GLASSEY, Marc-André (Rue de la Crête 31, Bramois, CH-1967, CH)
GYGAX, Pierre (Chemin du Bois 18, Cortaillod, CH-2016, CH)
GLASSEY, Marc-André (Rue de la Crête 31, Bramois, CH-1967, CH)
| Revendications
1. Oscillateur mécanique, notamment pour l'horlogerie, comportant un ressort spiral (1 ) présentant un nombre de N spires, une extrémité centrale (2), une extrémité excentrique (3) et une virole rotative (4) en connexion avec l'extrémité centrale (2) comportant un orifice destiné à recevoir un arbre de rotation autour d'une axe (A), ainsi qu'un balancier (7) dont l'axe de rotation est confondu avec l'arbre de rotation (A), l'extrémité excentrique (3) étant destinée à être solidarisée avec un élément fixe du genre « coq », ledit ressort spiral (1 ) étant constitué d'une âme (1 a) en silicium (Si) monocristallin et d'au moins un revêtement périphérique (1 b) à base d'un matériau présentant un coefficient thermoélastique différent de celui du silicium,
caractérisé en ce que
la découpe du silicium (Si) monocristallin est orientée selon l'axe cristallographique {1 ,1 ,1} pour optimiser le coefficient thermique de l'oscillateur mécanique dans son ensemble.
2. Oscillateur mécanique selon la revendication 1 , caractérisé en ce que le ressort spiral (1 ) est dimensionné et fabriqué pour avoir une valeur de coefficient thermique permettant de compenser le coefficient thermique du balancier (7).
3. Oscillateur mécanique selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que le ressort spiral (1 ) présente une longueur (L), une section transversale rectangulaire de hauteur (h) et de largeur (I), constantes sur toute la longueur (L).
4. Oscillateur mécanique selon l'une quelconque des revendications
1 à 3, caractérisé en ce que le revêtement périphérique (1 b) d'épaisseur (e) est uniforme et comporte au moins une couche de recouvrement de coefficient thermique opposé à celui du silicium.
5. Oscillateur mécanique selon la revendication 4, caractérisé en ce que la couche d'oxydation est une croissance d'oxyde de silicium (SiO 2 ).
6. Oscillateur mécanique selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, caractérisé en ce qu'un moyen de fixation du genre piton est monté et immobilisé sur le ressort spiral, dans une position au voisinage de ladite extrémité excentrique, pour solidariser cette dernière avec l'élément fixe.
7. Oscillateur mécanique selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, caractérisé en ce que la virole rotative (4) fait partie intégrante du ressort spiral (1 ).
8. Procédé de conception d'un oscillateur mécanique conforme à l'une quelconque des revendications 1 à 7, caractérisé en ce qu'il consiste à optimiser le coefficient de température de l'oscillateur complet pour limiter sa dérive thermique en :
a) utilisant du silicium (Si) monocristallin gravé selon l'axe cristallographique {1 ,1 ,1} pour réaliser le ressort spiral (1 ),
b) déterminant des paramètres physiques particuliers du balancier (7) liés à sa forme et à sa matière constitutive,
c) déterminant, en fonction des paramètres physiques particuliers, les dimensions du ressort spiral (L, h, I) et l'épaisseur (e) du revêtement périphérique (1 b).
9. Procédé selon la revendication 8, caractérisé en ce qu'il consiste à mettre en œuvre l'étape c) par calcul.
10. Procédé selon la revendication 8, caractérisé en ce qu'il consiste à déterminer les dimensions du ressort spiral (L, h, I) par calcul et à déterminer expérimentalement l'épaisseur (e) du revêtement périphérique (1 b), de manière à obtenir un coefficient thermique de l'oscillateur complet proche de zéro.
11. Procédé selon la revendication 10, caractérisé en ce qu'il consiste à :
d ) appliquer sur le ressort spiral (1 ) une couche de revêtement périphérique (1 b) d'une épaisseur (e1 ),
c2) mesurer le coefficient thermique de l'oscillateur complet,
c3) en fonction du résultat de la mesure effectuée sous c2), reprendre les étapes précédentes et ce jusqu'à l'obtention d'un coefficient thermique proche de zéro. |
Oscillateur mécanique présentant un coefficient thermoélastique optimisé
Domaine technique de l'invention
La présente invention se rapporte au domaine technique général des oscillateurs mécaniques, appelés également résonateurs ou balanciers spirals, utilisés par exemple dans l'horlogerie.
L'invention concerne plus particulièrement des oscillateurs mécaniques comportant un ressort spiral et un balancier et présentant un coefficient thermique qu'il convient de réduire au mieux de manière à limiter la dérive thermique desdits oscillateurs qui influence négativement la précision de la pièce d'horlogerie.
Par coefficient thermique ou thermoélastique, il convient d'entendre la variation en secondes de la marche diurne d'un mouvement d'horlogerie pour une différence de température de 1 °C (ou 1 °K).
Etat de la technique
II est connu, par exemple par l'intermédiaire du document DE 101 27 733 de réaliser des ressorts spirals présentant une bonne résistance aux contraintes thermiques importantes, ainsi qu'une bonne stabilité de forme. Ces ressorts sont constitués de silicium monocristallin orienté selon divers axes cristallographiques. Un revêtement en oxyde de silicium peut également recouvrir les ressorts en question.
On connaît en outre le document EP 1 422 436, décrivant un procédé pour réduire la dérive thermique d'un spiral seul et atteindre ainsi un coefficient thermique nul. Ce procédé utilise l'anisotropie cristalline du silicium selon un axe cristallographique par rapport à un autre, pour obtenir par l'intermédiaire de calculs d'épaisseur d'un revêtement d'oxyde de silicium permettant de minimiser les coefficients thermiques de la constante de rappel du ressort spiral. Le ressort spiral décrit comporte ainsi idéalement une
modulation d'épaisseur. Un tel procédé présente d'un côté une complexité dans sa mise en œuvre. D'autre côté, les ressorts spirals fabriqués selon ce procédé (c'est-à-dire les ressorts spirals optimisés vers un coefficient thermique nulle) ne permettent pas de s'adapter à différents types de balanciers.
Exposé sommaire de l'invention
Les objets de la présente invention visent à pallier les inconvénients précités et à proposer des oscillateurs mécaniques dont la sensibilité aux variations thermiques est minimale.
Un autre objet de la présente invention vise à proposer des oscillateurs mécaniques fiables et précis dont la conception et la fabrication sont simplifiées.
Un autre objet de l'invention vise à proposer un nouveau procédé de conception d'oscillateurs mécaniques, permettant d'utiliser des balanciers très divers (dans le matériaux, la forme et le coefficient de dilatation), tout en conférant à l'oscillateur complet un coefficient thermique très faible, voire nul.
Les objets assignés à l'invention sont atteints à l'aide d'un oscillateur mécanique, notamment pour l'horlogerie, comportant un ressort spiral présentant un nombre de N spires, une extrémité centrale, une extrémité excentrique et une virole rotative en connexion avec l'extrémité centrale comportant un orifice destiné à recevoir un arbre de rotation autour d'une axe (A), ainsi qu'un balancier dont l'axe de rotation est confondu avec l'axe de l'arbre (A), l'extrémité excentrique étant destinée à être solidarisée avec un élément fixe du genre « coq », ledit ressort spiral étant constitué d'une âme en silicium (Si) monocristallin et d'au moins un revêtement périphérique à base d'un matériau présentant un coefficient thermoélastique différent de celui du silicium, caractérisé en ce que la découpe du silicium (Si) monocristallin est orientée selon l'axe cristallographique {1 ,1 ,1} pour optimiser le coefficient thermique de l'oscillateur mécanique dans son ensemble.
On obtient ainsi des oscillateurs mécaniques dont le nombre de battements par heure est quasi invariable en fonction de la température.
Un spiral en silicium monocristallin découpé selon selon l'axe cristallographique {1 ,1 ,1} présente un module d'élasticité isotrope. Il n'est donc pas nécessaire de moduler l'épaisseur d'une spire pour obtenir une déformation uniforme et le second coefficient thermique de la constante de rappel, lié à une anisotropie, comme c'est le cas par exemple pour une orientation selon l'axe cristallographique {1 ,0,0}, est inexistant.
En outre, le module d'Young est plus élevé pour un spiral gravé selon l'axe cristallographique {1 ,1 ,1} que le module moyen pour une gravure selon selon l'axe cristallographique {1 ,0,0}. Ainsi, pour un ressort spiral de même enroulement, le ressort spiral gravé selon l'axe cristallographique {1 ,1 ,1} pourra être plus fin et donc plus léger. Ceci permet de réduire la masse du ressort spiral et donc les variations de marche en fonction de la position.
Un ressort spiral plus fin aura également comme conséquence de nécessiter une quantité moindre d'oxyde pour réaliser un revêtement réalisant la compensation thermique.
A cet endroit, il est important de noter que le ressort spiral selon l'invention et la virole rotative peuvent être fabriqués en deux pièces séparées (utilisant même des matériaux différents) et attachés l'un à l'autre par le biais d'un moyen de fixation quelconque, mais également fabriqués directement en une seule pièce (et un matériau commun), sans qu'un moyen de fixation entre les deux soit nécessaire.
Selon un example de réalisation conforme à l'invention, le ressort spiral est dimensionné et fabriqué pour avoir une valeur de coefficient thermique permettant de compenser le coefficient thermique du balancier.
Selon un exemple de réalisation conforme à l'invention, le ressort spiral présente une longueur (L), une section transversale rectangulaire de hauteur (h) et de largeur (I), constantes sur toute la longueur (L).
Selon un exemple de réalisation préférentiel, le revêtement périphérique d'épaisseur (e) est uniforme et comporte au moins une couche de recouvrement de coefficient thermique opposé à celui du silicium. Le revêtement est par exemple en oxyde de silicium (SiO 2 ), même si d'autres matériaux sont également possibles.
Selon un exemple de réalisation de l'oscillateur conforme à l'invention, un moyen de fixation du genre piton est monté et immobilisé sur le ressort spiral, dans une position au voisinage de ladite extrémité excentrique, pour solidariser cette dernière avec l'élément fixe.
Selon un exemple de réalisation de l'oscillateur conforme à l'invention, la virole rotative fait partie intégrante du ressort spiral. Cet exemple de réalisation est particulièrement adapté aux ressorts en silicium, vu que les techniques de fabrications utilisées pour ce cas permettent la fabrication du ressort spiral avec la virole en une seule pièce.
Les objets assignés à l'invention sont également atteints à l'aide d'un procédé de conception d'un oscillateur mécanique tel que présenté ci- dessus, caractérisé en ce qu'il consiste à optimiser le coefficient de température de l'oscillateur complet pour limiter sa dérive thermique en :
- a) utilisant du silicium (Si) monocristallin gravé selon l'axe cristallographique {1 ,1 ,1} pour réaliser le ressort spiral,
- b) déterminant des paramètres physiques particuliers du balancier liés à sa forme et à sa matière constitutive,
- c) déterminant, en fonction des paramètres physiques particuliers, les dimensions du ressort spiral (L, h, I) et l'épaisseur (e) du revêtement périphérique.
Selon un exemple de mise en œuvre, le procédé conforme à l'invention consiste à mettre en œuvre l'étape c) par calcul. La démarche détallée de la calculation sera décrite plus bas.
Selon un autre exemple de mise en œuvre, le procédé conforme à l'invention consiste à déterminer les dimensions du ressort spiral (L, h, I) par calcul et à déterminer expérimentalement l'épaisseur (e) du revêtement périphérique, de manière à obtenir un coefficient thermique de l'oscillateur complet, proche de zéro.
Le procédé consiste par exemple à :
- d ) appliquer sur le ressort spiral une couche de revêtement périphérique d'une épaisseur (e1 ),
- c2) mesurer le coefficient thermique de l'oscillateur complet,
- c3) en fonction du résultat de la mesure effectuée sous c2), reprendre les étapes précédentes, et ce jusqu'à l'obtention d'un coefficient thermique proche de zéro.
Le procédé conforme à l'invention permet ainsi de manière avantageuse de compenser la dérive thermique du balancier à l'aide du ressort spiral, en particulier pour un couple balancier spiral de qualité 1 , correspondant à un coefficient thermique inférieur ou égal à +/- 0,6 s/j/deg.
La croissance d'une couche d'oxyde sur un silicium orienté selon l'axe cristallographique {1 ,1 ,1} est réalisable par procédé d'oxydation humide et permet de rendre positif le coefficient thermique du ressort spiral et d'obtenir une variation, en fonction de la température, du couple élastique du ressort spiral, compensant la variation en fonction de la température du moment d'inertie du balancier. Il n'est donc plus nécessaire de faire tendre le coefficient thermique de la constante de rappel du spiral vers zéro pour minimiser la dérive thermique de l'oscillateur conforme à l'invention. Il devient possible alors de réaliser de façon simple un ressort spiral particulier, pour un balancier donné, caractérisé par des paramètres physiques déterminés tels que sa masse, son moment d'inertie, sa matière, son rayon de giration et son coefficient de dilatation.
Description brève des dessins
D'autres caractéristiques et avantages apparaîtront plus en détails à la lecture de la description qui suit, ainsi qu'à l'aide des dessins annexés donnés à titre purement illustratif et non limitatif, parmi lesquels :
- la figure 1 illustre un exemple de réalisation d'un ressort spiral utilisé dans l'oscillateur mécanique conforme à l'invention, représenté en perspective ;
- la figure 2 représente un exemple de réalisation d'un oscillateur mécanique conforme à l'invention comprenant le ressort spiral représenté à la figure 1 ;
- la figure 3 représente l'oscillateur mécanique de la figure 1 en vue de dessous ;
- et la figure 4 illustre en coupe, un détail d'un exemple de réalisation d'un ressort spiral d'un oscillateur mécanique conforme à l'invention.
Exposé détaillé de l'invention
La figure 1 représente un exemple de réalisation d'un ressort spiral 1 qui peut être utilisé dans un oscillateur mécanique conforme à l'invention. Le ressort spiral 1 présente une extrémité centrale 2 et une extrémité excentrique 3. L'extrémité centrale 2 est solidaire d'une virole rotative 4, pourvue d'un orifice destiné à recevoir un arbre de rotation selon l'axe de rotation A (représentée par une ligne en pointillé). La virole rotative 4 est destinée à être montée sur un support fixe non représenté. La virole rotative 4 et le ressort spiral 1 peuvent notamment être fabriqués en une seule pièce, sans qu'une fixation séparé soit nécessaire. Il est néanmoins aussi imaginable que la virole rotative 4 soit formée séparément et fixée à l'extrémité centrale 2 du ressort spiral 1 par un moyen de fixation connu. L'extrémité excentrique 3 est destinée
à être solidarisée avec un élément fixe appelé « coq » et non représenté aux figures. A cet effet, plusieurs moyens de fixation communs sont possibles.
L'oscillateur mécanique conforme à l'invention est représenté aux figures 2 et 3 comporte également un balancier 7 solidaire en rotation de la virole rotative 4 et dont l'axe de rotation est confondu avec l'axe de l'arbre A. le balancier 7 comporte une partie de montage 8 centrée sur l'arbre A et des bras radiaux 9 reliant ladite partie de montage 8 à une serge 10.
Un exemple de réalisation du ressort spiral 1 est représenté à la figure 4. Le ressort spiral 1 est constitué d'une âme 1 a en silicium (Si) monocristallin dont la croissance s'est effectuée suivant l'axe cristallographique {1 ,1 ,1} . L'âme 1 a, de section transversale rectangulaire, est enrobée d'un revêtement périphérique 1 b d'épaisseur (e). Ce dernier est constitué d'un matériau présentant un coefficient thermoélastique opposé à celui du silicium. A titre d'exemple, ce matériau peut être une couche d'oxydation du genre croissance d' oxyde de silicium (SiO 2 ).
Le ressort spiral 1 présente une longueur (L), une largeur (I) et une hauteur (h). Le nombre de spires N du ressort spiral est déterminé en fonction des propriétés spécifiques recherchées pour chaque oscillateur mécanique. Cette détermination est connue en tant que telle.
Pour illustrer la nécessité de devoir ajuster le coefficient thermique du spiral à celui du balancier on peut considérer la formule de base (I) :
Ah = Nombre de battement par heure
7200 IM I = Moment d'inertie du balancier
WZ λ/ ~ 7 ~ M = Couple élastique du spiral
/ * 7t V 1
De cette formule on remarque que pour un même balancier, M étant inchangé, le nombre de battement diminue si l'inertie augmente.
Le tableau ci-après nous montre l'influence de la différence du coefficient thermique due à deux balanciers réalisés en matériaux ayant une coefficient de dilatation différent. Le résultat est calculé en utilisant les formules suivantes nommés (II) et (III) dans la formule de base (I).
Formule (II) : Calcul de l'inertie
I = Moment d'inertie du balancier
I = m * r m = Masse du balancier r = Rayon de giration du balancier
Formule (III) : l'inertie en fonction de T = I(T)
I = Moment d'inertie du balancier m = Masse du balancier
/(r) = m * ((:T *α + l) * r) 2 r = Rayon de giration du balancier T = Différence de temperatur par rapport à 20° a = Coefficient de dilatation
Tableau 1 : (base 28800alt/heures, rayon 5mm) L'influence de la température sur le balancier uniquement.
Pour que Ah(T) soit invariable il est nécessaire que la variation de M(T) et de I(T) en fonction de T soient de même signe et de même valeur. On peut constater les effets de M(T) et de I (T) dans la formule (I).
Ce qui revient à dire que dM/dT = dl/dT.
I(T), le moment d'inertie en fonction de la température est décrit dans la formule
M(T), le couple élastique du spiral peut alors être calculé dans le cas d'un spiral en silicium recouvert d'une couche d'oxyde uniforme à l'aide des formules suivantes :
Formule (IV) :
M = Couple élastique du spiral
M S | = Couple élastique du au silicium
M(T) = M sι *(l + CTE sι ) + M 0X *(l + CTE 0X ) M 0x = Couple élastique du à l'oxyde CTE 3 , = Coefficient élastique du CTE 0x silicium
= Coefficient élastique de l'oxyde
Formule (V) :
E 3 , = Module d'élasticité du silicium
E sl *(h-2e)*(l-2ef h = Hauteur de la lame
M,, = I = Epaisseur de la lame \2L L = Longueur du spiral déroulé e = Epaisseur de l'oxyde
Formule (Vl) :
E 0x = Module d'élasticité du silicium h = Hauteur de la lame
M ^ = ((h)HlΫ)-((h-2e)*(l-2eγ) I = Epaisseur de la lame
12L L = Longueur du spiral déroulé e = Epaisseur de l'oxyde
Next Patent: MULTICAST SOURCE MOBILITY