形状因子として、寸法、角度、平坦度 等が適用可能である。外形形状を精度よく測 定する場合は、辺の寸法を第1形状因子とす� �ことが望ましい。第1形状因子を寸法とした� ��合、第2形状因子としては、角度、平坦度、 平行度等が適用可能である。以下において、 寸法を第1形状因子、角度及び平坦度を第2形� ��因子として説明する。

測定処理ユニット20は、測定対象物10の設� �形状を規定する第1形状因子の第1測定データ を取得する。第1測定データを第1形状因子の� ��差と比較して第1測定データが第1形状因子� �公差の範囲内であれば、第1測定データで第1 予測形状を構成して図形として成立するか検 証する。第1予測形状が図形として成立すれ� �、第1予測形状から第1形状因子とは異なる第 2形状因子の第1予測データを計算する。第1予 測データが仕様の範囲内であれば、判定部が 第1予測形状を測定形状とする。

 測定対象物10は、例えばインプリントモ� �ルドや露光マスク等の光学部品、あるいは� �れらの光学部品用の未加工基板である。図2� ��示すように、測定対象物10の形状は、直方� �である。測定対象物10の外形形状を決定する ために、寸法や角度等を測定する必要がある 。また、インプリントモールドや露光マスク のパターンが形成される表面においては、平 坦度の測定も要求される。

 光インプリントリソグラフィの場合、測定� ��象物10として、例えば厚さが6mm~7mm程度の石� ��ガラス、耐熱ガラス、フッ化カルシウム(CaF ₂ )、及びフッ化マグネシウム(MgF ₂ )等の透明材料や、これら透明材料の積層構� �が用いられる。熱インプリントリソグラフ� �の場合、基板10として、炭化シリコン(SiC)、S i、SiC/Si、酸化シリコン(SiO ₂ )/Si、及び窒化シリコン(Si ₃ N ₄ )/Si等が用いられる。また、タンタル(Ta)、ア� ��ミニウム(Al)、チタン(Ti)、及びタングステ� �(W)等の金属基板であってもよい。

 フォトリソグラフィの場合、測定対象物10� �して、石英ガラス、CaF ₂ 、及びサファイア等が用いられる。また、EUV 露光においては、超低熱膨張ガラス等が用い られる。

 測定対象物10の表面は、辺TEa、TEb、TEc、TE dと、各辺が交わる頂点TAa、TAb、TAc、TAdの角� �により規定される。裏面は、辺BEa、BEb、BEc� �BEdと、各辺が交わる頂点BAa、BAb、BAc、BAdの� �度により規定される。また、4つの側面は、� ��面及び裏面の対向する辺と辺SEa、SEb、SEc、S Edとによって、それぞれ規定される。

 図3及び図4に示すように、測定対象物10は 、測定ステージ12表面上に載置される。測定� ��テージ12上で、複数の測定器14、14a、14bで測 定が実施される。表面だけでなく、側面や裏 面での測定が可能なように、測定ステージ12� ��表面領域は、保持する測定対象物10の裏面� �外周辺縁より内側である。

 例えば、測定対象物10の保持されない外� �領域の幅Leは、裏面のなかで最長の一辺の長 さLsを基準としたとき、長さLsの約1.5%以上、� ��20%以下とすることが望ましい。幅Leが長さLs の約1.5%以下では、裏面と裏面に交わる面と� �角度測定に使用する領域を確保することが� �きなくなる。また、幅Leが長さLsの約20%以上� ��は、測定対象物10の保持による変形が増大� �て測定誤差が無視できなくなる。

 測定器14、14a、14bは、測定対象物10の形状 因子を測定する。形状因子としては、辺、角 、頂点等の図形の構成要素、及び角度、真直 度、平坦度、平行度、位置度等の幾何学量等 が含まれる。測定器14、14a、14bとしては、寸� ��、角度、平坦度等を測定可能な光学式測定� ��が用いられる。また、寸法や平坦度等の測� ��に蝕針式測定器を用いてもよい。以下説明� ��簡単のため、測定器14、14a、14bをそれぞれ� �寸法、角度および平坦度の測定器とする。

 位置制御ユニット16は、測定ステージ12及 び測定器14、14a、14bの位置を制御し、平面内� ��び高さの座標データを取得する。座標デー� ��は、測定器14、14a、14bに伝達される。

 測定処理ユニット20の入力部30は、測定器 14、14a、14bから形状因子の測定データを取得� ��る。測定データは、例えば、測定対象物10� �各辺の寸法、各頂点の角度、各面の平坦度� �である。

比較部32は、外部記憶部26に格納された測� �対象物10の形状の公差を取得して、形状因子 の公差と測定データを比較する。測定データ が公差の範囲内でなければ、再測定、不良判 定、あるいは測定器の点検等を指示する。例 えば、測定データの比較が1回目であれば、� �測定とする。測定データの比較が2回目であ� ��ば、測定器の点検を行う。測定器が正常で� ��れば、該当する測定対象物を不良品と判定� ��る。形状の公差として、例えば設計形状の� ��様で規定された公差を用いることができる� ��

 検証部34は、第1形状因子の測定データを� ��いて、予測形状を構成する。構成した予測� ��状が、正常に成立するかを検証する。予測� ��状が正常でなければ、不良判定、あるいは� ��定器の点検を指示する。第1及び第2形状因� �が取得された場合、第1及び第2形状因子の測 定データを用いて、上記と同様に図形の検証 を行う。

 計算部36は、予測形状から他の形状因子� �計算する。例えば、第1形状因子の寸法測定� ��ータから、第2形状因子として各辺の真直度 及び各頂点での角度が計算される。また、第 2形状因子の角度測定データから、他の第2形� ��因子(予測形状因子)として頂点をなす各面� �平坦度や平行度が計算される。また、第2形� ��因子の平坦度測定データから、予測形状因� ��として各測定対象面の平行度が計算される� ��

 判定部38は、計算された他の形状因子が� �状因子の公差の範囲内か判定する。他の形� �因子が公差の範囲内でなければ、該当する� �状因子が仕様の範囲外であることを示すフ� �グを設定する。設定したフラグに基いて製� �としてのランク付けが可能となる。

 出力部40は、測定対象物の測定処理結果� �出力装置24に出力する。内部記憶部42は、測� ��処理ユニット20における演算において、計� �途中や解析途中のデータを一時的に保存す� �。

 入力装置22は、キーボード、マウス等の� �器を指す。入力装置22から入力操作が行われ ると対応するキー情報が測定処理ユニット20� ��伝達される。出力装置24は、モニタなどの� �面を指し、液晶表示装置(LCD)、発光ダイオー ド(LED)パネル、エレクトロルミネセンス(EL)パ ネル等が使用可能である。出力装置24は、測� ��処理ユニット20により検証される形状や、� �出された形状因子及び判定結果等を表示す� �。外部記憶部26は、測定対象物10の設計形状� ��仕様等で規定される形状の公差を格納する� ��また、外部記憶部26は、取得した測定デー� �と仕様との比較、形状の検証、形状因子の� �出、及び形状因子の判定等を測定処理ユニ� �ト20に実行させるためのプログラムを保存し ている。

 測定対象物10の辺の寸法測定には、光学� �のスタイラスを用いることができる。図5に� ��すように、例えば測定対象物10の辺TEa両端� �点PB、PEを指定する。辺TEaに関して点PBの反� �側に点PCを指定する。点PB、PC間の幅はWsであ る。また、点PB、PE間の測定ステージ12の移動 ピッチPsを定める。

 図6に示すように、寸法測定器のスタイラ ス50は、レーザ光LBを測定対象物10の表面に照 射し反射光をディテクタ(図示省略)で検知す� ��。点PBから点PCの方向に向かって走査する際 、辺TEaを越えて測定対象物10から外れるとレ� ��ザ光LBの反射を寸法測定器のディテクタで� �知されなくなる。反射光が検知されなくな� �境界をデータ点として、その位置座標デー� �を取得する。同様に、点PBから点PEまで移動� ��ッチPsで繰り返す。その結果、図7に示すよ� ��に、辺TEaに移動ピッチPsで位置座標MPa、MPb� �MPc、・・・、MPd、MPeが得られる。

 図8に示すように、位置座標MPa、MPb、MPc、 ・・・、MPd、MPeからなる位置データMDaに対し て、最小二乗法等により直線を計算して辺TEa の測定データMTEaを求める。同様の測定を測� �対象物10の表面の他の辺TEb、TEc、TEdの位置デ ータMDb、MDc、MDdについても行う。その結果、 図9に示すように、各辺の測定データMTEa、MTEb 、MTEc、MTEdが求まる。

 辺の寸法を第1形状因子とした場合、第2� �状因子として、図8に示したように、位置デ� ��タMDaのばらつきの範囲を真直度Sとして求め ることができる。位置データMDaの真直度Sに� �、図1に示した辺TEa、SEa、BEa、SEdで規定され� ��側面(TEa、SEa、BEa、SEd)の凹凸の凸部だけが� �映される。したがって、真直度は、平坦度� �最小値の目安を与える。

 更に、他の第2形状因子として、各辺の測 定データMTEa、MTEb、MTEc、MTEdが交わる点を頂� �MTAa、MTAb、MTAc、MTAdとして、頂点MTAa、MTAb、MT Ac、MTAdのそれぞれの角度θab、θbc、θcd、θda� �計算により求めることができる。第2形状因� ��として算出された角度は、直線で近似され� ��辺の交点角度である。実際には、直方体に� ��工する処理により面が交わる角部は丸みを� ��びる。したがって、第2形状因子として算出 された辺の交点角度は、面が交わる角度の最 小値の目安を与える。

 なお、寸法測定は、画像認識により外形� ��検出する電荷結合素子(CCD)カメラ等の測定� �を用いてもよい。例えば、測定対象物10の表 面の画像をCCDカメラにて取得する。一回に辺 の全長を含む画像を取得できない場合、分割 して取得した後、コンピュータ上でつなぎ合 わせる。画像をコンピュータで解析し、コン トラスト、明るさ等の境界条件から辺となる 位置座標データを取得する。検出された辺は CCDカメラの分解能、及び境界条件から与えら れる点群の位置座標データなので、平均二乗 法等から各辺の寸法を算出することが可能で ある。

 測定対象物10の各頂点の角度測定には、� �ーザオートコリメータを使用することがで� �る。例えば、頂点TAaにおける辺TEa、TEbのな� �角度を求める場合について説明する。図10に 示すように、オートコリメータ52aは辺TEaを含 む側面を照射し、オートコリメータ52bは辺TEb を含む側面を照射する。この時、オートコリ メータ52a、52bのそれぞれから出射されるレー ザ光LBa、LBbは、所定の角度で交わる、例えば 直交するように配置される。レーザ光LBa、LBb それぞれの反射光LRa、LRbの反射角θa、θbを求 めることにより、頂点TAaの表面での角度θab� �算出することができる。

 なお、測定対象物10の各頂点を形成する� �ての面に対応するよう、オートコリメータ� �配置することが望ましい。例えば、頂点TAa� �含む2側面での角度を求めるため、図11に示� �ように、オートコリメータ52a、52bに加えて� �にオートコリメータ52cを、オートコリメー� �52cのレーザ光LBcが、レーザ光LBa、LBbと直交� �るように、配置する。例えば、測定対象物10 の頂点TAaにおける辺TEb、SEaのなす角度θcaは� �オートコリメータ52a、52cの反射光LRa、LRcの� �射角θa、θcを用いて算出される。

 また、オートコリメータ52a、52b、52cの反� ��光LRa、LRb、LRcは照射面の平坦性あるいは平� ��性により、反射スポットの形状が変化する� ��したがって、反射光LRa、LRb、LRcの反射スポ� ��トを解析することにより、照射面の平坦度� ��平行度を算出することができる。

 測定対象物10の各面の平坦度は、光の干� �を利用して計測することができる。平坦度� �測定する干渉計は、図12に示すように、光源 54、照明レンズ56、反射板58、コリメータレン ズ60、対物レンズ62、及びディテクタ66を備え る。光源54の測定光LIは、照明レンズ56、コリ メータレンズ60及び対物レンズ62を通して測� �ステージ12上の測定対象物10表面で反射され� ��。また、測定光LIの一部は、対物レンズ62に 形成された光学平面64で反射される。測定対� ��物10及び光学平面64からの反射光Ra、Rbは反� �板58でディテクタ66に向けて反射される。デ� ��テクタ66は、反射光Ra、Rbの干渉像を検出す� ��。検出した干渉像から照射面の平坦度を算� ��することができる。なお、斜入射照明系を� ��えた干渉計を用いて干渉像を測定してもよ� ��。

 また、測定対象物10の各面の干渉像の輝� �変化により測定対象物10の外縁を検出するこ とができる。輝度変化の位置の座標を測定す ることにより、各面の形状を取得することが できる。

 なお、高さ測定により、平坦度を算出す� ��こともできる。例えば、図6に示したスタイ ラス50のレーザ光LBのフォーカス位置を測定� �テージ12の表面をリファレンス面として測定 する。このようにして、図13に示すように、� ��定対象物10の表面の、リファレンス面に対� �る高さの座標データMHを求めることができる 。座標データMHから最小二乗法等によりベス� ��フィット平面MTpを求める。求めた平面MTpを� ��準として、高低差を平坦度Fとして算出する ことができる。また、平面MTPの傾きから平行 度を算出することができる。

 本発明の実施の形態によれば、第1形状因 子としての寸法測定データから角度及び平坦 度の予測データが算出される。寸法測定デー タには測定器14に起因する測定誤差が含まれ� ��。寸法測定データから構成された図形が成� ��する範囲、あるいは算出された角度及び平� ��度等に基いて、各辺の寸法の誤差を縮小す� ��ことが可能である。また、寸法測定データ� ��共に第2形状因子としての角度測定データや 平坦度測定データを用いることにより、構成 された図形の成立する範囲を更に絞ることが できる。また、測定対象物10は、第1及び第2� �状因子の測定において同一の測定ステージ12 で測定される。したがって、測定ステージに 起因する測定データのばらつきを抑制するこ とができる。その結果、形状を高精度で信頼 性よく測定形状を得ることが可能となる。

例えば、測定対象物10をインプリントモー� ��ドあるいは露光マスクとする。測定された� ��定対象物10の測定形状を用いてリソグラフ� �シミュレーションを行う場合、測定形状の� �差の範囲が縮小されているため、演算時間� �短縮することが可能である。

 次に、本発明の実施の形態に係る測定方� ��を、図14A及び図14Bに示したフローチャート� ��用いて説明する。なお、測定対象物10の設� �形状の仕様で規定された形状の公差が、図1� ��示した外部記憶部26に格納されている。測� �器14、14a、14bで、それぞれ寸法測定、角度測 定及び平坦度測定が実施される。

 ステップS100で、測定処理ユニット20の入� ��部30により測定対象物10の設計形状の仕様が 外部記憶部26から取得される。

 ステップS102で、測定器(第1測定器)14によ� ��測定ステージ12上において測定対象物10の形 状を規定する各辺の寸法(第1形状因子)が測定 される。入力部30により測定器14の測定した� �1形状因子の第1測定データが取得される。

 ステップS103で、比較部32により第1測定デ ータが第1形状因子の公差と比較される。

 第1測定データが設計形状の仕様の範囲内 でなければ、ステップS104で、第1測定データ� ��比較が1回目か判定される。1回目であれば� �第1形状因子の再測定が行われる。2回目であ れば、ステップS105で、測定器14の点検が行わ れる。測定器14が正常であれば、該当する測� ��対象物が不良品と判定される。

 第1測定データが第1形状因子の公差の範� �内であれば、ステップS106で、検証部34によ� �第1測定データを用いて第1予測形状が構成さ れる。ステップS107で、第1予測形状が図形と� ��て成立するか検証される。第1予測形状が図 形として成立しなければ、ステップS105で、� �良判定、あるいは測定器の点検が指示され� �。

 第1予測形状が図形として成立すれば、ス テップS108で、計算部36により第1予測形状か� �各頂点での角度(第2形状因子)の第1予測デー� ��が計算される。

 ステップS109で、判定部38により第1予測デ ータが設計形状の仕様の範囲内か判定される 。第1予測データが仕様の範囲内でなければ� �ステップS110で、該当する第2形状因子が仕様 範囲外であることを示すフラグが設定される 。

 ステップS111で、判定部38により算出可能� ��第2形状因子が全て計算されたか判定される 。例えば、計算されていない平坦度(第2形状� ��子)があり、ステップS108に戻る。

 ステップS112で、判定部38により測定可能� ��第2形状因子があるか判定される。測定可能 な第2形状因子がなければ、ステップS113で、� ��定部38により第1予測形状が測定形状とされ� ��。

 測定可能な第2形状因子として角度及び平 坦度がある場合、ステップS114で、測定器14a(� ��2測定器)により測定ステージ12上において測 定対象物10から各面が交わる角度(第2形状因� �)が測定される。入力部30により測定器14aの� �定した第2形状因子の第2測定データが取得さ れる。

 ステップS115で、比較部32により第2測定デ ータが第2形状因子の公差と比較される。

 第2測定データが設計形状の仕様の範囲内 でなければ、ステップS116で、第2測定データ� ��比較が1回目か判定される。1回目であれば� �第2形状因子の再測定が行われる。2回目であ れば、ステップS117で、フラグが設定されて� �るか判定される。フラグがあれば、ステッ� �S118で不良品と判定される。フラグがなけれ� ��、ステップS119で測定器14aの点検が行われる 。

 第2測定データが仕様の範囲内であれば、 ステップS120で、検証部34により第1及び第2測� ��データを用いて第2予測形状が構成される。 ステップS121で、第2予測形状が図形として成� ��するか検証される。第2予測形状が図形とし て成立しなければ、ステップS118で、不良品� �判定される。

 第2予測形状が図形として成立すれば、ス テップS122で、計算部36により第2予測形状か� �各面の平坦度(予測形状因子)の第2予測デー� �が計算される。

 ステップS123で、判定部38により第2予測デ ータが設計形状の仕様の範囲内か判定される 。第2予測データが仕様の範囲内でなければ� �ステップS124で、予測形状因子が仕様範囲外� ��あることを示すフラグが設定される。

 ステップS125で、判定部38により算出可能� ��予測形状因子が全て計算されたか判定され� ��。計算されていない予測形状因子があれば� ��ステップS122に戻る。

 ステップS126で、判定部38により測定可能� ��第2形状因子があるか判定される。例えば、 平坦度の測定が可能である場合、ステップS11 4に戻り、処理が続けられる。

 測定可能な第2形状因子がなければ、ステ ップS127で、判定部38により第2予測形状が新� �な測定形状とされる。

 本発明の実施の形態に係る測定方法では� ��第1形状因子の第1測定データには測定器14に 起因する測定誤差が含まれる。第1測定デー� �から構成された図形が成立する範囲、ある� �は第1測定データを用いて算出された第2形状 因子の予測データに基いて、第1測定データ� �誤差を縮小することが可能である。また、� �1測定データと共に第2形状因子の第2測定デ� �タを用いることにより、第1及び第2測定デー タを用いて構成された図形の成立する範囲を 更に絞ることができる。また、測定対象物10� ��、第1及び第2形状因子の測定において同一� �測定ステージ12で測定される。したがって、 測定ステージ12に起因する測定データのばら� ��きを抑制することができる。その結果、形� ��を高精度で信頼性よく測定形状を得ること� ��可能となる。

 なお、上記の説明では形状の公差として� ��設計形状の仕様で規定された公差を用いて� ��る。例えば、インプリントモールドや露光� ��スク等の寸法、角度、平坦度等の形状因子� ��対して、それぞれ単独であれば、設計形状� ��仕様を満足する加工精度を実現することは� ��能である。しかし、形状仕様が外形加工技� ��の精度の限界に近い場合、複数の形状因子� ��対して仕様を全て満足するように加工する� ��とは困難である。このような場合、形状因� ��の公差として、レジスト膜等の被転写膜に� ��写されたパターンの転写特性と形状因子と� ��相関から規定される公差を用いてもよい。

 転写特性と形状因子との相関は、温度や� ��度等の使用環境に加えて、転写装置の制御� ��ラメータや被転写膜の材料パラメータ等を� ��いてリソグラフィシミュレーションを実施� ��ることにより取得される。

 転写装置が露光装置の場合、制御パラメ� ��タとして、照明の照度むら、開口数(NA)、焦 点深度(DOF)、倍率補正及び非点補正等の縮小� ��学系に関する制御機構、マスク保持機構、� ��スクステージの駆動機構、基板保持機構、� ��板ステージの駆動機構等が挙げられる。イ� ��プリント装置の場合、制御パラメータとし� ��、モールド保持機構、モールド加圧機構、� ��ールドステージの駆動機構、基板保持機構� ��基板ステージの駆動機構、光インプリント� ��おける紫外光の照度や照度分布、熱インプ� ��ントにおける昇温又は冷却速度や熱分布等� ��挙げられる。被転写膜の材料パラメータと� ��て、フォトレジスト等の感光性樹脂の感度� ��解像度、及び膜厚、転写樹脂の収縮率及び� ��性率等が挙げられる。

転写特性として、転写パターンの寸法誤差 、リニアリティ、及び位置ずれ(IPエラー)等� �挙げられる。寸法誤差は、リソグラフィシ� �ュレーション等で算出された転写パターン� �設計仕様からの差である。寸法誤差は、形� �因子、転写装置の制御パラメータ、及び被� �写膜の材料パラメータ等が関与する。リニ� �リティは、インプリントモールドや露光マ� �クのパターンの幅と対応する転写パターン� �幅との関係の直線性を示す指標である。リ� �アリティは、主に形状因子及び転写装置の� �御パラメータに起因する。IPエラーは、目的 の位置に、目的のパターンが転写されている か否かの指標である。IPエラーは、主に形状� ��子及び転写装置の制御パラメータに起因す� ��。

例えば、EUV露光では、反射光学系を採用し 、露光マスクはマスクステージ上に裏面を接 して保持される。露光マスクのパターンをレ ジスト等の被転写膜に転写する場合、露光マ スクの平坦度、平行度、及び厚さ等の形状因 子は、転写特性、特に転写パターンのIPエラ� ��に相関性を有する。

転写パターンのIPエラーは、露光マスクの� ��ターン面の厚さ方向における位置ずれ、及� ��パターン面の傾き等によって発生する。露� ��マスクの形状因子の中で平坦度及び厚さが� ��パターン面の位置ずれの原因となり得る。� ��た、平坦度及び平行度が、パターン面の傾� ��の原因となり得る。このように、平坦度は� ��露光マスクのパターン面の厚さ方向におけ� ��位置ずれ、及びパターン面の傾きの両方に� ��係している。したがって、平坦度は、IPエ� �ーに対して強い相関性を有している。

 IPエラーは、縮小光学系のレンズやミラ� �等を調整して倍率補正や非点補正等を行う� �とにより修正することが可能である。また� �露光マスクの平行度及び厚さについては、� �光マスクを高原に対して適正な位置にあわ� �るためのマスクステージの駆動機構により� �整することが可能である。即ち、IPエラーと の相関性に関して、平行度及び厚さは調整の 自由度が高く、平坦度は自由度が低い。

 IPエラーの公差に対応するように、リソ� �ラフィシミュレーション等を用いて形状因� �の公差を算出することができる。算出され� �形状因子のうち、平行度及び厚さに関して� �、公差の値が設計仕様に比べて緩和される� �このように、形状因子の公差として、レジ� �ト膜等の被転写膜に転写されたパターンの� �写特性と形状因子との相関から規定される� �差を用いて形状の不良判定を行うことは、� �用性、生産性、或いはコスト等の工業的な� �点から有効である。

 (その他の実施の形態)
 上記のように、本発明の実施の形態を記載� ��たが、この開示の一部をなす論述及び図面� ��この発明を限定するものであると理解すべ� ��ではない。この開示から当業者にはさまざ� ��な代替実施の形態、実施例及び運用技術が� ��らかとなろう。

 本発明の実施の形態においては、測定ス� ��ージ12上に測定対象物10が載置される。露光 装置のマスクステージに小さな接触面積で保 持される紫外線露光用のフォトマスク等のよ うな測定対象物10の場合に有効となる。外力� ��影響されていない測定対象物10の形状を得� �ことができる。しかし、測定器14の測定精度 や、測定の再現性に影響されやすい。

 測定ステージ12に真空吸着や静電チャッ� �等の吸着機構を設けて、測定対象物10を保持 してもよい。大面積を吸着固定するインプリ ントモールドやEUV露光用マスク等のような測 定対象物10の場合に有効となる。測定対象物1 0が、裏面を吸着面として平坦化される。し� �がって、吸着面を平坦面と仮定して形状因� �を計算することが可能であり、計算が簡単� �なり短時間で高精度の形状を得ることがで� �る。

 また、測定ステージ12が測定対象物10を保 持する領域は、矩形状の平面である。しかし 、測定対象物10を保持する測定ステージ12の� �造は限定されない。例えば、図15及び図16に� ��すように、測定対象物10の外周辺縁に沿っ� �領域を保持する測定ステージ12aを用いても� �い。更に、測定対象物10の裏面を複数の保持 部材13a、13b、・・・、13nで保持する測定ステ ージ12bを用いてもよい。

 更に、図18に示すように、測定対象物10の 裏面を保持部材13a、13b、13cで保持する3点保� �構造の測定ステージ12cを用いてもよい。ま� �、図19に示すように、保持部材13d、13e、13f、 13gで保持する4点保持構造の測定ステージ12d� �用いてもよい。更に、図20に示すように、測 定対象物10の外周辺縁に沿った領域を保持部� ��13a、13b、・・・、13kで保持する多点保持構� ��の測定ステージ12aを用いてもよい。このよ� ��な点保持構造では、測定対象物10の裏面と� �触する箇所が特定しやすい。したがって、� �定にエラーが発生した場合、測定ステージ� �影響を継承しやすい。なお、点保持構造の� �合、保持箇所の特定のためにロードセル、� �電容量センサ等の検出器を測定ステージの� �持部材に設けることが望ましい。

 このように、本発明はここでは記載して� ��ないさまざまな実施の形態等を含むことは� ��論である。したがって、本発明の技術的範� ��は上記の説明から妥当な特許請求の範囲に� ��わる発明特定事項によってのみ定められる� ��のである。