Metall-Keramik-Substrat mit einer zur direkten Kühlung

geformten Folie als Substratunterseite

Beschreibung

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Metall-Keramik-Substrat mit einer direkten Kühlung. Weiterer Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung und die Verwendung des erfindungsgemäßen Metall-Keramik-Substrats.

Stand der Technik

Metall-Keramik-Substrate, insbesondere solche in Form von Leiterplatten für elektrische und elektronische Schaltkreise oder Module, sowie Verfahren zur Herstellung derartiger Metall- Keramik-Substrate sind allgemein bekannt. In der Regel bestehen diese Substrate aus einer keramischen Isolierschicht, die an ihren beiden Oberflächenseiten jeweils mit einer Metallisierung versehen ist. Die Metallisierung wird in der Regel durch eine Metallfolie, z.B. aus Kupfer oder aus einer Kupferlegierung, gebildet, welche mit Hilfe eines geeigneten Verfahrens vollflächig mit der keramischen Isolierschicht verbunden wird.

Zum Erzeugen einer stabilen Verbindung zwischen dem Keramik-Substrat und der Metallfolie ist beispielsweise das DCB-Verfahren (Direct-Copper-Bond-Verfa ren) bekannt. Bei diesem DCB-Verfahren zum Verbinden von Kupferfolien und Keramik wird das Kupfer der Kupferfolie zunächst oberflächlich zu Kupferoxid (Cu ₂ 0) oxidiert. Der Schmelzpunkt von Kupferoxid (Cu ₂ 0) ist geringer als der Schmelzpunkt von reinem Kupfer und die mit Kupferoxid beschichtete Kupferfolie wird auf die Oberfläche des Keramik-Substrats gelegt und in einem Ofen erwärmt. In der Schmelze fügt sich die untere Seite der Kupferfolie, die aus Kupferoxid besteht, mit der Keramikoberfläche zusammen. Dieses DCB-Verfahren weist im Allgemeinen die folgenden Verfahrensschritte auf:

(a) Oberflächliches Oxidieren einer Kupferfolie derart, dass sich eine gleichmäßige Kupferoxidschicht bildet;

(b) Auflegen der Kupferfolie auf die Keramikschicht;

(c) Erhitzen des Verbundes auf eine Prozesstemperatur zwischen etwa 1025 bis 1083 °C; und

(d) Abkühlen auf Raumtemperatur.

Analog zu diesem vorgenannten DCB-Verfahren zum direkten Verbinden von Kupfer und Keramik (auch als direct bonding bezeichnet) sind noch andere Verfahren oder Technologien bekannt, mit denen in analoger Weise das Verbinden von Metallschichten mit Keramiken oder Keramikschichten möglich ist.

Bekannt ist beispielsweise das sogenannte Aktivlot-Verfahren zum Verbinden von Metallisierungen bildenden Metallschichten oder Metallfolien, insbesondere auch von Kupferschichten oder Kupferfolien oder Aluminiumschichten oder Aluminiumfolien, mit einem Keramikmateri- al. Bei diesem Verfahren wird bei einer Temperatur in der Regel zwischen 800 und 1000 °C eine Verbindung zwischen einer Metallfolie, beispielsweise Kupferfolie, und einem Kera- miksubstrat, beispielsweise einer Aluminiumnitrid-Keramik, unter Verwendung eines Hartlots hergestellt, welches zusätzlich zu einer Hauptkomponente, wie Kupfer, Silber und/oder Gold auch ein Aktivmetall enthält. Dieses Aktivmetall, welches beispielsweise wenigstens ein Element der Gruppe Hf, Ti, Zr, Nb, Ce ist, stellt durch chemische Reaktion eine Verbindung zwischen dem Lot und der Keramik her, während die Verbindung zwischen dem Lot und dem Metall eine metallische Hartlöt-Verbindung ist.

Eine weitere Möglichkeit der Herstellung von Metall-Keramik-Substraten ist durch die in der WO 2017/108939 A beschriebene Verfahrensweise gegeben, nach welcher eine Dickfilmpaste entweder auf das Keramik-Substrat oder die Metallfolie appliziert wird und anschlie- ßend das Keramiksubstrat und die Metallfolie miteinander verbunden werden.

Das DCB-Verfahren und die übrigen Verfahren zur Herstellung von Metall-Keramik- Substraten, wie insbesondere das AMB-Verfahren und das TFCB-Verfahren, werden allgemein als MCS-Verfahren (MCS = metal ceramic Substrate) bezeichnet. In der vorliegenden Erfindung wird der Begriff Metall-Isolator-Substrat und Metall-Keramik-Substrat (MCS) syno- nym verwendet.

Die Anwendungsbereiche von Metall-Keramik-Substraten reichen von Anwendungen im Be- reich der Leistungselektronik wie z.B.im Bereich von Windkraftanlagen, Traktion, Antriebe, Pumpen, Automotive usw. bis zu Anwendungen im Bereich der Sensorik und LED, also überall dort, wo Module in großen Temperaturbereichen und unter sehr hohen Strömen und Strompulsen dauerhaft funktionstüchtig bleiben müssen. Sie finden sich beispielsweise in IGBT- oder MOSFET-Transistormodulen, in Frequenzumrichtern oder in Stromumrichtern wieder. Mit einem Wärmeausdehnungskoeffizienten nahe dem von Silizium eignen sie sich für Chip-on-Board-Verbindungen. Die beim Schalten der Bauteile erzeugte Wärme muss, wie bereits vorstehend angedeutet, über das Substrat abgeführt werden, was zunächst durch die hohe Wärmeleitfähigkeit der Keramik, kombiniert mit der hohen Wärmekapazität und Wär- mespreizung des Kupfers, möglich wird.

Bei den bekannten Metall-Keramik-Substraten bildet die„zweite" Metallisierung, d.h. die die elektronischen Schaltkreise bildende Metallisierung gegenüberliegende Metallisierung, in der Regel eine Zwischenschicht, die insbesondere eine Anbindung an eine metallische Grund- platte ermöglicht und einen verbesserten thermischen Übergang zwischen der Keramik- schicht und dieser metallischen Grundplatte bewirkt, auf der das Metall-Keramik-Substrat angeordnet ist und die ihrerseits mit einem Kühlkörper oder einer Wärmesenke verbunden ist. Die Verbindung zwischen dem Metall-Keramik-Substrat und der Grundplatte ist bei- spielsweise eine Löt- oder Sinterverbindung.

Entsprechende mit separaten Kühlkörpern versehene Metall-Keramik-Substrate sind bei- spielsweise aus der Druckschrift EP 0 751 570 A bekannt, in welcher beschrieben wird, dass der Kühlkörper unter ein Metall-Keramik-Substrat verschraubt wird. Auch die Druckschrift US 5,847,929 betrifft ein Metall-Keramik-Substrat, in welchem ein se- parater Kühlkörper über eine Silikon-haltige Klebeschicht an das Metall-Keramik-Substrat angebunden ist.

Die Druckschrift DE 10 2009 045 063 A beschreibt ein Metall-Keramik-Substrat mit einem separaten angespritzen Kühlkörper.

Die Druckschrift US 2012/0282454 A betrifft ein Metall-Keramik-Substrat mit einem separaten aus einem Schaummaterial bestehenden Kühlkörper.

Die Druckschrift US 5,200,641 beschreibt ein Metall-Keramik-Substrat, in welchem auf der Metallschicht ein separater komplexer Verbundkörper, ebenfalls als Kühlkörper, verwendet wird.

Die Verwendung separater Kühlelemente, mit welchem das Metall-Keramik-Substrat thermisch verbunden ist, ist allerdings dahingehend nachteilig, da sie einerseits einen großen Platzbedarf haben und andererseits einen separaten Verfahrensschritt des Verbindens von Metall-Keramik-Substrat und separatem Kühlelement erfordern.

Aus dem Stand der Technik sind auch Metall-Keramik-Substrate bekannt, die eine direkte Kühlung aufweisen. Unter einer direkten Kühlung wird verstanden, dass eine der beiden Metallisierungen von einer ebenen Struktur abweichende Strukturelemente aufweist, die mit einem Kühlmedium in Kontakt stehen können.

Insbesondere bei Automotiv-Anwendungen und Traktions-Anwendungen (Anwendungen im Bereich der Bahntechnik) wird eine derartige direkte Kühlung der Metall-Keramik-Substrate bevorzugt. Hierbei wird anstelle einer flachen Bodenplatte ein Kühlkörper verwendet, bei dem die Unterseite entsprechend so ausgeprägt ist, dass er mit einem Kühlmedium direkt umspült werden kann. Dieser Kühlkörper ist über die Metallisierung des Metall-Keramik- Substrats mit dem Keramiksubstrat verbunden (d.h. die Bodenplatte ist direkt mit einer Kühlerstruktur ausgebildet). Auf diese Weise wird der thermische Pfad um die Anbindung Bodenplatte zu Kühler mittels thermischer Leitpaste verkürzt und Wärmleitpasten sind nicht mehr notwendig. Es ist zwar richtig, dass die Zuverlässigkeit der resultierenden Metall- Keramik-Substrate durch die direkte Kühlung verbessert wird, da die Wärmeleitpaste durch Beweglichkeit, Alterung und Pumpout-Effekt ein zusätzliches Risiko darstellt, allerdings ist die Herstellung entsprechender Leistungsmodule aufgrund Verwendung von separater Metallisierung und strukturierter Bodenplatte aufwendig.

Ein derartiges Metall-Keramik-Substrat ist beispielsweise auch in der Druckschrift WO 2013/120486 A beschrieben, in welcher ein Metall-Keramik-Substrat sowie ein Verfahren zu dessen Herstellung vorgeschlagen werden, wobei das Metall-Keramik-Substrat zumindest eine Keramikschicht umfasst, die an einer ersten Oberflächenseite mit mindestens einer ersten Metallisierung und an einer der ersten Oberflächenseite gegenüberliegenden zweiten Oberflächenseite mit einer zweiten Metallisierung versehen ist. Die zweite Metallisierung auf der Unterseite des Keramikschicht ist zwingend aus Aluminium oder einer Aluminiumlegierung und gleichzeitig als Kühlkörper ausgebildet. Diese zweite Aluminium-haltige Metallisie- rung als Kühlkörper wird gemäß der Lehre der WO 2013/120486 A grundsätzlich dadurch hergestellt, dass zunächst einmal eine vollständig planare zweite Metallisierung aus Alumini- um oder einer Aluminiumlegierung auf dem Keramiksubstrat erzeugt wird und anschließend die für die Kühlung erforderlichen Strukturelemente, d.h. nach außen abstehende Kühlelemente, durch partiellen Abtrag der zweiten Metallisierung erzeugt werden. In der Druckschrift WO 2013/120486 A erfolgt der Abtrag der Metallisierung durch Ätzen, Laserbehandlung und/oder mechanische Bearbeitungsprozesse, beispielsweise durch Sägen. Daher erfordert die Anwendung der Lehre der WO 2013/120486 A die Durchführung von weiteren Verarbeitungsschritten nach der Erzeugung der zweiten Metallisierung, um die zweite Metallisierung als Kühlelement auszubilden. Darüber hinaus kann die resultierende Höhe der Kühlelemente maximal der Schichtdicke der zweiten Metallisierung entsprechen, da die Kühlelemente ja gerade durch einen partiellen Abtrag dieser zweiten Metallisierung gebildet werden. Die Schichtdicke der zweiten Metallisierung aus Aluminium oder einer Aluminiumlegierung beträgt maximal 1 ,00 mm, so dass die durch Abtrag entstehenden Kühlelemente eine maximale Höhe von weniger als 1 ,00 mm aufweisen können.

Darüber hinaus haben sich in den letzten Jahren insbesondere bei Anwendungen im Bereich Automotive Leistungshalbleitermodule mit Metall-Keramik-Substraten mit indirekter Kühlung (mit Wärmeleitpasten) durchgesetzt. Entsprechende Metall-Keramik-Substrate sind modular einsetzbar und bieten durch die Materialeinsparung Vorteile bezüglich Kosten und Gewicht.

Ebenso haben sich Leistungshalbleitermodule durchgesetzt, die anstelle einer Keramik als elektrischer Isolator eine organische Zwischenschicht besitzen. Bei der organischen Zwischenschicht kann es sich beispielsweise um eine dielektrische Isolationsfolie handeln, wie sie in dem Leistungsmodul gemäß DE 10 2011 088 218 A1 verwendet wird. Hierbei wird die dielektrische Isolationsfolie mittels Klebstoffschichten auf einen Kühlkörper fixiert. Diese Ausführungsform des Standes der Technik verzichtet zwar auf eine Bodenplatte, erfordert aber eine separate Klebstoffschicht und einen separaten Kühlkörper.

Ausgehend von diesem Stand der Technik stellt sich die vorliegende Erfindung die Aufgabe, Metall-Isolator-Substrate bereitzustellen, die einen einfacheren Aufbau aufweisen und trotzdem effektiv gekühlt werden können.

Diese Metall-Isolator-Substrate sollen vorzugsweise eine kostengünstige Herstellung von entsprechenden Leistungsmodulen ermöglichen. Dieses wird insbesondere dadurch verwirklicht, dass es bei der Herstellung des erfindungsgemäßen Metall-Isolator-Substrats bzw. während der Strukturierung der zweiten Metallisierung des erfindungsgemäßen Metall- Isolator-Substrats, wie nachstehend ersichtlich, nur wenig oder gar kein Materialverlust resultiert.

Darüber hinaus sollen diese Metall-Isolator-Substrate vorzugsweise eine kompakte Bauform aufweisen und insbesondere auf die herkömmlich verwendeten verhältnismäßig großen Kühlkörpern (oder Wärmesenken) verzichten können. Das Sintern bzw. Löten eines Chips, welches ein integriertes System (Substrat + vorhandene Metallisierung als Kühlkörper ausgebildet) aufweist, ist einfacher in Vergleich zu einem System, das ein Substrat und einen separat angebundenen Kühlkörper aufweist, da vergleichsweise deutlich weniger thermische Masse im Verfahren eingebracht wird. Das Einbringen weniger thermischen Masse hat wie- derum Auswirkungen auf die Prozesszeit, auf die Genauigkeit des Temperaturprofils des Verfahrens und auf die Durchbiegung des gesamten Systems.

Die vorstehenden Aufgaben werden erfindungsgemäß durch ein Metall-Isolator-Substrat, umfassend a. ein Isolatorsubstrat mit einer Oberseite und einer Unterseite; b. eine erste Metallisierung auf der Oberseite des Isolatorsubstrats, die für die Ausbildung einer Schaltungselektronik bestimmt ist oder mit mindestens einer Schaltungselektronik versehen ist; und c. eine zweite Metallisierung auf der Unterseite des Isolatorsubstrats gelöst, wobei

^■ die zweite Metallisierung des erfindungsgemäßen Metall-Isolator-Substrats als Kühlkörper ausgebildet ist,

^■ die zweite Metallisierung zur direkten Kühlung mit einer Strukturierung derart verse- hen ist, dass die zur Kühlung zur Verfügung stehende Fläche der zweiten Metallisierung im Vergleich zu einer planaren Struktur der zweiten Metallisierung durch Aus- prägungen vergrößert ist, und die Ausprägungen eine Höhe von mindestens 700 pm aufweisen.

Erfindungsgemäß ist also vorgesehen, dass die der Schaltungselektronik gegenüberliegende Metallisierung des Isolatorsubstrats unmittelbar als Kühlkörper oder Wärmesenke fungiert. Eine Anbindung eines separaten Kühlkörpers, beispielsweise über eine metallische Grund- platte, oder aber die Verwendung einer als Kühlkörper ausgebildeten Grundplatte ist im Rahmen der vorliegenden Erfindung vorzugsweise nicht vorgesehen.

Im Rahmen der vorliegenden Erfindung wird unter einer als Kühlkörper ausgebildeten Metal- lisierung eine Metallisierung verstanden, die eine aktive Kühlung des Metall-Isolator- Substrats ermöglicht; unter einer aktiven Kühlung wird wiederum vorzugsweise verstanden, dass sich die Metallisierung in einem unmittelbaren Kontakt mit einem Kühlmedium befindet. Das Kühlmedium ist, wie noch weiter unten näher ausgeführt, vorzugsweise flüssig oder gas- förmig, weiter bevorzugt flüssig.

Bevor nun die vorliegende Erfindung näher beschrieben wird, werden nachfolgende Begriff- lichkeiten der vorliegenden Erfindung näher erläutert.

Das erfindungsgemäße Metall-Isolator-Substrat weist mindestens eine Metallisierung auf der Oberseite und mindestens eine Metallisierung auf der Unterseite des Isolatorsubstrats auf. Die Verwendung der Begriffe Ober- und Unterseite des Isolatorsubstrats stellt keine räumli- che Bevorzugung für Flächen des Metall-Isolator-Substrats dar, sondern dient nur zur Diffe- renzierung der beiden Flächen des Isolatorsubstrats. Diese beiden Flächen des Isolatorsub- strats, auf denen die beiden Metallisierungen vorgesehen sind, sind zueinander gegenüber- liegend angeordnet, werden durch das Isolatorsubstrat voneinander getrennt und stellen in der Regel die flächenmäßig größten Flächen des Isolatorsubstrats dar.

Des Weiteren wird der Begriff„planare Struktur“ der zweiten Metallisierung lediglich als theoretische Bezugsgröße verwenden und setzt nicht zwingend voraus, dass eine planare Struk- tur in der zweiten Metallisierung vorliegen muss.

Die erste Metallisierung auf der einen Seite des Isolatorsubstrats, vorliegend als Oberseite des Isolatorsubstrats bezeichnet, dient zur Ausbildung der Schaltungselektronik. Beispielsweise sind Leistungs- und Logikbausteine, aber auch Strukturierungen von Leiterbahnen und Kontaktflächen und/oder Befestigungsflächen für elektronische Bauteile, auf dieser ersten Metallisierung vorgesehen.

Die zweite Metallisierung auf der anderen Seite des Isolatorsubstrats (gegenüberliegend zur ersten Metallisierung), vorliegend als Unterseite des Isolatorsubstrats bezeichnet, dient zur direkten Kühlung des Metall-Isolator-Substrats.

Die vorliegende Erfindung sieht somit vor, dass der Kühlkörper integraler Bestandteil des Metall-Isolator-Substrats ist; damit wird im Rahmen der vorliegenden Erfindung auf einen separat ausgebildeten Kühlkörper, mit welchem das Metall-Isolator-Substrat verbunden wird, in der Regel verzichtet. Eine besondere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung umfasst somit keinen separaten ausgebildeten Kühlkörper, mit welchem das Metall-Isolator- Substrat verbunden wird.

Die Isolationsschicht des erfindungsgemäßen Metall-Isolator-Substrats unterliegt keinen Beschränkungen, solange die Isolationsschicht als ausreichendes Dielektrikum fungiert.

Die Isolationsschicht, die zwischen der ersten und zweiten Metallisierung vorliegt, kann in einer ersten Ausgestaltung eine Keramikschicht sein (Keramiksubstrat). In diesem Fall resultiert ein Metall-Keramik-Substrat.

In einer zweiten Ausgestaltung der vorliegenden Erfindung handelt es sich bei der Isolationsschicht um ein Metallsubstrat, dass mit einem organischen Isolator beschichtet ist, wie beispielsweise von der Firma Mitsubishi Electric Corporation vertrieben.

In einer dritten Ausgestaltung der vorliegenden Erfindung kann es sich um eine Kunststoff- Isolationsschichtschicht, beispielsweise um eine Kunststofffolie, handeln.

Leistungsmodule, umfassend die erfindungsgemäßen Metall-Isolations-Substrate, sind in der Herstellung kostengünstiger, da auf die separate Herstellung eines Kühlkörpers und dem Arbeitsschritt des Verbindens von Metall-Isolator-Substrat und Kühlkörper verzichtet werden kann.

Die zweite Metallisierung mit der Kühlstruktur weist eine derartige Schichtdicke auf, so dass das resultierende erfindungsgemäße Metall-Isolator-Substrat mit direkter Kühlung in der konkreten Anwendung einen deutlich geringeren Platzbedarf aufweist als ein herkömmliches Metall-Isolator-Substrat mit einem separaten Kühler.

Im Folgenden werden bevorzugte Ausführungsformen des erfindungsgemäßen Metall- Isolator-Substrats beschrieben.

In der vorliegenden Erfindung wird ein wie vorstehend beschriebenes Metall-Isolator- Substrat beansprucht, also ein Isolatorsubstrat mit auf beiden Seiten des Isolatorsubstrats vorgesehenen Metallisierungen, wobei ein Kühlmedium in Kontakt mit einer der beiden Me- tallisierungen steht. Dieses Kühlmedium kann gasförmig oder flüssig, jedoch bevorzugt flüssig, sein.

Im Rahmen der vorliegenden Erfindung ist die zweite Metallisierung zur direkten Kühlung mit einer Strukturierung versehen. Diese Strukturierung dient dazu, die zur Kühlung zur Verfü- gung stehende Fläche der zweiten Metallisierung - im Vergleich zu einer planaren Struktur der zweiten Metallisierung - zu vergrößern, so dass eine Kühlung durch ein mit dieser Ober- fläche in Kontakt stehendes Kühlmedium effizient ermöglicht wird. Dieses Kühlmedium kann gasförmig oder flüssig, jedoch bevorzugt flüssig, sein.

Die Strukturierung der zweiten Metallisierung zur direkten Kühlung kann in einer ersten Aus- führungsform dergestalt ausgebildet sein, dass an einigen Stellen die zweite Metallisierung im Vergleich zu einer planaren Struktur der zweiten Metallisierung teilweise oder vollständig entfernt ist und das verwendete Kühlmedium an diesen Stellen somit bis zum Isolatorsub- strat reicht. Eine Ausführungsform, bei welcher das Kühlmedium bis an das Isolatorsubstrat reicht, kann sich zum Beispiel dann ergeben, wenn die zweite Metallisierung aus einer vor- strukturierten, beispielsweise gestanzten, Metallfolie gebildet wird, aus welcher ein Teil der Metallsierungen aus der ursprünglichen Metallfolienebene durch Stanzen entfernt wurde, so dass schlussendlich Ausnehmungen in der zweiten Metallisierung resultieren.

In einer zweiten Ausführungsform wird die zweite Metallisierung aus einer durch Prägen er- zeugten vorstrukturierten Metallfolie gebildet ohne dass Bereiche der Metallisierung vollstän- dig entfernt sind. Gemäß dieser Ausführungsform ist die zweite Metallisierung derart ausge- bildet, dass die dem Isolatorsubstrat abgewandte Seite der zweiten Metallisierung hervorste- hende Ausprägungen aufweist, wobei die dem Isolatorsubstrat zugewandte Seite der zwei- ten Metallisierung Hohlräume entsprechend zu diesen Ausprägungen aufweist. Durch den Winkel der erfindungsgemäßen Ausprägungen lassen sich gezielte Verwirbelungen des Kühlmediums erzielen, welche die Effektivität der Kühlung begünstigen. Eine entsprechende Darstellung einer derartigen Strukturierung der zweiten Metallisierung ist in der Abbildung 9 wiedergegeben.

In einer weiteren dritten Ausführungsform wird die zweite Metallisierung aus einer durch„par- tielles Stanzen und/oder Biegen“ erzeugten vorstrukturierten Metallfolie gebildet ohne je- doch, dass Bereiche der Metallisierung entfernt werden. Unter„partielles Stanzen und/oder Biegen“ wird gemäß der vorliegenden Erfindung das Herausstellen von Teilbereichen aus der zweiten Metallisierung verstanden, wobei keine Abtragung der Metallisierung im Sinne von Entfernen der Metallisierung stattfindet. Der hochgestellte Teil (durch Hochklappen) ver- bleibt verbunden mit der zweiten Metallisierung und wird gebogen, so dass dieser Teilbe- reich aus der zweiten Metallisierung heraussteht und somit deren Oberfläche vergrößert. Der „abgetrennte“ Teil (hochgeklappte Teil) hinterlässt an diesen Stellen Ausnehmungen, die bis zum Isolatorsubstrat reichen können. Da bei diesem Vorgang, wie vorstehend erwähnt, keine Abtragung von Masse im Sinne von Entfernen stattfindet, bleibt die Masse der zweiten Me- tallisierung vor und nach dem„partiellen Stanzen und Biegen“ unverändert. Eine entsprechende Darstellung zur Erläuterung dieser Strukturierung ist in der Abbildung 11 wiederge- geben.

Durch Einstellung der Durchbiegung über die Dicke und über die Stanzrate der zum Struktu- rieren bereitgestellten Metallfolie, kann der vorstehende Vorgang weiter optimiert werden.

In einer bevorzugten Ausführungsform weist die zweite Metallisierung bereits vor der Anbrin- gung auf dem Isolatorsubstrat Strukturierungen in der Form von Ausnehmungen und/oder Ausprägungen gemäß den vorstehenden Ausführungsformen auf, die vorzugsweise durch einen Stanzvorgang, einen Prägevorgang oder durch einen Vorgang von partiellem Stanzen und/oder Biegen (wie vorstehend beschrieben) gebildet werden.

Hierin unterscheidet sich die der vorliegenden Erfindung zugrundeliegende Lehre von der Entgegenhaltung WO 2013/120486 A, in welcher zunächst eine flächige unstrukturierte zwei- te Metallisierung auf einem Isolatorsubstrat aufgebracht und anschließend durch eine Art Subtraktion Bereiche der zweiten Metallisierung wieder entfernt werden. Eine auch partielle Entfernung von Bereichen der zweiten Metallisierung ist erfindungsgemäß nicht vorgesehen. Die Verwendung einer vorstrukturierten Folie als zweite Metallisierung zur Herstellung eines Metall-Keramik-Substrats mit direkter Kühlung ist in der WO 2013/120486 A ebenfalls nicht offenbart. In einer bevorzugten Ausgestaltung dieser Strukturierung auf der abgewandten Seite der Schaltungselektronik (zweite Metallisierung) ist eine Strukturierung dergestalt vor- gesehen, dass Strömungs- und/oder Kühlkanäle erzeugt werden, durch die ein Kühlmedium hindurchfließen kann. Diese Strömungs- oder Kühlkanäle werden dabei von der zweiten Me- tallisierung bzw. dem Isolatorsubstrat begrenzt und ragen in ein geschlossenes System, bei- spielsweise aus Metall, welches mit Anschlüssen für das Kühlmedium versehen ist.

In einer bevorzugten Ausführungsform wird die zweite Metallisierung aus einer Kupfer- oder Aluminium-umfassenden Folie, bevorzugt einer Kupferfolie, gebildet, in welche die Kühlstruk- turen vor dem Verbinden mit dem Isolatorsubstrat eingeprägt, eingestanzt, oder partiell ein- gestanzt sind.

In einer weiteren Ausgestaltung der Strukturierung der zweiten Metallisierung des erfin- dungsgemäßen Metall-Isolator-Substrats ist eine konkav-konvexe Struktur vorgesehen; eine entsprechende Darstellung dieser Strukturierung der zweiten Metallisierung auf der dem Iso- latorsubstrat abgewandten Seite ist in der Abbildung 5 dargestellt.

In einer weiteren Ausgestaltung der Strukturierung der zweiten Metallisierung des erfin- dungsgemäßen Metall-Isolator-Substrats sind Nadeln vorgesehen. Eine weitere Ausgestaltung der Strukturierung der zweiten Metallisierung des erfindungsgemäßen Metall-Isolator-Substrats sieht eine Pin-Fin-Struktur vor; eine entsprechende Darstel- lung dieser Strukturierung der zweiten Metallisierung auf der dem Isolatorsubstrat abge- wandten Seite ist in der Abbildung 6 dargestellt.

In einer weiteren Ausgestaltung der Strukturierung der zweiten Metallisierung des erfin- dungsgemäßen Metall-Isolator-Substrats, insbesondere wenn in dem erfindungsgemäßen Verfahren eine Metallfolie verwendet wird, die bereits strukturiert ist, ist eine Formgebung der Ausprägungen mit Rundungen vorgesehen, die zur Stabilisierung der Ausprägungen während des Bondes dienen, so dass das durch Flitze des Bondens weiche Metall (z.B. Cu) nicht zusammenbricht. Eine entsprechende Darstellung dieser Strukturierung mit Rundungen der Ausprägungen der zweiten Metallisierung auf der dem Isolatorsubstrat abgewandten Seite ist in der Abbildung 13 dargestellt. Die Abbildung 14 stellt Beispiele von Ausprägungen (Pins) mit Rundungen unterschiedlicher Formgebung dar.

Die Fierstellung von Metall-Isolator-Substraten erfolgt in der Regel durch einen Direct-Metal- ßo/icf-Prozess in einem Bondofen; die entsprechenden Verfahrensschritte sind bereits vorstehend in ihren Grundzügen erläutert und dem Fachmann auf dem zugrundeliegenden technischen Gebiet bekannt. Die Metallisierungen auf den beiden Seiten des Isolatorsubstrats erfolgt dabei in der Regel ausgehend von einer Metallfolie. Daher ist es im Rahmen der vorliegenden Erfindung vorzugsweise vorgesehen, dass die zweite Metallisierung, die zur Ausbildung der direkten Kühlstruktur dient, ebenfalls durch eine Folie gebildet wird.

Die zweite Metallisierung, die die zur Kühlung verwendete Strukturierung umfasst, weist in der Regel eine Schichtdicke von mindestens 700 pm, bevorzugt mindestens 800 pm, noch weiter bevorzugt mindestens 900 pm, noch weiter bevorzugt mindestens 1000 pm, noch weiter bevorzugt mehr als 1000 pm, auf.

Weitere geeignete Schichtdicken sind 100 bis 3000 pm, bevorzugt 500 bis 3000 pm, noch weiter bevorzugt 800 bis 3000 pm, noch weiter bevorzugt 1000 bis 3000 pm, noch weiter bevorzugt mehr als 1000 bis 3000 pm.

Noch weitere bevorzugte Schichtdicken der zweiten Metallisierung sind 100 bis 1500 pm, bevorzugt 150 bis 1200 pm, noch weiter bevorzugt 200 bis 800 pm.

Einzelne Bereiche der zweiten Metallisierung können dabei, wie bereits erwähnt, vollständig entfernt (erster Fall) oder aus der ursprünglichen Metallfolienebene hervorstehend ausgeprägt (zweiter Fall) sein. In diesen Fällen kann die zweite Metallisierung diskontinuierlich auf der Unterseite des Isolatorsubstrats aufgebracht.

Alternativ kann die zweite Metallisierung auf dem Isolatorsubstrat auch vollflächig verbleiben, d.h. die Strukturierungen zur direkten Kühlung, die in diesem Fall nur durch einen teilweisen Abtrag bzw. Abschälen und/oder Biegen der Metallisierung gebildet werden, erstrecken sich nicht bis zum Isolatorsubstrat. In diesem Fall ist somit vorgesehen, dass die zweite Metallisierung kontinuierlich auf der Unterseite des Isolatorsubstrats aufgebracht ist. Unter dem Begriff„Abschälen und/oder Biegen“ wird gemäß der vorliegenden Erfindung das Flerausstel- len von Teilbereichen aus der zweiten Metallisierung verstanden, wobei keine Abtragung der Metallisierung im Sinne von Entfernen der Metallisierung stattfindet. Der abgeschälte Teil verbleibt verbunden mit der zweiten Metallisierung und wird derartig gebogen, dass es aus der Metallisierung heraussteht und somit die Oberfläche der zweiten Metallisierung, die in Kontakt mit dem Kühlmedium kommt, vergrößert. Durch den Vorgang des Abschälens und/oder Biegens der zweiten Metallisierung bleibt die Masse der Metallisierung vor und nach dem„Abschälen“ unverändert. Eine entsprechende Darstellung dieser Strukturierung ist in der Abbildung 12 dargestellt.

Die vorzugsweise durch Stanzen (Ausbilden von Ausnehmungen) Prägen (Ausbilden von Ausprägungen) oder partiellem Stanzen bzw. Abschälen und/oder Biegen (Ausbilden von herausgestellten Teilbereichen) gebildeten geometrischen Formen der zweiten Metallisierung werden im Rahmen der vorliegenden Erfindung zusammenfassend auch als Strukturierungen bezeichnet.

Die durch vorzugsweise Stanzen, Prägen oder partiellem Stanzen bzw. Abschälen und/oder Biegen erzeugten Strukturierungen der zweiten Metallisierung auf der dem Isolatorsubstrat abgewandten Seiten, die vor dem Verbinden mit dem Isolatorsubstrat gebildet werden, wei- sen, eine Höhe von mindestens 700 pm, bevorzugt mindestens 800 pm, noch weiter bevor- zugt mindestens 900 pm, noch weiter bevorzugt mindestens 1000 pm, noch weiter bevorzugt mehr als mindestens 1000 pm, auf. Weitere geeignete Höhen sind vorstehend definiert. Die Strukturierungen, die vorzugsweise durch Stanzen, Prägen oder partiellem Stanzen bzw. Abschälen und/oder Biegen auf der dem Isolatorsubstrat abgewandten Seite der zweiten Metallisierung entstehen, können eine Höhe (h) aufweisen die größer ist als die Schichtdicke der zweiten Metallisierung selbst. Ein entsprechendes Beispiel ist in Abbildungen 11a) und 11 b) zur Erläuterung der Struktur dargestellt.

Die Strukturierungen weisen eine Höhe (h) von vorzugsweise höchstens 15000 pm, noch weiter bevorzugt höchstens 12000 pm, noch weiter bevorzugt höchstens 10000 pm, noch weiter bevorzugt höchstens 8000 pm, noch weiter bevorzugt höchstens 5000 pm, noch wei- ter bevorzugt höchstens 3000 pm, auf.

Die Strukturierungen weisen eine Höhe (h) von vorzugsweise 700 - 15000 pm, vorzugswei- se 800 - 15000 pm, vorzugsweise 900 - 15000 pm, vorzugsweise 1000 - 15000 pm, vor- zugsweise >1000 - 15000 pm auf.

Die Strukturierungen weisen eine Höhe (h) von vorzugsweise 700 - 12000 pm, noch weiter bevorzugt 800 - 12000 pm, noch weiter bevorzugt 900 - 12000 pm, noch weiter bevorzugt 1000 - 12000 pm, noch weiter bevorzugt >1000 - 12000 pm auf.

Die Strukturierungen weisen eine Höhe (h) von vorzugsweise 700 - 10000 pm, noch weiter bevorzugt 800 - 10000 pm, noch weiter bevorzugt 900 - 10000 pm, noch weiter bevorzugt 1000 - 10000 pm, noch weiter bevorzugt >1000 - 10000 pm auf. Die Strukturierungen weisen eine Höhe (h) von vorzugsweise 700 - 8000 pm, noch weiter bevorzugt 800 - 8000 pm, noch weiter bevorzugt 900 - 8000 mhti, noch weiter bevorzugt 1000 - 8000 miti, noch weiter bevorzugt >1000 - 8000 pm auf.

Die Strukturierungen weisen eine Höhe (h) von vorzugsweise 700 - 5000 pm, noch weiter bevorzugt 800 - 5000 pm, noch weiter bevorzugt 900 - 5000 pm, noch weiter bevorzugt 1000 - 5000 mpi, noch weiter bevorzugt >1000 - 5000 mpi auf.

Die Strukturierungen weisen eine Höhe (h) von vorzugsweise 700 - 3000 pm, noch weiter bevorzugt 800 - 3000 pm, noch weiter bevorzugt 900 - 3000 mhti, noch weiter bevorzugt 1000 - 3000 miti, noch weiter bevorzugt >1000 - 3000 pm auf.

Im Rahmen der vorliegenden Erfindung wird unter der Höhe der Strukturierung der maximale Abstand der der zweiten Metallisierung von der Grundfläche der zweiten Metallisierung ver- standen, wobei die Grundfläche der zweiten Metallisierung

^■ im Wesentlichen parallel zu dem Isolatorsubstrat verläuft, und

^■ kontinuierlich, also ununterbrochen, vorliegt, und

^■ gleichzeitig den weitesten Abstand zum Isolatorsubstrat aufweist.

Sollte die zweite Metallisierung in einigen Bereichen vollständig entfernt sein (Ausnehmung) und somit nicht kontinuierlich, also ununterbrochen, vorliegen, wird die Grundfläche durch das Isolatorsubtart gebildet. Im Falle einer DCB-Anordnung, in welcher zwischen dem Kera- miksubstrat und der zweiten Metallisierung eine Kupferschicht vorgesehen sein kann, wird die Grundfläche durch diese (Zwischen)Kupferschicht gebildet; dadurch wird der Kontakt des Kühlmediums mit dem Isolatorsubstrat vermieden, was insbesondere bei DCB- Anwendungen von Vorteil sein kann.

Eine diskontinuierliche Aufbringung der zweiten Metallisierung mit Ausnehmungen in der zweiten Metallisierung ist bevorzugt.

Bei dem erfindungsgemäßen Metall-Isolator-Substrat kann es sich um eine DCB-Anordnung, eine DAB-Anordnung, eine AMB-Anordnung oder eine TFCB-Anordnung handeln.

DCB-Anordnung:

Bei der DCB-Anordnung (auch DBC-Anordnung) wird eine Kupferfolie (als erste und zweite Metallisierung) unmittelbar auf ein Keramiksubstrat (als Isolatorsubstrat) mit dem bekannten DCB-Verfahren aufgebondet. Alternativ kann zwischen dem Keramiksubstrat und der zwei- ten Metallisierung eine weitere Kupferschicht vorgesehen sein. Eine entsprechende Darstel- lung dieser Strukturierung, in welcher eine Kupferschicht zwischen der zweiten Metallisierung und dem Keramiksubstrat vorliegt, ist in der Abbildung 10 dargestellt. DAB-Anordnunq:

Bei der DAB-Anordnung (auch DBA-Anordnung) wird eine Aluminiumfolie als erste und zwei- te Metallisierung unmittelbar auf ein Keramiksubstrat (als Isolatorsubstrat) mit dem bekann- ten DAB-Verfahren aufgebondet; in diesem Fall kann die zweite Aluminium-Metallisierung auf der Unterseite des Keramiksubstrats bereits zur direkten Kühlung vorstrukturiert sein oder nach dem Bonden mit einer Strukturierung zur direkten Kühlung versehen sein.

AMB-Anordnunq:

Bei einer AMB-Anordnung (auch AMC-Anordnung) wird eine Metallisierung, beispielsweise eine Kupfermetallisierung, als erste und zweite Metallisierung auf ein Keramiksubstrat (als Isolatorsubstrat) aufgelötet, wobei in der Regel ein Metall, beispielsweise Titan, zu der Lötzusammensetzung hinzugefügt wird. Das Auflöten der zweiten Metallisierung auf das Keramiksubstrat kann beispielsweise zunächst vollflächig mit einer anschließenden Strukturierung zur direkten Kühlung erfolgen oder aber der Auflötprozess der Metallisierung kann bereits unter Ausbildung der Strukturierung zur direkten Kühlung erfolgen.

TFCB-Anordnunq:

Bei einer TFCB-Anordnung wird ein Keramiksubstrat (als Isolatorsubstrat) verwendet, wobei die Metallisierungen über eine Dickschichtfilmpaste, beispielsweise enthaltend ein Metall und B12O3 oder ein Metall und gegebenenfalls ein Glasmaterial, mit dem Keramiksubstrat verbunden werden. Auch in diesem Fall kann die als zweite Metallisierung auf der Unterseite des Keramiksubstrats zur direkten Kühlung vorgesehene Metallisierung vor oder nach dem Verbinden mit dem Isolationssubstrat zur direkten Kühlung strukturiert werden. Entsprechende Metall-Isolator-Substrate sind aus der WO 2017/108939 A bekannt, dessen diesbezügliche Offenbarung durch Bezugnahme in die vorliegende Erfindung eingeschlossen wird.

Bei diesen Anordnungen ist üblicherweise vorgesehen, dass die zweite Metallisierung unmittelbar auf dem Isolatorsubstrat, gegebenenfalls über eine Aktivlotverbinung (AMB) oder eine Dickschichtfilmpaste (TFCB), aufgebracht ist. Die Herstellung dieser erfindungsgemäßen Metall-Isolator-Substrate erfolgt nach den oben beschriebenen und dem Fachmann bekannten Verfahren des Bondens.

Das erfindungsgemäße Metall-Isolator-Substrat weist in diesen Fällen üblicherweise ein Ke- ramiksubsutrat auf, das im Allgemeinen ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus Aluminiumoxid, Aluminiumnitrid, Siliziumnitrid, Siliziumcarbid und einer Mischkeramik aus Aluminiumoxid oder Aluminiumnitrid und Zirkonoxid.

Im Rahmen der vorliegenden Erfindung kann das Isolatorsubstrat aber auch von einem Keramiksubstrat abweichen und beispielsweise durch eine Kunststofffolie oder durch ein mit Harz beschichtetes Metallsubstrat gebildet werden. Bei diesen Anordnungen handelt es sich beispielsweise um eine ISS-Anordnung.

ISS-Anordnuno: Bei der ISS-Anordnung werden Metallfolien als erste und zweite Metallisierung mit einer Kunststofffolie oder einem mit Harz beschichteten Metallsubstrat (als Isolatorsubstrat) durch beispielsweise eine Klebeschicht verbunden. In diesem Fall kann die zweite Metallisierung auf der Unterseite der Kunststofffolie bzw. dem beschichteten Metallsubstrat bereits zur direkten Kühlung vorstrukturiert sein oder nach dem Verbinden mit einer Strukturierung zur direkten Kühlung versehen sein.

Das erfindungsgemäße Metall-Isolator-Substrat wird üblicherweise in einem umschließenden Gehäuse angeordnet, wobei das Gehäuse im Allgemeinen zusätzlich ein Kühlmedium umfasst.

Das zum Kühlen des erfindungsgemäßen Metall-Isolator-Substrats verwendete Kühlmedium, dass die zweite Metallisierung insbesondere an der erzeugten Strukturierung umströmt, kann flüssig oder gasförmig sein, bevorzugt jedoch flüssig.

Das erfindungsgemäße Metall-Isolator-Substrat weist darüber hinaus üblicherweise eine erste Metallisierung auf. Diese erste Metallisierung auf der der zweiten Metallisierung gegenüberliegenden Seite des Isolatorsubstrats weist üblicherweise Schaltungselektronik, beispielsweise Strukturierungen zur Ausbildung von mindestens einem Leistungs- und/oder Logikteil, Strukturierungen von Leiterbahnen, Strukturierung von Kontaktflächen und/oder Befestigungsflächen für elektrische Bauelemente, auf.

Ein weiterer Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung des erfindungsgemäßen Metall-Isolator-Substrats, umfassend a. ein Isolatorsubstrat mit mindestens einer Oberseite und mindestens einer Unterseite; b. eine erste Metallisierung auf der Oberseite des Isolatorsubstrats, die für die Ausbildung einer Schaltungselektronik bestimmt ist oder mit mindestens einer Schaltungselektronik versehen ist; und c. eine zweite Metallisierung auf der Unterseite des Isolatorsubstrats.

Das erfindungsgemäße Verfahren ist durch mindestens die folgenden Verfahrensschritte gekennzeichnet

1. Bereitstellen eines Isolatorsubstrats mit mindestens einer Oberseite und mindestens einer Unterseite; und

2. Aufbringen der zweiten Metallisierung auf der Unterseite des Isolatorssubstrats, wobei die zweite Metallisierung bereits bei dem Aufbringen auf dem Isolatorsubstrat eine zur direkten Kühlung geeignete Strukturierung aufweist oder nach dem Aufbringen auf das Isolatorsubstrat die zweite Metallisierung mit einer Strukturierung zur direkten Kühlung versehen wird. Im grundliegenden Unterschied zu der Lehre der Druckschrift WO 2013/120486 A weist die zweite Metallisierung vor dem Aufbringen auf dem Isolatorsubstrat vorzugsweise bereits eine Strukturierung in der Form von Ausnehmungen oder Ausprägungen, vorzugsweise durch Stanzen oder Prägen erzeugt, auf. Das erfindungsgemäße Verfahren ist insbesondere durch die folgenden Verfahrensschritte gekennzeichnet:

T. Bereitstellen eines Isolatorsubstrats mit mindestens einer Oberseite und mindestens einer Unterseite;

1“. Bereitstellen einer zweiten Metallisierung mit einer Strukturierung zur direkten Kühlung; und

2. Aufbringen der zweiten Metallisierung auf der Unterseite des Isolatorssubstrats,

Entsprechende Metall-Isolator-Substrate sind bereits vorstehend näher beschrieben worden (DCB-, DAB-, AMB-, TFCB- und ISS-Anordnungen); es wird auf die vorherigen Ausführun- gen verwiesen.

Die in diesem Verfahren aufgetragene Metallisierung ist im Sinne der vorliegenden Erfindung die zweite Metallisierung, die - wie vorstehend beschrieben - zur direkten Kühlung des Me- tall-lsolator-Substrats dient.

Wenn in dem erfindungsgemäßen Verfahren eine Metallfolie verwendet wird, die noch un- strukturiert ist und nach dem Bonden die resultierende Metallisierung strukturiert wird, so kann die Strukturierung durch ein Prägen, Stanzen oder partiellem Stanzen und/oder Biegen erfolgen. Insbesondere kann die Strukturierung durch einen teilweisen Abtrag bzw. Abschä- len und/oder Biegen der Metallisierung gebildet werden. Unter dem Begriff„Abschälen und/ oder Biegen“ wird gemäß der vorliegenden Erfindung das Herausstellen von Teilbereichen aus der zweiten Metallisierung verstanden, wobei keine Abtragung der Metallisierung im Sin- ne von Entfernen der Metallisierung stattfindet. Der abgeschälte Teil verbleibt verbunden mit der zweiten Metallisierung und wird gegebenenfalls gebogen, so dass es aus der Metallisierung heraussteht und somit die Oberfläche der zweiten Metallisierung, die in Kontakt mit dem Kühlmedium kommt, vergrößert wird. Mit anderen Worten bleibt die Masse der Metallfolie vor und nach dem Abschälen unverändert. Eine entsprechende Darstellung dieser Strukturie- rung ist in der Abbildung 12 dargestellt.

Wenn in dem erfindungsgemäßen Verfahren eine Metallfolie verwendet wird, die schon strukturiert ist, so kann die Strukturierung vor der Aufbringung auf dem Isolatorsubstrat in der Metallfolie ebenfalls durch ein Prägen, Stanzen oder partiellem Stanzen bzw. Abschälen und/oder Biegen erfolgen.

Parallel zum Erzeugen der zweiten Metallisierung (vorstrukturiert oder unstrukturiert) auf der Unterseite des Isolatorsubstrats kann auf der Oberseite des Isolatorsubstrats eine Metallisierung durch ein Bondprozess erfolgen, auf welcher anschließend entsprechende Schaltungs- elektronik vorgesehen wird. Die erste Metallisierung kann aber auch vor oder nach dem Auf- bringen der zweiten Metallisierung erzeugt werden. Darüber hinaus betrifft die vorliegende Erfindung die Verwendung des zuvor beschriebenen Metall-Isolator-Substrats in der Schaltungselektronik sowie ein Leistungshalbleitermodul, dass das zuvor beschriebene Metall-Isolator-Substrat umfasst.

Diese Verwendung ist insbesondere dadurch gekennzeichnet, dass die Kühlung durch ein Medium erfolgt, dass in unmittelbarem Kontakt mit der zweiten Metallisierung steht; sollte die zweite Metallisierungen Strukturierungen zur direkten Kühlung aufweisen, die durch Ausnehmungen in der zweiten Metallisierung gebildet werden, steht das verwendete Kühlmedi- um auch in einem direkten Kontakt mit dem Isolatorsubstrat oder einem Material, dass zur Verbindung der zweiten Metallisierung mit dem Isolatorsubstrat verwendet wird.

Die vorliegende Erfindung wird in anhand der nachfolgenden Abbildungen näher erläutert. In diesen Abbildungen werden die folgenden Bezugszeichen verwendet:

1 : Erfindungsgemäßes Metall-Isolator-Substrat

2: Isolator-Substrat

3: erste Metallisierung

4: zweite Metallisierung

5: Strukturierung der zweiten Metallisierung

6: Zwischenschicht bei einem erfindungsgemäßen Metall-Isolator-Substrat, das nach dem TFCB-Verfahren hergestellt wird

7: Zwischenschicht bei einem erfindungsgemäßen Metall-Isolator-Substrat, das nach dem AMB-Verfahren hergestellt wird

8. Zwischenschicht bei einem erfindungsgemäßen Metall-Isolator-Substrat, das durch

Löten, Sintern oder Kleben hergestellt wird

9: Dichtung

10: Gehäuse

11 : Zwischenschicht (Kupferschicht) bei einem erfindungsgemäßen Metall-Keramik-

Substrat, das nach dem DCB-Verfahren hergestellt wird

12: Keramik-Substrat

13: Substrat-Kupfer

13 ^' : „abgeschälter“ Teil der Kupfer-Metallisierung

14: Tool zum„Abschälen“ 15: kegelförmige Ausprägung

16: zylinderförmige Ausprägung h: Höhe der Ausprägungen

Die Abbildung 1 zeigt ein erfindungsgemäßes Metall-Isolator-Substrat 1 , das auf einem Isolatorsubstrat 2 eine erste und eine zweite Metallisierung 3, 4 aufgebracht aufweist. Die erste Metallisierung 3 dient der Aufnahme von nicht dargestellter Schaltungselektronik, während die zweite Metallisierung 4 eine Strukturierung 5 zur direkten Kühlung aufweist. Bei diesem Metall-Isolator-Substrat 1 handelt es sich um eine Anordnung, die nach dem DCB-Verfahren hergestellt wird.

Die Abbildung 2 zeigt ein erfindungsgemäßes Metall-Isolator-Substrat 1 , das auf einem Isolatorsubstrat 2 eine erste und eine zweite Metallisierung 3, 4 aufgebracht aufweist. Die erste Metallisierung 3 dient der Aufnahme von nicht dargestellter Schaltungselektronik, während die zweite Metallisierung 4 eine Strukturierung 5 zur direkten Kühlung aufweist. Bei diesem Metall-Isolator-Substrat handelt es sich um eine Anordnung, die nach dem TFCB-Verfahren hergestellt wird und daher eine Zwischenschicht 6 zwischen dem Isolatorsubstrat und der ersten und zweiten Metallisierung aufweist. Die Zwischenschicht wird durch eine Dickschichtfilmpaste gebildet, die ein Metall und B1 ₂ O ₃ oder ein Metall und gegebenenfalls ein Glasmaterial enthält. Im Rahmen der vorliegenden Erfindung kann die Zwischenschicht 6 zwischen dem Isolatorsubstrat 2 und beiden Metallisierungen 3, 4 oder nur zwischen dem Isolatorsubstrat 2 und der Metallisierung 3 oder 4 vorliegen.

Die Abbildung 3 zeigt ein erfindungsgemäßes Metall-Isolator-Substrat 1 , das auf einem Isolatorsubstrat 2 eine erste und eine zweite Metallisierung 3, 4 aufgebracht aufweist. Die erste Metallisierung 3 dient der Aufnahme von nicht dargestellter Schaltungselektronik, während die zweite Metallisierung 4 eine Strukturierung 5 zur direkten Kühlung aufweist. Bei diesem Metall-Isolator-Substrat handelt es sich um eine Anordnung, die nach dem AMB-Verfahren hergestellt wird und daher eine Zwischenschicht 7 als Hartlot zwischen dem Isolatorsubstrat und der Metallisierung aufweist. Im Rahmen der vorliegenden Erfindung kann die Zwischenschicht 7 zwischen dem Isolatorsubstrat 2 und beiden Metallisierungen 3, 4 oder nur zwischen dem Isolatorsubstrat 2 und der Metallisierung 3 oder 4 vorliegen.

Die Abbildung 4 zeigt ein erfindungsgemäßes Metall-Isolator-Substrat 1 , das auf einem Isolatorsubstrat 2 eine erste und eine zweite Metallisierung 3, 4 aufgebracht aufweist. Die erste Metallisierung 3 dient der Aufnahme von nicht dargestellter Schaltungselektronik, während die zweite Metallisierung 4 eine Strukturierung 5 zur direkten Kühlung aufweist. Bei diesem Metall-Isolator-Substrat handelt es sich um eine Anordnung, die allgemein durch Löten, Sintern oder Kleben hergestellt wird und daher eine entsprechende Zwischenschicht 8 zwischen dem Isolatorsubstrat und der zweiten Metallisierung aufweist. Im Rahmen der vorliegenden Erfindung kann die Zwischenschicht 8 zwischen dem Isolatorsubstrat 2 und beiden Metallisierungen 3, 4 oder nur zwischen dem Isolatorsubstrat 2 und der Metallisierung 3 oder 4 vorliegen. In der Abbildung 4 liegt die Zwischenschicht 8 nur zwischen dem Isolatorsubstrat und der Die Abbildung 5 zeigt eine mögliche Strukturierung 5 eines erfindungsgemäßen Metall- Isolator-Substrats 1 an der zweiten Metallisierung 4 auf der dem Isolatorsubstrat 2 abgewandten Seite. Die Strukturierung 5 ist so ausgebildet, das eine konkav-konvexe Struktur resultiert. Das Kühlmedium, das in der vorliegenden Abbildung nicht dargestellt ist, fließt entlang der konkav-konvexen Struktur und kühlt das Metall-Isolator-Substrat 1.

Die Abbildung 6 zeigt eine mögliche Strukturierung 5 eines erfindungsgemäßen Metallisolator-Substrats 1 an der zweiten Metallisierung 4 auf der dem Isolatorsubstrat 2 abgewandten Seite. Die Strukturierung 5 ist so ausgebildet, das eine Pin-Fin Struktur resultiert. Das Kühlmedium, das in der vorliegenden Abbildung nicht dargestellt ist, fließt entlang der Pin Fin Struktur und kühlt das Metall-Isolator-Substrat 1.

Die Abbildung 7 zeigt eine mögliche Strukturierung 5 eines erfindungsgemäßen Metallisolator-Substrats 1 an der zweiten Metallisierung 4 auf der dem Isolatorsubstrat 2 abgewandten Seite. Die Strukturierung 9 ist so ausgebildet, das eine Noppenstruktur resultiert. Das Kühlmedium, das in der vorliegenden Abbildung nicht dargestellt ist, fließt entlang der Noppenstruktur und kühlt das Metall-Isolator-Substrat 1.

Die Abbildung 8 zeigt eine schematischen dreidimensionalen Aufbau eines erfindungsgemäßen Leistungshalbleitermoduls. Dargestellt ist die erste Metallisierung 3, die nunmehr für die Aufnahme von Leistungselektronik strukturiert ist, das Isolatorsubstrat 2 sowie die zweite Metallisierung 4, die auf der Unterseite eine noppenartige Strukturierung aufweist. Das erfindungsgemäße Metall-Isolator-Substrat 1 ist in ein Gehäuse 10 eingebracht und mit einer Dichtung 9 versehen. Das Gehäuse 10 weist Öffnungen zum Einlass und/oder Auslass des Kühlmediums auf, die nicht dargestellt sind.

Die Abbildung 9 zeigt eine mögliche Strukturierung 5 eines erfindungsgemäßen Metall- Isolator-Substrats 1 an der zweiten Metallisierung 4 auf der dem Isolatorsubstrat 2 abgewandten Seite. Die Strukturierung 5 ist so ausgebildet, dass hervorstehende Ausprägungen resultieren. Das Kühlmedium fließt entlang dieser Strukturierung und kühlt das Metall- Isolator-Substrat 1.

Die Abbildung 10 zeigt eine mögliche Strukturierung einer DCB-Anordnung wobei zwischen dem Keramiksubstrat 12 und der zweiten Metallisierung 4, eine weitere Kupferschicht 11 vorgesehen sein kann.

Die Abbildungen 11 a) und bl zeigen zwei unterschiedliche Darstellungen einer möglichen Strukturierung einer durch„partielles Stanzen und/oder Biegen“ erzeugten vorstrukturierten Metallfolie. Wie ersichtlich werden die„gestanzten“ Teilbereiche der Metallisierung nicht entfernt. Der„abgetrennte“ Teil verbleibt verbunden mit der zweiten Metallisierung und wird gebogen, so dass dieser Teilbereich aus der zweiten Metallisierung heraussteht und somit deren Oberfläche vergrößert. Bei diesem Vorgang findet keine Abtragung von Masse im Sinne von Entfernen statt, somit bleibt die Masse der Metallfolie vor und nach dem„partiellen Stanzen und Biegen“ unverändert. Der Wert h stellt die Höhe der Ausprägungen bzw. der herausstehenden Teilbereichen der zweiten Metallisierung dar, wobei diese Höhe größer sein kann als die Schichtdicke der zweiten Metallisierung selbst. Die Abbildung 12 ist eine schematische Darstellung einer Strukturierung welche durch„Ab- schälen und/oder Biegen“ der zweiten Metallisierung gebildet wird. Gemäß dieser Strukturie- rung werden Teilbereiche aus der zweiten Metallisierung herausgeschält, wobei keine Abtra- gung der Metallisierung im Sinne von Entfernen der Metallisierung stattfindet. Der herausge- schälte Teil verbleibt verbunden mit der zweiten Metallisierung und wird derartig gebogen, dass es aus der Metallisierung heraussteht und somit die Oberfläche der zweiten Metallisierung, die in Kontakt mit dem Kühlmedium kommt, vergrößert. Durch den Vorgang des Ab- schälens und/oder Biegens der zweiten Metallisierung bleibt die Masse der Metallisierung vor und nach dem„Abschälen“ im Wesentlichen unverändert. Die Abbildung 13 ist eine schematische Darstellung einer weiteren Ausgestaltung der Strukturierung der zweiten Metallisierung 4 des erfindungsgemäßen Metall-Isolator-Substrats 1 wobei die Ausprägungen mit Rundungen vorgesehen sind. Diese Formgebung ist insbesondere dann von Vorteil wenn in dem erfindungsgemäßen Verfahren eine Metallfolie verwendet wird die bereits strukturiert ist. Durch diese Formgebung der Ausprägungen mit Rundungen, wird die Stabilisierung der Ausprägungen während des Bondes verstärkt, so dass das durch Hitze des Bondens weiche Metall (z.B. Cu) nicht zusammenbricht.

Die Abbildung 14 ist eine schematische Darstellung erfindungsgemäßer Ausprägungen welche unterschiedliche Rundungen aufweisen. Die Abbildung 14 a) entspricht einer kegelförmigen Rundung 15 der Ausprägung, wobei die Abbildung 14 b) einer zylinderförmigen Run- düng 16 der Ausprägung entspricht.