MARTH HARRY (DE)
WO2011049608A2 | 2011-04-28 |
US20100091169A1 | 2010-04-15 | |||
EP1433209B1 | 2007-01-24 | |||
US20090097140A1 | 2009-04-16 | |||
US5101278A | 1992-03-31 | |||
EP1433209B1 | 2007-01-24 |
Patentansprüche 1. Verfahren zum Betreiben eines dynamischen Nanofokussiersystems für dessen Anwendung im Bereich der Mikroskopie, Interferometrie oder dergleichen Applikationen, wobei das Nanofokussiersystem einen hebelübersetzten Piezoaktor sowie eine reibungsfreie Führung auf der Basis eines elastisch deformierbaren Festkörpergelenks aufweist, welches mit einer Aufnahmeeinheit, insbesondere für ein Objektiv in Verbindung steht, um die gewünschten Stellwege zur Fokussierung zu realisieren/ dadurch gekennzeichnet, dass zur Erhöhung der Dynamik beim Fokussiervorgang der primären Verstell¬ bewegung eine sekundäre Feinverstelibewegung mit geringerem Verstellweg, jedoch höherer Funktion überlagert ist, wobei während des Ausführens der Feinverstellung festgestellt wird, ob sich das Fokussierergebnis verändert, um hiernach den Betrag und/oder die Richtung der primären Verstellbewegung vorzugeben. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die primäre Grob-Verstellbewegung Verstellwege im Bereich von bis zu 1000 pm und die sekundäre Feinverstelibewegung Verstellwege im Bereich von bis zu 500 nm umfasst. 3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Feinverstelibewegung in Form eines Rechtecksignals verläuft. 4. Verfahren nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Frequenz der Feinverstelibewegung bis zu 500 Hz, bevorzugt 200 Hz beträgt. 5. Verfahren nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass für die Feinverstelibewegung weitere Piezoaktoren eingesetzt werden, welche als Scheraktoren ausgebildet sind. 6 Verfahren nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zur Dynamikverbesserung und zum Erhalt einer weitestgehenden Rückstoß- und Schwingungsfreiheit die von der Aufnahmeeinheit getragenen Masse momenten kompensiert wird. 7. Verfahren nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, dass ein erster der weiteren Piezoaktoren mit der von der Aufnahmeeinheit getragenen Masse und ein zweiter der weiteren Piezoaktoren mit der Kompensationsmasse in Verbindung steht, wobei der erste und der zweite Piezoaktor einen Momenten kompensationsantrieb bilden, wobei die Bewegungsbahnen der Aktoren auf einer Geraden liegen. 8. Verfahren nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Verlauf der Grobverstell bewegung sinusförmig, sägezahnförmig oder rechteckförmig ist. 9. Anordnung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass an der Aufnahmeeinheit, welche vom hebelübersetzten Grobverstell -Piezoaktor angetrieben wird, ein erster und ein zweiter rohrförmiger Piezoscheraktor fixiert ist, wobei der erste rohrförmige Piezoscheraktor seinerseits mit dem zu bewegenden Körper, insbesondere Objektiv, und der zweite rohrförmige Piezoscheraktor mit einer Kompensationsmasse in Verbindung steht. 10. Anordnung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die rohrförmigen Piezoscheraktoren großflächig mit der Aufnahmeeinheit und dem zu bewegenden Körper oder der Kompensationsmasse stoffschlüssig verbunden sind. 11. Anordnung nach Anspruch 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Kompensationsmasse als hohlzylindrischer Gewichtskörper ausgebildet ist, welcher den zu bewegenden Körper teilweise umschließt. |
anofokussiersystems
Beschreibung
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Anordnung zum Betreiben eines dynamischen Nanofokussiersystems für dessen Anwendung im Bereich der Mikroskopie, Interferometrie oder dergleichen Applikationen, wobei das Nanofokussiersystem einen hebelübersetzten Piezoaktor sowie eine reibungsfreie Führung auf der Basis eines elastisch deformierbaren Festkörpergelenks aufweist, welches mit einer Aufnahmeeinheit, insbesondere für ein Objektiv in Verbindung steht, um gewünschte Stellwege zur Fokussierung zu realisieren, gemäß Patentanspruch 1 oder 9.
Fokussiersysteme für hochauflösende Mikroskope mit einem Positionier- und Scanbereich von mehreren hundert Mikrometern mit einer Auflösung bis in den Subnanometerbereich hinein sind aus dem Stand der Technik vorbekannt. Verwiesen sei hier auf die von der Firma Physik Instrumente (PI) GmbH & Co. KG, Karlsruhe, unter dem Markennamen„PIFOC" angebotenen und
vertriebenen hochpräzisen Objektivscanner.
Diese vorbekannten Antriebe erlauben eine Feinpositionierung von Objekten, insbesondere Mikroskopobjektiven, bei relativ großen Stellwegen mit einer Einschwingzeit von wenigen Millisekunden. Im Vergleich zu motorischen Antrieben erfolgt ein wesentlich schnelleres Ansprechen und es ist von einer höheren Lebensdauer derartiger Anordnungen auszugehen. Durch eine
Parallelflexurführung liegt nur ein minimaler Objektivversatz vor. Bei dem vorerwähnten Flexurführungssystem wird von reibungsfreien Festkörpergelenken ausgegangen. Die Bewegung eines Flexurgelenks beruht auf der elastischen Deformation eines Festkörpers, wodurch weder Haft-, Roll- noch Gleitreibungen auftreten. Entsprechende Flexurelemente zeigen eine sehr hohe Steifigkeit bei hoher Belastbarkeit und sind unempfindlich gegen
Schockbelastungen und Vibrationen. Von Vorteil ist, dass Flexurführungen gleichzeitig als Wegübersetzung fungieren können, wodurch sich steife und genaue Nanopositioniersysteme mit großen Stellwegen verwirklichen lassen.
Aus der WO 2011/049608 A2 ist ein System für die optische Scan-Mikroskopie zur Gewinnung von Bilddaten vorbekannt, wobei bei der diesbezüglichen Lösung eine Fokussiereinheit vorhanden ist, welche mit einem Mikroskop ¬ objektiv in Verbindung steht derart, dass selbiges Bewegungen zwischen einem Biidsensor und einem Objektträgertisch zum Zweck der Schärfeeinstellung ausführen kann. Ein die Bildschärfe bewertender Sensor wird über einen Strahlteiler belichtet, wobei sich zwischen Strahlteiler und Fokussensor eine Linsenanordnung befindet, die einer sogenannten Dither-Bewegung unterzogen ist. Die Bewegung des XY-Objektträgertisches ist dabei phasengekoppelt mit der Bewegung der Dither-Linsenanordnung. Durch diese Phasenkopplung soll die Möglichkeit geschaffen werden, den Fokussiervorgang zu beschleunigen, so dass in einer kurzen Zeit eine relativ große Anzahl von Proben betrachtet und die erhaltene Datenmenge ausgewertet werden kann.
Zum Stand der Technik sei noch auf die EP 1 433 209 Bl aufmerksam
gemacht, welche eine Aktoreinheit mit wenigstens zwei Aktorelementen, insbesondere als Stellantrieb für ein Kraftstoff-Einspritzventil für eine
Brennkraftmaschine ausgebildet, zeigt.
Gemäß der dortigen Problemstellung soll die Geräuschemission der
Aktorelemente reduziert werden. Um dieses Ziel zu erreichen, umfasst die vorbekannte Aktoreinheit wenigstens zwei Aktorelemente, die bei einer elektrischen Ansteuerung jeweils eine Längenänderung erfahren und die über eine Wirkverbindung mit einer Stelleinrichtung verbunden sind. Die Richtungen der axialen Bewegungen des ersten und des zweiten Aktorelements sowie die Bewegungsrichtung der Stelleinrichtung sind jeweils achsparallel zueinander orientiert, so dass sich ein annähernder Masseausgleich ergibt, der zu einer deutlichen Verringerung der Schallabstrahlung der Aktoreinheit nach außen führt. Bevorzugt ist gemäß EP 1 433 209 Bl dafür Sorge getragen, dass eine vektorielle Summe der Massentimpulse der wenigstens zwei Aktorelemente zu jedem Zeitpunkt näherungsweise gleich Null ist, d.h. die Punkte aus den Massen und den Geschwindigkeiten der beiden Aktorelemente summieren sich vektoriell insgesamt zu Null.
Aus dem Vorgenannten ist es daher Aufgabe der Erfindung, ein weiterent ¬ wickeltes Verfahren sowie eine Anordnung zum Betreiben eines dynamischen Nanofokussiersystems für dessen Anwendung im Bereich der Mikroskopie, Interferometrie oder dergleichen Applikationen anzugeben, mit dem Ziel, die Fokussierungsvorgänge zu beschleunigen, so dass sich neue Anwendungs ¬ möglichkeiten für derartige Nanopositioniersysteme ergeben und die Kosten beim Einsatz reduziert werden können.
Die Lösung der Aufgabe der Erfindung erfolgt durch ein Verfahren gemäß der Lehre nach Patentanspruch 1 sowie eine Anordnung gemäß der Merkmals ¬ kombination nach Patentanspruch 9, wobei die Unteransprüche mindestens zweckmäßige Ausgestaltungen und Weiterbildungen umfassen.
Es wird demnach von einem Verfahren bzw. einer Anordnung zum Betreiben eines dynamischen Nanofokussiersystems für dessen Anwendung im Bereich der Mikroskopie, Interferometrie oder dergleichen Applikationen ausgegangen, wobei das Nanofokussiersystem einen bevorzugt hebelübersetzten Piezoaktor sowie eine reibungsfreie Führung umfasst. Die reibungsfreie Führung ist insbesondere auf der Basis eines elastisch deformierbaren Festkörpergelenks ausgebildet, welches mit einer Aufnahmeeinheit, insbesondere für ein Objektiv bzw. eine Linsenbaugruppe in Verbindung steht, um die gewünschten
Stellwege zur Fokussierung zu realisieren.
Erfindungsgemäß wird gemäß dem Verfahrensaspekt vorliegender Offenbarung zur Erhöhung der Dynamik beim Fokussiervorgang der primären Verstellbewegung, die als Grobbewegung definierbar ist, eine sekundäre Fein ¬ verstellbewegung mit geringerem Verstellweg, jedoch höherer Frequenz überlagert.
Während des Ausführens der Feinverstellung wird festgestellt, ob sich das Fokussierergebnis verändert, um hiernach den Betrag und/oder die Richtung der primären Grob-Verstell beweg ung vorzugeben. Durch die überlagerte Feinverstellung ergibt sich ein kleiner hin- und hergehender Bewegungsweg, wobei während dieser hin- und hergehenden Bewegung überprüft wird, ob das gewonnene Bild schärfer wird bzw. scharf bleibt oder eine negative
Veränderung der Schärfe eintritt. Diese Erkenntnis der Schärfeveränderung kann aufgrund der hohen Frequenz der hin- und hergehenden Bewegung sehr schnell gewonnen werden, so dass dann eine Steuer- oder Regelgröße für die Grobbewegung ableitbar ist, welche aufgrund der Eigenschaften des
Grobantriebs und der zu bewegenden Masse nicht beliebig schnell ausgeführt werden kann.
Bei einer bevorzugten Ausführungsform werden demnach ein Grob-Piezoaktor mit zwei Fein-Piezoaktoren in spezieller Bauform kombiniert, wobei zusätzlich eine Momenten kompensation des zu bewegenden Objekts, insbesondere
Objektivs erfolgt.
In verfahrensseitiger Ausgestaltung umfasst die primäre Grobverstellbewegung Verstellwege im Bereich von bis zum 1000 pm und die sekundäre Feinverstellbewegung Verstellwege im Bereich von bis zu 500 nm.
Die Feinverstellbewegung wird bevorzugt in Form eines Rechtecksignals realisiert.
Die Frequenz der Feinverstellung kann bis zu 500 Hz, bevorzugt 200 Hz betragen und liegt über einem Vielfachen der Frequenz der Bewegung des hebelübersetzten Piezoaktors für die Grobverstellung.
Wie bereits kurz dargelegt, werden für die Fei nverstell beweg ung weitere Piezoaktoren eingesetzt, welche bevorzugt als Scheraktoren ausgebildet sind.
Die Momentenkompensation der von der Aufnahmeeinheit getragenen Masse erfolgt zum Zweck der Dynamikverbesserung und zum Erhalt einer weitestgehenden Rückstoß- und Schwingungsfreiheit.
Ein erster der weiteren Piezoaktoren steht mit der von der Aufnahmeeinheit getragenen Masse und ein zweiter der weiteren Piezoaktoren mit der
Kompensationsmasse in Verbindung, wobei der erste und der zweite Piezoaktor einen Momentenkompensationsantrieb bilden, und weiterhin die Bewegungsbahnen der Aktoren bevorzugt auf einer Geraden liegen. Bei der erfindungsgemäßen Anordnung ist an der Aufnahmeeinheit, welche vom hebelübersetzten Grobverstell-Piezoaktor angetrieben wird, ein erster und ein zweiter rohrförmiger Piezoscheraktor fixiert.
Der erste rohrförmige Piezoscheraktor ist seinerseits mit dem zu bewegenden Körper, insbesondere einem Objektiv, und der zweite rohrförmige Piezo ¬ scheraktor mit einer Kompensationsmasse in Verbindung stehend.
Die Kompensationsmasse ist dabei auf den zu bewegenden Körper und dessen Masse abgestimmt.
Um die notwendigen Kräfte aufzunehmen, sind die rohrförmigen Piezoscher- aktoren großflächig mit der Aufnahmeeinheit und dem zu bewegenden Körper bzw. der Kompensationsmasse stoffschlüssig, insbesondere durch Klebung verbunden.
Bei einer bevorzugten Ausgestaltung ist die Kompensationsmasse als
hohlzylindrischer Gewichtskörper ausgebildet, welcher den zu bewegenden Körper teilweise umschließt. Durch eine quasi konzentrische Anordnung von Kompensationsmasse und dem zu bewegenden Körper ergibt sich eine kleinbauende Anordnung, was für den Einsatz des Nanofokussiersystems von Vorteil ist.
Die Erfindung soll nachstehend anhand eines Ausführungsbeispiels sowie von Figuren näher erläutert werden.
Hierbei zeigen:
Fig. 1 eine Prinzipdarstellung einer Anordnung aus einem hebelübersetzten Piezoaktor als Grobantrieb sowie zwei weiteren Piezoaktoren als Feinantrieb und zum Zweck der Momentenkompensation über eine Kompensationsmasse;
Fig. 2 eine Schnittdarstellung durch eine realisierte erfindungsgemäße
Anordnung eines anopositioniersystems mit primärer Grob- Verstell beweg ungsanordnung sowie einem in einer Aufnahme- einheit befindlichen Objektiv nebst Momentenkompensation und Fei verstellungs-Piezoscheraktoren;
Fig. 3 bis 5 verschiedene typische Bewegungsverläufe mit Blick auf die
Objektivlinse nach Fig. 2 in Sinusform (Fig. 3), Zägezahnform (Fig. 4) sowie Rechtecksignalform (Fig. 5) des Grobantriebs nebst überlagerter, im Wesentlichen rechtecksignalförmiger Bewegung des Feinantriebs, und
Fig. 6 eine L ngsschnittdarstellung (oberer Bildteil) sowie eine
Draufsicht auf die erfindungsgemäß eingesetzten rohrförmigen Piezoscheraktoren mit Kennzeichnung der Polarisationsrichtung P sowie der Richtung des aufgebrachten elektrischen Feldes E sowie der Bewegungsrichtung M.
Gemäß der Prinzipdarstellung nach Fig. 1 wird bei dem anofokussiersystem gemäß Ausführungsbeispiel für dessen Anwendung im Bereich der Mikroskopie von einem hebelübersetzten Grob-Piezoaktor 1 ausgegangen, welcher eine reibungsfreie Führung auf der Basis elastisch deformierbarer Festkörpergelenke ermöglicht.
Dieser hebelübersetzte Piezoaktor 1 steht mit einer Aufnahmeeinheit 2 in Wirkverbindung. Diese Aufnahmeeinheit 2 fixiert ein Mikroskopobjektiv 3 sowie eine Kompensationsmasse 4.
Dabei steht die Aufnahmeeinheit 2 nicht direkt mit der Kompensationsmasse 4 und dem Objektiv in Verbindung. Vielmehr erfolgt eine Zwsischenschaltung eines ersten Piezoscheraktors 5 sowie eines zweiten Piezoscheraktors 6.
Demnach wird zur Erhöhung der Dynamik beim eigentlichen Fokussiervorgang der primären Verstellbewegung durch den Piezoaktor 1 eine sekundäre
Feinversteil beweg ung durch die Piezoaktoren 5 und 6 mit geringerem
Verstellweg, jedoch höherer Frequenz überlagert.
Während des Ausführens der Feinverstellung wird dann überprüft, ob sich das Fokussierergebnis verändert, um hiernach den Betrag und/oder die Richtung der primären Verstellbewegung auf der Basis des Piezoaktors 1 vorzugeben. Zur Dynamikverbesserung erfolgt gemäß der Prinzipdarstellung nach Fig. 1 und zum Erhalt einer weitestgehenden Rückstoß- und Schwingungsfreiheit eine Momenten kompensation der Masse des Objektivs 3 über die Kompensationsmasse 4.
Einzelheiten eines realisierten Aufbaus eines anofokussiersystems für
Mikroskopobjektive sind der Schnittdarstellung nach Fig. 2 entnehmbar.
Ein Gehäusekörper 7 nimmt alle wesentlichen funktionalen Elemente des Nanofokussiersystems auf und verfügt über eine elektrische Anschlussverbindung 8.
Innerhalb des Gehäuses 7 befindet sich der hebelübersetzte Grobverstell- Piezoaktor 1, der auf die Aufnahmeeinheit 2 führt.
Ein erster rohrförmiger Piezoscheraktor 9 ist einerseits mit der Antriebseinheit 2 insbesondere durch Verklebung verbunden und steht andererseits mit dem Objektiv 3 in mechanischem Kontakt.
Ein zweiter rohrförmiger Piezoscheraktor 10 ist ebenfalls mit der Aufnahmeeinheit 2 verbunden, steht jedoch mit der Kompensationsmasse 4 in
Verbindung.
Die rohrförmigen Piezoscheraktoren 9 und 10 sind dabei sehr großflächig mit der Aufnahmeeinheit 2 durch die vorerwähnte Klebeverbindung in Kontakt stehend, so dass alle auftretenden Kräfte übertragen werden können. Bei einer Ausführungsform besitzen die Piezoscheraktoren 9 und 10 einen Durchmesser von ca. 30 mm bis 35 mm bei einer Höhe von 8 mm.
Gemäß der Darstellung nach Fig. 2 ist die Kompensationsmasse 4 als
hohlzylindrischer Gewichtskörper ausgebildet, welcher das Objektiv 3
mindestens teilweise umschließt unter Bildung einer konzentrischen Anordnung mit geringem Bauraum.
Die Kombination einer Grobverstellung mit überlagerter Feinverstellung nebst Momenten kom ensation führt zu einem rückstoßfreien Arbeiten beim schnellen Fokussieren . Die Momentenkompensation verhindert störende Beschleunigungskräfte mit sich ergebendem größeren Dynamikbereich des Nano- positioniersystems.
Mit den Darstellungen nach den Fig. 3 bis 5 sind typische Bewegungsverläufe als Blick auf die Objektivlinse im Ergebnis der Grobpositionierung im
Mikrometerbereich und der überlagerten Feinverstellung als Rechtecksignal im Bereich zwischen 200 Hz und 500 Hz nachvollziehbar. Der Grad der Feinver ¬ stellung beläuft sich hier auf + ca. 100 nm bei einem Grobverstellweg im Mikrometerbereich. Die erfindungsgemäße Überlagerung einer Fetnverstell- bewegung nebst Momenten kompensation kann bei allen denkbaren
Bewegungsformen der Grobverstellung im Sinne einer Sinusbewegung, einer Rechteckbewegung oder einer Sägezahnbewegung vorgenommen werden.
Die Fig. 6 zeigt eine prinzipielle Darstellung der erfindungsgemäßen rohr- förmigen Piezoscheraktoren 5; 6. In der oberen Darstellung nach Fig. 6 ist ein Längsschnitt dargestellt, welcher die Polarisationsrichtung P, die Richtung des aufgebrachten elektrischen Feldes E sowie die resultierende Bewegungsrichtung M deutlich werden lässt. Die rohrförmige bzw. zylindrische Ausführungsform des Scheraktors ermöglicht eine kleinbauende Montage und Aufnahme sowohl des Objektivs als auch der Kompensationsmasse, wie zu den Fig. 1 und 2 voranstehend erläutert.
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