Verfahren zum Reinigen einer Flüssigkristallmischung

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Reinigen einer Flüssigkristallmischung.

- Flüssigkristallmischungen sind fluide Substanzen mit kristallähnlichen richtungsabhängigen physikalischen Eigenschaften, die beispielsweise in Flüssigkristallanzeigen verwendet werden. Kommerziell erhältliche und vorteilhaft bei Anzeigen oder Displays einsetzbare Flüssigkristallmischungen weisen verschiedene Komponenten auf, die in einem

vorgegebenen Verhältnis zueinander miteinander vermischt werden. Durch eine geeignete Vorgabe einzelner Komponenten und Mischungsanteile können gezielt die für den jeweiligen Anwendungsfall erforderlichen

Eigenschaften und Vorteile der Flüssigkristallmischung realisiert werden.

Es hat sich gezeigt, dass bereits geringe Verunreinigungen einer Flüssigkristallmischung dazu führen können, dass die für den vorgesehenen Verwendungszweck erforderlichen oder wünschenswerten Eigenschaften der Flüssigkristallmischung beeinträchtigt werden können und eine wirtschaftlich sinnvolle Verwendung einer vorgegebenen Flüssigkristallmischung für einen bestimmten Verwendungszweck erschwert oder sogar unmöglich werden kann.

Aus der Praxis sind deshalb verschiedene Reinigungsverfahren bekannt geworden, mit denen eine Flüssigkristallmischung aufgereinigt werden kann. Die verschiedenen Reinigungsverfahren basieren auf unterschiedlichen Methoden. In industriellen Herstellungs- und Verarbeitungsprozessen stellen mechanische Filterverfahren oder die Zugabe und

anschließende Abscheidung eines Sorbens häufig eingesetzte Reinigungsverfahren dar.

Die aus der Praxis bekannten Reinigungsverfahren weisen für die

Reinigung von Flüssigkristallmischungen oftmals nur eine geringe Effizienz auf und sind dennoch vergleichsweise kostenintensiv.

BESTÄTIGUNGSKOPIE Es wird deshalb als eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung angesehen, ein Verfahren zum Reinigen einer Flüssigkristallmischung so auszugestalten, dass eine möglichst effiziente Reinigung der Flüssigkristallmischung möglichst günstig und zuverlässig durchgeführt werden kann.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch ein Reinigungsverfahren gelöst, wobei die Flüssigkristallmischung durch eine erste Elektrodialysezelle gefördert wird, wobei eine Konzentratlösung durch eine an die erste Elektrodialysezelle benachbart angrenzende und durch eine

lonenaustauschmembran getrennte zweite Elektrodialysezelle gefördert wird, und wobei mit Hilfe von einer außerhalb der Elektrodialysezellen angeordneten Anoden-Kathoden-Anordnung ein elektrisches Feld quer zu einer Förderrichtung der Flüssigkristallmischung durch die erste

Elektrodialysezelle erzeugt wird, so dass ionisierte Bestandteile der

Flüssigkristallmischung aus der ersten Elektrodialysezelle abgeführt und aus der Flüssigkristallmischung abgeschieden werden. Das erfindungs- gemäße Verfahren entspricht dem zu Folge im Wesentlichen der

Durchführung einer Elektrodialyse der Flüssigkristallmischung. Es hat sich gezeigt, dass viele in der Praxis relevante Verunreinigungen mit der

Elektrodialyse von der Flüssigkristallmischung separiert und abgeschieden werden können. Durch eine geeignete Vorgabe der Konzentratlösung und der die erste Elektrodialysezelle begrenzenden lonenaustauschermembran können ionisierte Verunreinigungen zuverlässig und mit hoher Effektivität aus der Flüssigkristallmischung abgeschieden werden.

Das erfindungsgemäße Verfahren kann im Dauerbetrieb durchgeführt werden und ermöglicht eine kontinuierliche Probennahme und Kontrolle des Aufreinigungsprozesses, so dass in Abhängigkeit von der jeweiligen Flüssigkristallmischung, deren Verunreinigung und einem angestrebten Reinheitsgrad der zu reinigenden Flüssigkristallmischung eine geeignete Verfahrensdauer ermittelt und die bereits erzielte Aufreinigung während der Durchführung des Reinigungsverfahrens überwacht und gegebenenfalls geregelt werden kann.

Gemäß einer vorteilhaften Ausgestaltung des Erfindungsgedankens ist vorgesehen, dass die Flüssigkristallmischung mehrfach durch die erste Elektrodialysezelle gefördert wird. Es ist ebenfalls möglich, dass die

Flüssigkristallmischung nacheinander durch mehrere Elektrodialysezellen mit einer mit der ersten Elektrodialysezelle vergleichbaren Anordnung einer lonenaustauschermembran und einer angrenzenden zweiten Elektrodialysezelle und von einem vergleichbaren elektrischen Feld gefördert wird. In beiden Fällen kann dadurch erreicht werden, dass eine Förderrate der Flüssigkristallmischung sowie eine Gesamtreinigungsdauer bzw. eine Gesamtverweildauer der Flüssigkristallmischung in der ersten

Elektrodialysezelle bzw. in einer vergleichbaren Elektrodialysezellen- Anordnung unabhängig voneinander vorgegeben werden können. So ist es beispielsweise möglich, im Falle einer hocheffizient abscheidbaren

Verunreinigung die Verfahrensdauer anzupassen und kurz zu halten. Wird dagegen festgestellt, dass sich die Verunreinigung der Flüssigkristallmischung nur vergleichsweise langsam abscheiden und aus der

Flüssigkristallmischung entfernen lässt, kann das Reinigungsverfahren ausreichend lange durchgeführt werden, um eine vorgegebene

Reinigungswirkung zu erreichen und zuverlässig zu gewährleisten. Durch eine zeitlich beanstandete oder kontinuierliche Probeentnahme kann die bereits erreichte Reinigungswirkung ermittelt und kontrolliert werden. Mit dem erfindungsgemäßen Reinigungsverfahren ist dem zu Folge auch eine geregelte Reinigung einer Flüssigkristallmischung möglich, so dass sichergestellt werden kann, dass ein angestrebter oder notwendigerweise vorgegebener Reinheitsgrad mit der erfindungsgemäßen Aufreinigung auch erreicht wird.

Gemäß einer Ausgestaltung des Erfindungsgedankens ist vorgesehen, dass die Flüssigkristallmischung über einen Zeitraum von mehr als einer Stunde, vorzugsweise von mehr als 4 Stunden, durch die erste

Elektrodialysezelle gefördert wird. Sofern mehrere vergleichbare

Elektrodialysezellen nacheinander durchströmt werden, kann ebenfalls vorgesehen sein, dass die gesamte Verweildauer der Flüssigkristallmischung in diesen Elektrodialysezellen mehr als eine Stunde und

vorzugsweise mehr als vier Stunden beträgt. Es hat sich gezeigt, dass sich der spezifische Widerstand, der als ein zweckmäßiges Kriterium für die Reinheit der Flüssigkristallmischung angesehen werden kann, in Abhängigkeit von der Verfahrensdauer über einen Zeitraum von etwa 4 Stunden bis 8 Stunden um mehr als einen Faktor 20 erhöhen lässt.

Es hat sich als vorteilhaft herausgestellt, dass als Konzentratlösung deionisiertes Wasser verwendet wird. Zusätzlich zu einem vergleichsweise effektiven Ladungstransport in deionisiertem Wasser wird durch das Konzentrationsgefälle eine Osmose durch die lonenaustauschermembran hindurch begünstigt, was zu einer zusätzlich reinigenden Wirkung führt.

Es ist jedoch ebenfalls möglich und in Abhängigkeit von der Zusammen- setzung der Flüssigkristallmischung gegebenenfalls vorteilhaft, dass als Konzentratlösung auch andere geeignete Lösungen, wie beispielsweise Transformatorenöl, Dodecan oder ein anderes organisches Lösungsmittel, verwendet werden können.

Untersuchungen haben ergeben, dass eine große Potenzialdifferenz und damit einhergehend ein großes elektrisches Feld quer zu einer

Durchströmungsrichtung der Flüssigkristallmischung durch die erste Elektrodialysezelle besonders vorteilhaft für eine effektive Reinigungswirkung ist. Gemäß einer Ausgestaltung des Erfindungsgedankens ist deshalb vorgesehen, dass als lonenaustauschermembran eine Membran mit einer Durchschlagsspannung von mehr als 10 Volt, vorzugsweise von mehr als 80 Volt und besonders bevorzugt von 400 Volt und mehr, verwendet wird, und mit Hilfe der Anoden-Kathoden-Anordnung eine elektrische

Potentialdifferenz vorgegeben wird, die einen möglichst großen, jedoch unterhalb der Durchschlagsspannung liegenden Spannungsabfall an der lonenaustauschermembran bewirkt. Als Durchschlagsspannung wird diejenige Spannung bezeichnet, ab der die Membran nicht mehr

zuverlässig als Isolator wirkt und ein Stromfluss durch die Membran hindurch die Elektrodialyse beeinträchtigen könnte. Ein Spannungsabfall zwischen 10 und 1000 Volt innerhalb der ersten Elektrodialysezelle wird als geeignet für die Durchführung des Reinigungsverfahrens angesehen. Der Spannungsabfall in der ersten Elektrodialysezelle sollte vorzugsweise in einem Bereich zwischen 80 Volt und 120 Volt liegen, was sich als besonders vorteilhaft für das Reinigungsverfahren erwiesen hat. Um zu verhindern, dass Wasser oder andere Stoffmengenanteile an den Elektroden zersetzt werden, ist gemäß einer vorteilhaften Ausgestaltung des Erfindungsgedankens vorgesehen, dass die Anode und die Kathode während der Durchführung des Verfahrens mit Transformatorenöl gespült werden. Das Transformatorenöl kann kontinuierlich oder in zeitlichen Abständen die zugänglichen Wirkflächen der Anode und der Kathode umspülen. Als Elektrodenmaterial für die Anode und für die Kathode können bevorzugt Edelstahl, jedoch auch Graphit, Mischoxide oder andere geeignete Elektrodenmaterialien verwendet werden.

Um zu verhindern, dass nach einem Reinigungsvorgang Rückstände der gereinigten Flüssigkristallmischung in der ersten Elektrodendialysezelle haften bleiben und zurückgehalten werden ist vorgesehen, dass nach Möglichkeit alle mit der zu reinigenden Flüssigkristallmischung in Kontakt kommenden Oberflächen beispielsweise aus Perfluoralkoxy-Polymeren (PFA) hergestellt oder damit beschichtet sind. Es ist ebenfalls möglich, dass die produktberührenden Komponenten, wie beispielsweise die

Elektrodialysezelle, aber auch Leitungsschläuche, lonenaustauscher- membranen oder Abstandselemente in einer Elektrodialysezelle aus einem inerten Polymer wie beispielsweise Polytetrafluorethylen (PTFE) hergestellt sind. Zweckmäßigerweise werden die produktberührenden Komponenten vor einem Beginn eines neuen Reinigungsverfahrens mit organischen Lösemitteln wie beispielsweise Aceton oder Toluol gereinigt.

Um während der Durchführung des Reinigungsverfahrens unerwünschte Druckschwankungen in der ersten Elektrodialyse zu vermeiden, durch die eine Leckage zwischen benachbarten Elektrodialysezellen begünstigt oder verursacht werden könnten, werden zur Förderung der Flüssigkristallmischung und der Konzentratlösung pulsationsarme Pumpen verwendet. Es hat sich gezeigt, dass beispielsweise durch die Verwendung von

Zahnradpumpen eine sehr druckkonstante Förderung der Flüssigkristallmischung möglich ist und unerwünschte Effekte wie beispielsweise eine Leckage oder eine verminderte Reinigungswirkung erheblich reduziert oder vollständig vermieden werden. Um eine möglichst effektive Reinigung der Flüssigkristallmischung innerhalb einer möglichst kurzen Zeit zu erreichen, ist vorgesehen, dass die Flüssigkristallmischung vor einem Einbringen in die erste Elektrodialysezelle durchmischt und homogenisiert wird.

Eine Vorrichtung, mit welcher das erfindungsgemäße Verfahren

durchgeführt werden kann, weist eine erste Elektrodialysezelle mit einer Zuleitung und einer Ableitung auf, so dass eine Flüssigkristallmischung in einer Förderrichtung durch die erste Elektrodialysezelle gefördert werden kann, und eine an die erste Elektrodialysezelle benachbart angrenzende und durch eine geeignete lonenaustauschermembran getrennte zweite

Elektrodialysezelle mit einer Zuleitung und mit einer Ableitung auf, so dass eine Konzentratlösung durch die zweite Elektrodialysezelle gefördert werden kann. Die erste Elektrodialysezelle und die zweite

Elektrodialysezelle sind so zwischen einer Anoden-Kathoden-Anordnung angeordnet, dass mit der Anoden-Kathoden-Anordnung ein elektrisches Feld quer zu der Förderrichtung der Flüssigkristallmischung in der ersten Elektrodialysezelle erzeugt werden kann.

Die Anode und die Kathode werden von der ersten Elektrodialysezelle und von der zweiten Elektrodialysezelle jeweils durch eine lonenaustauschermembran getrennt, die gelöste Ionen mit einer Ladung austauschen, die ein entgegengesetztes Ladungsvorzeichen zu den von der lonenaustauschermembran zwischen der ersten Elektrodialysezelle und der zweiten

Elektrodialysezelle ausgetauschten gelösten Ionen aufweisen. Befindet sich beispielsweise zwischen der ersten Elektrodialysezelle und der zweiten Elektrodialysezelle eine Kationenaustauschermembran, sind die Anode und die Kathode durch Anionenaustauschermembranen von der ersten und der zweiten Elektrodialysezelle abgetrennt.

Die lonenaustauschermembranen können vorzugsweise heterogen ausgestaltet sein und in einem Basispolymer eingebettete

lonenaustauscherpartikel aufweisen, oder aber homogen ausgestaltet sein und aus einem ionischen Polymer bestehen. Als Elektrodenmaterial wird bevorzugt Edelstahl, aber auch Graphit oder ein geeignetes Mischoxid verwendet. Zwischen den jeweils benachbarten lonenaustauschermembranen sind Abstandseinrichtungen angeordnet, die als Spacer bezeichnet werden und auch einer effektiven Fluidverteilung innerhalb der Elektrodialysezellen dienen. Die Spacer sind aus einem inerten Kunststoffmaterial oder

Kunststoffmaterialgemisch wie beispielsweise Polyethylen, Polyethylen und Polyamid oder aus Polyvinylchlorid und Polyethylenterephthalat hergestellt. Eine typische Dicke geeigneter Spacer beträgt zwischen 0,3 mm und 1 ,5 mm, bevorzugt etwa 0,5 mm.

Für die Förderung der Flüssigkristallmischung und der Konzentratlösung werden in vorteilhafter Weise pulsationsarme und möglichst druckkonstante Pumpen wie beispielsweise Zahnradpumpen verwendet.

Alle mit der Flüssigkristallmischung in Kontakt kommenden Komponenten wie beispielsweise die Elektrodialysezellen, die lonenaustauschermembranen, die Spacer und die für die Zuleitungen und Ableitungen verwendeten Schläuche, sind vorzugsweise mit einem inerten Polymer hergestellt oder mit einer entsprechenden Beschichtung versehen. Als inertes Polymer eignet sich beispielsweise PFA oder PTFE.

Nachfolgend werden Ausführungsbeispiele des Erfindungsgedankens näher erläutert, die in der Zeichnung dargestellt sind. Es zeigt:

Figur 1 eine schematische Darstellung eines erfindungsgemäßen

Reinigungsverfahrens, das mit Hilfe einer geeigneten Elektrodialyse- vorrichtung durchgeführt wird, und

Figur 2 eine schematische Darstellung einer zeitlichen Veränderung eines spezifischen Widerstands einer Flüssigkristallmischung während der Dauer der Durchführung des Reinigungsverfahrens.

Eine in Fig. 1 exemplarisch dargestellte Reinigungsvorrichtung 1 , mit welcher das erfindungsgemäße Verfahren zur Reinigung einer

Flüssigkristallmischung durchgeführt werden kann, weist eine erste

Elektrodialysezelle 2 mit einer Zuleitung 3 und einer Ableitung 4 auf, die mit einem Flüssigkristallmischungsreservoir 5 verbunden sind. Mit Hilfe einer Zahnradpumpe 6 kann eine Fluidmenge einer Flüssigkristallmischung 7 aus dem Flüssigkristallmischungsreservoir 5 heraus, durch die erste

Elektrodialysezelle 2 hindurch und wieder zurück in das Flüssigkristallmi- schungsreservoir 5 hinein gefördert werden, so dass ein Kreislauf erzeugt und kontinuierlich die Flüssigkristallmischung 7 durch die erste

Elektrodialysezelle 2 gefördert wird. In der Darstellung gemäß Fig. 1 durchströmt die Flüssigkristallmischung 7 die erste Elektrodialysezelle 2 in einer von oben nach unten verlaufenden Förderrichtung.

Eine an die erste Elektrodialysezelle 2 benachbart angrenzende zweite 10 Elektrodialysezelle 8 ist durch eine geeignete Anionenaustauscher- membran 9 von der ersten Elektrodialysezelle 2 getrennt. Die zweite

Elektrodialysezelle 8 weist ebenfalls eine Zuleitung 10 und eine Ableitung 11 auf, die mit einem Konzentratlösungsreservoir 12 in Verbindung stehen, so dass mit Hilfe einer Zahnradpumpe 13 eine Konzentratlösung 14 durch die zweite Elektrodialysezelle 8 gefördert werden kann. Als Konzentrate s lösung 14 wird deionisiertes Wasser verwendet.

Die erste Elektrodialysezelle 2 und die zweite Elektrodialysezelle 8 sind so zwischen einer Anode 15 und einer Kathoden 16 angeordnet, dass mit dieser Anoden-Kathoden-Anordnung ein elektrisches Feld quer zu der Förderrichtung der Flüssigkristallmischung 7 in der ersten Elektrodialyse-

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zelle 2 erzeugt werden kann.

Die Anode 15 und die Kathode 16 werden von der ersten Elektrodialysezelle 2 und von der zweiten Elektrodialysezelle 8 jeweils durch eine

Kationenaustauschermembran 17 getrennt und können mit Hilfe eines 25 Transformatorenöl-Kreislaufes 18 kontinuierlich oder bei Bedarf mit

Transformatorenöl 19 gespült werden.

Alle mit der Flüssigkristallmischung 7 in Kontakt kommenden Komponenten wie beispielsweise die Elektrodialysezellen 2 und 8, die lonenaustauscher- membranen 9 und 17, die Spacer und die für die Zuleitungen 3 und 10 und 30 die Ableitungen 4 und 11 verwendeten Schläuche sind mit einem inerten

Polymer hergestellt oder mit einer entsprechenden Beschichtung versehen. Als inertes Polymer eignet sich beispielsweise PFA oder PTFE. Zur Durchführung des Reinigungsverfahrens wird zwischen der Anode 15 und der Kathode 16 mit Hilfe einer Gleichspannungsquelle eine

Potentialdifferenz von beispielsweise 80 Volt oder 120 Volt erzeugt. Die Zahnradpumpen 6 und 13 werden in Betrieb genommen und bewirken eine gleichmäßige Förderung der Flüssigkristallmischung 7 durch die erste Elektrodialysezelle 2 und der Konzentratlösung 14 durch die zweite

Elektrodialysezelle 8. Während die Flüssigkristallmischung 7 die erste Elektrodialysezelle 2 durchströmt werden ionisierte Verunreinigungen durch das elektrische Feld entweder an die Anionenaustauschermembran 9 in Richtung der zweiten Elektrodialysezelle 8 gelenkt, oder bei

entgegengesetztem Ladungsvorzeichen der ionisierten Verunreinigung an die Kationenaustauschermembran 17 in Richtung der Kathode 16 abgelenkt und dadurch aus der durchströmenden Flüssigkristallmischung 7 abgeschieden.

Die Förderung der Flüssigkristallmischung durch die erste Elektrodialysezelle 2 kann über einen ausreichend langen Zeitraum hinweg durchgeführt werden. Während der Durchführung des Reinigungsverfahrens können kontinuierlich oder in zeitlichen Abständen Proben entnommen werden, um die bereits erreichte Aufreinigung der Flüssigkristallmischung 7 zu ermitteln und zu überwachen.

In Fig. 2 ist schematisch ein während der Durchführung des

Reinigungsverfahrens für eine Flüssigkristallmischung 7 ermittelter spezifischer Widerstand p in der Einheit Ohm x cm in Abhängigkeit von der Reinigungsdauer t in der Einheit Stunden dargestellt. Der spezifische Widerstand p ist ein Maß für den Anteil an gelösten Ionen in der

Flüssigkristallmischung 7 und damit zumindest indirekt ein Maß für den in der Flüssigkristallmischung 7 enthaltenen Anteil an ionisierten

Verunreinigungen. Je größer der spezifische Widerstand p ist, umso geringer ist der Anteil an ionisierten Verunreinigungen und umso größer ist die Reinheit der Flüssigkristallmischung 7. Es hat sich gezeigt, dass sich der spezifische Widerstand p einer typischen Flüssigkristallmischung 7 bereits nach einer Stunde um etwa einen Faktor 10 erhöht und nach etwa vier Stunden um etwa einen Faktor 40 erhöht. Das erfindungsgemäße Reinigungsverfahren kann mit laborüblichen Elektrodialysevorrichtungen durchgeführt werden und erfordert lediglich einen kontinuierlichen Betrieb der Zahnradpumpen. Das Reinigungsverfahren ist demzufolge mit geringem apparativen Aufwand und

kostengünstig durchführbar und ermöglicht eine sehr effiziente Aufreinigung der Flüssigkristallmischung 7. Die Effizienz kann weiter gesteigert werden, indem zusätzlich vorab weitere Reinigungsverfahren durchgeführt werden, die auf anderen Methoden basieren.

Das vorangehend beschriebene Reinigungsverfahren ist insbesondere geeignet für Flüssigkristallmischungen enthaltend mindestens zwei organische Substanzen, vorzugsweise mesogene, insbesondere

flüssigkristalline Substanzen, wobei die organischen Substanzen

vorzugsweise ausgewählt sind aus den Verbindungen der allgemeinen Formel I, worin

R ¹ und R ² jeweils unabhängig voneinander H, einen unsubstituierten, einen einfach durch CN oder CF ₃ oder mindestens einfach durch Halogen substituierten Alkylrest mit bis zu

-CH=CH-, -CF ₂ 0-, -OCF ₂ -, -OC-O- oder -O-CO- so ersetzt sein können, dass O-Atome nicht direkt miteinander verknüpft sind, und einer der Reste R , R ² auch F, Cl, CN, SF ₅ , NCS, SCN, OCN,

Ringe A, B, C D, E jeweils unabhängig voneinander - 11 -

r, s und t jeweils unabhängig voneinander 0, 1 , 2 oder 3, wobei r + s+ t

< 3 ist,

Z ^1"4 jeweils unabhängig voneinander -CO-O-, -O-CO-, -CF ₂ 0-,

-OCF2-, -CH2O-, -OCH2-, -CH2CH2-, -(CH ₂ ) ₄ -, -CH=CH-CH ₂ 0-, -C2F4-, -CH2CF2-, -CF ₂ CH ₂ -, -CF=CF-, -CH=CF-, -CF=CH-, -CH=CH-, -C=C- oder eine Einfachbindung, und

L ¹ und L ² jeweils unabhängig voneinander H oder F, bedeuten.

Für den Fall, dass r + s + t = 0 ist, so sind Z ¹ und Z ⁴ bevorzugt derart ausgewählt, dass sie, wenn sie keine Einfachbindung bedeuten, nicht über zwei O-Atome miteinander verknüpft sind.

Die eingesetzten Flüssigkristallmischungen aus den mesogenen

Einzelsubstanzen der Formel I können zusätzlich auch eine oder mehrere polymerisierbare Verbindungen, sogenannte reaktive Mesogene (RMs), beispielsweise wie in U.S. 6,861 ,107 offenbart, in Konzentrationen von ' bevorzugt 0,1 - 5 Gew.%, besonders bevorzugt 0,2 - 2 %, bezogen auf die Mischung enthalten. Derartige Mischungen können für sogenannte Polymer Stabilized VA (PS-VA)-Modes, negativ IPS (PS-IPS)- oder negativ FFS (PS-FFS)-Modes, bei denen eine Polymerisierung der reaktiven Mesogene in der flüssigkristallinen Mischung erfolgen soll, verwendet werden.

Voraussetzung hierfür ist, dass die Flüssigkristallmischung selbst keine polymerisierbaren Einzelsubstanzen, enthält.

Voraussetzung hierfür ist, dass die Flüssigkristallmischung selbst keine polymerisierbaren Komponenten enthält, die unter den Bedingungen, wo die Verbindung der Formel M polymerisiert, ebenfalls polymerisieren. Die Polymerisation wird vorzugsweise unter folgenden Bedingungen durchgeführt :

Die polymerisierbaren Komponenten werden in einer Zelle polymerisiert unter Verwendung einer UV-A Lampe definierter Intensität für einen definierten Zeitraum und angelegter Spannung (typischerweise 10 V bis 30 V Wechselspannung, Frequenzen im Bereich von 60 Hz - 1 kHz). Als UV-A Lichtquelle wird typischerweise eine Halogenmetalldampflampe oder eine Hochdruckquecksilberlampe mit einer Intensität von 50 mW/cm2

eingesetzt. Dies sind Bedingungen, wo beispielsweise flüssigkristalline Verbindungen mit einer Alkenyl- oder Alkenlyoxyseitenkette, wie z. B. die Verbindung der Formel nicht polymerisieren.

Die polymerisierbaren mesogenen oder flüssigkristallinen Verbindungen, auch als "reaktive Mesogene" (RM) bezeichnet, sind vorzugsweise ausgewählt aus den Verbindungen der Formel II,

R ^a -A -(Z ¹ -A ² ) _m -R ^b II worin die einzelnen Reste folgende Bedeutung haben: jeweils unabhängig voneinander eine aromatische,

heteroaromatische, alicyclische oder heterocyclische Gruppe, vorzugsweise mit 4 bis 25 C-Atomen, welche auch anneliierte Ringe enthalten kann, und welche optional durch L ein- oder mehrfach substituiert ist, bei jedem Auftreten gleich oder verschieden -O-, -S-, -CO-, -CO-O-, -OCO-, -O-CO-O-, -OCH2-, -CH ₂ O-, -SCH ₂ -, -CH ₂ S-, -CF ₂ O-, -OCF ₂ -, -CF ₂ S-, -SCF ₂ -, -(CH ₂ ) _n -, -CF ₂ CH ₂ -, -CH ₂ CF ₂ -, -(CF ₂ ) _n -, -CH=CH-, -CF=CF-, -C^C-, -CH=CH- COO-, -OCO-CH=CH-, CR°R ⁰⁰ oder eine Einfachbindung,

L, R ^a und R ^b jeweils unabhängig voneinander H, Halogen, SF _5l NO ₂ , eine

Kohlenstoffgruppe oder Kohlenwasserstoffgruppe, wobei die Verbindungen mindestens einen Rest L, R ^a und R ^b enthalten, der eine Gruppe P-Sp- bedeutet oder enthält,

R° und R jeweils unabhängig voneinander H oder Alkyl mit 1 bis 12 C- Atomen, eine polymerisierbare Gruppe,

Sp eine Abstandsgruppe oder eine Einfachbindung, m 0, 1 , 2, 3 oder 4, n 1 , 2, 3 oder 4.

Die polymerisierbaren Verbindungen können eine polymerisierbare Gruppe (monoreaktiv) oder zwei oder mehr (di- oder multireaktiv), vorzugsweise zwei polymerisierbare Gruppen aufweisen.

Vor- und nachstehend gelten folgende Bedeutungen:

Der Begriff "mesogene Gruppe" ist dem Fachmann bekannt und in der Literatur beschrieben, und bedeutet eine Gruppe, die durch die Anisotropie ihrer anziehenden und abstoßenden Wechselwirkungen wesentlich dazu beiträgt, in niedermolekularen oder polymeren Substanzen eine

Flüssigkristall(FK-)Phase hervorzurufen. Verbindungen enthaltend mesogene Gruppen (mesogene Verbindungen) müssen nicht unbedingt selbst eine FK-Phase aufweisen. Es ist auch möglich, dass mesogene Verbindungen FK-Phasenverhalten nur nach Vermischung mit anderen Verbindungen und/oder nach Polymerisation zeigen. Typische mesogene Gruppen sind beispielsweise starre Stäbchen- oder scheibchenförmige Einheiten. Ein Überblick über die im Zusammenhang mit mesogenen bzw. FK-Verbindungen verwendeten Begriffe und Definitionen findet sich in Pure Appl. Chem. 73(5), 888 (2001) und C. Tschierske, G. Pelzl, S. Diele, Angew. Chem. 2004, 116, 6340-6368. Der Begriff "Abstandsgruppe" (engl, "spacer" oder "spacer group"), vor- und nachstehend auch als "Sp" bezeichnet, ist dem Fachmann bekannt und in der Literatur beschrieben, siehe beispielsweise Pure Appl. Chem. 73(5), 888 (2001) und C. Tschierske, G. Pelzl, S. Diele, Angew. Chem. 2004, 116, 6340-6368. Falls nicht anders angegeben, bezeichnet der Begriff

"Abstandsgruppe" bzw. "Spacer" vor- und nachstehend eine flexible

Gruppe, die in einer polymerisierbaren mesogenen Verbindung ("RM") die mesogene Gruppe und die polymerisierbare(n) Gruppe(n) miteinander verbindet. Bevorzugt bedeutet Sp eine Einfachbindung oder ein 1-16 C Alkylen, worin ein oder mehrere CH ₂ -Gruppen durch -O-, -CO-, -COO- oder -OCO- so ersetzt sein können, so dass nicht zwei O-Atome direkt

miteinander verbunden sind.

Der Begriff "organische Gruppe" bedeutet eine Kohlenstoff- oder

Kohlenwasserstoffgruppe.

Der Begriff "Kohlenstoffgruppe" bedeutet eine ein- oder mehrbindige organische Gruppe enthaltend mindestens ein Kohlenstoffatom, wobei diese entweder keine weiteren Atome enthält (wie z.B. -CsC-), oder gegebenenfalls ein oder mehrere weitere Atome wie beispielsweise N, O, S, P, Si, Se, As, Te oder Ge enthält (z.B. Carbonyl etc.). Der Begriff

"Kohlenwasserstoffgruppe" bedeutet eine Kohlenstoffgruppe, die zusätzlich ein oder mehrere H-Atome und gegebenenfalls ein oder mehrere

Heteroatome wie beispielsweise N, O, S, P, Si, Se, As, Te oder Ge enthält.

"Halogen" bedeutet F, Cl, Br oder I.

Die Begriffe "Alkyl", "Aryl", "Heteroaryl" etc. umfassen auch mehrbindige Gruppen, beispielsweise Alkylen, Arylen, Heteroarylen etc.

Der Ausdruck "Alkyl" umfasst in dieser Anmeldung geradkettige und verzweigte Alkylgruppen mit 1-7 Kohlenstoffatomen, insbesondere die geradkettigen Gruppen Methyl, Ethyl, Propyl, Butyl, Pentyl, Hexyl und Heptyl. Gruppen mit 1-6 Kohlenstoffatomen sind im allgemeinen bevorzugt.

Der Ausdruck "Alkenyl" umfasst in dieser Anmeldung geradkettige und verzweigte Alkenylgruppen mit 2-7 Kohlenstoffatomen, insbesondere die geradkettigen Gruppen. Bevorzugte Alkenylgruppen sind C ₂ -C ₇ -1 E-Alkenyl, C ₄ -C ₇ -3E-Alkenyl, C ₅ -C ₇ -4-Alkenyl, C ₆ -C ₇ -5-Alkenyl und C ₇ -6-Alkenyl, insbesondere C ₂ -C ₇ -1 E-Alkenyl, C ₄ -C ₇ -3E-Alkenyl und C ₅ -C ₇ -4-Alkenyl. Beispiele besonders bevorzugter Alkenylgruppen sind Vinyl, 1 E-Propenyl, 1 E-Butenyl, E-Pentenyl, 1 E-Hexenyl, 1 E-Heptenyl, 3-Butenyl, 3E- Pentenyl, 3E-Hexenyl, 3E-Heptenyl, 4-Pentenyl, 4Z-Hexenyl, 4E-Hexenyl, 4Z-Heptenyl, 5-Hexenyl, 6-Heptenyl und dergleichen. Gruppen mit bis zu 5 Kohlenstoffatomen sind im allgemeinen bevorzugt.

Der Ausdruck "Fluoralkyl" umfasst in dieser Anmeldung geradkettige

Gruppen mit mindestens einem Fluoratom, vorzugsweise einem

endständigem Fluor, d.h. Fluormethyl, 2-Fluorethyl, 3-Fluorpropyl, 4-Fluor- butyl, 5-Fluorpentyl, 6-Fluorhexyl und 7-Fluorheptyl. Andere Positionen des Fluors sind jedoch nicht ausgeschlossen.

Der Ausdruck "Oxaalkyl" bzw. "Alkoxy" umfasst in dieser Anmeldung geradkettige Reste der Formel C _n H2n+i-O-(CH ₂ )m, worin n und m jeweils unabhängig voneinander 1 bis 6 bedeuten, m kann auch 0 bedeuten.

Vorzugsweise ist n = 1 und m 1-6 oder m = 0 und n = 1-3.

Der Begriff "Aryl" bedeutet eine aromatische Kohlenstoffgruppe oder eine davon abgeleitete Gruppe. Der Begriff "Heteroaryl" bedeutet "Aryl" gemäß vorstehender Definition, enthaltend ein oder mehrere Heteroatome.

Die polymerisierbare Gruppe P ist eine Gruppe, die für eine

Polymerisationsreaktion, wie beispielsweise die radikalische oder ionische Kettenpolymerisation, Polyaddition oder Polykondensation, oder für eine polymeranaloge Umsetzung, beispielsweise die Addition oder

Kondensation an eine Polymerhauptkette, geeignet ist. Besonders bevorzugt sind Gruppen für die Kettenpolymerisation, insbesondere solche enthaltend eine C=C-Doppelbindung oder -C=C-Dreifachbindung, sowie zur Polymerisation unter Ringöffnung geeignete Gruppen wie beispielsweise Oxetan- oder Epoxygruppen

Die Herstellung der polymerisierbaren Verbindungen erfolgt in Analogie zu dem Fachmann bekannten und in Standardwerken der organischen

Chemie beschriebenen Verfahren, wie beispielsweise in Houben-Weyl, Methoden der organischen Chemie, Thieme-Verlag, Stuttgart.

Typische und bevorzugte reaktive Mesogene (RMs) sind beispielsweise in WO 93/22397, EP 0 261 712, DE 195 04 224, WO 95/22586, WO

97/00600, US 5,518,652, US 5,750,051 , US 5,770,107 und US 6,514,578 beschrieben. Ganz besonders bevorzugte reaktive Mesogene werden in der Tabelle E genannt.

Das Verfahren wird zur Herstellung einer Mischung bestehend aus organischen Verbindungen angewandt, von denen vorzugsweise eine oder mehrere für sich mesogen, bevorzugt flüssigkristallin sind. Die mesogenen Verbindungen umfassen vorzugsweise eine oder mehrere flüssigkristalline Verbindungen. Vorzugsweise ist das Verfahrensprodukt eine homogene, flüssigkristalline Mischung. Das Verfahren umfasst im weiteren Sinn auch die Herstellung von Mischungen, die in der homogenen flüssigen Phase aus organischen Substanzen bestehen und darin unlösliche Zusätze (z. B. kleine Partikel) enthalten. Das Verfahren kann somit auch für die

Herstellung von suspensionsartigen oder emulsionsartigen Mischungen basierend auf einer kontinuierlichen homogenen organischen Phase angewendet werden. Solche Verfahrensvarianten sind jedoch in der Regel weniger bevorzugt.

Mittels geeigneter Zusatzstoffe können die Flüssigkristallmischungen enthaltend mindestens zwei Verbindungen der Formel I so modifiziert werden, dass sie in jeder bisher bekannt gewordenen Art von LCD- Anzeigen, z. B. von ECB-, VAN-, IPS-, FFS-, TN-, TN-TFT-, STN-, OCB-, GH-, PS-IPS, PS-FFS, PM-VA, PVA-, PSA-, PS-VA- oder ASM-VA- Anzeigen einsetzbar sind.

Die Flüssigkristallmischungen können auch weitere, dem Fachmann bekannte und in der Literatur beschriebene Additive, wie z. B. UV- Stabilisatoren, wie z.B. Tinuvin ^® , z.B. Tinuvin ^® 770, der Fa. BASF,

Antioxidantien, wie z.B. Irganox ^® , z.B. Irganox ^® 1076 (Octadecyl-3-(3,5-di- tert.butyl-4-hydroxyphenyl)-propionate, der Fa. BASF, Radikalfänger, Nanopartikel, Mikropartikel, ein oder mehrere Dotierstoffe, etc. enthalten. Beispielsweise können 0-15 % pleochroitische Farbstoffe zugesetzt werden, ferner Leitsalze, vorzugsweise Ethyldimethyldodecyl-ammonium-4- hexoxybenzoat, Tetrabutylammoniumtetraphenylboranat oder Komplexsalze von Kronenethern (vgl. z.B. Haller et al., Mol. Cryst. Liq. Cryst. Band 24, Seiten 249- 258 (1973)) zur Verbesserung der Leitfähigkeit oder Substanzen zur Veränderung der dielektrischen Anisotropie, der Viskosität und/oder der Orientierung der nematischen Phasen. Derartige Substanzen sind z. B. in den DE-OS 22 09 127, 22 40 864, 23 21 632, 23 38 281 , 24 50 088, 26 37 430 und 28 53 728 beschrieben.

Geeignete Stabilisatoren und Dotierstoffe, die bei der Herstellung der Flüssigkristallmischungen mit den Verbindungen der Formel I zusammen in die Elektrodialysezelle gegebenen werden können, werden nachfolgend in den Tabellen C und D genannt.

Die folgenden Beispiele sollen die Erfindung erläutern, ohne sie zu begrenzen. Vor- und nachstehend bedeuten Prozentangaben Gewichtsprozent; alle Temperaturen sind in Grad Celsius angegeben.

In der gesamten Patentanmeldung werden 1 ,4-Cyclohexylenringe und 1 ,4- Phenylenringe wie folgt dargestellt:

Bei den Cyclohexylenringen handelt es sich um trans-1 ,4- Cyclohexylenringe.

In der vorliegenden Anmeldung und in den folgenden Beispielen sind die Strukturen der Flüssigkristallverbindungen durch Akronyme angegeben, wobei die Transformation in chemische Formeln gemäß folgender Tabellen A und B erfolgt. Alle Reste C _n H _2n +i und C _m H _2m+ i sind geradkettige

Alkylreste mit n bzw. m C-Atomen; n, m, k und z sind ganze Zahlen und bedeuten vorzugsweise 0, 1 , 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11 oder 12. Der Ausdruck " (O)C _m H _2m+ i " bedeutet OC _m H _2m+ i oder C _m H _2m +i - Die Codierung gemäß Tabelle B versteht sich von selbst.

In Tabelle A ist nur das Akronym für den Grundkörper angegeben. Im Einzelfall folgt getrennt von Akronym für den Grundkörper mit einem Strich ein Code für die Substituenten R , R ^2* , L ^1* und L ^2* :

Code für R , R R ^2* L ^1* L ² R ^2* , L , L ^2* , L ^3*

nm C _n H _2n +i C _m H ₂ m+1 H H

nO.m OC _n H _2n +i C _m H _2m+1 H H n C _n H ₂ n+1 CN H H

nN.F.F C _n H _2n +i CN F F nF C _n H _2n +i F H H nCI C _n H _2n +i Cl H H

nF.F.F C _n H _2n +i F F F

nV-Vm nH ₂ n+-|-CH— CH- -CH=CH-C _m H ₂ m+i H H

Bevorzugte mesogene oder flüssigkristalline Substanzen, die für die Herstellung von Flüssigkristallmischungen geeignet sind und bei dem erfindungsgemäßen Reinigungsverfahren Anwendung finden können, sind insbesondere in den Tabellen A und B gelistet:



CFU Tabelle B

(n = 1-15; (0)C _n H _2n+ i bedeutet C _n H _2n+ oder OC _n H _2n+ i)

ECCP-nm

ECCP-nF.F

^C n ^H 2n ₊ 1

PGP-n-m CGU-n-F

CGUQU-n-F

CLUQU-n-F

CDUQU-n-F

CDU-n-F DCU-n-F

CGG-n-F CPZG-n-OT CC-nV-Vm GPP-n-m

CCP-Vn-m CCG-V-F

CCP-nV-m CC-n-V

CCQU-n-F CC-n-Vm

CPPC-nV-Vm

CCQG-n-F CQU-n-F

CP-1V-m

CP-2V-m CP-V2-m

CP-1V-N CP-V2-N

CPGP-n-m

PQU-n-F PUQU-n-F

CPGU-n-F

CVCP-1V-OT GGP

PPGU-n-F

PP-n-kVm

BCH-nm

CCP(CI,F)-n-Om CCP(F,CI)-n-Om

CCYY-n-(0)m

CCY-n-02V

CY-n-m

CEY-V-n CVY-V-

CY-V-On CY-n-OC(CH ₃ )=CH ₂

CY-1V-On CY-V1-On

CY-n-01V CCN-nm

CCPC-nm

CCY-n-zOm

CPY-n-m

CPY-n-Om CPY-1V-Om

CPY-V-Om CPP(CI,F)-n-(0)m CQY-n-(0)m CPP(F,CI)-n-(0)m

CQIY-n-(0)m PGIY-n-Om

CCQY-n-(0)m

CPQIY-n-(0)m

D-nOmFF

CY-nV-(0)m PCH-nm

CENap-n-Om LY-n-(0)m

CNap-n-Om YPY-n-mV

C-DFDBF-n-(0)m CCY-1V2-(0)m

MUQU-i NUQU-n-F

CCY-V2-(0)m

CCY-1V2-(0)m

CCY-3V-(0)m

CCVC-n-V

COChrom-n-Om

COChrom-n-m

CCOChrom-n-Om

CCOChrom-n-m

CONaph-n-Om

CCONaph-n-Om F F

^C n ^H 2n ₊ 1 H O KOC _m H

CLY-n-Om

CLY-n-m

LYLI-n-m

CYLI-n-m

LY-n-(0)m

COYOICC-n-m

COYOIC-n-V CCOY-V-02V

CCOY-V-03V

PYP-n-m

PYP-n-Om

YPY-n-m

YPY-n-mV

Y-nO-Om

Y-n-Om

PY-n-m

PY-n-Om

F F

^0C m ^H 2m ₊ 1

PY-V2-Om

PY-V-Om

PY-1V-Om

C-DFDBF-n-(O)

DFDBC-n(0)-(0)m

B-nO-Om

DFDBC-n(0)-(0)m

CPU-n-VT CPU-n-AT

DGUQU-n-F

PY-n-Om

CPTP-nOmFF

PPTUI-n-m

Y-nO-Om

Y-nO-OmVm'

Besonders bevorzugt sind flüssigkristalline Mischungen, die neben einer oder mehreren Verbindungen der Formel I mindestens ein, zwei, drei, vier oder mehr Verbindungen aus der Tabelle B enthalten.

Tabelle C

In der Tabelle C werden mögliche Dotierstoffe angegeben, die in der Regel den flüssigkristallinen Mischungen zugesetzt werden. Vorzugsweise enthalten die Mischungen 0-10 Gew.%, insbesondere 0,01-5 Gew.% und besonders bevorzugt 0,01-3 Gew.% an Dotierstoffen.

CM 21 R/S-811

R/S-1011

Tabelle D

Stabilisatoren, die beispielsweise den flüssigkristallinen Mischungen in Mengen von 0-10 Gew.% zugesetzt werden können, werden nachfolgend genannt,

(n = 1-12)

n = 1,2, 3, 4,5, 6or7

TAB-6

n = 1,2, 3, 4, 5,6or7

STAB-7 STAB-8

STAB-9 STAB-10

STAB-16 STAB-17

STAB-23

STAB-24 STAB-25

STAB-32

30

STAB-37 STAB-38 Geeignete polymerisierbare Verbindungen (reaktive Mesogene) für den Einsatz in den erfindungsgemäßen Mischungen, vorzugsweise in PSA- und PS-VA-Anwendungen oder PS-IPS/FFS-Anwendungen, werden

nachfolgend in Tabelle E genannt:

Tabelle E

In der Tabelle E sind Beispielverbindungen zusammengestellt, die in den flüssigkristallinen Mischungen vorzugsweise als reaktive mesogene

Verbindungen verwendet werden können. Sofern die flüssigkristallinen Mischungen ein oder mehrere reaktive Verbindungen enthalten, werden sie vorzugsweise in Mengen von 0,01-5 Gew.% eingesetzt. Gegebenenfalls muss für die Polymerisation noch ein Initiator oder ein Gemisch aus zwei oder mehr Initiatoren zugesetzt werden. Der Initiator oder das

Initiatorgemisch wird vorzugsweise in Mengen von 0,001-2 Gew.% bezogen auf die Mischung zugesetzt. Ein geeigneter Initiator ist z. B.

Irgacure (Fa. BASF) oder Irganox (Fa. BASF).

Geeignete polymerisierbare Verbindungen (reaktive Mesogene) für den Einsatz in den erfindungsgemäßen Mischungen, vorzugsweise in PSA- und PS-VA-Anwendungen oder PS-IPS/FFS-Anwendungen, werden

nachfolgend in Tabelle E genannt:

30 RM-39

30

30

In einer bevorzugten Ausführungsform enthalten die flüssigkristallinen Mischungen eine oder mehrere Verbindungen ausgewählt aus der Gruppe der Verbindungen der Tabelle E.

Beispiele

Die folgenden Ausführungsbeispiele sollen die Erfindung erläutern, ohne sie zu begrenzen.

Vor- und nachstehend bedeuten Prozentangaben Gewichtsprozent. Alle Temperaturen sind in Grad Celsius angegeben. Fp. bedeutet Schmelzpunkt, cp. = Klärpunkt. Ferner bedeuten K = kristalliner Zustand, N = nematische Phase, S = smektische Phase und I = isotrope Phase. Die Angaben zwischen diesen Symbolen stellen die Übergangstemperaturen dar. Weiterhin bedeutet

V ₀ Schwellenspannung, kapazitiv [V] bei 20 °C

Δη die optische Anisotropie gemessen bei 20°C und 589nm

Δε die dielektrische Anisotropie bei 20 °C und 1 kHz

cp. Klärpunkt [°C]

Κ _Ϊ elastische Konstante, "Splay' -Deformation bei 20°C, [pN] K3 elastische Konstante, "Bend"-Deformation bei 20°C, [pN] γ-ι Rotationsviskosität gemessen bei 20°C [mPa-s], bestimmt nach dem Rotationsverfahren in einem magnetischen Feld LTS Tieftemperaturstabilität [Low temperature stability (nematische

Phase)], bestimmt in Testzellen.

Die folgenden Beispiele sollen die Erfindung erläutern, ohne sie zu begrenzen.

Vor- und nachstehend bedeuten Prozentangaben Gewichtsprozent. Alle Temperaturen sind in Grad Celsius angegeben.

Ausführunqsbeispiele

Beispiel 1

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PS-VA-Anwendungen,

der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 2

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PS-VA-Anwendungen,

der Zusammensetzung wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 3

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PS-VA-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt. Beispiel 4

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PS-VA-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 5

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für TN-TFT-Anwendungen, der Zusammensetzung

PUQU-3-F 9,50 % wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 6

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für IPS- oder FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 7

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für IPS- oder FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

rd mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gere

Beispiel 8

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für IPS- oder FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 9

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für TN-TFT-Anwendungen, der Zusammensetzung wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 10

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für TN-TFT-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gere Beispiel 11

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für TN-TFT-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 12

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für TN-TFT-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 13

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für IPS- oder FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt. Beispiel 14

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für TN-TFT-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 15

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für VA-Anwendu

der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 16

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PS-VA-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 17

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für VA-Anwendu der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Die Mischungsbeispiele 1 bis 17 können zusätzlich noch einen oder mehrere z. B. einen oder zwei, Stabilisator(en), und/oder einen Dotierstoff aus den Tabellen C und D enthalten.

Beispiel 18

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für TN-Anwend

der Zusammensetzung

rd mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 19

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für TN-Anwendungen,

der Zusammensetzung wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 20 Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PS-VA-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt. Beispiel 21

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für VA-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 22

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 23

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 24

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PS-VA-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gere

Beispiel 25

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für TN-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 26

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PS-VA-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt. Beispiel 27

Eine fiüssigkristalline Mischung, z. B. für FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 28

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 29 Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 30

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für VA-Anwendungen, der Zusammensetzung wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 31

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PVA-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt. Beispiel 32

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 33

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

PUQU-3-F 2,50 % wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gerein

Beispiel 34

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 35

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 36

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für IPS-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt. Beispiel 37

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für IPS-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 38

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PS-VA-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt. Beispiel 39 Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für FFS-Anwendungen, der

Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt und anschließend mit 0,005 % STAB-35 versetzt.

Beispiel 40

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PS-IPS-Anwendungen, der Zusammensetzung wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 41

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PS-IPS-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 42

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für TN-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 43

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für TN-TFT-Anwendungen, der Zusammensetzung wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 44

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt. Beispiel 45

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für IPS-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 46

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für IPS-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 47

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PM-VA-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 48

Eine flüssigkristailine Mischung, z. B. für PS-FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 49

Eine flüssigkristailine Mischung, z. B. für FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

APUQU-2-F 3,50 %

APUQU-3-F 6,00 %

CC-3-V 45,50 % wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gere

Beispiel 50

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt. Beispiel 51

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für TN-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 52

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PA-VA-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 53

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 54 Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 55

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PM-VA-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 56

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PS-FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Die nachfolgenden Mischungen werden ebenfalls mit dem erfind

gemäßen Verfahren gereinigt:

Beispiel 57

CY-3-04 14,00 % Klärpunkt [°C]: 106,0

CCY-3-02 8,00 % Δη [589 nm, 20°C]: 0, 1597

CCY-4-02 7,00 % ε,, [1 kHz, 20°C]: 3,9

CCY-3-03 6,00 % ει [1 kHz, 20°C]: 8,5

Beispiel 57a

Die Mischung gemäß Beispiel 57 enthält zusätzlich mit 0,025 % STAB-35.

Beispiel 58

Beispiel 59

Beispiel 60 Beispiel 61

Beispiel 62

Beispiel 63

PUQU-3-F 8,00 % Klärpunkt [°C]: 75,4

PGUQU-3-F 7,00 % An [589 nm, 20°C]: 0, 1 191

PGUQU-4-F 4,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: 6, 1

Beispiel 64

Beispiel 65

BCH-32 8,00 % Klärpunkt [°C]: 80,6

CC-3-V 28,00 % An [589 nm, 20°C]: 0,1 194

CCY-3-01 5,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -3,9

CCY-3-02 6,00 % ε,, [1 kHz, 20°C]: 4,0

CLY-3-02 8,00 % ε± [1 kHz, 20°C]: 7,9

CPY-2-02 10,00 % Ki [pN, 20°C]: 13,0

CPY-3-02 10,00 % K ₃ [pN, 20°C]: 14,0

PGIY-2-04 8,00 % V ₀ [20°C]: 2,0

PY-3-02 9,00 % [mPa s, 20°C]: 120

Y-40-04 8,00 % Beispiel 66

Beispiel 67 Beispiel 68

Beispiel 68a

Die Mischung gemäß Beispiel 68 enthält zusätzlich mit 2 % R-5011.

Beispiel 69

eispiel 70

CY-3-04 12,50 % Klärpunkt [°C]: 75,4

CY-5-02 10,00 % An [589 nm, 20°C]: 0, 1077

»eispiel 71

Beispiel 72

CC-3-V 33,00 % Klärpunkt [°C]: 80,2

CCY-3-01 6,00 % An [589 nm, 20°C]: 0, 1 1 16

CCY-3-02 8,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -4, 1

CCY-4-02 2,50 % ε,ι [1 kHz, 20°C]: 3,7

CPY-2-02 8,00 % ε± [1 kHz, 20°C]: 7,8

Beispiel 73

Beispiel 74 APUQU-3-F 7,00 %

Beispiel 75

Beispiel 76

eispiel 77

BCH-32 6,00 % Klärpunkt [°C]: 101,6

CC-3-V 39,50 % Δη [589 nm, 20°C]: 0,1111

CCP-3- 6,50 % Δε [1 kHz, 20°C]: 6,9

CCP-30CF ₃ 1 ,00 % Κ·, [ρΝ,20°Ο]: 15,3

CCP-V-1 16,00% K ₃ [pN,20°C]: 17,3

CDUQU-3-F 9,50 % V ₀ [20°C]: 1,57

Beispiel 78

Beispiel 79

Beispiel 80

eispiel 81

APUQU-3-F 5,00 % Klärpunkt [°C]: 104,5

CC-3-V 39,00 % Δη [589 nm, 20°C]: 0,0942

CCGU-3-F 10,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: 7,2

CCP-3-1 3,00 % K! [pN, 20°C]: 15,3

CCP-30CF ₃ 7,50 % K ₃ [pN, 20°C]: 18,5

CCP-V-1 13,00 % V ₀ [20°C]: 1 ,54

Beispiel 82

Beispiel 83

Beispiel 84

Beispiel 84a

Die Mischung gemäß Beispiel 84 enthält zusätzlich mit 0,4 % RM-1 .

Beispiel 85

BCH-32 3,00 % Klärpunkt [°C]: 109,8

CCH-23 15,00 % An [589 nm, 20°C]: 0, 1028

CCH-34 3,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -3,7

CCH-35 7,00 % ειι [1 kHz, 20°C]: 3,3

CCP-3-1 7,00 % ε± [1 kHz, 20°C]: 7,0

Beispiel 86

Beispiel 86a

Die Mischung aus Beispiel 86 enthält zusätzlich mit 0,001 % Irganox 076 (Octadecyl-3-(3,5-di-tert. butyl-4-hydroxyphenyl)-proprionat, Fa. BASF) und 0,3 % RM-1.

Beispiel 87

CDUQU-3-F 7,00 % Klärpunkt [°C]: 100

CCP-V-1 2,00 % Δη [589 nm, 20°C]: 0,0714

CCQU-3-F 5,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: 8,3

>eispiel 88

APUQU-2-F 8,00 % Klärpunkt [°C]: 88,9

APUQU-3-F 8,00 % An [589 nm, 20°Cl: 0,0987

CC-3-V 30,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: 5,9

CC-3-V1 8,50 % ε,, [1 kHz, 20°C]: 8,9

CCP-3-1 4,00 % ε _± [1 kHz, 20°C]: 2,9

CCP-V-1 16,00% Ki [pN, 20°C]: 13,4

CCP-V2-1 11,00% K ₃ [pN,20°C]: 16,1

PP-1-2V1 6,00 % V ₀ [20°C]: 1,59

PUQU-3-F 8,50 % γι [mPa s, 20°C]: 56

Beispiel 89

CC-3-V 28,50 % Klärpunkt [°C]: 74,6

CC-3-V1 7,00 % An [589 nm, 20°C]: 0,1040

Beispiel 89a

Die Mischung aus Beispiel 89 enthält zusätzlich mit 0,001 % Irganox 1076 (Octadecyl-3-(3,5-di-tert. butyl-4-hydroxyphenyl)-proprionat, Fa. BASF) und 0,3 % RM-1.

Beispiel 90

Beispiel 90a

Die Mischung aus Beispiel 90 enthält zusätzlich mit 0,3 % RM-1 .

Beispiel 91

Beispiel 91 a

Die Mischung aus Beispiel 91 enthält zusätzlich 0,001 % STAB-35.

Beispiel 92

PGUQU-3-F 8,00 % Klärpunkt [°C]: 82,5

PGUQU-4-F 9,00 % Δη [589 nm, 20°C]: 0,2143

PGUQU-5-F 9,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: 65,8

PGU-2-F 7,00 % ε,ι [1 kHz, 20°C]: 73,4

Beispiel 93

Beispiel 94

CY-3-02 10,50 % Klärpunkt [°C]: 79,7

PY-1-04 5,00 % Δη [589 nm, 20°C]: 0,1113

PY-3-02 7,50 % Δε [1 kHz, 20°C]: -4,4

PY-4-02 4,00 % Ki [pN, 20°C]: 14,5

CCY-3-01 5,50 % K ₃ [pN,20°C]: 16,7

eispiel 95

DU-2-N 2,50 % Klärpunkt [°C]: 94,0

ME2N.F 8,00 % Δη [589 nm, 20°C]: 0,2530

ME3N.F 8,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: 47,6

ME4N.F 16,00 % ε,[ [1 kHz, 20°C]: 55,7

ME5N.F 8,00 % ε [1 kHz, 20°C]: 8,1

HP-3N.F 5,00 % Ki fpN, 20°Cl: 1 1 ,3

HP-4N.F 5,00 % K ₃ [pN, 20°C]: 13,8

HP-5N.F 2,50 % V ₀ [20°C]: 0,51

PTP- 02 5,00 % γι [mPa-s, 20°C]: 464

PPTUI-3-2 20,00 %

PPTUI-3-4 20,00 %

Beispiel 95a

Die Mischung gemäß Beispiel 95 enthält zusätzlich mit 5 % RM-4 .

Beispiel 96

CCY-3-01 7,50 % Klärpunkt [°Cl: 81 ,5

CCY-4-O2 3,50 % Δη [589 nm, 20°C]: 0, 1082

CLY-3-O2 7,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -2,7 CPY-2-02 10,00 % ε,ι [1 kHz, 20°C]: 3,4

CPY-3-02 10,00 % ε± [1 kHz, 20°C]: 6, 1

PYP-2-3 9,00 % [mPa-s, 20°C]: 88

CC-3-V 45,00 % Ki [pN, 20°C]: 13,4

PY-1 -04 4,00 % K ₃ [pN, 20°C]: 15,3

PY-3-02 2,00 % V ₀ [20°C, V]: 2,53

Y-40-O4 2,00 %

Beispiel 97

CCY-3-0 7,50 %

CCY-4-02 5,00 %

CLY-3-02 7,00 %

CPY-2-02 10,00 %

CPY-3-O2 8,50 %

PYP-2-3 9,00 %

CC-3-V 45,50 %

PY-1 -04 5,00 %

Y-4O-O4 2,50 %

Beispiel 98

Beispiel 99

Beispiel 100

CC-3-V1 9,00 % Klärpunkt f°C]: 74,7

CCH-23 18,00 % Δ ^η [589 nm, 20°Cl: 0,0982

CCH-34 3,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -3,4

CCH-35 7,00 % En [1 kHz, 20°C]: 3,5

CCP-3-1 5,50 % e [1 kHz, 20°C]: 6,9

CCY-3-02 11 ,50 % [mPa-s, 20°C]: 108

CPY-2-02 8,00 % Ki [pN, 20°C]: 14,9

CPY-3-02 11 ,00 % K ₃ [pN, 20°C]: 15,9

CY-3-O2 15,50 % V ₀ [20°C, V]: 2,28 PY-3-02 11 ,50 %j

Beispiel 100a

Die Mischung gemäß Beispiel 100 enthält zusätzlich mit 0,001 % Irganox 1076 (Octadecyl-3-(3,5-di-tert. butyl-4-hydroxyphenyl)-proprionat, Fa. BASF) und 0,45 % RM-1

Beispiel 101

Beispiel 102

CC-3-V 28,00 % Klärpunkt [°C]: 84,8

CC-3-V1 3,00 % Δη [589 nm, 20°C]: 0,1078

CCP-3-1 3,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -4,1

CCY-3-02 9,00 % ε„ [1 kHz, 20°C]: 3,7

CCY-4-02 9,00 % ε _χ [1 kHz, 20°C]: 7,8 γι [mPa-s, 20°C]: 122

Κτ [pN, 20°C]: 14,8

Beispiel 102a

Die Mischung gemäß Beispiel 02 enthält zusätzlich

Beispiel 103

CC-3.V 28,00 % Klärpunkt [°C]: 80

CC-3-V1 5,00 % Δη [589 nm, 20°C]: 0,1082

CCP-3-1 2,50 % Δε [1 kHz, 20°C]: -4,1

CCY-3-O2 10,00 % ειι [1 kHz, 20°C]: 3,8 ει [1 kHz, 20°C]: 7,9

γι [mPa s, 20°C1: 113

[pN, 20°C]: 14,5

Beispiel 103a

Die Mischung gemäß Beispiel 103 enthält zusätzlich

Beispiel 104

CC-3-V 29,00 % Klärpunkt [°Cl: 75,1

CC-3-V1 5,00 % Δη [589 nm, 20°C]: 0,1075

CCP-3-1 3,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -4,0

CCY-3-02 10,00 % ειι [1 kHz, 20°C]: 3,8 [1 kHz, 20°C]: 7,7 γι [mPa-s, 20°C]: 103

Ki [pN, 20°C]: 14,3

Beispiel 104a

Die Mischung aus Beispiel 104 enthält zusätzlich

Beispiel 105

CC-3-V 29,00 % Klärpunkt [°C]: 80,1

CCY-3-O1 8,00 % An [589 nm, 20°C]: 0,1052

CCY-3-02 6,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -4,7

CCY-4-02 2,00 % ε,, [1 kHz, 20°C]: 3,9

CLY-3-02 8,50 % ε± [1 kHz, 20°C]: 8,7 γι [mPa-s, 20°C]: 125

Ki [pN, 20°C]: 14,0

Beispiel 105a

Die Mischung gemäß Beispiel 105 enthält zusätzlich

Beispiel 106

CC-3-V 37,00 % Klärpunkt [°C]: 75,2

CCY-3-01 5,00 % An [589 nm, 20°C]: 0,1012

CCY-3-02 5,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -3,8

CCY-4-02 4,00 % ε,ι [1 kHz, 20°C]: 3,6

CLY-3-02 7,00 % εχ [1 kHz, 20°C]: 7,5

CPY-2-02 9,00 % γι [mPa s, 20°C]: 97 CPY-3-02 10,00 % Ki [pN, 20°C]: 13,3

CY-3-O2 12,00 % K ₃ [pN, 20°C]: 15,3

PY-3-O2 11 ,00 % V ₀ [20°C, V]: 2,12

Beispiel 106a

Die Mischung gemäß Beispiel 106 enthält zusätzlich

Beispiel 107

CY-3-O2 15,00 % Klärpunkt [°C]: 80,4

CY-5-O2 12,50 % Δη [589 nm, 20°C]: 0,1038

CCY-3-01 2,50 % Δε [1 kHz, 20°Cl: -3,3

CCY-4-O2 5,00 % ε,ι [1 kHz, 20°C]: 3,5

CPY-2-02 8,00 % ει [1 kHz, 20°C]: 6,8

CPY-3-02 8,00 % γι [mPa s, 20°C]: 137

CCY-2-1 6,00 % Ki [PN, 20X1: 14,2

CCY-3-1 6,00 % K ₃ [pN, 20°C]: 14,2

CCH-23 15,00 % V ₀ [20°C, V]: 2,18

Beispiel 107a

Die Mischung gemäß Beispiel 107 enthält zusätzlich

Beispiel 108

CCPC-34 4,00 %

Beispiel 109

Beispiel 110

CY-3-02 8,00 %

CY-3-O4 13,00 %

CCY-3-O2 6,50 %

CPY-2-O2 3,50 %

CPY-3-O2 8,00 %

CCH-301 5,00 %

CC-4-V 12,00 %

CC-5-V 8,00 %

CCP-V-1 13,00 %

CCP-V2-1 13,00 %

BCH-32 5,00 %

CCPC-33 5,00 % Beispiel 111

Beispiel 112

Beispiel 113

Die Mischung gemäß Beispiel 113 enthält zusätzlich 0,3 % RM-1

Beispiel 114

Beispiel 1 15a

Die Mischung gemäß Beispiel 1 15 enthält zusätzlich 0,001 % Irganox' 1076 (Octadecyl-3-(3,5-di-tert. butyl-4-hydroxyphenyl)-proprionat, Fa. BASF) und 0,3 % RM-1 .

Beispiel 1 16

Beispiel 1 17

Beispiel 118

Beisoiel 1 9

Beispiel 119a

Die Mischung gemäß Beispiel 119 enthält zusätzlich

Beispiel 120

Beispiel 120a

Die Mischung aus Beispiel 120 enthält zusätzlich

0,3 %

Beispiel 121

Beispiel 121 a

Die Mischung aus Beispiel 121 enthält zusätzlich mit 0,001 % Irganox* 1076 (Octadecyl-3-(3,5-di-tert. butyl-4-hydroxyphenyl)-proprionat, Fa. BASF) und 0,45 % RM-1.

Beispiel 122

CC-3-V 36,50 %

CC-3-V1 2,00 %

CCY-3-01 8,00 %

CCY-3-02 6,00 %

CCY-4-O2 2,50 %

CLY-3-O2 8,00 %

CLY-3-O3 2,00 %

CPY-2-O2 10,00 %

CPY-3-O2 3,00 %

CY-3-O2 5,50 %

PY-3-O2 13,00 % PY-1-04 3,50 %

Beispiel 123

Beispiel 124

BCH-32 1 ,50 % Klärpunkt [°C]: 75

CC-3-V 37,00 % Δη [589 nm, 20°C]: 0,0960

CCP-3-Ί 8,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -2,6

CY-3-02 15,00 % ε,, [1 kHz, 20°C]: 3,4

CCY-3-01 7,00 % ε _χ [1 kHz, 20°C]: 6,0

CCY-3-O2 9,50 % γι [mPa-s, 20°C]: 79

CPY-3-O2 8,50 % K _T [pN, 20°C1: 13,0

PCH-302 5,50 % K ₃ [pN, 20°C]: 16,0

PY-V-O2 8,00 % V ₀ [20°C, V]: 2,6 Beispiel 125

BCH-32 1 ,00 %

CC-3-V 41 ,00 %

CCP-3- 8,50 %

CY-3-O2 13,00 %

CCY-3-O1 6,50 %

CCY-3-02 8,50 %

CPY-3-02 6,00 %

PCH-302 7,00 %

PY-1V-02 8,50 %

Beisoiel 126

Beisoiel 127

PY-3-O2 8,00 % Klärpunkt [°C]: 74,5

PY-3V-O2 5,00 % Δη [589 nm, 20°CJ: 0,1086

CY-3-O2 11 ,50 % Δε [1 kHz, 20°C]: -3,0

CCY-3-O1 10,00 % 8|| [1 kHz, 20°C]: 3,6

CCY-3-O2 4,00 % ε _± [1 kHz, 20°C]: 6,6

CPY-2-O2 10,00 % [mPa-s, 20°C]: 87 [pN, 20°C1: 12,9

K ₃ [pN, 20°C]: 14,1

V ₀ [20°C, VI: 2,30

Beispiel 128

PY-V2-O2 12,00 % Klärpunkt [°C]: 76

CY-V-O2 9,00 % Δη [589 nm, 20°C]: 0,1087

CCY-3-01 9,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -3,1

CCY-V2-02 8,00 % ε,ι [1 kHz, 20°C]: 3,7

CPY-2-02 8,00 % ε± [1 kHz, 20°C]: 6,9

CPY-V-02 10,50 % γι [mPa-s, 20°C]: 83

CC-3-V 36,50 % Ki [pN, 20°C]: 12,4

BCH-32 6,50 % K ₃ [pN, 20°C]: 14,7

PPGU-3-F 0,50 % V ₀ [20°C, V]: 2,28

Beispiel 129

PY-V2-02 1 ,50 % Klärpunkt [°C]: 75,5

CY-3-O2 11 ,00 % Δη [589 nm, 20°C]: 0,1074

CCY-3-01 9,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -3,1

CCY-3-O2 4,00 % ειι [1 kHz, 20°C]: 3,7

CPY-2-O2 12,00 % 8j. [1 kHz, 20°C]: 6,8

CPY-3-O2 9,00 % γι [mPa-s, 20°C]: 87

CC-3-V 37,00 % Ki [pN, 20°C]: 13,0

BCH-32 6,00 % K ₃ [pN, 20°C]: 14,7

PPGU-3-F 0,50 % V ₀ [20°C, VI: 2,29 Beispiel 130

Beispiel 131

PY-V2-02 10,50 % Klärpunkt [°C]: 75

CY-3-02 0,00 % An [589 nm, 20°C]: 0, 1070

CCY-3-01 6,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -3,3

CCY-3-02 9,00 % ε,, [1 kHz, 20°C]: 3,7

CPY-2-O2 8,00 % ε _± [1 kHz, 20°C]: 7,0

CPY-3-O2 12,00 % γι [mPa-s, 20°C]: 90

CC-3-V 35,00 % Ki [pN, 20°C]: 12,7

BCH-32 6,50 % K ₃ [pN, 20°C]: 14,5

PPGU-3-F 0,50 % V ₀ [20°C, V]: 2,23

Y-40-O4 2,50 % LTS (bulk) [-20°C]: > 1000 h

LTS (bulk) [-30°C]: > 1000 h

Beispiel 132

PY-1V-O2 10,00 % Klärpunkt [°C]: 73,5

CY-3-O2 18,00 % An [589 nm, 20°C]: 0,1084

CCY-3-01 6,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -3,2

CCY-3-02 6,00 % ε,ι [1 kHz, 20°C]: 3,6

CPY-2-O2 7,00 % ε _± [1 kHz, 20°C]: 6,8 CPY-3-02 9,00 % γι fmPa-s, 20°C]: 82

CC-3-V 40,00 % Ki [pN, 20°C]: 12,8

BCH-32 3,50 % K ₃ [pN, 20°C]: 14,9

PPGU-3-F 0,50 % V ₀ [20°C, V]: 2,3

Beispiel 133

Klärpunkt [°C]: 74,5

Δη [589 nm, 20°C]: 0,1071

Δε [ kHz, 20°C]: -3,4 ε,ι [1 kHz, 20°C]: 3,8 ε _χ [1 kHz, 20°C]: 7,1 γι [mPa s, 20°C]: 91

Ki [pN, 20°C]: 12,7

K ₃ [pN, 20°C1: 14,6

V ₀ [20°C, VI: 2,2

Beispiel 134

PY-V2-O2 14,00 % Klärpunkt [°C]: 74,5

CY-3-O2 10,50 % An [589 nm, 20°C]: 0,1075

CCY-3-O1 5,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -3,2

CCY-3-O2 10,00 % ε,ι [1 kHz, 20°C]: 3,6

CPY-2-O2 9,00 % ε _± [1 kHz, 20°C]: 6,8

CPY-3-O2 12,00 % y ₁ [mPa-s, 20°C]: 90

CC-3-V 36,50 % Ki [pN, 20°C]: 11 ,7

BCH-32 2,50 % K ₃ [pN, 20°C]: 14,1

PPGU-3-F 0,50 % V ₀ [20°C, VI: 2,21 Beispiel 135

PY-3V-02 10,50 %

CY-3-02 15,00 %

CCY-3-01 7,50 %

CCY-3-02 4,00 %

CPY-2-O2 11 ,00 %

CPY-3-02 8,00 %

CC-3-V 40,50 %

BCH-32 3,00 %

PPGU-3-F 0,50 %

Beispiel 136

Beispiel 137

PY-V2-O2 7,00 % Klärpunkt [°C]: 75,5

CY-3-O2 10,00 % Δη [589 nm, 20°Cl: 0,1086

CY-1V2-O2 6,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -2,7

CCY-3-O1 5,00 % s„ [1 kHz, 20X]: 3,5

CCY-3-O2 2,00 % sj _. [1 kHz, 20°C]: 6,2 CPY-2-02 12,00 % γι [mPa-s, 20°C]: 85

CPY-3-02 10,00 % K ₁ [pN, 20°C]: 12,8

CC-3-V 37,00 % K ₃ [pN, 20°C]: 14,5

BCH-32 10,50 % V ₀ [20°C, V]: 2,45

PPGU-3-F 0,50 % LTS (bulk) [-20°C]: > 1000 h

Beispiel 138

Klärpunkt [°C1: 75

Δη [589 nm, 20°C]: 0, 1087

Δε [1 kHz, 20°C]: -3, 1 ε,ι [1 kHz, 20°C]: 3,7 e _± [1 kHz, 20°C]: 6,8 γι [mPa s, 20°C]: 83

[pN, 20°C]: 12,6

K ₃ [pN, 20°C]: 14,2

V ₀ [20°C, VI: 2,28

LTS (bulk) [-20°C]: > 1000 h

Beispiel 139

PY-V2-O2 5,50 % Klärpunkt [°C1: 75,5

PY-3-O2 8,00 % Δη [589 nm, 20°C]: 0, 1075

CY-V-O2 6,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -3, 1

CCY-3-O1 5,50 % ειι [1 kHz, 20°C]: 3,7

CCY-3-O2 5,00 % ε _χ [1 kHz, 20°C]: 6,8

CCY-4-O2 4,00 % γι [mPa-s, 20°C]: 88

CPY-2-O2 8,00 % Ki [pN, 20°C]: 12,6

CPY-3-O2 9,00 % K ₃ [pN, 20°C]: 14,0 V ₀ [20°C, V]: 2,26

LTS (bulk) [-20°C]: > 1 000 h

LTS (bulk) [-30°C]: > 1000 h

Beispiel 140

PY-V-02 5,50 % Klärpunkt [°C]: 74,5

PY-3-02 4,50 % An [589 nm, 20°C]: 0, 1098

CY-3-02 1 1 ,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -3,0

CCY-3-O2 10,50 % ε,, [1 kHz, 20°C]: 3,7

CPY-2-02 10,00 % ε [1 kHz, 20°C]: 6,7

CPY-3-02 1 1 ,00 % yi [mPa-s, 20°C]: 85

CC-3-V 37,00 % K-, [pN, 20°C]: 12,9

BCH-32 8,00 % K ₃ [pN, 20°C]: 14,5

PPGU-3-F 0,50 % V ₀ [20°C, V]: 2,31

Y-4O-O4 2,00 % LTS (bulk) [-20°C]: > 1000 h

LTS (bulk) [-30°C]: > 1 000 h

Beispiel 141

PY-3-02 6,00 % Klärpunkt [°C]: 75

PY-V2-02 6,00 % An [589 nm, 20°C]: 0, 1079

CY-3-02 12,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -3,2

CCY-3-O1 4,00 % ε,ι [1 kHz, 20°C]: 3,7

CCY-3-O2 9,50 % ε [1 kHz, 20°C]: 6,9

CPY-2-O2 9,50 % γι [mPa-s, 20°C]: 91

CPY-3-O2 10,00 % KT rpN, 20°C]: 13, 1

CC-3-V 35,50 % K ₃ [pN, 20°C]: 14,9

BCH-32 7,00 % V ₀ [20°C, V]: 2,29

PPGU-3-F 0,50 % LTS (bulk) [-20°C]: > 1000 h

LTS (bulk) [-30°C]: > 1 000 h Beispiel 142

Beispiel 143

Beispiel 143a

Die Mischung gemäß Beispiel 143 enthält zusätzlich

Beispiel 144

BCH-32 6,00 %

CCH-23 16,00 %

CCH-30 3,50 %

CCH-34 6,00 %

CCH-35 6,00 %

CCP-3-1 12,00 %

CY-3-O2 15,00 %

CCY-3-01 5,00 %

CCY-3-02 7,00 %

CPY-3-02 8,50 %

PCH-302 6,00 %

PY-V2-O2 9,00 %

Beispiel 145

BCH-32 4,00 % Klärpunkt [°C]: 76

CC-3-V 34,50 % An [589 nm, 20°C]: 0,0955

CCP-3-1 10,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -2,5

CY-3-02 14,00 % ε,, [1 kHz, 20°C]: 3,4

CCY-3-01 6,00 % SJ _L [1 kHz, 20°C]: 5,9

CCY-3-O2 9,00 % γι [mPa-s, 20°C]: 82

CPY-3-O2 9,00 % KT [pN, 20°C]: 13,4

PCH-302 4,50 % K ₃ [pN, 20°CI: 16,2 PY-V2-02 9,00 % Vo [20°C, VI: 2,66

LTS (bulk) [-20°C]: > 1000 h

LTS (bulk) [-30°C]: > 1000 h

Beispiel 146

Beispiel 147

PY-V2-02 6,00 %

Beispiel 148

Beispiel 149

Beispiel 150

Beispiel 152

PY-3-O2 11 ,00 % Klärpunkt [°C]: 75 Δη [589 nm, 20°C]: 0,1100

Δε [1 kHz, 20°C]: -3,4 ε,ι [1 kHz, 20°C]: 3,5 ε± [1 kHz, 20°C]: 6,9 yi [mPa s, 20°C]: 107

Κτ [pN, 20°C]: 14,3

K ₃ [pN, 20°C]: 15,2

V ₀ [20°C, V]: 2,24

Beispiel 153

Beispiel 154

CY-3-02 12,50 % Klärpunkt [°C]: 74

PY-3-O2 4,00 % Δη [589 nm, 20°C]: 0,1026

PY-V-O2 5,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -3,2

CCY-3-O2 9,00 % ειι [1 kHz, 20°CJ: 3,5

CCY-3-O1 6,00 % ει [1 kHz, 20°C]: 6,7

CCY-4-O2 2,00 % yi [mPa-s, 20°C]: 102 Ki [pN, 20°C]: 13,5

K ₃ [pN, 20°C]: 14, 1

V ₀ [20°C, V]: 2,22

LTS (bulk) [-20°C]: > 1000 h

Beispiel 155

Beispiel 156

PY-V-O2 8,00 % Klärpunkt [°C]: 74,8

CY-3-O2 5,50 % An [589 nm, 20°C]: 0, 1073

CY-V-O2 1 1 ,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -3,1

CCY-3-O1 4,00 % ε,ι [1 kHz, 20°C]: 3,7

CCY-3-O2 10,00 % ε _± [1 kHz, 20°C]: 6,8

CPY-3-O2 10,00 % γι [mPa-s, 20°C]: 82

CPY-V-O4 7,00 % KT [pN, 20°C]: 12, 1

CC-3-V 37,00 % K ₃ [pN, 20°C]: 14,6 Vo [20X, V]: 2,30

Beispiel 157

Beispiel 157a

Die Mischung gemäß Beispiel 157 enthält zusätzlich

Beispiel 157b

Die Mischung gemäß Beispiel 157 enthält zusätzlich

Beispiel 158

Beispiel 159

PY-V-02 5,00 % Klärpunkt [°C]: 75

CY-3-02 8,00 % Δη [589 nm, 20°C]: 0,1078

CY-V-O2 1 ,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -3,0

CCY-3-01 4,00 % ε,, [1 kHz, 20°C]: 3,7

CCY-3-O2 7,00 % ε _χ [1 kHz, 20°C]: 6,7

C PY-3-O2 8,00 % Vi [mPa s, 20°C]: 84

CPY-V-O4 5,00 % Ki [pN, 20°C]: 11 ,9

C PY-V-02 7,00 % K ₃ [pN, 20°C]: 14,4

CC-3-V 35,50 % V ₀ [20°C, V]: 2,30

Beispiel 160

APUQU-2-F 9,00 %

APUQU-3-F 8,50 %

CC-3-V 43,50 %

CCP-30CF ₃ 7,50 %

CCP-V-1 7,00 %

DPGU-4-F 3,50 %

PGP-2-2V 4,00 %

PGUQU-4-F 4,50 %

PUQU-3-F 8,50 %

PY-3V-02 4,00 %

Beisoiel 161

Beispiel 162

Beispiel 163

Beispiel 164

PY-V2-02 6,50 %

CY-3-02 1 1 ,00 %

CY-V2-O2 6,50 %

CCY-3-01 6,00 %

CCY-3-02 2,00 %

CPY-2-02 10,00 %

CPY-3-02 12,00 %

CC-3-V 36,00 %

BCH-32 9,50 %

PPGU-3-F 0,50 %

Beispiel 165

Beispiel 166

CY-3-O2 24,00 % Klärpunkt [°C]: 81

PY-1V2-O2 7,00 % An [589 nm, 20°C]: 0, 101 9

CCY-3-O3 4,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -3, 1 CCY-3-02 5,00 % ε,, [1 kHz, 20°C1: 3,5

CPY-2-02 7,00 % ε [1 kHz, 20°C]: 6,6

CPY-3-02 5,00 % [mPa-s, 20°C]: 126

CCP-3-3 9,00 % K [pN, 20°C]: 14,9

CCP-3-1 9,00 % K ₃ [pN, 20°C]: 16,0

BCH-32 5,00 % V ₀ [20°C, V]: 2,39

CCH-34 10,00 % LTS (bulk) [-20°C]: > 1000 h

CCH-25 10,00 %

PCH-301 5,00 %

Beispiel 167

Beispiel 168

CY-1 V-O1V 20,00 % Klärpunkt [°C]: 82,5

PY-1V2-O2 7,00 % An [589 nm, 20°Cl: 0,0987

CY-3-O2 5,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -3,0

CCY-3-02 5,00 % ε,, [1 kHz, 20°C]: 3,4

CCY-4-O2 5,00 % ε _± [1 kHz, 20°C]: 6,4

CPY-3-O2 10,00 % _Y1 [mPa-s, 20°C]: 109

CCH-34 10,00 % K! [pN, 20°C]: 14,9 K ₃ [pN, 20°C]: 18,9

V ₀ [20°C, V]: 2,66

LTS (bulk) [-20°C]: > 1000 h

Beispiel 169

Beispiel 170

CY-1V-01V 20,00 %

PY-1V2-02 6,00 %

CY-3-O2 6,00 %

CCY-3-02 7,00 %

CCY-3-O1 7,00 %

CPY-3-02 6,00 %

CCH-34 10,00 %

CC-3-V1 12,00 %

CC-2-V1 12,00 %

CCP-V2-1 4,00 %

Beispiel 171

Beisoiel 172 Beispiel 173

CY-3-02 12,00 %

PY-1V2-02 1 1 ,00 %

CCY-3-O2 10,00 %

CCY-4-O2 1 0,00 %

CPY-3-02 10,00 %

CCH-34 8,00 %

CCH-23 22,00 %

CCP-3-3 3,00 %

CCP-3-1 7,00 %

PCH-301 7,00 %

Beispiel 174

Beispiel 175

CY-1 V-O1V 18,00 % Klärpunkt [°C]: 80,5

PY-1 V2-O2 3,00 % An [589 nm, 20°C]: 0,0946

CY-3-O2 16,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -3,7

CCY-3-O2 10,00 % ειι [1 kHz, 20°C]: 3,5 ε [1 kHz, 20°C]: 7,2

γι [mPa-s, 20°C]: 113

K _! [pN, 20°C]: 14,2

K ₃ [pN, 20°C1: 18,7

V ₀ [20°C, V]: 2,39

Beispiel 176

Beispiel 177

PY-3-O2 11 ,00 % Klärpunkt [°C]: 74

PY-1V2-O2 7,50 % Δη [589 nm, 20°C]: 0,1107

CCY-3-O2 9,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -3,0

CCY-3-O1 5,50 % ε,ι [1 kHz, 20°C]: 3,4

CPY-2-O2 6,50 % ε _± [1 kHz, 20°C]: 6,4

CPY-3-O2 10,00 % Yi [mPa s, 20°C]: 104

CCH-34 10,00 % K [pN, 20°C1: 14,0

CCH-23 21 ,00 % K ₃ [pN, 20°C]: 14,8 V ₀ [20°C, V]: 2,37

LTS (bulk) [-20°C] > 1000 h

Beispiel 178

PY-3-02 1 1 ,00 %

PY-1V2-O2 8,00 %

CY-3-O2 3,00 %

CCY-3-02 9,00 %

CCY-3-01 6,00 %

CPY-2-02 6,50 %

CPY-3-02 10,00 %

CCH-34 10,00 %

CCH-23 21 ,00 %

PYP-2-3 5,00 %

CCP-3-1 4,00 %

PCH-301 6,50 %

Beispiel 179

CC-3-V 39,00 %

CC-3-V1 3,00 %

CCP-V-1 8,00 %

CCP-V2-1 12,00 %

PGP-2-2V 3,50 %

PP-1-2V1 9,00 %

PPGU-3-F 1 ,00 %

PUQU-3-F 15,50 %

CCY-3-O2 9,00 % Beispiel 180

Beispiel 180a

Die Mischung gemäß Beispiel 180 enthält zusätzlich 0,001 % Irganox* 1076 (Octadecyl-3-(3,5-di-tert. butyl-4-hydroxyphenyl)-proprionat, Fa. BASF) und 0,3 % RM-1.

Beispiel 181

Beispiel 181a

Die Mischung gemäß Beispiel 181 enthält zusätzlich

Beispiel 82

Beispiel 183

CY-3-02 15,00 % Klärpunkt [°C]: 91 An [589 nm, 20°C]: 0, 105

Δε [1 kHz, 20°Cl: -4,5 γι [mPa-s, 20°C]: 106

V ₀ [20°C, V]: 1 ,32

Beispiel 184

Beispiel 185

CY-3-O2 15,00 % Klärpunkt [°C]: 80,4

CY-5-O2 12,50 % Δη [589 nm, 20°C]: 0,1038

CCY-3-O1 2,50 % Δε [1 kHz, 20°C]: -3,3

Beispiel 185a

Die Mischung gemäß Beispiel 185 enthält zusätzlich 0,25 % RM-35

und

Beispiel 186

CC-3-V 34,00 % Klärpunkt [°C]: 100

CC-3-V1 2,50 % An [589 nm, 20°C]: 0,1003

CCP-V-1 10,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: 9,1

PUQU-3-F 7,00 % ε,, [1 kHz, 20°C]: 12,3 ει [1 kHz, 20°C]: 3,2 γι fmPa-s, 20°C]: 99

Ki [pN, 20°C]: 14,2

K ₃ [pN, 20°C]: 17,3

Beispiel 186a

Die Mischung gemäß Beispiel 186 enthält zusätzlich

Beispiel 186b

Die Mischung gemäß Beispiel 186 enthält zusätzlich

0,03 % Beispiel 87

Y-40-04 4,50 %

PYP-2-3 2,00 %

CC-3-V 25,00 %

CC-4-V 10,00 %

CCP-V-1 14,00 %

PTP-302FF 10,00 %

CPTP-302FF 10,00 %

CPTP-302FF 10,00 %

PPTUI-3-2 14,50 %

Beispiel 188

Beispiel 189

CC-3-V1 10,25 % Klärpunkt [°C]: 74,7

CCH-23 18,50 % Δη [589 nm, 20°C]: 0, 1027

CCH-35 6,75 % Δε [1 kHz, 20°C]: -3, 1

CCP-3-1 6,00 % ε,ι [1 kHz, 20°C]: 3,4

CCY-3-1 2,50 % ε _± [1 kHz, 20°C]: 6,5

CCY-3-02 12,00 % γι [mPa-s, 20°C]: 104

CPY-2-O2 6,00 % Ki [pN, 20°Cl: 15,4

CPY-3-O2 9,75 % K ₃ [pN, 20°C]: 16,8 Vo [20°C, V]: 2,46

Beispiel 189a

Die Mischung gemäß Beispiel 189 enthält zusätzlich 0,01 % Irganox 1076 (Octadecyl-3-(3,5-di-tert. butyl-4-hydroxyphenyl)-proprionat, Fa. BASF) und 0,3 % RM-1.

Beispiel 190

Beispiel 191

CBC-53F 3,00 % Klärpunkt [°C]: 115,5 An [589 nm, 20°C]: 0,1106

Δε [1 kHz, 20°C]: 7,0 ε„ [1 kHz, 20°C]: 9,9 ε _χ [1 kHz, 20°C1: 2,9 γι [mPa-s, 20°C]: 118

K [pN, 20°C]: 17,4

K ₃ [pN, 20°C]: 20,4

V ₀ [20°C, V]: 1,66

Beispiel 192

Beispiel 193

Beispiel 194

APUQU-2-F 3,00 % Klärpunkt [°C]: 85,7

APUQU-3-F 5,00 % Δη [589 nm, 20°C]: 0, 1097

PUQU-3-F 12,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: 8,7

PGUQU-3-F 5,00 % ε„ [1 kHz, 20°C]: 12,4

PGUQU-4-F 4,00 % ε [1 kHz, 20°C]: 3,7

PGUQU-5-F 3,00 % Yi [mPa-s, 20°C]: 82

PPGU-3-F 0,50 % Κτ ΓρΝ, 20°C]: 12,9

CDUQU-3-F 0,05 % K ₃ [pN, 20°C]: 15,7 Vo [20°C, V]: 1 ,29

Beispiel 195

Beispiel 196

CC-3-V 35,00 % Klärpunkt [°C]: 84,6

CCY-3-O1 9,00 % Δη [589 nm, 20°C]: 0,1010

CCY-3-O2 8,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -4,0

CCY-4-O2 5,00 % ειι [1 kHz, 20°C]: 3,6

CLY-3-O3 11 ,00 % ει [1 kHz, 20°C]: 7,6

CPY-2-O2 9,50 % γι [mPa s, 20°C]: 114

CPY-3-O2 4,00 % [pN, 20°C]: 14,5

Beispiel 196a

Die Mischung gemäß Beispiel 196 enthält zusätzlich

Beispiel 197

Klärpunkt [°C]: 84

An [589 nm, 20°C]: 0,1111

Δε [1 kHz, 20°C]: -4,0 ε,ι [1 kHz, 20°C]: 3,7 ε _± [1 kHz, 20°C]: 7,6 y [mPa-s, 20°C]: 119

[ N, 20°C1: 14,8 Beispiel 197a

Die Mischung gemäß Beispiel 197 enthält zusätzlich

Beispiel 198

Beispiel 198a

Die Mischung gemäß Beispiel 198 enthält zusätzlich 0,25 % RM-41

Beispiel 198b

Die Mischung gemäß Beispiel 198 enthält zusätzlich mit 0,3 % RM-17

Beispiel 199

Beispiel 200

Beispiel 201

Beispiel 202

Beispiel 203 Beispiel 204

Beispiel 205

Beispiel 205a

Die Mischung gemäß Beispiel 205 enthält zusätzlich

Beispiel 206

CC-3-V 35,50 %

CCY-3-02 6,00 %

CCY-3-03 6,00 %

CCY-4-02 6,00 %

CCY-5-02 3,50 %

CPY-2-O2 10,00 %

CPY-3-02 9,00 %

CY-3-04 10,00 %

CY-5-02 9,00 %

PGIGI-3-F 5,00 % Beispiel 207

Beispiel 208

Beispiel 209

CC-3-V 39,00 % Klärpunkt [°C]: 75,2

BCH-3F.F.F 8,00 % An [589 nm, 20°C]: 0,1298

PGU-2-F 6,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: 18,3

PGU-3-F 6,00 % ε,ι [1 kHz, 20°C]: 22,6 APUQU-2-F 6,00 % ε _λ [1 kHz, 20°C]: 4,3

APUQU-3-F 8,00 % γι [mPa-s, 20°C]: 99

PGUQU-3-F 6,00 % Ki [pN, 20°C]: 10,9

PGUQU-4-F 6,00 % K ₃ [pN, 20°C]: 1 1 , 1

PGUQU-5-F 6,00 % V ₀ [20°C, V]: 0,81

DPGU-4-F 9,00 %

Beispiel 210

CC-3-V 38,50 %

CCY-3-01 4,50 %

CCY-3-02 4,00 %

CCY-4-02 8,00 %

CLY-3-O2 8,00 %

CPY-2-02 10,00 %

CPY-3-O2 9,00 %

PY-1 -04 7,50 %

PY-3-02 6,00 %

Y-4O-04 4,50 %

Beispiel 210a

Die Mischung gemäß Beispiel 210 enthält zusätzlich

und 0,25 % RM-35.

Beispiel 211

Beispiel 211a

Die Mischung gemäß Beispiel 211 enthält zusätzlich

Beispiel 212

Beispiel 212a

Die Mischung gemäß Beispie

Beispiel 213

CY-3-02 18,50 % Klärpunkt [°Cl: 80

CCY-3-O2 1 ,00 % Δη [589 nm, 20°C]: 0,0896

CCY-4-O2 9,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -3,4

CPY-2-O2 7,50 % ε,ι [1 kHz, 20°C]: 3,5

CPY-3-O2 9,00 % ει [1 kHz, 20°C]: 6,9

CCH-34 9,00 % γι [mPa-s, 20°C]: 117 K-, [pN, 20°C]: 14,4

K ₃ [pN, 20°C]: 15,1

V ₀ [20°C, V]: 2,23

Beispiel 213a

Die Mischung gemäß Beispiel 213 enthält zusätzlich

Beispiel 214

Beispiel 215

Beisoiel 216

CC-3-V 27,00 %

CCY-3-1 9,50 %

CCP-3-1 8,00 %

CLY-3-02 6,00 %

CPY-2-O2 10,50 %

CPY-3-02 10,50 %

CY-3-02 15,00 %

PY-3-02 13,50 %

Beisoiel 217

CC-3-V 16,00 % Klärpunkt [°C]: 85,4 Δη [589 nm, 20°C]: 0,1060

Δε [1 kHz, 20°C]: -3,7 ε,ι [1 kHz, 20°C]: 3,6 ε [1 kHz, 20°C]: 7,4 γι [mPa-s, 20°C]: 114

Ki [pN, 20°C]: 13,4

K ₃ [pN, 20°C]: 14,5

V ₀ [20°C, V]: 2,09

Beispiel 217a

Die Mischung gemäß Beispiel 217 enthält zusätzlich

Beispiel 218

CCH-23 12,00 % Klärpunkt [°C]: 110,7

CCH-34 10,00 % Δη [589 nm, 20°C]: 0,1002

CCP-3-1 7,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -2,9

CCY-3-1 10,00 % ε,ι [1 kHz, 20°C]: 3,2

CCY-3-01 1 ,50 % ε _± [1 kHz, 20°C]: 6,1

CCY-3-O2 9,00 % γι [mPa s, 20°C]: 147

CCY-3-O3 7,50 % Ki [pN, 20°C]: 17,3 K ₃ [pN, 20°C]: 18,3

V ₀ [20°C, VI: 2,65

Beispiel 218a

Die Mischung gemäß Beispiel 218 enthält zusätzlich

Beispiel 219

Beispiel 220

Beispiel 221 a

Die Mischung gemäß Beispiel enthält zusätzlich

Beispiel 222

Beispiel 223

CC-3-V 41 ,50 %

CCY-3-01 2,50 %

CCY-3-02 11 ,50 %

CCY-3-O3 5,00 %

CPY-2-O2 5,00 %

CPY-3-O2 12,00 %

CY-3-O2 9,50 %

PY-3-O2 7,00 %

PY-4-O2 3,00 %

PYP-2-3 3,00 % Beispiel 223a

Die Mischung gemäß Beispiel 223 enthält zusätzlich 0,001 % Irganox ¹ 1076 (Octadecyl-3-(3,5-di-tert. butyl-4-hydroxyphenyl)-proprionat, Fa. BASF) und

Beispiel 224

CC-3-V 30,50 %

CC-3-V1 4,50 %

CCY-3-01 6,00 %

CCY-3-02 8,00 %

CLY-3-02 8,00 %

CPY-2-O2 8,00 %

CPY-3-O2 12,00 %

CY-3-O2 15,00 %

PY-3-O2 8,00 %

Beispiel 225

PYP-2-3 3,00 %

Beispiel 226

Beispiel 226a

Die Mischung gemäß Beispiel 226 enthält zusätzlich

Beispiel 227

CC-3-V 26,50 % Klärpunkt [°C1: 84,6

CC-3-V1 2,00 % An [589 nm, 20°C]: 0,1076

CCH-34 2,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -4,0

CCY-3-O2 10,00 % ε,, [1 kHz, 20°C1: 3,7

CCY-3-03 5,00 % ε _± [1 kHz, 20°C]: 7,7

CCY-4-O2 10,00 % γι [mPa-s, 20°C1: 129 Ki [pN, 20°C]: 13,9

K ₃ [pN, 20°C]: 15,4

V ₀ [20°C, V]: 2,06

Beispiel 227a

Die Mischung gemäß Beispiel 227 enthält zusätzlich

Beispiel 228

APUQU-3-F 1 ,50 % Klärpunkt [°C]: 110,1

CC-3-V 34,00 % Δη [589 nm, 20°C]: 0,1208

CC-3-V1 5,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: 6,2

CCP-30CF ₃ 4,50 % ει, [1 kHz, 20°C]: 9,2

CCP-V-1 10,50 % 8JL [1 kHz, 20°C]: 3,0

CCP-V2-1 6,00 % n [mPa-s, 20°C]: 104

CCVC-3-V 3,50 % Ki [pN, 20°C]: 16,3 K ₃ fpN, 20°C]: 18,9

V ₀ f20°C, V]: 1 ,70

Beispiel 229

Beispiel 230

Beispiel 231 Beispiel 231a

Die Mischung gemäß Beispiel 231 enthält zusätzlich

Beispiel 232

Beispiel 232a

Die Mischung gemäß Beispiel 232 enthält zusätzlich

Beispiel 233

Beispiel 233a

Die Mischung gemäß Beispiel 233 enthält zusätzlich

Beispiel 234

Beispiel 234a

Die Mischung gemäß Beispiel 234 enthält zusätzlich

Beispiel 235

Beispiel 236

CY-3-O2 15,00 % Klärpunkt [°C]: 79,1

CY-5-O2 9,50 % An [589 nm, 20°C]: 0,0944

CCY-3-O1 4,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -4,0 ε,ι [1 kHz, 20°C1: 3,7 ε± [1 kHz, 20°Cl: 7,7 γι [mPa-s, 20°C]: 120

Ki [pN, 20°C]: 13,4

K ₃ [pN, 20°C]: 15,4

V ₀ [20°C, V]: 2,06

Beispiel 236a

Die Mischung gemäß Beispiel 236 enthält zusätzlich

Beispiel 237

CY-3-O2 15,00 % Klärpunkt f°C]: 79,1

CY-5-O2 9,50 % Δη [589 nm, 20°C]: 0,0944

CCY-3-O1 4,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: -4,0

CCY-3-O2 6,00 % ε,ι [1 kHz, 20°C]: 3,7

CCY-3-O3 4,50 % ει [1 kHz, 20°C]: 7,7

CCY-4-O2 6,00 % γι [mPa-s, 20°C]: 120

CCY-5-O2 4,00 % Ki [pN, 20°C]: 13,4

CPY-2-O2 8,00 % K ₃ [pN, 20°C1: 15,4

CPY-3-O2 9,00 % V ₀ [20°C, V]: 2,06

Beispiel 237a

Die Mischung gemäß Beispiel 237 enthält zusätzlich

Beispiel 238

APUQU-3-F 4,00 %

CC-3-V 41 ,00 %

CC-3-V1 6,50 %

CCP-V-1 12,00 %

CCP-V2-1 11 ,00 %

CPGP-5-3 2,50 %

PGUQU-3-F 5,00 %

PGUQU-4-F 4,00 %

PGUQU-5-F 3,50 %

PUQU-3-F 10,50 % Beispiel 239

Beispiel 240a

Die Mischung gemäß Beispiel 240 enthält zusätzlich

Beispiel 241

Beispiel 242

APUQU-2-F 4,00 % Klärpunkt [°C]: 86,4

APUQU-3-F 6,00 % An [589 nm, 20°C]: 0,1030

PUQU-3-F 10,00 % Δε [1 kHz, 20°C]: 7,0

CCQU-3-F 2,00 % ε,ι [1 kHz, 20°C]: 10,1

CCP-V-1 13,00 % γι [mPa s, 20°C]: 71

CCP-V2-1 7,00 % Ki [pN, 20°C]: 13,2

PGUQU-3-F 6,00 % K ₃ [pN, 20°C]: 15,8 Vo [20°C, V]: 1 ,45

Beispiel 242a

Die Mischung gemäß Beispiel 242 enthält zusätzlich 0,25 % RM-41

Beispiel 243

Beispiel 244

Beispiel 245

Beispiel 246

Beispiel 247a

Die Mischung gemäß Beispiel enthält zusätzlich

und

Beispiel 248

Beispiel 248a

Die Mischung gemäß Beispiel enthält zusätzlich

Beispiel 249

Beispiel 249a

Die Mischung gemäß Beispiel 249 enthält zusätzlich

0,015 % Beispiel 249b

Die Mischung gemäß Beispiel 249 enthält zusätzlich

Beispiel 250